JPH02200788A - バフ研磨洗浄剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はパフ研磨剤を用いて研磨した金属部品等に付着
した研磨剤類を除去するために用いるパフ研磨洗浄剤に
関するものである。

［従来の技術］ 精密金属部品、装飾部品等のパフ研磨工程で研磨剤類が
使われるが、これらが付着したままでは製品とはならな
い場合が多い。従って、このような部品の仕上げ工程で
は有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。溶剤の種類と
しては１．１．１−トリクロルエタンが広く使われてい
る。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明は従来使用されていたｉ、ｉ、１−ｔ−リクロル
エタンは地下水汚染の点から好ましくないため、その使
用量を抑えるべく　１．１．１４リクロルエタンにかわ
る新規のパフ研磨洗浄剤を提供することを目的とするも
のである。

［課題を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべく成されたものであり炭
素数が３である特定の塩化弗化炭化水素を有効成分とし
て含有するパフ研磨洗浄剤を提供するものである。

本発明の塩化弗化炭化水素としては ＣＦｓ（：Ｆｔ（：ＨＣＱＦ（Ｒ２２６ｅａ）、ＣＧ１
２ＦａＣＦ＊Ｃ）ＩＦｉ　（Ｒ２２６ｃｂ）。

ＣＣＱ１ＣＦ２ＣＨＣＱＮ（Ｒ２２２ｃ）、（：ＣＬＦ
ＣＦＩＣＨＣＩ２！（Ｒ２２３ｅａ）。

ＣＣＱｓＣＦｔＣｌ（ＣＱＦ（Ｒ２２３ｃｂ）、（：Ｃ
Ｉ２ｍＣＦ＊Ｃ１（Ｆｔ　（Ｒ２２４ｅｅ）　−ＣＨＣ
（ｌｓＣＦ−ＣＨＣＱ２（Ｒ２３２ｃａ１．ＣＣ１２−
ＣＦｓＣＨ−ＣＱ（Ｒ２３２ｃｂ）、ＣＯＧ！、ＦＣＦ
、ＣＩｌ、ＣＱ（Ｒ２３３ｃｂ）、ＣＨＣＱ、ＣＦ、Ｃ
ＨＣ（！Ｆ（Ｒ２３３ｅａ）、ＧＣｆ２ｍＣＦ２ＣＨ，
Ｆ（Ｒ２３３ｃＣ）、ｃｃＬｃＦ２ｃＨｓ（Ｒ２４２ｅ
ｂ）、ｅｌｌＣＱ、ＣＦＩＣ：ＨＩＣＱ（Ｒ２４２Ｃａ
）等の水素含有塩化弗化炭化水素から選ばれる１種又は
２種以上の混合物が好ましい。

本発明のパフ研磨洗浄剤には、各種の目的に応じてその
他の各種成分を含有させることができる。例えば、研磨
側の除去効果を高めるために、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類等の有
機溶剤から選ばれる少なくとも１種を含有させることが
できる。これらの有機溶剤のパフ研磨洗浄剤中の含有割
合は、０〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％、
さらに好ましくは２０〜３０重量％である。本発明の塩
化弗化炭化水素類と有機溶剤との混合物に共沸組成が存
在する場合には、その共沸組成での使用が好ましい。

炭化水素類としては炭素数１〜１５の直鎖又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、Ｉ〕−ペンタン、
インペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、２−メチ
ルペンタン、２．２−ジメチルブタン、２．３−ジメチ
ルブタン、ｎ−へブタン。

イソへブタン、３−メチルヘキサン、２，４−ジメヂル
ベンタン、ｎ−オクタン、２−メヂルヘブタン、３−メ
チルへブタン、４−メチルへブタン、２．２−ジメチル
ヘキサン、２．５−ジメチルヘキサン、３．３−ジメチ
ルヘキサン、２−メチル−３−工、チルペンタン、３−
メチル−３−エチルペンタン、２、３．３−トリメチル
ペンタン、２，３．４−トリメチルペンタン、２，２．
３−トリメチルペンタン、イソオクタン、ノナン、２，
２．５−トリメチルヘキサン、デカン、ドデンカン、■
−ペンテン、２−ペンテン、ｌ−ヘキセン、１−オクテ
ン、■−ノネン、１−デセン、シクロペンタン、メチル
シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサ
ン、エチルシクロヘキサン、ビシクロヘキサン、シクロ
ヘキセン、α−ピネン、ジペンテン、デカリン、テトラ
リン、アミレン、アミルナフタレン等から選ばれるもの
である。より好ましくは、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン
、シクロヘキサン、ｎ−へブタン等である。

アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｃ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルア
ルコール、ペンチルアルコール、　ＥｉｅＣ−アミルア
ルコール、１−エチル−１−プロパツール、２−メチル
−１−ブタノール、イソペンチルアルコール％ｔａｒｔ
−ペンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、
ネオペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチ
ル−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール
、２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタツール、２
−ヘプタツール、３−ヘプタツール、１−オクタノール
、２−オクタツール、２−エチル−ｌ−ヘキサノール、
１−ノナノール、３．５．５−１−リメヂルー１−ヘキ
サノール、■−デカノール、１−ウンデカノール、ｌ−
ドデカノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコ
ール、ベンジルアルコール、シクロヘキザノール、１−
メチルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノ
ール、３−メチルシクロヘキサノール％４−メチルシク
ロヘキサノール、α−テルピネオール、アビニチノール
、２，６−シメチルー４−ヘプタツール、トリメチルノ
ニルアルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシ
ルアルコール等から選ばれるものである。より好ましく
はメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等
である。

炭素数１〜９の飽和又は不飽和炭化水素基）のいずれか
の一般式で示されるものが好ましく、アセトン、メチル
エチルケトン％２−ペンタ、ノン、３−ペンタノン、２
−ヘキサノン、メチル−ｎ−ブチルケトン、メチルブチ
ルケトン、２−へブタノン、４−ヘプタノン、ジイソブ
チルケトン、アセトニルアセトン、メシチルオキシド、
ホロン、メチル−ｎ−アミルケトン、エチルブチルケト
ン、メチルへキシルケトン、シクロヘキサノン、メチル
シクロヘキサノン、イソボロン、２４−ペンタンジオン
、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、フエンチョ
ン等から選ばれるものである。より好ましくはアセトン
、メチルエチルゲトン等である。

塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、１．１−ジクロルエタン、１．２−ジクロロ
エタン、１，１．．１−）ジクロルエタン、１，１．２
１−ジクロルエタン、１．１．１．２−テトラクロルエ
タン、ＩＪ、２．２−テトラクロルエタン、ペンタクロ
ルエタン、１，１−ジクロルエチレン、１゜２−ジクロ
ルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレ
ン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化メチ
レン。

１．１．ｉ−トリクロルエタン、トリクロルエチレン、
テトラクロルエチレン等である。

エステル類としては、次の一般式で示されるものが好ま
しく　、　Ｒ，−ＣＯＯ−Ｒ，、Ｒ，−Ｃ−Ｒ，−Ｃｏ
ｏ−Ｒ，。

Ｒａ ０ＯＲ４ （ここでＲ，、Ｒ１，Ｒ１，Ｒ，、Ｒｆｉ、Ｒ，ｔは１
１又はＯｌｌ又は炭素数１〜１９の飽和ないし、不飽和
結合を有する炭化水素基。） 具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンデル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸５ｅｃ−ブチル、酢酸
ペンチル、酢酸イソペンチル、３−メトキシブチルアセ
テート、酢酸５ｅｃ−ヘキシル、２−エチルブチルアセ
テート、２−エチルヘキシルアセテート、酢酸シフ１］
ヘキシル、酢酸ベンジル、プロピモノ駿メチル、プロピ
オン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イン
ペンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸
イソペンチル、イソ酪酸イソブチル、２−ヒドロキシ−
２−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル、
ステアリン酸ペンチル、安息香酸メチル、安息香酸エヂ
ル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソ
ペンチル、安息香酸ベンジル、アビエチン酸エチル、ア
ビエチン酸ベンジル、アジピン酸ビス−２−エチルヘキ
シル、γ−ブチロラクト、シュウ酸ジエチル、シュウ酸
ジブチル、シュウ酸ジペンチル、マロン酸ジエチル、マ
レイン酸ジメチル、マレイン酸ジエヂル、マレイン酸ジ
ブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバシ
ン酸ジブチル、セバシン酸ビス−２−エチルヘキシル、
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ビス−２−エチルヘキシル、フタル酸ジオ
クヂル等から選ばれるものある。より好ましくは酢酸メ
チル、酢酸ｔチル等である。

本発明のパフ研磨洗浄剤には、各種の洗浄助剤、水、界
面活性剤、安定剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少
ない水素含有塩素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混
合してもよい。洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプ
レー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用
することができる。

［実施例］ 実施例１〜１８ 下記第１表に示すパフ研磨洗浄剤を用いて研磨剤の除去
試験を行なった。

腕時計のフレームをパフ研磨剤（ＧＳ−１、創研工業■
製）で研磨後、パフ研磨洗浄剤に浸漬し、３分間超音波
をかけた後、これを取り出し研磨剤の除去状況を観察し
た。その結果を第１表に示す。

第 表 ）内は混合比［重量％］ ０；良好に除去できる △；微量残存 Ｏ；はぼ良好 ×；かなり残存 ［発明の効果］ 本発明のパフ研磨洗浄剤は実施例から明らかなように研
磨剤の除去効果の優れたものである。

又、従来使用されていた１、１．、ｌ−トリクロルエタ
ンに比べ、金属、プラスチック及びエラストマー等から
成る研磨剤を除去すべき物品に悪影響を与えることが少
ない点で有利である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ＣＦ＿３ＣＦ＿２ＣＨＣｌＦ、ＣＣｌＦ＿２ＣＦ
   ＿２ＣＨＦ＿３、ＣＣｌ＿３ＣＦ＿２ＣＨＣｌ＿２、Ｃ
   Ｃｌ＿２ＦＣＦ＿２ＣＨＣｌ＿２、ＣＣｌ＿３ＣＦ＿２
   ＣＨＣｌＦ、ＣＣｌ＿３ＣＦ＿２ＣＨＦ＿３、ＣＨＣｌ
   ＿２ＣＦ＿２ＣＨＣｌ＿２、ＣＣｌ＿３ＣＦ＿２ＣＨ＿
   ２Ｃｌ、ＣＣｌ＿２ＦＣＦ＿２ＣＨ＿３Ｃｌ、ＣＨＣｌ
   ＿２ＣＦ＿２ＣＨＣｌＦ、ＣＣｌ＿３ＣＦ＿２ＣＨ＿２
   Ｆ、ＣＣｌ＿３ＣＦ＿２ＣＨ＿３、ＣＨＣｌ＿２ＣＦ＿
   ２ＣＨ＿２Ｃｌの群から選ばれる少なくとも１種を有効
   成分として含有するパラ研磨洗浄剤。
2. （２）パラ研磨洗浄剤中には、炭化水素類、アルコール
   類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類から選
   ばれる少なくとも１種が含まれている請求項１記載のパ
   ラ研磨洗浄剤。