JPH02206658A - ナフトキノンジイミン系化合物及び該化合物を含む光学記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光吸収性を有する新規なナフトキノンジイミ
ン系化合物及び該化合物を用いた光学記録媒体に関する
ものである。

〔従来の技術〕

レーザー光等を用いた光化学記録は、高密度な情報の記
録保存及びかかる記録の容易な再生利用のいずれも可能
なものであって、その−例として光ディスクを挙げるこ
とができる。

一般に、光ディスクは、円形の基体に設けられた薄い記
録層に、１μｍ程度に集束したレーザー光を照射し、高
密度の情報記録を行うものである。その記録は、照射さ
れたレーザー光エネルギーの吸収によって、その個所の
記録層に分解、蒸発、溶解等の熱的変形が生じることに
より行なわれる。また、その記録された情報の再生は、
レーザー光により変形が起きている部分と起きていない
部分の反射率の差を読み取ることにより行われる。

したがって、光学記録媒体の記録層は、レーザー光のエ
ネルギーを効率よく吸収する必要があるため、記録に使
用する特定の波長のレーザー光に対する吸収が大きいこ
と、情報の再生を正確に行うため、再生に使用する特定
波長のレーザー光に対する反射率が高いことが必要とな
る。

この種の光学記録媒体としては、従来、種々の構成のも
のが知られている。たとえば、特開昭５５−９７０３３
号公報には、基板上に７タロシアニン系色素の単層を設
けたものが開示されている。また、特開昭５８−８３３
４４号公報にはフェナレン系色素を、特開昭５８−２２
４７９３号公報にはナフトキノン系色素をそれぞれ記録
層に担持させたものが開示されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、上記のような従来のフタロシアニン系色
素は感度が低く、また分解点が高く蒸着しにくい等の問
題を有し、さらに有機溶媒に対する溶解性が著しく低く
、塗布によるコーチ、インクに使用することができない
という問題も有している。また、上記のような従来の７
エナレン系やす７トキノン系色素は蒸着しやすい利点の
ある半面、反射率の低いという問題を有している。反射
率が低いとレーザー光によシ記録された部分と未記録部
分との反射率に関係するコントラストは低くなり、記録
された情報の再生が困難となる。更に、一般に有機系色
素は、保存安定性が劣るという問題を有している。

本発明は、上記のような従来の課題を解決して、有機溶
媒に対する溶解性が高く、塗布によるコーティングが可
能なばかりでなく、反射率が高く、コントラストが良好
で保存性にもすぐれているナフトキノンジイミン系化合
物及び該化合物を使用した光学記録媒体の提供を目的と
する。

〔課題を解決するだめの手段〕

本発明者らは、かかる目的を達成すべく鋭意研究を進め
た結果、本発明に到達した。すなわち、本発明は、−紋
穴（１） （式中、Ｒ１及びＲ２は炭素数１〜１０のアルキル基を
表わし、同じであっても異なっていてもよく、Ｘ、Ｙは
水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又はアシルアミノ
基を表わす。）で示されるナフトキノンジイミン系化合
物、並びに、基板と記録層からなり、へ録層が前退一般
式〔１〕で示されるナフトキノンジイミン系化合物を光
吸収性物質として含有することを特徴とする光学記録媒
体、を要旨とするものである。

以下、本発明の前退一般式〔１〕で示されるナフトキノ
ンジイミン系化合物につき更に詳しく説明する。

前退一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２で表わされる炭素数
１〜１０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のア
ルキル基が挙げられ、これらのアルキル基は直鎖状でも
分岐鎖状でもよい。Ｘ、Ｙとしては水素原子、メチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４の
直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基；アセチルアミノ基、
プロピオニルアミノ基等のアシルアミノ基が挙げられる
。

前退一般式〔Ｉ〕で示される本発明のナフトキノンジイ
ミン系化合物は、約７００〜９００１ｍの波長帯域に吸
収を有し、しかもその分子吸光係数は１０４〜１０５ｃ
！ｎ−１である。

かかる−紋穴〔Ｉ〕で示されるナフトキノンジイミン系
化合物は、例えばまず、下記構造式で表わされる化合物
と、下記−紋穴〔■〕Ｘ （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｘ、Ｙは前記定義に同じ。）で表
わされる化合物の塩酸塩とを、酸化的縮合させることに
よって製造することができる。

次に、本発明の光学記録媒体は、基本的には基板と前記
−紋穴〔Ｉ〕で示されるナフトキノンジイミン系化合物
を含有する記録層とから構成されるが、さらに必要に応
じて基板上に下引き層を、また記録層上に保護層を設け
ることができる。

基板としては、ガラス、プラスチック、紙、板状または
箔状の金属等の一般の記録材料の支持体として用いられ
るものが挙げられるが、プラスチックが種々の点から好
適である。プラスチックとしては、アクリル樹脂、メタ
クリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、ニトロ
セルロース、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂
、ポリサルホン樹脂等が挙げられる。

光学記録媒体における情報記録層として本発明のす７ト
キノンジイミン系化合物を使用する際、膜厚は１００Ａ
　〜５μｍ、好ましくは１００ＯＡ〜３μｍである。成
膜法としては真空蒸着法、スパッタリング法、ドクター
ブレード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法等一般に
行われている薄膜形成法で成膜することができる。また
、必要に応じてバインダーを使用することもできる。バ
インダーとしてはポリビニルアルコール、ニトロセルロ
ース、酢酸セルロース、ポリビニルブチラール、ポリカ
ルボネートなど既知のものが用いられ、バインダーに対
するナフトキノンジイミン系化合物の量は重量比で０．
０１以上であることが望ましい。スピナー法による成膜
の場合、回転数は５００〜ｓ　ｏ　ｏ　ｏ　ｒｐｍが好
ましく、スピンコードの後、場合によっては、加熱ある
いは溶媒蒸気にあてる等の処理を行なってもよい。また
、記録層には、その安定性や耐光性向上のために、−重
環酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（た
とえば、アセチルアセトナート、ビスフエニルジチオー
ル、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジ
ケトン等のキレート）を含有していてもよい。更に、必
要に応じて他の色素を併用することができる。他の色素
としては別の種類の同系統の化合物でもよいし、トリア
リールメタン系色素、アゾ染料、シアニン系色素、スク
ワリリウム系色素、含金属インドアニリン系色素など他
系統の色素でもよい。

ドクターブレード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法
、特に、スピナー法等の塗布方法により記録層を形成す
る場合の塗布溶媒としては、テトラクロロエタン、ブロ
モホルム、ジフロモエタン、エチルセロソルブ、キシレ
ン、クロロベンゼン、シクロヘキサノン等の沸点、１２
０〜１６０℃のものが好適に使用される。

光学記録媒体の記録層は、基板の両面に設けてもよいし
、片面だけに設けてもよい。

上記のようにして得られた記録媒体への記録は、基体の
両面又は片面に設けた記録層に１μｍ程度に集束したレ
ーザー光、好ましくは、半導体レーザーの光をあてるこ
とにより行う。レーザー光の照射された部分には、レー
ザーエネルギーの吸収によって、分解、蒸発、溶融等の
記録層の熱的変形が起こる。

記録された情報の再生は、レーザー光により、熱的変形
が起きている部分と起きていない部分の反射率の差を読
み取ることにより行う。

光学記録媒体に使用されるレーザー光としては、Ｎ２、
Ｈ６−Ｃｄ、　Ａｒ、　Ｈｅ−Ｎｅ、　／Ｉ／ビー半導
体又は色素のレーザー等が挙げられるが、特に、軽量性
、取扱いの容易さ、コンパクト性などの点から半導体レ
ーザーが好適である。

〔実施例〕

以下、実施例により、本発明を更に具体的に説明するが
、かかる実施例は本発明を限定するものではない。

実施例１ （ａ）　　ナフトキノンジイミン系化合物の製造例１下
記構造式 た。（収率９６．９　％　）メタノールで再結晶精製し
、下記構造式で表わされるナフトキノンジイミン系化合
物を得た。

Ｎ。

で表わされる化合物３３６ＴＩＩｇ（ＺＯｍｍｏｌ）と
水酸化ナトリウム４ｏｏｑ（１ｏ、ｏｍｍｏｊ）を水２
０ｍｊに溶かし、０〜５℃に氷冷し、かくはんしながら
、下記構造式 で表わされる化合物！１４７Ｆ（１０ｍｍｏｊ）の１０
ｍ１水溶液と過硫酸アンモニウム２．２８２ｆ（１０ｍ
ｍｏｊ）の１０ｍ！水溶液を徐々に滴下させた。

３０分間かくはん後、生成した沈殿を濾過、水洗、乾燥
させ、クロロホルムを溶離液としてシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにて分離し得られた上記化合物の物性
値は下記のとうりであった。

■　クロロホルム溶液中の吸収スペクトルは、添付の図
−１に示した。

λｍａＸ　：　７２５１ｍ 分子吸光係数（’）　：　３．ｌＸ１０’　ｃｍ−”■
　元素分析値は、下表に示すように計算値と■　Ｍａｓ
ｓスペクトルもよく合致した。

Ｍ”　　　３４２ Ｍ”−１５３２７ ■　融点：１３８〜１３９℃ （ｂ）　　光学記録媒体の製造例１ 上記の（ａ）化合物の製造例１で製造したナフトキノン
ジイミン系化合物０．１ｔをテトラクロロエタン１０９
に溶解し、０．２２μｍのフィルターで濾過し、溶解液
を得た。この溶解液１ｍｊをポリメチルメタクリレート
（ＰＭＭＡ）樹脂基板（直径５２ｍ）の上に滴下し、ス
ピナー法によりｇ　ｏ　ｏ　ｒｐｍの回転数で塗布した
。塗布後、６０℃で１０分間乾燥した。塗布膜の最大吸
収波長は７２０ｎｍであった。スペクトルの形状は幅広
であった。添付の図−２に塗布膜の吸収スペクトルを示
した。

（Ｃ）　　光記録法１ 上記の光学記録媒体の製造例１で得られた塗布膜に、中
心波長７８０　ｎｍの半導体レーザー光を出力６ｒｎＷ
で照射したところ、輪郭の極めて明瞭なピットが形成さ
れた。

実施例２ （１）　　ナフトキノンジイミン系化合物の製造例２実
施例１の（ａ）において、下記構造式で表わされる化合
物’）−１４７９の代わりに、下記構造式 で表わされる化合物を用いた以外は、実施例１と同様に
して製造したところ、下記構造式で表わされるナフトキ
ノンジイミン系化合物を得た。

Ｃ 得られた化合物の物性値は下記のとおりであった。

■　λｍａｘ　　（クロロホルム中）ニアＯ５ｎｍ分子
吸光係数（す（同上中）：Ｚ９１Ｘ１０’　ｃｍ−”■
　元素分析値は、下表に示すように、計算値とほぼ一致
した。

Ｈ−、ｎｕトＮぐ二：：　　　　−２ＨＣｊで表わされ
る化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして製造し
たところ、下記構造式で表わされる化合物を得た。

Ｃ ■　Ｍａｓｓスペクトルは良く合致した。

Ｍ”　　　３２　ｇ　（Ｃ２１Ｈ２ｏＮ４）Ｍ”−１５
３１３ ■　融点：１２８〜１２９℃ 実施例３ （ａ）　　ナフトキノンジイミン系化合物の製造例３実
施例１の（ａ）において、下記構造式得られた化合物の
物性値は下記のとおりであった。

■　λｍａｘ　　（クロロホルム中）：６８６ｎｍ分子
吸光係数（１）（同上中）　：　２−３１ＸＩ　Ｏ’　
ａｎ−”■　元素分析値は計算値と良く合致した。

Ｈ３ で表わされる化合物Ｚ１４７ｆの代わりに、下記構造式 ■　Ｍａｓｓスペクトルは良く合致した。

Ｍ　　３００　　　（Ｃ，、Ｈｌ、Ｎ４）■　融点＝１
８１〜１８２℃ 実施例４ （ａ）　　す７トキノンジイミン系化合物の製造例４下
記構造式 過し、沈殿を水洗、乾燥させた。クロロホルム溶離液で
シリカゲルカラムクロマトクラフィーによシ分離したと
ころ、下記構造式で表わされる化合物を得た。（収率８
４．５　％　）で表わされる化合物１０４η（０，６２
ｍ　ｍｏｊｔ）　、アンモニア水０．２２ｍ１．アセト
７５　ｍｌおよび水１０ｍ１を混合し溶解させ、０〜５
℃に冷却した。

かくはんしながらこれに、下記構造式 更に、本発明のナフトキノンジイミン系化合物の具体例
としては、以上で挙げたものの他、下記衣−１の化合物
などが挙げられる。これらはいずれも良好な結果を得た
。

で表わされる化合物６００１１Ｎ！　（３，１ｍ　ｍｏ
ｌ＞の２　ｍｌアセトン溶液と過硫酸アンモニウム７０
９■（３，１ｍｍｏｊ）の５　ｍｌ水溶液を滴下、３０
分間かくはん後、アンモニアとア七トンを留去したのち
戸ロホルム溶液の吸収スヘク 波長（ｎ　ｍ　） ４゜ 〔発明の効果〕 本発明のナフトキノンジイミン系化合物は、有機溶媒に
対する溶解性が高く、その溶液巾約７００〜９００　ｎ
ｍの波長帯域に吸収を有し、しかも分子吸光係数は１０
４〜ＩＱ５（ｍ−’の新規な化合物であるのに加えて、
本発明の光学記録媒体は、かかる化合物を基板の塗布に
よるコーティングに使用して工業的有利に製造すること
ができ、しかも得られた塗布膜のスペクトルの形状はｌ
Ｊ広でこれに半導体レーザー光を照射すると輪郭の極め
て明瞭なビットが形成される、というコー業的価値ある
顕著な効果を奏するものである。

【図面の簡単な説明】

図−１は実施例１の（ａ）で得られた本発明のナフトキ
ノンジイミン系化合物のクロロホルム溶液中の吸収スペ
クトル、図−２は実施例１の（ｂ）で得られた該化合物
の塗布膜における吸収スペクトルをそれぞれ示す。 図 塗布膜の吸収スペク ト 波長（ｎｍ）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・〔 I
   〕 （式中、Ｒ＾１及びＲ＾２は炭素数１〜１０のアルキル
   基を表わし、同じであっても異なっていてもよく、Ｘ、
   Ｙは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又はアシルア
   ミノ基を表わす。）で示されるナフトキノンジイミン系
   化合物。
2. （２）基板と記録層からなり、該記録層が請求項１記載
   の一般式〔 I 〕で示されるナフトキノンジイミン系化
   合物を光吸収性物質として含有することを特徴とする光
   学記録媒体。