JPH02203000A - 混合溶剤組成物 - Google Patents
混合溶剤組成物Info
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- JPH02203000A JPH02203000A JP2255489A JP2255489A JPH02203000A JP H02203000 A JPH02203000 A JP H02203000A JP 2255489 A JP2255489 A JP 2255489A JP 2255489 A JP2255489 A JP 2255489A JP H02203000 A JPH02203000 A JP H02203000A
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- JP
- Japan
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- mixed solvent
- alcohol
- methyl
- acetate
- solvent composition
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- Detergent Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は金属加工油剤を用いて加工した金属部品等に付
着した油類を除去するために用いる脱脂洗浄剤等に用い
られる混合溶剤組成物に関するものである。
着した油類を除去するために用いる脱脂洗浄剤等に用い
られる混合溶剤組成物に関するものである。
［従来の技術］
精密機械部品、電気部品等の切削加工工程で、切削油類
が使われるが、これらが付着したまままでは製品とはな
らない場合が多い。従って、通常このような部品の仕上
げ工程では有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。その
有機溶剤として次に掲げるような種々の利点から、１．
１．２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン
（以下Ｒ１１３という）が広（使われている。
が使われるが、これらが付着したまままでは製品とはな
らない場合が多い。従って、通常このような部品の仕上
げ工程では有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。その
有機溶剤として次に掲げるような種々の利点から、１．
１．２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン
（以下Ｒ１１３という）が広（使われている。
Ｒ１１３は不燃性、卵重性で毒性が低く安定性も優れて
いる。しかも、金属、プラスチック、エラストマー等の
基材を侵さず各種の汚れを選択的に溶解する性質がある
。一般に被洗物は金属、プラスチック、エラストマー等
からなる複合部品が多く、従ってこの点からもＲ１１，
３が有利であった。
いる。しかも、金属、プラスチック、エラストマー等の
基材を侵さず各種の汚れを選択的に溶解する性質がある
。一般に被洗物は金属、プラスチック、エラストマー等
からなる複合部品が多く、従ってこの点からもＲ１１，
３が有利であった。
【発明が解決しようとする課題］
本発明は従来使用されていたＲ１１３が種々の利点を持
つにもかかわらず、成層圏のオゾンを破壊し、ひいては
皮膚ガンの発生をひき起す原因となる疑いがあることか
らそれに対応すべ（Ｒ１１３と同様な種々の利点を有し
、同等の洗浄が行なえる新規の混合溶剤組成物を提供す
ることを目的とするものである。
つにもかかわらず、成層圏のオゾンを破壊し、ひいては
皮膚ガンの発生をひき起す原因となる疑いがあることか
らそれに対応すべ（Ｒ１１３と同様な種々の利点を有し
、同等の洗浄が行なえる新規の混合溶剤組成物を提供す
ることを目的とするものである。
［課題を解決するための手段］
本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
炭素数が３である特定の塩化弗化炭化水素と塩素化炭化
水素類からなる混合溶剤組成物を提供するものである。
炭素数が３である特定の塩化弗化炭化水素と塩素化炭化
水素類からなる混合溶剤組成物を提供するものである。
本発明の塩化弗化炭化水素としては
ＣＣＱＦｚＣＦ＊ＣＨＣ２ａ （Ｒ２２４ｃａ） 、
ＣＣｌ２ａＦＣＦａＣＨＣ（２Ｆ＊ （Ｒ２２４ｃｂ）
、ＣＦｓＣＦ＊ＣＨＣＱｔ （Ｒ２２５ｃａ） 、 Ｃ
ＣＱＦａＣＦ＊ＣＨＣｌ２Ｆ （Ｒ２２５ｃｂ）、ＣＣ
ｌ２Ｆ２ＣＦａＣＨａＣＱ（Ｒ２３４ｃｃ） 、 ＣＨ
Ｆ＊ＣＦｚＣＨＣＱＦ （Ｒ２３５ｃａ）、ＣＨ，ＣＦ
ｚＣＣ＜！ａＦ（Ｒ２４３ｃｃ）、ＣＨＦ５ＣＦ、ＣＩ
（＊Ｃ（２、（Ｒ２４４ｃａ）、ＣＨ，Ｃ（２ＣＦ＊Ｃ
Ｈ，Ｃ（！ （Ｒ２５２ｃｂ） 、 ＣＨＣ（２，ＣＦ
＊ＣＨ，、（Ｒ２６２ｃａ）、ＣＨｓＣＦｔＣＨｔＣ（
１（Ｒ２２５ＣＣ）、Ｃｌ４ＦｔＣＦＩＣＣ（２ｔＦ（
Ｒ２３４ＣＣ）、Ｃ）ｌｔＪＦｃＦｉ（ＪＣ１２Ｆ （
Ｒ２３４ｃａ） 、 ＣＨＦｚＣＦｚＣＨＣ’；ｈＱ
（Ｒ２３４ｃｂ）、りＨ，ＦＣＦａＣＣ１２ａＦ（Ｒ２
３４ｃｄ）、ＣＦｓＣＦ、ＣＨａＣｆ２（Ｒ２３５ｃｂ
）、ＣＣ２Ｆ、＋ＣＦ、ＣＨ，Ｆ（ｒ１２３５ｃｃ）、
Ｃ）ＩＩＣｆ２ＣＦＩＣＨＣＱＦ（Ｒ２４３Ｃａ）、Ｃ
ＨＨＦＣＦｚＣＨＣ１２＊ （Ｒ２４３ｃｂ） 、 Ｃ
Ｈ，ＦＣＦ２ＣＨＣＱＦ （Ｒ２４４Ｃ１：ｌ） 。
ＣＣｌ２ａＦＣＦａＣＨＣ（２Ｆ＊ （Ｒ２２４ｃｂ）
、ＣＦｓＣＦ＊ＣＨＣＱｔ （Ｒ２２５ｃａ） 、 Ｃ
ＣＱＦａＣＦ＊ＣＨＣｌ２Ｆ （Ｒ２２５ｃｂ）、ＣＣ
ｌ２Ｆ２ＣＦａＣＨａＣＱ（Ｒ２３４ｃｃ） 、 ＣＨ
Ｆ＊ＣＦｚＣＨＣＱＦ （Ｒ２３５ｃａ）、ＣＨ，ＣＦ
ｚＣＣ＜！ａＦ（Ｒ２４３ｃｃ）、ＣＨＦ５ＣＦ、ＣＩ
（＊Ｃ（２、（Ｒ２４４ｃａ）、ＣＨ，Ｃ（２ＣＦ＊Ｃ
Ｈ，Ｃ（！ （Ｒ２５２ｃｂ） 、 ＣＨＣ（２，ＣＦ
＊ＣＨ，、（Ｒ２６２ｃａ）、ＣＨｓＣＦｔＣＨｔＣ（
１（Ｒ２２５ＣＣ）、Ｃｌ４ＦｔＣＦＩＣＣ（２ｔＦ（
Ｒ２３４ＣＣ）、Ｃ）ｌｔＪＦｃＦｉ（ＪＣ１２Ｆ （
Ｒ２３４ｃａ） 、 ＣＨＦｚＣＦｚＣＨＣ’；ｈＱ
（Ｒ２３４ｃｂ）、りＨ，ＦＣＦａＣＣ１２ａＦ（Ｒ２
３４ｃｄ）、ＣＦｓＣＦ、ＣＨａＣｆ２（Ｒ２３５ｃｂ
）、ＣＣ２Ｆ、＋ＣＦ、ＣＨ，Ｆ（ｒ１２３５ｃｃ）、
Ｃ）ＩＩＣｆ２ＣＦＩＣＨＣＱＦ（Ｒ２４３Ｃａ）、Ｃ
ＨＨＦＣＦｚＣＨＣ１２＊ （Ｒ２４３ｃｂ） 、 Ｃ
Ｈ，ＦＣＦ２ＣＨＣＱＦ （Ｒ２４４Ｃ１：ｌ） 。
ＣＣＱＦｚＣＦｍＣＨａ （Ｒ２４４ｃｃ） 、 ＣＨ
ＪＣＦｚＣＨｚＣＱ （Ｒ２５３ｃａ）、及びＣＨｓＣ
ＦｘＣＨＣＩ２Ｆ （Ｒ２５３ｃｂ）等の水素含有塩化
弗化炭化水素から選ばれる１種又は２種以上の混合物が
好ましい。
ＪＣＦｚＣＨｚＣＱ （Ｒ２５３ｃａ）、及びＣＨｓＣ
ＦｘＣＨＣＩ２Ｆ （Ｒ２５３ｃｂ）等の水素含有塩化
弗化炭化水素から選ばれる１種又は２種以上の混合物が
好ましい。
本発明の混合溶剤組成物には、各種の目的に応じてその
他の各種成分を含有させることができる。例えば、溶解
力を高めるために、炭化水素類、アルコール類、ケトン
類又はエステル類等の有機溶剤から選ばれる少なくとも
１種を含有させることができる。これらの有機溶剤の混
合溶剤組成物中の含有割合は、０〜５０重量％、好まし
くは１０〜４０重量％、さらに好ましくは２０〜３０重
量％である。本発明の混合溶剤組成物に共沸組成が存在
する場合には、その共沸組成での使用が好ましい。
他の各種成分を含有させることができる。例えば、溶解
力を高めるために、炭化水素類、アルコール類、ケトン
類又はエステル類等の有機溶剤から選ばれる少なくとも
１種を含有させることができる。これらの有機溶剤の混
合溶剤組成物中の含有割合は、０〜５０重量％、好まし
くは１０〜４０重量％、さらに好ましくは２０〜３０重
量％である。本発明の混合溶剤組成物に共沸組成が存在
する場合には、その共沸組成での使用が好ましい。
塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、１．１−ジクロルエタン、１，２−ジクロロ
エタン、１，１．１−トリクロ、レエタン、１１．２−
トリクロルエタン、１，１，１．２−テトラクロルエタ
ン、１，１，２．２−テトラクロルエタン、ペンタクロ
ルエタン、１．１−ジクロルエチレン、１．２−ジクロ
ルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレ
ン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化メチ
レン、１．１．１−トリクロルエタン、トリクロルエチ
レン、テトラクロルエチレン等である。
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、１．１−ジクロルエタン、１，２−ジクロロ
エタン、１，１．１−トリクロ、レエタン、１１．２−
トリクロルエタン、１，１，１．２−テトラクロルエタ
ン、１，１，２．２−テトラクロルエタン、ペンタクロ
ルエタン、１．１−ジクロルエチレン、１．２−ジクロ
ルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレ
ン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化メチ
レン、１．１．１−トリクロルエタン、トリクロルエチ
レン、テトラクロルエチレン等である。
炭化水素類としては炭素数１〜１５の直鎖又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、イ
ンペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、２−メチル
ペンタン、２．２−ジメチルブタン、２，３−ジメチル
ブタン、ｎ−へブタン、イソへブタ・ン、３−メチルヘ
キサン、２．４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、２
−メチルへブタン、３−メチルへブタン、４−メチルへ
ブタン、２．２−ジメチルヘキサン、２．５−ジメチル
ヘキサン、３．３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３
−二チルベンクン、３−メチル−３−二チルベンクン、
２．３．３−トリメチルペンタン、２，３．４−トリメ
チルペンタン、２，２．３−トリメチルペンタン、イソ
オクタン、ノナン、２，２．５−トリメチルヘキサン、
デカン、ドデンカン、１−ペンテン、２−ペンテン、ｌ
−ヘキセン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、
シクロベンクン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビ
シクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペン
テン、デカリン、テトラリン、アミジノ、アミルナフタ
レン等から選ばれるものである。より好ましくは、ｎ−
ベンクン、ｎ−ヘキサン、シクロ八、キサン、ｎ−へブ
タン等である。
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、イ
ンペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、２−メチル
ペンタン、２．２−ジメチルブタン、２，３−ジメチル
ブタン、ｎ−へブタン、イソへブタ・ン、３−メチルヘ
キサン、２．４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、２
−メチルへブタン、３−メチルへブタン、４−メチルへ
ブタン、２．２−ジメチルヘキサン、２．５−ジメチル
ヘキサン、３．３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３
−二チルベンクン、３−メチル−３−二チルベンクン、
２．３．３−トリメチルペンタン、２，３．４−トリメ
チルペンタン、２，２．３−トリメチルペンタン、イソ
オクタン、ノナン、２，２．５−トリメチルヘキサン、
デカン、ドデンカン、１−ペンテン、２−ペンテン、ｌ
−ヘキセン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、
シクロベンクン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビ
シクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペン
テン、デカリン、テトラリン、アミジノ、アミルナフタ
レン等から選ばれるものである。より好ましくは、ｎ−
ベンクン、ｎ−ヘキサン、シクロ八、キサン、ｎ−へブ
タン等である。
アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｃ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルア
ルコール、ペンチルアルコール、５ｅｃ−アミルアルコ
ール、ｌ−エチル−１−プロパツール、２−メチル−１
−ブタノール、イソペンチルアルコール、ｔａｒｔ−ペ
ンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネオ
ペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル−
１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、２
−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタツール、２−ヘ
プタツール、３−ヘプタツール、１−オクタツール、２
−オクタツール、２−エチル−１−ヘキサノール、１−
ノナノール、３，５．５−トリメチル−１−ヘキサノー
ル、１−デカノール、１−ウンデカノール、ｌ−ドデカ
ノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール、
ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１−メチル
シクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、
３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキ
サノール、α−テルピネオール、アとニチノール、２，
６−シメチルー４−ヘプタツール、トリメチルノニルア
ルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルアル
コール等から選ばれるものである。より好ましくはメタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール等である
。
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｃ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルア
ルコール、ペンチルアルコール、５ｅｃ−アミルアルコ
ール、ｌ−エチル−１−プロパツール、２−メチル−１
−ブタノール、イソペンチルアルコール、ｔａｒｔ−ペ
ンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネオ
ペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル−
１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、２
−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタツール、２−ヘ
プタツール、３−ヘプタツール、１−オクタツール、２
−オクタツール、２−エチル−１−ヘキサノール、１−
ノナノール、３，５．５−トリメチル−１−ヘキサノー
ル、１−デカノール、１−ウンデカノール、ｌ−ドデカ
ノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール、
ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１−メチル
シクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、
３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキ
サノール、α−テルピネオール、アとニチノール、２，
６−シメチルー４−ヘプタツール、トリメチルノニルア
ルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルアル
コール等から選ばれるものである。より好ましくはメタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール等である
。
、ロ
ケトン類としては、Ｒ−ＣＱ−Ｒ、Ｒ−ＣＯ，Ｒ−ＣＯ
−Ｒ’−炭素数１〜９の飽和又は不飽和炭化水素基）の
いずれかの−数式で示されるものが好ましく、アセトン
、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノ
ン、２−ヘキサノン、メチル−ｎ−ブチルケトン、メチ
ルブチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジ
イソブチルケトン、アセトニルアセトン、メシチルオキ
シド、ホロン、メチル−〇−アミルケトン、エチルブチ
ルケトン、メチルへキシルケトン、シクロヘキサノン、
メチルシクロヘキサノン、イソホロン、２．４−ペンタ
ンジオン、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、フ
エンチョン等から選ばれるものである。より好ましくは
アセトン、メチルエチルケトン等である。
−Ｒ’−炭素数１〜９の飽和又は不飽和炭化水素基）の
いずれかの−数式で示されるものが好ましく、アセトン
、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノ
ン、２−ヘキサノン、メチル−ｎ−ブチルケトン、メチ
ルブチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジ
イソブチルケトン、アセトニルアセトン、メシチルオキ
シド、ホロン、メチル−〇−アミルケトン、エチルブチ
ルケトン、メチルへキシルケトン、シクロヘキサノン、
メチルシクロヘキサノン、イソホロン、２．４−ペンタ
ンジオン、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、フ
エンチョン等から選ばれるものである。より好ましくは
アセトン、メチルエチルケトン等である。
エステル類としては、次の一般式で示されるものが好ま
しく、Ｒ，−ＣＯＯ−Ｒ，、Ｒ，−ＣニーＲ３−Ｃｏｏ
−Ｒ，。
しく、Ｒ，−ＣＯＯ−Ｒ，、Ｒ，−ＣニーＲ３−Ｃｏｏ
−Ｒ，。
ＯＲ。
０ＯＲ４
（ここでＲ，、Ｒ２，Ｒ，、Ｒ４，Ｒ，、ＲｅはＨ又は
Ｏ）ｌ又は炭素数１〜１９の飽和ないし、不飽和結合を
有する炭化水素基。） 具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸５ｅｃ−ブチル、酢酸
ペンチル、酢酸インペンチル、３−メトキシブチルアセ
テート、酢酸５ｅｃ−ヘキシル、２−エチルブチルアセ
テート、２−エチルヘキシルアセテート、酢酸シクロヘ
キシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオ
ン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸インペ
ンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸イ
ソペンチル、イソ酪酸イソブチル、２−ヒドロキシ−２
−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル、ス
テアリン酸ペンチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル
、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソペ
ンチル、安息香酸ベンジル、アビエチン酸エチル、アビ
エチン酸ベンジル、アジピン酸ビス−２−エチルヘキシ
ル、γ−ブチロラクＩ・、シュウ酸ジエチル、シュウ酸
ジブチル、シュウ酸ジベンチル、マロン酸ジエチル、マ
レイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ
ブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバシ
ン酸ジブチル、セバシン酸ビス−２−エチルヘキシル、
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ビス−２−エチルヘキシル、フタル酸ジオ
クチル等から選ばれるものある。より好ましくは酢酸メ
チル、酢酸エチル等である。
Ｏ）ｌ又は炭素数１〜１９の飽和ないし、不飽和結合を
有する炭化水素基。） 具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸５ｅｃ−ブチル、酢酸
ペンチル、酢酸インペンチル、３−メトキシブチルアセ
テート、酢酸５ｅｃ−ヘキシル、２−エチルブチルアセ
テート、２−エチルヘキシルアセテート、酢酸シクロヘ
キシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオ
ン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸インペ
ンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸イ
ソペンチル、イソ酪酸イソブチル、２−ヒドロキシ−２
−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル、ス
テアリン酸ペンチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル
、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソペ
ンチル、安息香酸ベンジル、アビエチン酸エチル、アビ
エチン酸ベンジル、アジピン酸ビス−２−エチルヘキシ
ル、γ−ブチロラクＩ・、シュウ酸ジエチル、シュウ酸
ジブチル、シュウ酸ジベンチル、マロン酸ジエチル、マ
レイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ
ブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバシ
ン酸ジブチル、セバシン酸ビス−２−エチルヘキシル、
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ビス−２−エチルヘキシル、フタル酸ジオ
クチル等から選ばれるものある。より好ましくは酢酸メ
チル、酢酸エチル等である。
本発明の混合溶剤組成物には、各種の洗浄助剤や安定剤
あるいはオゾン破壊に対する影響の少ない水素含有塩素
化フッ素化炭化水素類をさらに添加混合してもよい。洗
浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー法、揺動、超
音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用することができ
る。
あるいはオゾン破壊に対する影響の少ない水素含有塩素
化フッ素化炭化水素類をさらに添加混合してもよい。洗
浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー法、揺動、超
音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用することができ
る。
［実施例］
実施例１〜２３
下記第１表に示す混合溶剤組成物を用いて切削油の洗浄
試験を行なった。
試験を行なった。
５Ｏ３−３０４のテストピース（２５ｍｍＸ ３０ｍｍ
Ｘ ２ｍｍ厚）をスピンドル油中に浸漬した後、脱脂洗
浄剤に５分間浸漬後取り出したテストピース表面のスピ
ンドル油の残存状況を肉眼観察した。その結果を第１表
に示す。
Ｘ ２ｍｍ厚）をスピンドル油中に浸漬した後、脱脂洗
浄剤に５分間浸漬後取り出したテストピース表面のスピ
ンドル油の残存状況を肉眼観察した。その結果を第１表
に示す。
［発明の効果］
本発明の混合溶剤組成物は実施例から明らかなように油
脂類の洗浄効果の優れたものである。
脂類の洗浄効果の優れたものである。
又、従来使用されていたＲ１１３と同様に適度な溶解力
を持つことから、金属、プラスチック及びエラストマー
等から成る複合部品に悪影響を与えることなく、脱脂洗
浄することができる。
を持つことから、金属、プラスチック及びエラストマー
等から成る複合部品に悪影響を与えることなく、脱脂洗
浄することができる。
Claims (1)
- （１）▲数式、化学式、表等があります▼ＦＣＦＦ＿ ３ＣＨ＿２Ｃｌ、及びＣＨ＿２ＣＦ＿２ＣＨＣｌＦ、の
群から選ばれる少なくとも１種と、塩素化炭化水素類か
らなる混合溶剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2255489A JPH02203000A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 混合溶剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2255489A JPH02203000A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 混合溶剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02203000A true JPH02203000A (ja) | 1990-08-13 |
Family
ID=12086066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2255489A Pending JPH02203000A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 混合溶剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02203000A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5514221A (en) * | 1993-04-15 | 1996-05-07 | Elf Atochem North America, Inc. | Cold cleaning process |
| US5552080A (en) * | 1993-04-15 | 1996-09-03 | Elf Atochem North America, Inc. | Cold cleaning solvents |
-
1989
- 1989-02-02 JP JP2255489A patent/JPH02203000A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5514221A (en) * | 1993-04-15 | 1996-05-07 | Elf Atochem North America, Inc. | Cold cleaning process |
| US5552080A (en) * | 1993-04-15 | 1996-09-03 | Elf Atochem North America, Inc. | Cold cleaning solvents |
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