JPH02205473A - 積層体の加工方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は複合型磁気ヘッドなどの積層体を加工する方
法に関し、加工中に有機酸を添加することにより磁気ヘ
ッドのギャップデプスなどにおける異種材料層の間の段
差を減少させて加工精度を向上させるものである。

「従来の技術」 一般に高記録密度用の薄膜磁気ヘッドは、Ａｌ。

Ｏｓ−Ｔ　ｉＣ（アルチック）あるいはフェライトなど
の極めて硬質の材料からなるスライダ本体（基板）と、
このスライダ本体上に形成された比較的軟質のパーマロ
イなどからなる磁極層および薄膜状のコイルと、これら
を覆うＳ　ｉ　Ｏｗ層、あるいはＡｌｔ。

０、層などの保護層とからなる積層体として構成され、
各層からなる端面が磁気記録媒体？二対向する媒体対向
面とされ、この媒体対向面を磁気記録媒体に対して微小
間隔離間させた状態で、即ち、磁気記録媒体からスライ
ダ本体を浮上させた状態で信号の読み取りと書き込みを
行うようになっている。

従ってこれらの各層が積層されてなる薄膜磁気ヘッドの
媒体対向面を研摩してギャップデプスを加工する場合、
前述のように各層間に硬度差があるために、硬度の低い
パーマロイからなる磁極層の媒体対向面側の先端部が選
択的に研摩されて磁極層の先端部側に凹部が形成されて
しまう問題がある。このように磁極層の先端部に凹部が
形成されると磁気記録媒体と磁性薄膜先端部との間の間
隔（浮上隙間）が規定の値から変動することになり、記
録密度の低下を引き起こす問題がある。

「発明が解決しようとする課題」 そこでこのような背景から、従来、磁気ヘッドの媒体対
向面の研摩加工を精密に行う目的で粒径の小さなダイヤ
モンド粒子を含むダイヤモンドペーストと錫製のラップ
定盤を使用して研摩加工を行っているが、この場合であ
っても磁極層の先端部に５００〜１０００人（５０〜Ｉ
　ＯＯｎｍ）程度の段差が生じている。

ところが、今後、磁気ヘッドの性能向上に対応して前記
媒体対向面と磁気記録媒体との間の浮上隙間が０．１〜
０．２μｍ程度以下と狭小化される傾向があるので面述
のような凹部を生じないように更に高い精度で磁気ヘッ
ドの研摩加工を行うことが要求されている。

このため薄膜磁気ヘッドの研摩加工に関して種々の研究
がなされ、ラップ定盤の材質を錫から樹脂に変更して研
摩加工するとか、研摩砥粒の粒径と潤滑液と加工圧力と
加工速度を適宜選択して最適な条件で研摩加工するなど
の手段が講じられてきているが、これらの方法では再現
性に乏しいこと、研摩条件が変更する度に条件の設定を
変更し直す必要があり、実施が容易ではないなどの問題
がある。

本発明は前記課題を解決するためになされたもので、薄
膜磁気ヘッドなどの積層体を研摩する際に生じる段差部
分を簡単な方法で従来より小さくすることができ、層間
に硬度差の存在する積層体を加工する場合であっても高
精度で加工できろ方法を提供することを目的とする。

１課題を解決するための手段」 本発明は前記課題を解決するために、硬度の異なる複数
の層が積層されてなる積層体であって、前記複数の層の
うち、少なくとも１つが金属からなる積層体の端面を機
械加工する際に、端部加工用の加工具と積層体の端部と
の間に、Ｌ−アスコルビン酸などの有機酸を供給して機
械加工するものである。

［作用　Ｊ 加工具と積層体の端面との間に供給された有機酸か各層
毎に硬度差のある積層体の端面を加工する際に生じる段
差を小さくする。加えられた有機酸は金属の酸化を抑制
して端面を加工する際の段差の発生を抑制し、加工精度
を向上させる。

以下にこの発明を更に詳細に説明する。

第１図はこの発明の方法を薄膜磁気ヘッドのスライダの
媒体対向面を研摩してギャップデプスを加工ケる場合に
適用した一例について説明するためのらのであり、第２
図ないし第４図はこの例において研摩される薄膜磁気ヘ
ッドのスライダを示している。

この例で研摩するスライダ（積層体）Ｓは第２図に示す
外形をなし、その端部側の内部構造は、第４図に示すよ
うに、フェライトからなるスライダ本体部１と、このス
ライダ本体部ｌ上（第４図では左側面上）に形成された
アルミナからなる下部絶縁層２と、下部絶縁層２上に形
成された下部磁極層３および上部磁極層４と、下部磁極
層３と上部磁極層４の間に形成された絶縁層６と、この
絶縁層６の内部側を貫通して形成された図示略の薄膜コ
イルと、上部磁極層４を被覆して設けられた上部保護層
７を具備して構成されている。

以上のように構成されたスライダＳにおいて、第３図に
符号Ｍで示す面が媒体対向面であり、この媒体対向面Ｍ
を研摩してギャップデプスの加工を行う場合にこの発明
の方法を適用する。

媒体対向面Ｍを研摩するには、まず、第１図に示すラッ
プ定盤１０とベースｉｌｌと噴射容器１２を用叡する。

前記ラップ定＠１０は、錫製のもの樹脂製のらのなど公
知の材料からなるものを使用することができる。また、
ベース仮１１は第２図ないし第４図に示す構造のスライ
ダＳを底面側に張り付けであるものである。

噴射容器１２はプラスチック製の容姿の人口部に噴霧管
を取り付けてなるもので、その内部にはダイヤモンドス
ラリ（研摩液）１３が満たされている。このダイヤモン
ドスラリ１３は水溶性あるいは油性などの潤滑液にダイ
ヤモンド粒子とＬ−７スコルビン酸などの有機酸を混入
してなるものである。ここで用いる有機酸はＬ−アスコ
ルビン酸の他にリンゴ酸、クエン酸などであっても良い
。

このダイヤモンドスラリには、有機酸を０．５〜３０％
の割合で混入することが好ましい。有機酸の混合量が０
．５％より少ない場合は、効果が小さいために好ましく
なく、３０％より多い場合は粘度が高くなり、研摩に悪
影響を及ぼすために好ましくない。

次にラップ定盤ｌＯを回転させるとともに、噴射容器１
２によりＬ−アスコルビン酸入りのダイヤモンドスラリ
１３をラップ定盤１０上に吹き付け、ラップ定盤１０の
上面にベース板１１に取り付けられたスライダＳの媒体
対向面Ｍを押し付ける。

以上の操作によってスライダＳの媒体対向面Ｍはラップ
定盤ＩＯの上面に噴霧されたダイヤモンドスラリー１３
中のダイヤモンド粒子と接触して研摩される。そしてこ
の研摩の際に潤滑液中の有機酸が効果的に作用して従来
より段差の少な１１状態に媒体対向面Ｍが研摩される。

即ち、有機酸は金属（この例のスライ°ダＳの場合、磁
極層３．４の材料であるパーマロイ）の酸化を防止する
とともに、Ａ　ｌ＊０３−Ｔ　ｉＣ製のスライダ本体ｌ
とアルミナ製の下部絶縁層２および上部保護層７を化学
的に削る作用があるので、これらの効果が相まって他の
層より軟質のパーマロイ製の磁極層３．４の先端部に生
じる凹部の大きさが従来よりも小さくなる。従って媒体
対向面Ｍの研摩加工性が向上し、磁極層３．４の先端部
と媒体との間隔誤差が少なくなるので、スペーシングロ
スが現象し、磁気ヘッドの性能が向上する。また、この
発明の方法は、研摩中にラップ定盤１０とスライダＳの
間に有機酸を供給する操作により容易に実施できるので
、実施が簡単で手間がかからない利点がある。

なお、前記の例においては、ダイヤモンドスラリにＬ−
アスコルビン酸を混入したものを噴射容器Ｉ２に収納し
、これをラップ定盤ＩＯに噴射する方法を用いたが、ラ
ップ定盤ｌＯ上（こダイヤモンドスラリを供給する方法
は図面のような噴射容器１２以外のものを用いてら良い
。なおまた、ダイヤモンドスラリのみとダイヤモンド砥
粒のみとＬ−アスコルビン酸のみを別個にラップ定盤１
０に吹き付けて供給するようにしても良い。

更にこの発明は、第２図ないし第４図に示す構造の磁気
ヘッドのスライダＳの他にフェライト層と金属層とガラ
ス層とを具備してなる通称ＭＩＧヘッド（メタルインギ
ャップヘッド）などの研摩に用いても良いのは勿論であ
る。

また、この発明の方法は金属層とセラミック層とガラス
層などの硬度の異なる種々の層が積層された積層体の端
面を精密研摩あるいは精密切削する場合に広く用いても
良いのは勿論であり、被加工物と加工具の間に有機酸を
混入した潤滑液を供給して目的を達成するようにしても
良い。

「実施例」 第１図に示す形状のラップ定盤とベース板と噴射容器を
用いて第２図ないし第４図に示す構造のスライダの研摩
を行った。噴射容器の内部には平均粒径１／４μｌのダ
イヤモンド粒を混入してなるダイヤモンドスラリに対し
、Ｌ−アスコルビン酸を混入してなるダイヤモンド混合
スラリを用いた。

また、ラップ定盤の上面にベース板を押し付ける圧力を
０　、４　ｋｇ／　ｃ＋＋”、ラップ定盤の平均回転速
度を３６１／分に設定した。なお、ラップ定盤はケメッ
ト銅盤を用いた。

また、研摩条件と研摩器具は同等としてＬ−アスコルビ
ン酸を添加しない従来方法を実施してスライダを研摩加
工した。

第５図はこの発明の方法に従って前記のように研摩して
得られたスライダの媒体対向面の段差状態を示し、第６
図は従来の方法に従って前記のように研摩した得られた
スライダの媒体対向面の段差状態を示す。

第５図と第６図を比較して明らかなように、この発明の
方法を実施して・研摩されたスライダの方が従来方法に
より研摩されたスライダよりも段差部分が小さいことが
明らかになった。なお、この発明の方法を適用して磁気
ヘッドのスライダの加工を行った場合、パーマロイから
なる磁極層の先端部に生じる凹部の深さを１５ｒ＋ｎ＋
（１５０人）以下にできることが明らかになった。

「発明の効果」 以上説明したように本発明は、加工具と積層体の端面と
の間に有機酸を供給して積層体を加工するので、硬度が
異なる層が積層された積層体を加工する場合であっても
、有機酸が積層体の金属層の酸化を防止した状態で加工
されるので金属層が過剰に加工されることが少なくなっ
て層間に段差の少ない状態で積層体を加工することがで
きるようになる。従って積層体の加工精度を向上させる
ことができる。

また、積層体として金属の軟質の磁極層と硬質のセラミ
ック層とが積層された磁気ヘッドを用い、この磁気ヘッ
ドの媒体対向面を研摩加工する場合、この発明の方法で
研摩加工を行うと軟質の磁極層の先端部に生じる凹部を
従来よりも小さくすることができる。従ってこの場合、
磁極層の先端部と磁気記録媒体とのスペーンングロスを
従来よりも小さくできるので磁気ヘッドの磁気記録特性
が向上する効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一例を実施している状態を示す説明
図、第２図ないし第４図はこの発明の実施に用いる磁気
ヘッドのスライダを示すもので、第２図は構成図、第３
図は一部拡大図、第４図は第３図のＡ−Ａ’線断面図、
第４図は実施例において研摩した磁気ヘッドのスライダ
の凹凸状態の測定例を示す図、第５図はこの発明の方法
によって研摩して得られた磁気ヘッドのスライダの凹凸
状態の測定例を示す図、第６図は従来方法によって研摩
した磁気ヘッドのスライダの凹凸状態の測定例を示す図
である。 ｌ・・・スライダ本体、２・・・下部保護層、３・・・
下部磁極層、４・・・上部磁極層、６・・・絶縁層、７
・・・上部保護層、ＩＯ・・・ラップ定盤（加工具）、
１１・・・ベース板、１２・・・噴射容器、１３・・・
ダイヤモンドスラリ（研摩液）、Ｍ・・・媒体対向面（
端面）、Ｓ・・・スライダ（積層体）。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 硬度あるいは材質の異なる複数の層が積層されてなり、
   前記複数の層のうち、少なくとも１つが金属からなる積
   層体において、前記複数の層からなる積層体の端面を機
   械加工する際に、端面加工用の加工具と積層体の端面と
   の間に、Ｌ−アスコルビン酸などの有機酸を供給して機
   械加工することを特徴とする積層体の加工方法。