JPH01132786A - パフ研磨洗浄剤 - Google Patents
パフ研磨洗浄剤Info
- Publication number
- JPH01132786A JPH01132786A JP62290565A JP29056587A JPH01132786A JP H01132786 A JPH01132786 A JP H01132786A JP 62290565 A JP62290565 A JP 62290565A JP 29056587 A JP29056587 A JP 29056587A JP H01132786 A JPH01132786 A JP H01132786A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- buffing
- dichloro
- compd
- difluoroethane
- alcohol
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
- C23G5/02809—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
- C23G5/02825—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine containing hydrogen
- C23G5/02829—Ethanes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分升]
本発明はバフ研磨剤を用いて研磨した金属部品等に付着
した研磨剤類を除去するために用いるバフ研磨洗浄剤に
関するものである。
した研磨剤類を除去するために用いるバフ研磨洗浄剤に
関するものである。
[従来の技術]
精密金属部品、装飾部品等のバフ研磨工程で研磨剤類が
使われるが、これらが付着したままでは製品とはならな
い場合が多い。従って、このような部品の仕上げ工程で
は41機溶剤を用いて洗浄を行なっている。溶剤の種類
としては1、1.1 トリクロルエタンが広く使われて
いる。
使われるが、これらが付着したままでは製品とはならな
い場合が多い。従って、このような部品の仕上げ工程で
は41機溶剤を用いて洗浄を行なっている。溶剤の種類
としては1、1.1 トリクロルエタンが広く使われて
いる。
[発明の解決しようとする問題点]
本発明は従来使用されていたl、 1.11−リクロル
エタンは地下水汚染の点から好ましくないため、その使
用:;1を抑えるべく1.1.ドトリクロルエタンにか
わる新規のバフ研磨洗浄剤を提供することを目的とする
ものである。
エタンは地下水汚染の点から好ましくないため、その使
用:;1を抑えるべく1.1.ドトリクロルエタンにか
わる新規のバフ研磨洗浄剤を提供することを目的とする
ものである。
[問題点を解決するための手段]
本発明は1);1述の目的を達成すべくなされたもので
あり、ジクロロジフルオロエタンを有効成分として含有
するバフ研磨洗浄剤を提供するものである。
あり、ジクロロジフルオロエタンを有効成分として含有
するバフ研磨洗浄剤を提供するものである。
本発明のバフ研磨洗浄剤の有効成分であるシリクロロジ
フルオロエタンは、不燃性で適度な溶解力がある等の利
点をイエする優れた溶剤である。ジクロロジフルオロエ
タンには1.2−ジクロロ−1,2−ジフルオロエタン
(以下R132という)。
フルオロエタンは、不燃性で適度な溶解力がある等の利
点をイエする優れた溶剤である。ジクロロジフルオロエ
タンには1.2−ジクロロ−1,2−ジフルオロエタン
(以下R132という)。
1.1−ジクロロ−2,2−ジフルオロエタン(以下R
132aという) 、 1.2−ジクロロ−1,1−ジ
フルオロエタン(以下R132bという)、1.1−ジ
クロロ−1,2−ジフルオロエタン(以下RI32cと
いう)の4種類の異性体が知られているが、これらを1
11独であるいはこれら2種以−Lの混合物として用い
ることができる。
132aという) 、 1.2−ジクロロ−1,1−ジ
フルオロエタン(以下R132bという)、1.1−ジ
クロロ−1,2−ジフルオロエタン(以下RI32cと
いう)の4種類の異性体が知られているが、これらを1
11独であるいはこれら2種以−Lの混合物として用い
ることができる。
本発明のバフ研磨洗浄剤には、各種の目的に応じてその
他の各種成分を含有させることができる。例えば、研磨
剤の除去効果を高めるために、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類等の有
機溶剤から選ばれる少なくとも1種を含有させることが
できる。これらの有機溶剤のバフ研磨洗浄剤中の含有割
合は、0〜50重量%、好ましくは10〜40重量%、
さらに好ましくは20〜30重量%である。ジクロロジ
フルオロエタンと有機溶剤との混合物に共沸組成が存在
する場合には、その共沸組成での使用が好ましい。
他の各種成分を含有させることができる。例えば、研磨
剤の除去効果を高めるために、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類等の有
機溶剤から選ばれる少なくとも1種を含有させることが
できる。これらの有機溶剤のバフ研磨洗浄剤中の含有割
合は、0〜50重量%、好ましくは10〜40重量%、
さらに好ましくは20〜30重量%である。ジクロロジ
フルオロエタンと有機溶剤との混合物に共沸組成が存在
する場合には、その共沸組成での使用が好ましい。
炭化水素類としては炭素数1〜15の直鎖又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、n−ペンタン、イ
ソペンタン、n−ヘキサン、イソヘキサン、2−メチル
ペンタン、2.2−ジメチルブタン、2.3−ジメチル
ブタン、n−へブタン、イソへブタン、3−メチルヘキ
サン、2.4−ジメチルベンタン、【1−オクタン、2
−メチルへブタン、3−メチルへブタン、4−メチルへ
ブタン、2.2−ジメチルヘキサン、2.5−ジメチル
ヘキサン、3.3−ジメチルヘキサン、2−メチル−3
−エチルペンタン、3−メチル−3−エチルペンタン、
2、3.3−1−リメチルペンタン、2.3.4− )
−リメチルベンタン、2.2.3−トリメチルペンタン
、イソオクタン、ノナン、2.2.5− トリメチルヘ
キサン、デカン、ドデンカン、l−ペンテン、2−ペン
テン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−ノネン、l−
デセン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シク
ロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキ
サン、ビシクロヘキサン、シクロヘキセン、a−ピネン
、ジペンテン、デカリン、テトラリン、アミジノ、アミ
ルナフタレン等から選ばれるものである。より好ましく
は、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−へブタン°笠で
ある。
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、n−ペンタン、イ
ソペンタン、n−ヘキサン、イソヘキサン、2−メチル
ペンタン、2.2−ジメチルブタン、2.3−ジメチル
ブタン、n−へブタン、イソへブタン、3−メチルヘキ
サン、2.4−ジメチルベンタン、【1−オクタン、2
−メチルへブタン、3−メチルへブタン、4−メチルへ
ブタン、2.2−ジメチルヘキサン、2.5−ジメチル
ヘキサン、3.3−ジメチルヘキサン、2−メチル−3
−エチルペンタン、3−メチル−3−エチルペンタン、
2、3.3−1−リメチルペンタン、2.3.4− )
−リメチルベンタン、2.2.3−トリメチルペンタン
、イソオクタン、ノナン、2.2.5− トリメチルヘ
キサン、デカン、ドデンカン、l−ペンテン、2−ペン
テン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−ノネン、l−
デセン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シク
ロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキ
サン、ビシクロヘキサン、シクロヘキセン、a−ピネン
、ジペンテン、デカリン、テトラリン、アミジノ、アミ
ルナフタレン等から選ばれるものである。より好ましく
は、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−へブタン°笠で
ある。
アルコール類としては、炭素数l〜17の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、「1−プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、n−ブチルアルコール、5ec−ブチル
アルコール、イソブチルアルコール、Lert−ブチル
アルコール、ペンチルアルコール、 5ec−アミルア
ルコール。
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、「1−プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、n−ブチルアルコール、5ec−ブチル
アルコール、イソブチルアルコール、Lert−ブチル
アルコール、ペンチルアルコール、 5ec−アミルア
ルコール。
1−エチル−1−プロパツール、2−メチル−1−ブタ
ノール、イソペンチルアルコール、Lert−ペンチル
アルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンデ
ルアルコール、1−ヘキサノール、2−メチル−1−ペ
ンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチ
ル−1−ブタノール、1−ヘプタツール、2−ヘプタツ
ール、3−ヘプタツール、1−オクタノール、2−オク
タノール、2−エチル−1−ヘキサノール、1−ノナノ
ール、3.5.5−トリメチル−I゛−ヘキサノール、
1−デカノール、1−ウンデカノール、1−ドデカノー
ル、アリルアルコール、プロパルギルアルコール、ベン
ジルアルコール。
ノール、イソペンチルアルコール、Lert−ペンチル
アルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンデ
ルアルコール、1−ヘキサノール、2−メチル−1−ペ
ンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチ
ル−1−ブタノール、1−ヘプタツール、2−ヘプタツ
ール、3−ヘプタツール、1−オクタノール、2−オク
タノール、2−エチル−1−ヘキサノール、1−ノナノ
ール、3.5.5−トリメチル−I゛−ヘキサノール、
1−デカノール、1−ウンデカノール、1−ドデカノー
ル、アリルアルコール、プロパルギルアルコール、ベン
ジルアルコール。
シクロヘキサノール、1−メチルシクロヘキサノール、
2−メチルシクロヘキサノール、3−メチルシクロヘキ
サノール、4−メチルシクロヘキサノール、a−デルビ
ネオール、アビニチノール。
2−メチルシクロヘキサノール、3−メチルシクロヘキ
サノール、4−メチルシクロヘキサノール、a−デルビ
ネオール、アビニチノール。
2.6−ジメチル−4−ヘプタツール、トリメチルノニ
ルアルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシル
アルコール等から選ばれるものである。より好ましくは
メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等で
ある。
ルアルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシル
アルコール等から選ばれるものである。より好ましくは
メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等で
ある。
ケトン類としては、R−CO−R’ 、 R−CO,R
−CO−R’ −m r(:1Ia1 CO−R’、 R−CO−R″、 R−CO−R’ (
ここで、R,R’ 、 R#は炭素数1〜9の飽和又は
不飽和炭化水素基)のいずれかの一般式で示されるもの
が好ましく、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペン
タノン、3−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチル−ロ
ープチルケトン、メチルブチルケトン、2−ヘプタノン
、4−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニルア
セトン、メシチルオキシド、ホロン、メチル−〇−アミ
ルケトン、エチルブチルケトン、メチルへキシルケトン
、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソホ
ロン、2゜4−ペンタンジオン、ジアセトンアルコール
、アセトフェノン、フェンチョン等から選ばれるもので
ある。より好ましくはアセトン、メチルエチルケトン等
である。
−CO−R’ −m r(:1Ia1 CO−R’、 R−CO−R″、 R−CO−R’ (
ここで、R,R’ 、 R#は炭素数1〜9の飽和又は
不飽和炭化水素基)のいずれかの一般式で示されるもの
が好ましく、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペン
タノン、3−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチル−ロ
ープチルケトン、メチルブチルケトン、2−ヘプタノン
、4−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニルア
セトン、メシチルオキシド、ホロン、メチル−〇−アミ
ルケトン、エチルブチルケトン、メチルへキシルケトン
、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソホ
ロン、2゜4−ペンタンジオン、ジアセトンアルコール
、アセトフェノン、フェンチョン等から選ばれるもので
ある。より好ましくはアセトン、メチルエチルケトン等
である。
塩素化炭化水素類としては、炭素数1〜2の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、1.1−ジクロルエタン、1.2−ジクロロ
エタン、 1,1.1−トリクロルエタン、1.1.2
−トリクロルエタン、I、 I、 I、 2−テトラク
ロルエタン、 1,1,2.2−テトラクロルエタン、
ペンタクロルエタン、1.1−ジクロルエチレン、1.
2−ジクロルエチレン、トリクロルエヂレン、テトラク
ロルエチレン等から選ばれるものである。より好ましく
は塩化メチレン、1.1.ll−リクロルエタン、トリ
クロルエチレン、テトラクロルエチレン等である7 エステル類としては、次の一般式で示される0OR4 (ここでR8,Rs、 Rs、 Ra、 Rs、 Re
は11又は旧1又は炭素数璽〜19の飽和ないし、不飽
和結合を有する炭化水素基。) 具体的には、ギ酸メチル2ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸5ec−ブチル、酢酸
ペンチル、酢酸イソペンチル、3−メトキシブチルアセ
テート、酢酸5ec−ヘキシル、2−エチルブチルアセ
テート、2−エチルヘキシルアセテート、酢酸シクロヘ
キシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル゛、プロピ
オン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イソ
ペンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸
イソペンチル、イソ酪酸イソブチル、2−ヒドロキシ−
2−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル、
ステアリン酸ペンチル、安息香酸メチル、安息香酸エチ
ル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソ
ペンチル、安息香酸ベンジル、アビエチン酸エチル、ア
ビエチン酸ベンジル、アジピン酸ビス−2−エチルヘキ
シル、γ−ブチロラクト、シュウ酸ジエチル、シュウ酸
ジブチル、シュウ酸ジペンチル、マロ?酸ジェヂル、マ
レイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ
ブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバシ
ン酸ジブデル、セバシン酸ビス−2−エチルヘキシル、
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、7タル酸ビス−2−エチルヘキシル、フタル酸ジオ
クチル等から選ばれるものある。より好ましくは酢酸メ
チル、酢酸エチル等である。
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、1.1−ジクロルエタン、1.2−ジクロロ
エタン、 1,1.1−トリクロルエタン、1.1.2
−トリクロルエタン、I、 I、 I、 2−テトラク
ロルエタン、 1,1,2.2−テトラクロルエタン、
ペンタクロルエタン、1.1−ジクロルエチレン、1.
2−ジクロルエチレン、トリクロルエヂレン、テトラク
ロルエチレン等から選ばれるものである。より好ましく
は塩化メチレン、1.1.ll−リクロルエタン、トリ
クロルエチレン、テトラクロルエチレン等である7 エステル類としては、次の一般式で示される0OR4 (ここでR8,Rs、 Rs、 Ra、 Rs、 Re
は11又は旧1又は炭素数璽〜19の飽和ないし、不飽
和結合を有する炭化水素基。) 具体的には、ギ酸メチル2ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸5ec−ブチル、酢酸
ペンチル、酢酸イソペンチル、3−メトキシブチルアセ
テート、酢酸5ec−ヘキシル、2−エチルブチルアセ
テート、2−エチルヘキシルアセテート、酢酸シクロヘ
キシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル゛、プロピ
オン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸イソ
ペンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸
イソペンチル、イソ酪酸イソブチル、2−ヒドロキシ−
2−メチルプロピオン酸エチル、ステアリン酸ブチル、
ステアリン酸ペンチル、安息香酸メチル、安息香酸エチ
ル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸イソ
ペンチル、安息香酸ベンジル、アビエチン酸エチル、ア
ビエチン酸ベンジル、アジピン酸ビス−2−エチルヘキ
シル、γ−ブチロラクト、シュウ酸ジエチル、シュウ酸
ジブチル、シュウ酸ジペンチル、マロ?酸ジェヂル、マ
レイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ
ブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバシ
ン酸ジブデル、セバシン酸ビス−2−エチルヘキシル、
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、7タル酸ビス−2−エチルヘキシル、フタル酸ジオ
クチル等から選ばれるものある。より好ましくは酢酸メ
チル、酢酸エチル等である。
本発明のバフ研磨洗浄剤には、各種の洗浄助剤、水、界
面活性剤、安定剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少
ない水素含有塩素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混
合してもよい。洗浄方法としては1手拭き、浸漬、スプ
レー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用
することができる。
面活性剤、安定剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少
ない水素含有塩素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混
合してもよい。洗浄方法としては1手拭き、浸漬、スプ
レー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用
することができる。
[実施例]
実施例1〜9
下記第1表に示すバフ研磨洗浄剤を用いて研磨剤の除去
試験を行なった。
試験を行なった。
腕時計のフレームをバフ研磨剤(GS−1,創研工業■
製)で研磨後、バフ研磨洗浄剤に浸漬し、3分間超音波
をかけた後、これを取り出し研磨剤の除去状況を観察し
た。その結果を第1表に示す。
製)で研磨後、バフ研磨洗浄剤に浸漬し、3分間超音波
をかけた後、これを取り出し研磨剤の除去状況を観察し
た。その結果を第1表に示す。
第1表
()内は混合比[重量%]
O:良好に除去できる Δ:少量残ひ
×=かなり残存
[発明の効果]
本発明のバフ研磨洗浄剤は実施例から明らかなように研
磨剤の除去効果の優れたものである。
磨剤の除去効果の優れたものである。
Claims (2)
- (1)ジクロロジフルオロエタンを有効成分として含有
するバフ研磨洗浄剤。 - (2)バフ研磨洗浄剤中には、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、塩素化炭化水素類又はエステル類から選
ばれる少なくとも1種が含まれている特許請求の範囲第
1項記載のバフ研磨洗浄剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62290565A JPH01132786A (ja) | 1987-11-19 | 1987-11-19 | パフ研磨洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62290565A JPH01132786A (ja) | 1987-11-19 | 1987-11-19 | パフ研磨洗浄剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01132786A true JPH01132786A (ja) | 1989-05-25 |
Family
ID=17757669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62290565A Pending JPH01132786A (ja) | 1987-11-19 | 1987-11-19 | パフ研磨洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01132786A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5240634A (en) * | 1990-03-12 | 1993-08-31 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ternary azeotropic compositions of 1,1-dichloro-1,2-difluoroethane and cis-1,2-dichloroethylene with methanol or ethanol or n-propanol |
-
1987
- 1987-11-19 JP JP62290565A patent/JPH01132786A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5240634A (en) * | 1990-03-12 | 1993-08-31 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ternary azeotropic compositions of 1,1-dichloro-1,2-difluoroethane and cis-1,2-dichloroethylene with methanol or ethanol or n-propanol |
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