JPH04211436A - 真空処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は被処理物を真空処理室内
で処理する真空処理装置に関するものである

【０００２
】。

【従来の技術】プラスチック、特に塩化ビニル系樹脂フ
ィルム、例えばプラズマ処理については、それにより可
塑剤移行防止、表面ぬれ性、帯電防止、ブロッキング防
止、印刷特性の向上、耐摩耗性、耐候性、耐汚染性等有
用な特性が付与されることから、バッチ処理等小スケー
ルの装置で従来より行われてきた。

【０００３】なお、この種のものとしては、例えば特開
昭５０−１５２０７４号公報が挙げられる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】バッチ連続処理装置に
ついては、二三提案されているが、軟質塩化ビニル系樹
脂フィルムのように、可塑剤、安定剤、その他の内部添
可剤を含有している場合には、フィルム巻物を装置内部
にセットし、初期圧力設定時にこれら内部添加剤の揮発
、逸散によりフィルムの変質が起ると同時に、この揮発
分およびフィルム巻物中に共在するガスの逸散により初
期圧力設定までかなり長時間を要するというような本質
的欠点を有する。

【０００５】しかして、一般に低温プラズマ処理は圧力
０．０１〜１０トールの範囲で数ＫＨｚ〜数百ＫＨｚの
高周波電力を印加することにより行われ、プラズマ発生
のために供給されるのであるが、この際均一な処理を行
うためには圧力が一定に保持されること、洗濯されたガ
ス以外のガスたとえば空気等の混入は極力回避されるこ
と等が重要である。

【０００６】特にそれがプラズマ処理を行う場合、処理
効果を効率的に賦与するためには、真空処理室の圧力を
０．１トール前後に保持することが必要であるが、バッ
チ毎にこの様な操作を行っていたので、ロスタイムが大
きすぎて生産性悪く、処理コストの面から実用に供する
ことは困難である。

【０００７】本発明は上記の点に鑑み、被処理物の真空
処理における良好な処理を行うことができ、又、生産性
の向上を図るのに適した真空処理装置を提供することを
目的とする。

【０００８】

【課題を解決しようとする手段】上記目的は、予備真空
室は被処理物の搬送方向に対向して配置された第１、第
２のシールロール群と、この第１、第２のシールロール
群を囲むケースと、前記第１、第２のシールロール群と
このケース間をそれぞれシールするシール手段とにより
構成され、前記第１、第２のシールロール群はそれぞれ
第１のシールロールに隣接する第２、第３のシールロー
ルで形成される３本一組のシールロールからなり、この
第１、第２のシールロール群は第１のシールロールに対
し第２、第３のシールロールが水平に配置されいること
によって、達成される。

【０００９】

【作用】第１、２のシールロール群と、この第１、２の
シールロールとケース間をそれぞれシールするシール手
段とによつて予備真空室を形成するとともに前記シール
手段によってシールするようにしたので良好なシールを
行うことができ、又、生産性の向上も図ることができる
。

【００１０】

【実施例】本発明はシ−ルロ−ルを水平方向に配置し、
被処理物を垂直（上下）方向に移送するものであるが、
その原理は、シ−ルロ−ルを垂直（上下）方向に配置し
、被処理物を水平方向に移送する図によって説明する。 図１および、図２において、１はプラスチック成形品な
ど可撓性の被処理物Ｆを真空状態で連続的にプラズマ処
理する真空処理室で、この真空処理室１内はこれに接続
する真空ポンプ４により１０￣２トール程度の真空圧力
に保持するように排気管５を介して真空排気される。 また、この真空処理室１内には図示していないが、真空
状態でプラズマ処理を施すため陽極、陰極などが内蔵さ
れている。２は真空処理室１の前方側に複数個配置され
る予備真空室、３は真空処理室１の後方側に配置される
複数個の予備真空室で、これら予備真空室２、３内は、
これに接続する真空ポンプ６により前記真空処理室１内
の真空圧力より若干高い程度の真空圧力に保持するよう
に排気管７を介して真空排気される。

【００１１】図３および、図４は前記予備真空室２、３
の詳細を示すもので、８、９は両端側がハウジング１０
にラジアル軸受１１および偏心軸受ハウジング１２を介
して回転自在に、かつ上、下方向へ移動可能に支持され
るシール用の上、下シールロール（第２及び第３シール
ロール）で、この上、下シールロール８、９の表面には
硬質のニッケルクロム層１３が施されている。１４は上
、下シールロール８、９と間に隣接するように配設され
、かつ表面にゴム、フッソ樹脂などの弾性材１５を一体
的に焼着した中シールロール（第１のシールロール）で
、この中シールロール１４は両端側が横ケース１０にラ
ジアル軸受１１および固定軸受ハウジング１６を介して
回転自在に支持されている。そして下シールロール９と
中シールロール１４との間には被処理物Ｆが挿入される
。１７は上ケース１８に固定され、かつ上シールロール
８の外周面側に配設される上シールロール支持受けで、
この上シールロール支持受１７の内周面には上ロール８
のニッケルクロム層１３に接する低摩擦係数のフッソ樹
脂膜１９が焼着されている。２０は下ケース２１に固定
され、かつ下シールロール９の外周面側に配設される下
シールロール支持受けで、この下シールロール支持受け
２０の内周面には下シールロール９の表面に接する低摩
擦係数のフッソ樹脂膜２２が焼着されている。

【００１２】図５は上、下、中シールロール８、９、１
４および上、下ケース１８、２１の両端側と横ケース１
０、偏心軸受ハウジング１２との間に介在されるサイド
ピース２３の取付状態を示したもので、サイドピース２
３の上、下、中シールロール８、９、１４の端面と対向
する面には、低摩擦係数のフッソ樹脂膜２４が焼着され
ており、このサイドピース２３はボルト２５を締付ける
ことによりコイルバネ２６を介して横ケース１０に押付
けられる。このとき、前記上、下、中シールロール８、
９、１４の端面と対向する面には、低摩擦係数のフッソ
樹脂膜２４が焼着されており、このサイドピース２３は
ボルト２５を締付けることによりコイルバネ２６を介し
て横ケース１０に押付けられる。このとき、前記上、下
、中シールロール８、９、１４とサイドピース２３のフ
ッソ樹脂膜２４との間には２０μｍ程度の隙間が形成さ
れる。また、サイドピース２３の押付力はサイドピース
２３とボルト２５との隙間Ｈによって規制される。

【００１３】図６は上、下、中シールロール８、９を偏
心軸受ハウジング１２により上、下方向へ移動させるた
めの説明図である。偏心軸受ハウジング１２の中心位置
Ａは、上、下シールロール８、９の中心位置Ｂに対し偏
心（偏心両Ｃ）して設けられており、この偏心軸受ハウ
ジング１２は中心位置Ａを回転中心に図示しない油圧シ
リンダ装置により図示矢印方向へ回動する。このとき、
上、下シールロール８、９は上方向または下方向へ、す
なわち、中シールロール１４に対して押付ける方向また
は中シールロール１４から離れる方向へ移動する。した
がって、偏心軸受ハウジング１２の回動角を調整するこ
とにより、上シールロール８と中シールロール１４また
は下シールロール９と中シールロール１４との押圧力を
任意に変えることができると共に下シールロール９と中
シールロール１４の隙間への被処理物Ｆの挿入が容易に
なる。

【００１４】図１および図２にもどって、２７は被処理
物Ｆを予備真空室２を経て真空処理室内へ移送する送り
出し装置、２８は真空処理室１内でプラズマ処理された
被処理物Ｆを巻き取る巻き取り装置、２９は駆動用モー
タで、この駆動用モータ２９の駆動力により回転軸３０
および動力分配機３１を介して予備真空室２、３の上、
下、中シールロール８、９、１４を回転させる。

【００１５】上記のように構成される予備真空室２、３
において、上シールロール８と中シールロール１４の間
のシールは、上シールロール８を偏心軸受ハウジング１
２により中シールロール１４に対して押しつけ、中シー
ルロール１４の弾性材１５をたわませることにより施さ
れる。同様に下シールロール９と中シールロール１４の
間のシールは、下シールロール９を中シールロール１４
に対して押しつけ、中シールロール１４の弾性材１５を
たわませることにより施される。また、上シールロール
８と上シールロール支持受けおよび下シールロール９と
下シールロール支持受け２０の間のシールは、両者間の
隙間を非常に小さく、例えば２０μｍ程度にすることに
より可能である。

【００１６】次に本発明の真空処理装置の動作を説明す
る。

【００１７】先ず、真空ポンプ４、６を作動させること
により、真空処理室１内および予備真空室２、３内を真
空排気する。このとき、真空処理室１内の圧力は予備真
空室２、３内の圧力より低く保持される。また、真空処
理室１内には、プラズマ特性を良くするためのアルゴン
ガス、窒素ガスなどを通気する。次に予備真空室２、３
の上、下、中シールロール８、９、１４を駆動用モータ
２９の駆動力により回転させると共に真空処理室１のプ
ラズマ装置を操作する。この状態で被処理物Ｆは送り出
し装置２７から予備真空室２の下シールロール９と中シ
ールロール１４との間を経て真空処理室１へ連続的に導
入される。真空処理室１内では、陽極と陰極間で発生す
るプラズマ放電により被処理物Ｆの表面にプラズマ処理
が施される。真空処理室１内のプラズマ処理が施される
。真空処物室１内のプラズマ表面処理された被処理物Ｆ
は、直ちに予備真空室３の下シールロール９と中シール
ロール１４との間を経て巻きとり置２８により巻き取ら
れる。このように被処理物Ｆは装備真空室で良好なシー
ル効果が得られると共に真空処理室１内で短時間にプラ
ズマ処理されるため、プラスチック成形品などに含有し
ている可塑剤などの内部添加剤の揮発、逸散が制御され
ると共に、連続的に被処理物Ｆが真空装置内に導入され
るため空気等の混入も少なく、目的とするガス、目的と
する圧力で定常的に処理可能であり、良好な改質特性を
付与することが可能にする。

【００１８】また、表面がニッケルクロム層１３の上、
下シールロール８、９と表面が弾性材１５の中シールロ
ール１４および前記上、下シールロール８、９と表面が
フッソ樹脂膜１９、２２の上、下シールロール支持受け
１７、２０は金属層と非金属層の摺動でもあるため、摩
擦力も小さく、長時間の運転にも十分耐えられる。

【００１９】図７は本発明における予備真空室のロール
とケースおよびロール間の軸方向シール手段の他の実施
例を示すものである。

【００２０】第７図において、第３図および第４図と同
一符号のものは同一部分を示す。

【００２１】３２、３３は前記上ロール８と下シールロ
ール９の一部と軸方向に沿って連続的に隣接し、且つ上
、下ケース１８、２１に取外し可能に支持されるウレタ
ンゴムなどのリップ部材で、このリップ部材３２、３３
はリップシール３４、３５とリップ取付台３６、３７か
ら成っている。

【００２２】このように上シールロール８、下シールロ
ール９の一部と接するようにリップ部材３２、３３を配
設することにより、ロールとケースおよびロール間に軸
方向の良好なシール効果を得ることは勿論、耐久性が向
上する。

【００２３】また、リツプ部材３２、３３を上、下ケー
スに取外し可能に支持させるため、たとえリップ部材が
摩擦力により使用不能になった場合でも容易に交換が可
能となる。

【００２４】尚、本発明の一実施例においては、真空処
理室１の前後方側にそれぞれ予備真空室２を配置した場
合について説明したが、第８図に示す如く真空処理室１
の前方側に予備真空室２を配置し、被処理物Ｆを真空処
理室１内に予備真空室２の中シールロールと下シールロ
ールとの間から送り込み、上ロールと中ロールとの間か
ら送り出すことも可能である。

【００２５】このように予備真空室２を真空処理室１の
前方側に配置することにより、予備真空室２を構成する
シールロールの個数が半分にできるため、真空のもれ個
所が低滅されると共に設置面積が少なくてすむ装置が可
能となる。

【００２６】

【発明の効果】本発明によれば、予備真空室内のシール
およびシール部分における耐久性を大幅に向上させるこ
とができるため、被処理物の真空処理における処理を良
好な処理を行うことができ、又、生産性の大幅な向上を
図ることを可能にする。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の原理説明図である。

【図２】図１の平面図である。

【図３】シ−ルロ−ル部横断面図である。

【図４】図３のＡ−Ａ線矢視図である。

【図５】シールロール端面詳細図である。

【図６】シールロールの偏心軸受詳細図である。

【図７】シールロールの他の実施例の横断面図である。

【図８】本発明の他の実施例の原理説明図である。

【符号の説明】

１…真空処理室、、２，３…予備真空室、８…上シール
ロール、９…下シールロール、１４…中シールロール、
Ｆ…被処理物。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】真空処理室の両方側または一方側に予備真
   空を少なくとも１個配置し、前記真空処理室で被処理物
   を真空処理する真空処理装置において、前記予備真空室
   は被処理物の搬送方向に対向して配置された第１、第２
   のシールロール群と、この第１、第２のシールロール群
   を囲むケースと、前記第１、第２のシールロール群とこ
   のケース間をそれぞれシールするシール手段とにより構
   成され、前記第１、第２のシールロール群はそれぞれ第
   １のシールロールと、この第１のシールロールに隣接す
   る第２、第３のシールロールで形成される３本一組のシ
   ールロールからなり、この第１、第２のシールロール群
   は第１のシールロールに対し第２、第３のシールロール
   が水平に配置されていることを特徴とする真空処理装置
   。