JPH02198015A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH02198015A JPH02198015A JP1580189A JP1580189A JPH02198015A JP H02198015 A JPH02198015 A JP H02198015A JP 1580189 A JP1580189 A JP 1580189A JP 1580189 A JP1580189 A JP 1580189A JP H02198015 A JPH02198015 A JP H02198015A
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- Japan
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- magnetic core
- core
- strains
- lower magnetic
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、ＭＰａ磁気ヘッドの製造方法に関するもの
である。
である。
第２図は、従来の薄膜磁気ヘッドの構造を示す縦断面図
であり、浮動スライダーの基体となるセラミックウェハ
１上に下部磁気コア２と上部磁気コア３を形成し、これ
らのコア２．３の間の空間内に励磁電流を流すコイル４
を高分子材料の熱硬化膜である絶縁層５で保持し、さら
に絶縁層５の下部磁気コア２側には磁気抵抗の高い材料
で構成されたギャップ層６を挟み込み、さらに下部磁気
コア２および上部磁気コア３の表面を保ｆｉｌｌ！１層
７で覆ったａ造となっている。
であり、浮動スライダーの基体となるセラミックウェハ
１上に下部磁気コア２と上部磁気コア３を形成し、これ
らのコア２．３の間の空間内に励磁電流を流すコイル４
を高分子材料の熱硬化膜である絶縁層５で保持し、さら
に絶縁層５の下部磁気コア２側には磁気抵抗の高い材料
で構成されたギャップ層６を挟み込み、さらに下部磁気
コア２および上部磁気コア３の表面を保ｆｉｌｌ！１層
７で覆ったａ造となっている。
このような構造の１ｌｌｉｌ磁気ヘツドは、スパッタリ
ング、蒸着、めっき等の処理によって数種類の薄膜を積
層することにより形成され、しかもその積層途中で種々
の熱プロセスを加えることにより形成される。
ング、蒸着、めっき等の処理によって数種類の薄膜を積
層することにより形成され、しかもその積層途中で種々
の熱プロセスを加えることにより形成される。
ところが、上記のように下部磁気コア２および上部磁気
コア３の上層あるいは下層に絶縁層５や保護膜層７等の
薄膜を積層する構造では、これらの薄膜の間に下部磁気
コア２および上部磁気コア３が挟まれる格好になるため
、これら各コア２゜３にはその上層あるいは下層の］ｌ
ｌＩから引張りや圧縮の力が加わる。さらに、コア２．
３自身にも残留応力があるので、結果的に磁気コア２，
３には応力がかかった状態になる。このような状態にな
ると、その応力の方向によっては第３図（ａ）に示す理
想的な磁区が同図（ｂ）に示すような不具合磁区の形に
乱れ、磁路方向の磁区８が現われ、この磁区８が記録／
再生時の波形を歪ませてしまうという問題があった。
コア３の上層あるいは下層に絶縁層５や保護膜層７等の
薄膜を積層する構造では、これらの薄膜の間に下部磁気
コア２および上部磁気コア３が挟まれる格好になるため
、これら各コア２゜３にはその上層あるいは下層の］ｌ
ｌＩから引張りや圧縮の力が加わる。さらに、コア２．
３自身にも残留応力があるので、結果的に磁気コア２，
３には応力がかかった状態になる。このような状態にな
ると、その応力の方向によっては第３図（ａ）に示す理
想的な磁区が同図（ｂ）に示すような不具合磁区の形に
乱れ、磁路方向の磁区８が現われ、この磁区８が記録／
再生時の波形を歪ませてしまうという問題があった。
この発明は上記のような問題を解消するために成された
もので、記録／再生時の波形歪をなくすことガできる簿
膜磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
もので、記録／再生時の波形歪をなくすことガできる簿
膜磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
この発明に係る７ｍ膜磁気ヘッドの製造方法は、下部磁
気コア２および上部磁気コア３を形成する基体（セラミ
ックウェハ１）および下地のうち少なくとも一方に、こ
れらの磁気コア２，３の形成時とその後のプロセスで加
わる歪と大きさが等しく、方向が逆の歪を予め与えてお
くことを特徴とするものである。
気コア２および上部磁気コア３を形成する基体（セラミ
ックウェハ１）および下地のうち少なくとも一方に、こ
れらの磁気コア２，３の形成時とその後のプロセスで加
わる歪と大きさが等しく、方向が逆の歪を予め与えてお
くことを特徴とするものである。
（作用〕
下部磁気コア２および上部磁気コア３を形成する時の歪
や、これらの磁気コア２，３を形成した後のプロセスで
加わる歪と大きさが等しく、しかも方向が逆の歪を該磁
気コア２，３を形成する下地または基体（セラミックウ
ェハ１）に予め加えておくと、磁気コア２．３を形成す
る時の歪や、これらの磁気コア２．３を形成した後のプ
ロセスで加わる歪は相殺され、磁気コア２．３にかかる
応りは小さくなる。これにより、磁気コア２．３には目
的とした磁気異方性が得られ、磁区は理想的な形になり
、記録／再生時の波形歪をなくすことができる。
や、これらの磁気コア２，３を形成した後のプロセスで
加わる歪と大きさが等しく、しかも方向が逆の歪を該磁
気コア２，３を形成する下地または基体（セラミックウ
ェハ１）に予め加えておくと、磁気コア２．３を形成す
る時の歪や、これらの磁気コア２．３を形成した後のプ
ロセスで加わる歪は相殺され、磁気コア２．３にかかる
応りは小さくなる。これにより、磁気コア２．３には目
的とした磁気異方性が得られ、磁区は理想的な形になり
、記録／再生時の波形歪をなくすことができる。
〔実施例］
以下、この発明を実施例に基づいて説明する。
第１図（ａ）〜（ｄ）はこの発明の一実施例を示す主要
部の縦断面図であり、１はその上層に下部磁気コア２が
形成される基体としてのセラミックウェハ、２は下部磁
気コア、９は下部磁気コア２の形成後に槙−される絶縁
−等の積層膜である。
部の縦断面図であり、１はその上層に下部磁気コア２が
形成される基体としてのセラミックウェハ、２は下部磁
気コア、９は下部磁気コア２の形成後に槙−される絶縁
−等の積層膜である。
まずこの実施例の製造方法では、第１図（ａ）のように
下部磁気コア２を形成する肋に、該磁気コア２を形成す
る時の歪と大きさが等しく、しかも方向が逆の歪が加わ
るように、セラミックウェハ１を曲げておき、この状態
で下部磁気コア２を該セラミックウェハ１上に形成する
。すると、同図（ｂ）のように下部磁気コア２自身の歪
に相当する逆の歪みがセラミックウェハ１から与えられ
、下部磁気コア２に加わる応力はほぼなくなる。
下部磁気コア２を形成する肋に、該磁気コア２を形成す
る時の歪と大きさが等しく、しかも方向が逆の歪が加わ
るように、セラミックウェハ１を曲げておき、この状態
で下部磁気コア２を該セラミックウェハ１上に形成する
。すると、同図（ｂ）のように下部磁気コア２自身の歪
に相当する逆の歪みがセラミックウェハ１から与えられ
、下部磁気コア２に加わる応力はほぼなくなる。
同様に、下部磁気コア２の形成後に積層されるＭＩＩＩ
ｌａ９の歪に相当する逆の歪を同図（Ｃ）のようにセラ
ミックウェハ１に与えておくと、積層膜９を形成した後
は同図（ｄ）のように、セラミックウェハ１は平らな状
態に戻る。これにより、積層膜９から下部磁気コア２に
加わる応力はほぼなくなる。この結果、下部磁気コア２
には目的とした磁気異方性が得られ、理想的な形の磁区
が得られ、記録／再生時の波形歪をなくすことができる
。
ｌａ９の歪に相当する逆の歪を同図（Ｃ）のようにセラ
ミックウェハ１に与えておくと、積層膜９を形成した後
は同図（ｄ）のように、セラミックウェハ１は平らな状
態に戻る。これにより、積層膜９から下部磁気コア２に
加わる応力はほぼなくなる。この結果、下部磁気コア２
には目的とした磁気異方性が得られ、理想的な形の磁区
が得られ、記録／再生時の波形歪をなくすことができる
。
なお、上記実施例ではセラミツクウェハ１自体に歪を与
えているが、下部磁気コア２を形成する下地のみ、ある
いは下地とセラミックウェハ１の両方に必要な歪を予め
与えておいても同様な効果が得られる。
えているが、下部磁気コア２を形成する下地のみ、ある
いは下地とセラミックウェハ１の両方に必要な歪を予め
与えておいても同様な効果が得られる。
また、上部磁気コアについては説明しなかったが、同様
の方法により応力をなくすことができる。
の方法により応力をなくすことができる。
以上のようにこの発明によれば、下部磁気コアおよび上
部磁気コアを形成する基体および下地のうち少なくとも
一方に、これらの磁気コアの形成時とその後のプロセス
で加わる歪と大きさが等しく、方向だ逆の歪を予め与え
ておくため、これら磁気コアを形成する時の歪や形成し
た後のプロセスで加わる歪は相殺され、磁気コア自身に
かかる応力は小さくなる。これにより、目的とした理想
的な形の磁区が得られ、記録／再生時の波形歪をなくす
ことができる。
部磁気コアを形成する基体および下地のうち少なくとも
一方に、これらの磁気コアの形成時とその後のプロセス
で加わる歪と大きさが等しく、方向だ逆の歪を予め与え
ておくため、これら磁気コアを形成する時の歪や形成し
た後のプロセスで加わる歪は相殺され、磁気コア自身に
かかる応力は小さくなる。これにより、目的とした理想
的な形の磁区が得られ、記録／再生時の波形歪をなくす
ことができる。
第１図（ａ）〜（ｄ）はこの発明の一実施例を示す主要
部の縦断面図、第２図は従来の薄膜磁気ヘッドの構造を
示す縦断面図、第３図（ａ）。 （ｂ）は理想的な磁区と不具合磁区の形状をを示す図。 １・・・セラミックウェハ、２・・・下部磁気コア、３
・・・上部磁気コア、４・・・コイル、５・・・絶縁層
、６・・・ギャップ層、７・・・保護１１５層、８・・
・磁路方向の磁区、９・・・積層膜。 なお、図中同一符号は同一、または相当部分をボす。 代理人 大吉 増雄（ばか２名） １１図 １：Ｚラミ・ソフ勺エバ ２：下Ｍｒ弦九コア う：方翫層躾
部の縦断面図、第２図は従来の薄膜磁気ヘッドの構造を
示す縦断面図、第３図（ａ）。 （ｂ）は理想的な磁区と不具合磁区の形状をを示す図。 １・・・セラミックウェハ、２・・・下部磁気コア、３
・・・上部磁気コア、４・・・コイル、５・・・絶縁層
、６・・・ギャップ層、７・・・保護１１５層、８・・
・磁路方向の磁区、９・・・積層膜。 なお、図中同一符号は同一、または相当部分をボす。 代理人 大吉 増雄（ばか２名） １１図 １：Ｚラミ・ソフ勺エバ ２：下Ｍｒ弦九コア う：方翫層躾
Claims (1)
- 絶縁性材料で構成された基体の上層に下部磁気コアを直
接または下地を介して形成し、該下部磁気コアと上部磁
気コアとの間に形成された空間内に絶縁層を介してコイ
ルを配設し、さらに上部磁気コアおよび下部磁気コアの
表面を保護膜層で覆った構造の薄膜磁気ヘッドの製造方
法において、前記下部磁気コアおよび上部磁気コアを形
成する基体および下地のうち少なくとも一方に、これら
の磁気コアの形成時とその後のプロセスで加わる歪と大
きさが等しく、方向が逆の歪を予め与えておくことを特
徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1580189A JPH02198015A (ja) | 1989-01-25 | 1989-01-25 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1580189A JPH02198015A (ja) | 1989-01-25 | 1989-01-25 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02198015A true JPH02198015A (ja) | 1990-08-06 |
Family
ID=11898943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1580189A Pending JPH02198015A (ja) | 1989-01-25 | 1989-01-25 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02198015A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1067567A4 (en) * | 1999-01-26 | 2003-03-12 | Hitachi Metals Ltd | DISC TYPE STORAGE ADAPTER, MAGNETIC CORE FOR THE MAGNETIC SENSOR THEREFOR, METHOD FOR PRODUCING THE MAGNETIC CORE |
-
1989
- 1989-01-25 JP JP1580189A patent/JPH02198015A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1067567A4 (en) * | 1999-01-26 | 2003-03-12 | Hitachi Metals Ltd | DISC TYPE STORAGE ADAPTER, MAGNETIC CORE FOR THE MAGNETIC SENSOR THEREFOR, METHOD FOR PRODUCING THE MAGNETIC CORE |
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