JPH02202998A - 混合溶剤組成物 - Google Patents
混合溶剤組成物Info
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- JPH02202998A JPH02202998A JP2254589A JP2254589A JPH02202998A JP H02202998 A JPH02202998 A JP H02202998A JP 2254589 A JP2254589 A JP 2254589A JP 2254589 A JP2254589 A JP 2254589A JP H02202998 A JPH02202998 A JP H02202998A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はＩＣ部品、精密機械部品等に付着したフラック
スを除去するために用いるフラックス洗浄剤や離型剤除
去剤等に用いられる混合溶剤組成物に関するものである
。
スを除去するために用いるフラックス洗浄剤や離型剤除
去剤等に用いられる混合溶剤組成物に関するものである
。
［従来の技術］
ＩＣ部品、精密機械部品等の組立て工程でフラックスが
使われるが、これらが付着したままでは、製品とはなら
ない場合が多い。従って、通常このような部品の仕上げ
工程では有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。その有
機溶剤として次に掲げるような種々の利点から１．１．
２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（以
下Ｒ１１３という）が広く使われている。Ｒ１１３は不
燃性、非曝性で毒性が低（、安定性も優れている。しか
も、金属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さ
ず、各種の汚れを選択的に溶解する性質がある。一般に
フラックス洗浄をする場合の被洗物は金属、プラスチッ
ク、エラストマー等から成る複合部品が多く従ってこの
点からもＲ１１３が有利であった。
使われるが、これらが付着したままでは、製品とはなら
ない場合が多い。従って、通常このような部品の仕上げ
工程では有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。その有
機溶剤として次に掲げるような種々の利点から１．１．
２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（以
下Ｒ１１３という）が広く使われている。Ｒ１１３は不
燃性、非曝性で毒性が低（、安定性も優れている。しか
も、金属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さ
ず、各種の汚れを選択的に溶解する性質がある。一般に
フラックス洗浄をする場合の被洗物は金属、プラスチッ
ク、エラストマー等から成る複合部品が多く従ってこの
点からもＲ１１３が有利であった。
［発明が解決しようとする課題］
本発明は従来使用されていたＲ１１３が種々の利点を持
つにもかかわらず、成層圏のオゾンを破壊し、ひいては
皮膚ガンの発生をひき起す原因となる疑いがあることか
らそれに対；応すべくＲ１１３と同様な種々の利点を有
し、同等の洗浄が行なえる新規の混合溶剤組成物を提供
することを目的とするものである。
つにもかかわらず、成層圏のオゾンを破壊し、ひいては
皮膚ガンの発生をひき起す原因となる疑いがあることか
らそれに対；応すべくＲ１１３と同様な種々の利点を有
し、同等の洗浄が行なえる新規の混合溶剤組成物を提供
することを目的とするものである。
［課題を解決するための手段〕
本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
炭素数が３である特定の塩化弗化炭化水素とケトン類、
エーテル類、エステル類から選ばれる１種とからなる混
合溶剤組成物を提供するものである。
炭素数が３である特定の塩化弗化炭化水素とケトン類、
エーテル類、エステル類から選ばれる１種とからなる混
合溶剤組成物を提供するものである。
本発明の塩化弗化炭化水素としては
ＣＣＱＦ、ＣＦＮＣＨＣＱＮ （Ｒ２２４ｃａ）、 Ｃ
Ｃｌ２１ＦＣＦｓＣ［（Ｃｆ２Ｆｍ （Ｒ２２４ｃｂ）
、ＣＦｓＣＦ＊ＣＨＣ（２＊ （Ｒ２２５ｃａｌ 、
ＣＣＱＦｓＣＦ＊ＣＨＣＱＦ （Ｒ２２５ｃｂ）、ＣＣ
ＱＦ＊ＣＦ＊ＣＨｉＣ１２（Ｒ２３４ｃｃ） 、 ＣＨ
ＦａＣＦｘＣＨＣ１２Ｆ （Ｒ２３５ｃａ）、ＣＨｍＣ
ＦａＣＣ（２ｉＦ （Ｒ２４３ｃｃ） 、 ＣＨＦ、Ｃ
ＦｉＣＨｓＣ（２，（Ｒ２４４ｃａ）、ＣＨ，ＣＱＣＦ
ｘＣＨ＊ＣＱ （Ｒ２５２ｃｂ） 、 ＣＨＣＱ＊ＣＦ
ｚＣＨｓ、 （Ｒ２６２ｃａ）、ＣＨ３ＣＦ、ＣＨＩＣ
Ｑ （Ｒ２２５ｃｃ） 、 Ｃ）ＩＰ、ＣＦｚＣＣ２Ｊ
（Ｒ２３４ｃｃ）、ＣＨ（：（２ＦＣ：Ｆ ＊ＣＨＣ
ＱＦ （Ｒ２３４ｃａ） 、 ＣＨＦ ｔｃＦ＊ｃＨｃ
Ｑ ｍＱ （Ｒ２３４ｃｂ）、ＣＨ＊ＦＣＦｇＣＣＱａ
Ｆ（Ｒ２３４Ｃｄ）、ＣＦ、ＣＦ、ＣＨ，ＣＱ（ｌ（２
３５ｃｂ）、ＣＣ（！ＦｍＣＦ＊ＣＨｔＦ（Ｒ２３５ｃ
ｃ）、ＣＨ＊ＣＱＣＦ、ＣＨＣＱＦ（Ｒ２４３ｃａ）、
Ｃ）Ｉ＊ＦＣＦ＊ＣＨＣｌ２ａ（Ｒ２４３ｃｂ）、ＣＨ
ＨＦＣＦ、ＣＨＣ（２Ｆ（Ｒ２４４ｃｂ）、ＣＣ１２Ｆ
ｘＣＦｔＣＨｓ （Ｒ２４４ｃｃ） 、 ＣＨ，ＦＣＦ
＊ＣＨ，ＣＱ（Ｒ２５３ｃａ）、及びＣＨｓＣＦ＊ＣＨ
Ｃ（！Ｆ （Ｒ２５３ｃｂ）等の水素含有塩化弗化炭化
水素から選ばれる１種又は２種以上の混合物が好ましい
。
Ｃｌ２１ＦＣＦｓＣ［（Ｃｆ２Ｆｍ （Ｒ２２４ｃｂ）
、ＣＦｓＣＦ＊ＣＨＣ（２＊ （Ｒ２２５ｃａｌ 、
ＣＣＱＦｓＣＦ＊ＣＨＣＱＦ （Ｒ２２５ｃｂ）、ＣＣ
ＱＦ＊ＣＦ＊ＣＨｉＣ１２（Ｒ２３４ｃｃ） 、 ＣＨ
ＦａＣＦｘＣＨＣ１２Ｆ （Ｒ２３５ｃａ）、ＣＨｍＣ
ＦａＣＣ（２ｉＦ （Ｒ２４３ｃｃ） 、 ＣＨＦ、Ｃ
ＦｉＣＨｓＣ（２，（Ｒ２４４ｃａ）、ＣＨ，ＣＱＣＦ
ｘＣＨ＊ＣＱ （Ｒ２５２ｃｂ） 、 ＣＨＣＱ＊ＣＦ
ｚＣＨｓ、 （Ｒ２６２ｃａ）、ＣＨ３ＣＦ、ＣＨＩＣ
Ｑ （Ｒ２２５ｃｃ） 、 Ｃ）ＩＰ、ＣＦｚＣＣ２Ｊ
（Ｒ２３４ｃｃ）、ＣＨ（：（２ＦＣ：Ｆ ＊ＣＨＣ
ＱＦ （Ｒ２３４ｃａ） 、 ＣＨＦ ｔｃＦ＊ｃＨｃ
Ｑ ｍＱ （Ｒ２３４ｃｂ）、ＣＨ＊ＦＣＦｇＣＣＱａ
Ｆ（Ｒ２３４Ｃｄ）、ＣＦ、ＣＦ、ＣＨ，ＣＱ（ｌ（２
３５ｃｂ）、ＣＣ（！ＦｍＣＦ＊ＣＨｔＦ（Ｒ２３５ｃ
ｃ）、ＣＨ＊ＣＱＣＦ、ＣＨＣＱＦ（Ｒ２４３ｃａ）、
Ｃ）Ｉ＊ＦＣＦ＊ＣＨＣｌ２ａ（Ｒ２４３ｃｂ）、ＣＨ
ＨＦＣＦ、ＣＨＣ（２Ｆ（Ｒ２４４ｃｂ）、ＣＣ１２Ｆ
ｘＣＦｔＣＨｓ （Ｒ２４４ｃｃ） 、 ＣＨ，ＦＣＦ
＊ＣＨ，ＣＱ（Ｒ２５３ｃａ）、及びＣＨｓＣＦ＊ＣＨ
Ｃ（！Ｆ （Ｒ２５３ｃｂ）等の水素含有塩化弗化炭化
水素から選ばれる１種又は２種以上の混合物が好ましい
。
本発明の混合溶剤組成物には、各種の目的に応じてその
他の各種成分を含有させることができる。例えば、溶解
力を高めるためには、炭化水素類、アルコール類、又は
塩素化炭化水素類等の有機溶剤から選ばれる少なくとも
１種を含有させることができる。これらの有機溶剤の混
合溶剤組成物中の含有割合は、０〜５０重量％、好まし
くは１０〜４０重量％、さらに好ましくは２０〜３０重
量％である。本発明の混合溶剤組成物に共沸組成が存在
する場合には、その共沸組成での使用が好ましい。
他の各種成分を含有させることができる。例えば、溶解
力を高めるためには、炭化水素類、アルコール類、又は
塩素化炭化水素類等の有機溶剤から選ばれる少なくとも
１種を含有させることができる。これらの有機溶剤の混
合溶剤組成物中の含有割合は、０〜５０重量％、好まし
くは１０〜４０重量％、さらに好ましくは２０〜３０重
量％である。本発明の混合溶剤組成物に共沸組成が存在
する場合には、その共沸組成での使用が好ましい。
ケトン類としては、Ｒ−ＧＯ−Ｒ’ 、 Ｒワ０． Ｒ
−ＧＯ−Ｒ’ −炭素数１〜９の飽和又は不飽和炭化水
素基）のいずれかの−数式で示されるものが好ましく、
アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−
ペンタノン、２−ヘキサノン、メチル−ロープチルケト
ン、メチルブチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタ
ノン、ジイソブチルケトン、アセトニルアセトン、メシ
チルオキシド、ホロン、メチル−〇−アミルケトン、エ
チルブチルケトン、メチルへキシルケトン、シクロヘキ
サノン、メチルシクロヘキサノン、イソホロン、２．４
−ペンタンジオン、ジアセトンアルコール、アセトフェ
ノン、フェンチョン等から選ばれるものである。より好
ましくはアセトン、メチルエチルケトン等である。
−ＧＯ−Ｒ’ −炭素数１〜９の飽和又は不飽和炭化水
素基）のいずれかの−数式で示されるものが好ましく、
アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−
ペンタノン、２−ヘキサノン、メチル−ロープチルケト
ン、メチルブチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタ
ノン、ジイソブチルケトン、アセトニルアセトン、メシ
チルオキシド、ホロン、メチル−〇−アミルケトン、エ
チルブチルケトン、メチルへキシルケトン、シクロヘキ
サノン、メチルシクロヘキサノン、イソホロン、２．４
−ペンタンジオン、ジアセトンアルコール、アセトフェ
ノン、フェンチョン等から選ばれるものである。より好
ましくはアセトン、メチルエチルケトン等である。
エーテル類としては次の一般式で示されるものが好まし
く、 ＨＯ−Ｒ−０−Ｒ’、ＨＯ−Ｒ−０−Ｒ’−０−Ｒ”
、）１０−Ｒ−ＤＨ。
く、 ＨＯ−Ｒ−０−Ｒ’、ＨＯ−Ｒ−０−Ｒ’−０−Ｒ”
、）１０−Ｒ−ＤＨ。
Ｒ−０−Ｒ’−ＣＨ−ＲＭ Ｒ−０−Ｒ’−０
−ＲＨＬ−刊 」 Ｒ−０−Ｃ［（−Ｒ’ 、 Ｒ−０−Ｒ’−（ＯＲ
” ’Ｉ□Ｌ−刊 」 ［ここで、Ｒ、Ｒ’、 ＲＭは炭素数１〜１０の飽和又
は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素基。］ １．４−ジオキサン、１．２−ブタンジオール、イソプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールメチルエーテル、エチルイソブチルエーテル、エ
チルイソプロピルエーテル、エチルイソペンチルエーテ
ル、エチルナフチルエーテル、エチルビニルエーテル、
エチルフェニルエーテル、アニソール、アネトール、エ
チルプロパギルエーテル。
−ＲＨＬ−刊 」 Ｒ−０−Ｃ［（−Ｒ’ 、 Ｒ−０−Ｒ’−（ＯＲ
” ’Ｉ□Ｌ−刊 」 ［ここで、Ｒ、Ｒ’、 ＲＭは炭素数１〜１０の飽和又
は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素基。］ １．４−ジオキサン、１．２−ブタンジオール、イソプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールメチルエーテル、エチルイソブチルエーテル、エ
チルイソプロピルエーテル、エチルイソペンチルエーテ
ル、エチルナフチルエーテル、エチルビニルエーテル、
エチルフェニルエーテル、アニソール、アネトール、エ
チルプロパギルエーテル。
エチルプロピルエーテル、エチルメチルエーテル、エチ
レングリコール、メチルグリシジルエーテル３エチレン
グリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジフ
ェニルエーテル。
レングリコール、メチルグリシジルエーテル３エチレン
グリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジフ
ェニルエーテル。
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノブ
チルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテ
ル、ジベンチルエーテル、アリルエチルエーテル、ジイ
ソペンチルエーテル、ジアリルエーテル、ブチルグリシ
ジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、ジプロピル
エーテル、エチルグリシジルエーテル。
ールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノブ
チルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテ
ル、ジベンチルエーテル、アリルエチルエーテル、ジイ
ソペンチルエーテル、ジアリルエーテル、ブチルグリシ
ジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、ジプロピル
エーテル、エチルグリシジルエーテル。
ビニルグリシジルエーテル、ジメチルエーテル、ジエチ
ルエーテル、ジノルマルプロピルエーテル、ジブチルエ
ーテル、ｌ、２−ジメトキシエタン、トリメトキシエタ
ン、トリエトキシエタン等から選ばれるものである。
ルエーテル、ジノルマルプロピルエーテル、ジブチルエ
ーテル、ｌ、２−ジメトキシエタン、トリメトキシエタ
ン、トリエトキシエタン等から選ばれるものである。
より好ましくは１，４−ジオキサン、ブチルグリシジル
エーテル、１．２−ジメトキシエタンである。
エーテル、１．２−ジメトキシエタンである。
エステル類としては次の一般式で示されるものが好まし
く、 ＲＯ−Ｒ′−（００Ｒ″ ［ここでＲ、Ｒ’、 Ｒ”は水素原子又は炭素数１〜６
の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素
基］ 酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ノルマル
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、アクリル
酸エチル、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル、アク
リル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸フェニル
、アクリル酸アリル、カプロラクタム、カルバミド酸エ
チル、カルバミド酸メチル、サリチル酸メチル等から選
ばれるものであり、より好ましくは酢酸メチル、サリチ
ル酸メチルである。
く、 ＲＯ−Ｒ′−（００Ｒ″ ［ここでＲ、Ｒ’、 Ｒ”は水素原子又は炭素数１〜６
の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素
基］ 酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ノルマル
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、アクリル
酸エチル、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル、アク
リル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸フェニル
、アクリル酸アリル、カプロラクタム、カルバミド酸エ
チル、カルバミド酸メチル、サリチル酸メチル等から選
ばれるものであり、より好ましくは酢酸メチル、サリチ
ル酸メチルである。
炭化水素類としては炭素数１〜１５の鎖状又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、イ
ソペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、２−メチル
ペンタン、２．２−ジメチルブタン、２，３−ジメチル
ブタン、ｎ−へブタン、イソへブタン、３−メチルヘキ
サン、２，４−ジメチルベンクン、ｎ−オクタン、２−
メチルへブタン、３−メチルへブタン、４−メチルへブ
タン、２．２−ジメチルヘキサン、２．５−ジメチルヘ
キサン、３，３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−
二チルベンクン、３−メチル−３−エチルベンクン、２
．３．３−トリメチルペンタン、２，３．４−トリメチ
ルペンタン、２．２．３− ）ジメチルベンクン、イソ
オクタン、ノナン、２゜２，５−トリメチルヘキサン、
デカン、ドデンカン、ｌ−ペンテン、２−ペンテン、１
−ヘキセン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、
シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビ
シクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペン
テン、デカリン、テトラリン、アミレン、アミルナフタ
レン等から選ばれるものである。より好ましくは、ｎ−
ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−へブタ
ン等である。
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、イ
ソペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、２−メチル
ペンタン、２．２−ジメチルブタン、２，３−ジメチル
ブタン、ｎ−へブタン、イソへブタン、３−メチルヘキ
サン、２，４−ジメチルベンクン、ｎ−オクタン、２−
メチルへブタン、３−メチルへブタン、４−メチルへブ
タン、２．２−ジメチルヘキサン、２．５−ジメチルヘ
キサン、３，３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−
二チルベンクン、３−メチル−３−エチルベンクン、２
．３．３−トリメチルペンタン、２，３．４−トリメチ
ルペンタン、２．２．３− ）ジメチルベンクン、イソ
オクタン、ノナン、２゜２，５−トリメチルヘキサン、
デカン、ドデンカン、ｌ−ペンテン、２−ペンテン、１
−ヘキセン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、
シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビ
シクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペン
テン、デカリン、テトラリン、アミレン、アミルナフタ
レン等から選ばれるものである。より好ましくは、ｎ−
ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−へブタ
ン等である。
アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｅ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルア
ルコール、ペンチルアルコール、５ｅｃ−アミルアルコ
ール、１−エチル−１−プロパツール、２−メチル−１
−ブタノール、インペンチルアルコール、ｔ ｅ ｒ
ｔ−ペンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール
、ネオペンチルアルコール、ｌ−ヘキサノール、２−メ
チル−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノー
ル、２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタツール、
２−ヘプタツール、３−ヘプタツール、１−オクタツー
ル、２−オクタツール、２−エチル−１−ヘキサノール
、１−ノナノール、３，５．５−トリメチル−１−ヘキ
サノール、１−デカノール、ｌ−ウニ／デカノール、ｌ
−ドデカノール、アリルアルコール、プロパルギルアル
コール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、ｌ
−メチルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサ
ノール、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシ
クロヘキサノール、α−テルピネオール、アビニチノー
ル、２．６−シメチルー４−ヘプタツール、トリメチル
ノニルアルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデ
シルアルコール等から選ばれるものである。より好まし
くはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール
等である。
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｅ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルア
ルコール、ペンチルアルコール、５ｅｃ−アミルアルコ
ール、１−エチル−１−プロパツール、２−メチル−１
−ブタノール、インペンチルアルコール、ｔ ｅ ｒ
ｔ−ペンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール
、ネオペンチルアルコール、ｌ−ヘキサノール、２−メ
チル−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノー
ル、２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタツール、
２−ヘプタツール、３−ヘプタツール、１−オクタツー
ル、２−オクタツール、２−エチル−１−ヘキサノール
、１−ノナノール、３，５．５−トリメチル−１−ヘキ
サノール、１−デカノール、ｌ−ウニ／デカノール、ｌ
−ドデカノール、アリルアルコール、プロパルギルアル
コール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、ｌ
−メチルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサ
ノール、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシ
クロヘキサノール、α−テルピネオール、アビニチノー
ル、２．６−シメチルー４−ヘプタツール、トリメチル
ノニルアルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデ
シルアルコール等から選ばれるものである。より好まし
くはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール
等である。
塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、１．１−ジクロルエタン、１．２−ジクロロ
エタン、１．１．１−トリクロ）’ｖエタン、Ｌ、ｌ、
２−トリクロルエタン、１，１，１．２−テトラクロル
エタン、１，１，２．２−テトラクロルエタン、ペンタ
クロルエタン、１．１−ジクロルエチレン、１．２−ジ
クロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエ
チレン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化
メチレン、１、 ｌ、 ｌ−トリクロルエタン、トリク
ロルエチレン、テトラクロルエチレン等である。
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、１．１−ジクロルエタン、１．２−ジクロロ
エタン、１．１．１−トリクロ）’ｖエタン、Ｌ、ｌ、
２−トリクロルエタン、１，１，１．２−テトラクロル
エタン、１，１，２．２−テトラクロルエタン、ペンタ
クロルエタン、１．１−ジクロルエチレン、１．２−ジ
クロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエ
チレン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化
メチレン、１、 ｌ、 ｌ−トリクロルエタン、トリク
ロルエチレン、テトラクロルエチレン等である。
本発明の混合溶剤組成物には、各種の洗浄助剤や安定剤
あるいはオゾン破壊に対する影響の少ない水素含有塩素
化フッ素化炭化水素類をさらに添加混合してもよい。洗
浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超音
波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用することができる
。
あるいはオゾン破壊に対する影響の少ない水素含有塩素
化フッ素化炭化水素類をさらに添加混合してもよい。洗
浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超音
波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用することができる
。
［実施例］
実施例１〜６９
下記第１〜３表に示す混合溶剤組成物を用いてフラック
スの洗浄試験を行なった。
スの洗浄試験を行なった。
プリント基板（銅張積層板）全面にフラックス（スピー
デイフラックス、 ＡＧＦ−Ｊ−１、アサと化学研究新
製）を塗布し、２００℃の電気炉で２分間焼成後フラッ
クス洗浄剤に１分間浸漬した。フラックスの除去の度合
を第１〜３表に示す。
デイフラックス、 ＡＧＦ−Ｊ−１、アサと化学研究新
製）を塗布し、２００℃の電気炉で２分間焼成後フラッ
クス洗浄剤に１分間浸漬した。フラックスの除去の度合
を第１〜３表に示す。
第１表
第２表
ム；頒ｌ残仔
×；かなり残存
第
表
［発明の効果］
本発明の混合溶剤組成物は実施例から明らかなようにフ
ラックスの洗浄効果の優れたものである。又、従来使用
されていたＲ１１３と同様に適度な溶解力を持つことか
ら、金属、プラスチック及びエラストマー等から成る複
合部品に悪影響を与えることなく、フラックス洗浄する
ことができる。
ラックスの洗浄効果の優れたものである。又、従来使用
されていたＲ１１３と同様に適度な溶解力を持つことか
ら、金属、プラスチック及びエラストマー等から成る複
合部品に悪影響を与えることなく、フラックス洗浄する
ことができる。
代理人（’ｆｌ’ｌ！Ｉ！±）平石把」干手続補正書
平成２年２月
Claims (1)
- （１）【遺伝子配列があります】、及び【遺伝子配列が
あります】の群から選ばれる少なくとも１種と、ケトン
類、エーテル類、エステル類から選ばれる１種とからな
る混合溶剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2254589A JPH02202998A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 混合溶剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2254589A JPH02202998A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 混合溶剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02202998A true JPH02202998A (ja) | 1990-08-13 |
Family
ID=12085799
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2254589A Pending JPH02202998A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 混合溶剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02202998A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5102563A (en) * | 1990-05-10 | 1992-04-07 | Societe Atochem | Cleaning composition based on 1,1,1,2,2-pentafluoro-3,3-dichloropropane and methyl tert-butyl ether |
| US5120462A (en) * | 1990-04-03 | 1992-06-09 | Kali-Chemie Ag | Dichloropentafluoropropanes and acetone compositions |
| US8021490B2 (en) | 2007-01-04 | 2011-09-20 | Eastman Chemical Company | Substrate cleaning processes through the use of solvents and systems |
-
1989
- 1989-02-02 JP JP2254589A patent/JPH02202998A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5120462A (en) * | 1990-04-03 | 1992-06-09 | Kali-Chemie Ag | Dichloropentafluoropropanes and acetone compositions |
| US5102563A (en) * | 1990-05-10 | 1992-04-07 | Societe Atochem | Cleaning composition based on 1,1,1,2,2-pentafluoro-3,3-dichloropropane and methyl tert-butyl ether |
| US8021490B2 (en) | 2007-01-04 | 2011-09-20 | Eastman Chemical Company | Substrate cleaning processes through the use of solvents and systems |
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