JPH0220823Y2

JPH0220823Y2 -

Info

Publication number: JPH0220823Y2
Application number: JP1031486U
Authority: JP
Priority date: 1986-01-29
Filing date: 1986-01-29
Publication date: 1990-06-06
Also published as: JPS62124844U

Description

【考案の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本考案は透光性ガラス板に遮光性膜を被着した
フオトマスク基板や、半導体基板に半導体酸化物
膜を被着したものにそれぞれフオトレジストを塗
布した後、そのフオトレジストを所定のパターン
で露光されたこれ等基板のパターン形成工程にお
ける現像工程，エツチング工程等に使用されるス
プレー装置に係り、特に基板サイズおよび厚みの
変更に拘わらず容易に対応でき、しかも基板表面
全体に噴出液を均一にゆきわたらせることができ
るようにしたものである。

〔従来の技術〕

従来、この種のスプレー装置は、第７図〜第９
図に示すように基板１の各種寸法サイズ（例えば
６，５，４および３インチ）に応じて、その４隅
を支持する支持具２を備えている。すなわち、こ
の支持具２は最も大きい（６インチ角）基板１の
端面１ａとの当接面３と、その底面部分が載置さ
れる載置面４とを以つて６インチ角用の支持部を
構成し、基板サイズが小さくなるに従つて当接面
５と載置面６，当接面７と載置面８および当接面
９と載置面１０とからなる支持部を階段的に深く
なるように形成している。そして、支持具２は回
転軸１１に連結具１２を介して取付けられ、図示
しないモータの駆動によつて定速回転（現像，エ
ツチング時：100〜500r.p.m）され、この回転し
ている状態でチヤンバー１３の天井に設置された
噴出孔１４から現像液，エツチング液等の噴出液
１５が基板１に向けて噴射される。その際、噴出
液１５は基板１の静止時において、例えば第８図
破線で示すように基板１の対角線方向に向かつて
両弧によつて形成された略凸レンズ形状の被噴出
領域１６（被噴出領域１６の中心は回転中心軸
と一致している）内に分布し、基板１の回転によ
り噴出液１５が該基板１の表面全体に均一にゆき
わたるようにしている。

〔考案が解決しようとする問題点〕

しかしながら、このような従来のスプレー装置
においては、基板１のサイズを変えて、例えば第
７図に示すように最も小さな基板１′を設置した
場合、支持具２の構造上設置位置が高さ方向で異
なるため、噴出孔１４を最も大きな基板１の中心
に指向させておいても小さな基板１′に対しては
その中心に指向せず、被噴出領域１６の中心が回
転中心軸よりΔだけずれてしまい、また第８
図に示すように基板１の４隅を支持するものにお
いては、各辺の中央部分を支持する場合に比べて
支持具２の長さが長くなる。また、第９図に示す
ように最も小さい基板１′を設置した場合、該基
板１′の下方からその主表面に沿つてはみ出した
支持具２の部分２ａも長くなり、基板１′を回転
させるために支持具２を回転させた時に、前記部
分２ａがチヤンバー１３内の空気を乱して噴出液
１５の流れに悪影響を与える。その結果、基板
１′を回転させても噴出液１５を基板１′の表面全
体に均一にゆきわたらせることができず、これを
原因として基板１′のパターン形成工程において
均一な線幅のパターンを形成することができなか
つた。また、サイズが同じでも板厚が変ると、前
述したと同様に被噴出領域１６の中心が回転中心
軸よりずれてしまい噴出液１５を均一にゆきわ
たらせることができなかつた。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案に係るスプレー装置は上述したような問
題を解決すべくなされたもので、チヤンバー内に
配設され駆動装置によつて回転される支持具上に
基板を配置し、前記チヤンバー内に設けた噴出孔
から前記基板に向けて噴出液を噴出し、前記支持
具の回転により噴出液を前記基板の表面全体にほ
ぼ均一にゆきわたらせるスプレー装置において、
前記支持具は少なくとも１本の支持棒と、この支
持棒にそれぞれ着脱自在に取付けられ前記基板を
保持する一対のホルダとを備え、前記支持棒は長
手方向中央を回転中心とし、また前記支持棒の両
側面にはそれぞれ一対からなる複数組のホルダ係
止部が前記基板の各種サイズに応じて前記回転中
心を中心として左右対称な位置に設けられ、各ホ
ルダ係止部は高さ方向に並設され前記ホルダを選
択的に係止する複数個の係止部を有し、前記ホル
ダは前記基板の端面部分に当接する当接面と、前
記端面部分近傍の底面を支持する支持面とを有す
る本体と、この本体の下面両側部に垂設された左
右一対の脚片と、これら一対の脚片の内側面に対
向して突設され前記各ホルダ係止部の複数個の係
止部に選択的に係合する一対の係合部を備えてい
るものである。

〔作用〕

本考案においては基板の厚みによつてホルダの
取付け高さを変更できるため、各種寸法サイズお
よび各種板厚の基板であつてもほぼ同一高さ位置
に設置でき、またホルダは基板の端面部分を支持
するため隅部を支持する場合に比べて支持棒の長
さを短かくすることができ、したがつてチヤンバ
ー内の空気の乱れを抑制でき、各種基板の表面全
体に噴出液を均一に塗布させることができる。

〔実施例〕

以下、本考案をフオトマスク基板の現像工程に
おいて使用する場合に実施例を挙げて詳細に説明
する。

第１図は本考案を特徴づける支持具の一部分解
斜視図、第２図および第３図はそれぞれ支持棒の
一部破断側面図、第４図および第５図は第２図
−線および−線断面図、第６図は支持具の
要部底面図である。なお、支持具を除くスプレー
装置の他の構造は第７図に示した従来装置と同一
であるため、その説明は省略する。

また、本実施例の基板１は、石英ガラス板にク
ロム膜（膜厚：800Å）を被着し、その上にフオ
トレジスト（例：米国ヘキスト社製 AZ1350，
膜厚：4000Å）を塗布し、このレジストに対して
所定のパターンの露光が行われており、この基板
１に対して現像液（例：AZ専用デイベロツパ）
が本考案のスプレー装置によつて噴射される。な
お、現像工程に限らず噴出液を変更すればエツチ
ング工程，洗浄工程，フオトレジストの塗布工程
にも使用できることは云うまでもない。

さて、第１図に示したように回転軸１１に連結
具１２を介して配設される支持具２０は、耐薬品
性，耐食性に優れた材料、例えば四弗化エチレン
によつて同一長さおよび幅の角棒状に形成され、
その長手方向中央において互いに直交する如く、
かつ表面が同一平面を形成する如く一体的に結合
された２本の支持棒２１，２２と、同一形状に形
成され各支持棒２１，２２にそれぞれ一対ずつ向
い合わせに取付けられる合計４個のホルダ２３
（２３Ａ〜２３Ｄ）とを備えている。

一方の支持棒２１の底面中央部には第２図に示
すように前記連結具１２の台座１２Ａの直径とほ
ぼ同一長さを有する凹部２４が形成され、さらに
この凹部２４の中央にはもう一方の支持棒２２の
幅とほぼ同一の長さを有する凹部２５が形成され
ている。これに対して、前記もう一方の支持棒２
２の表面中央には第３図に示すように前記支持棒
２１の幅とほぼ同一の長さを有する凹部２６が形
成され、さらに下面中央には前記台座１２Ａの直
径とほぼ同一の長さを有する凹部２７が形成され
ている。支持棒２１，２２の中央部を互いに直交
した状態で重ね合わせて凹部２５に支持棒２２を
嵌合し、凹部２６に支持棒２１を嵌合させると、
両支持棒２１，２２は組手結合によつて一体的に
結合され、これによつて両支持棒の表面が同一平
面を形成する。また、この結合状態で各支持棒２
１，２２の凹部２４，２７に前記台座１２Ａを嵌
合させると、支持棒２１，２２の回転中心が回転
軸１１の中心と一致する。そして、各支持棒２
１，２２は第６図に示すようにそれぞれ一対の止
めねじ２８（ステンレス製）によつて前記台座１
２Ａ上に固定される。止めねじ２８の頭部は噴出
液による腐食を防止するため、四弗化エチレンに
よつてコーテイングされる。なお、第２図および
第３図において２９は前記止めねじ２８の取付用
孔である。

前記支持棒２１にはそれぞれ左右一対からなる
４組のホルダ係止部３１Ａと３１Ｂ，３２Ａと３
２Ｂ，３３Ａと３３Ｂおよび３４Ａと３４Ｂが該
支持棒２１の回転中心を中心として対称な位置に
それぞれ形成されている。これらのホルダ係止部
３１Ａと３１Ｂ……３４Ａと３４Ｂはそれぞれ基
板１の寸法サイズに対応して支持棒２１の両側面
に形成されるもので、それぞれ縦溝と横溝とから
なり、最も回転中心に近いホルダ係止部３１Ａと
３１Ｂが４インチ基板用で、回転中心から順次遠
くになるにしたがつて５インチ，６インチおよび
７インチ基板用のホルダ係止部を構成している。
ホルダ係止部３１Ａの構造を更に詳述すると、縦
溝３６ａと、一端が縦溝３６ａにそれぞれ連通す
る上下２つの横溝３６ｂ，３６ｃとからなり、横
溝３６ｂ，３６ｃが前記ホルダ２３を選択的に係
止する係止部を構成している。この場合、上側の
横溝３６ｂは基板厚さ0.09インチ用の係止部を構
成し、下側の横溝３６ｃは基板厚さ0.25インチ用
の係止部を構成している。そして、厚さ0.09イン
チの基板表面と0.25インチの基板表面とが同一高
さとなるように横溝３６ｂと横溝３６ｃとが並設
されている。同様に、他のホルダ係止部３１Ｂ，
３２Ａ，３２Ｂ，３３Ａ，３３Ｂ，３４Ａ，３４
Ｂも第２図に示すようにそれぞれ縦溝と横溝３７
ａ〜３７ｃ，３８ａ〜３８ｃ，３９ａ〜３９ｃ，
４０ａ〜４０ｃ，４１ａ〜４１ｃ，４２ａ〜４２
ｃ，４３ａ〜４３ｃとで構成されている。但し、
横溝３６ｂ，３６ｃ，３８ｂ，３８ｃ，４０ｂ，
４０ｃ，４２ｂ，４２ｃと３７ｂ，３７ｃ，３９
ｂ，３９ｃ，４１ｂ，４１ｃ，４３ｂ，４３ｃと
は左右対称的に形成されることにより、向きが逆
で、支持棒２１の中心側とは反対方向を向いてい
る。

また、支持棒２１の両側面には該支持棒の各端
より中心に向つて長く延在する左右一対の通路４
５Ａ，４５Ｂが形成されており、これらの通路４
５Ａ，４５Ｂには前記各ホルダ係止部３１Ａと３
１Ｂ……３４Ａと３４Ｂの縦溝３６ａ，３８ａ，
４０ａ，４２ａおよび３７ａ，３９ａ，４１ａ，
４３ａの上端がそれぞれ連通している。それらの
通路４５Ａ，４５Ｂの幅W₄および深さＤは、前
記縦溝３６ａ〜４３ａの深さD₃および横溝３６
ｂ〜４３ｂ，３６ｃ〜４３ｃの幅W₆および深さ
D₃と同一に設定されている。

前記支持棒２２にも前記支持棒２１と同様第３
図に示すように４組のホルダ係止部５０Ａと５０
Ｂ，５１Ａと５１Ｂ，５２Ａと５２Ｂおよび５３
Ａと５３Ｂが該支持棒２２の両側面に回転中心を
中心として左右対称な位置に形成されている。ホ
ルダ係止部５０Ａと５０Ｂは４インチ基板用で、
それぞれ縦溝と２つの横溝５５ａ〜５５ｃ，５６
ａ〜５６ｃからなり、ホルダ係止部５１Ａと５１
Ｂは５インチ基板用で、それぞれ縦溝と２つの横
溝５７ａ〜５７ｃ，５８ａ〜５８ｃからなり、ホ
ルダ係止部５２Ａと５２Ｂは６インチ基板用で、
それぞれ縦溝と２つの横溝５９ａ〜５９ｃ，６０
ａ〜６０ｃからなる。そしてホルダ係止部５３Ａ
と５３Ｂは７インチ基板用で、それぞれ縦溝と２
つの横溝６１ａ〜６１ｃ，６２ａ〜６２ｃによつ
て構成されている。横溝５５ｂ，５５ｃ……６２
ｂ，６２ｃは前記ホルダ２３を選択的に係止する
係止部を構成している。また、横溝５５ｂ，５５
ｃ，５７ｂ，５７ｃ，５９ｂ，５９ｃ，６１ｂ，
６１ｃと５６ｂ，５６ｃ，５８ｂ，５８ｃ，６０
ｂ，６０ｃ，６２ｂ，６２ｃとは左右対称的に形
成されることにより、向きが逆で、支持棒２２の
中心側とは反対方向を向いている。

また、支持棒２２の両側面には該支持棒２２の
端部よりそれぞれ中心に向つて長く延在する左右
一対の通路６５Ａ，６５Ｂが形成されており、こ
れらの通路６５Ａ，６５Ｂには前記各ホルダ係止
部５０Ａと５０Ｂ……５３Ａと５３Ｂの縦溝５５
ａ，５７ａ，５９ａ，６１ａおよび５６ａ，５８
ａ，６０ａ，６２ａの上端がそれぞれ連通してい
る。これらの通路６５Ａ，６５Ｂの幅W₄および
深さＤは前記縦溝５５ａ〜６２ａの深さD₃およ
び横溝５５ｂ〜６２ｂ，５５ｃ〜６２ｃの幅W₆
および深さD₃と同一で、かつ前記支持棒２１の
通路４５Ａ，４５Ｂとを同一である。

前記ホルダ２３，２３Ａ〜２３Ｄは支持棒２
１，２２と同様四弗化エチレン等によつて一体に
製作されるもので、第１図に示すように略凹形を
なす本体７０と、この本体７０の下面両側部に一
体に垂設されて互いに対向する一対の脚片７１，
７２を有し、各脚片７１，７２の内側面下部には
前記各ホルダ係止部３１Ａと３１Ｂ，……３４Ａ
と３４Ｂの２つの係合部、すなわち横溝３６ｂと
３６ｃ……４３ｂと４３ｃのうちのいずれか一方
に選択的に係合する直方体状の係合部７３，７４
がそれぞれ突設されて互いにその先端面を対向さ
せている。前記本体７０は、平板状の基部７６
と、基部７６の表面両側部に突設された左右一対
の側壁７８，７９と、基部７６の一方の端面に突
設された略四角柱状の載置台８０とを一体に有
し、この載置台８０の上面が前記基板１の側端部
近傍の底面部分を支持する水平な載置面８２を構
成し、前記各側壁７８，７９の載置台側端面が基
板１の端面に当接する当接面８４をそれぞれ構成
し、前記載置面８２と直交している。当接面８４
の高さは基板１の最大板厚とほぼ等しいかもしく
はそれより小さく設定されている。前記基部７６
の表面は載置台側端が反対側端より高くなるよう
傾斜している。また、前記側壁７８，７９の上面
も前記基部７６の表面とほぼ平行になるように傾
斜している。

前記一対の脚片７１，７２の間隔Ｗは支持棒２
１，２２の幅とほぼ等しいかもしくは若干大きく
設定されている。前記各係合部７３，７４の突出
寸法ｄは前記支持棒２１，２２の各ホルダ係止部
３１Ａと３１Ｂ……３４Ａと３４Ｂおよび通路４
５Ａ，４５Ｂの深さとほぼ等しいかもしくは若干
小さく設定されている。また各係合部７３，７４
の幅W₁は、前記支持棒２１，２２の各ホルダ係
止部３１Ａと３１Ｂ……３４Ａと３４Ｂの縦溝３
６ａ〜４３ａの幅および横溝３６ｂ，３６ｃ……
４３ｂ，４３ｃの長さ（左右方向）とほぼ等しい
かもしくは若干小さく設定されている。そして、
各係合部７３，７４の板厚ｔは前記横溝３６ｂ，
３６ｃ……４３ｂ，４３ｃの幅（上下方向）およ
び通路４５Ａ，４５Ｂの幅とほぼ等しいかもしく
は若干小さく設定されている。したがつて、各係
合部７３，７４は支持棒２１，２２の通路４５Ａ
または４５Ｂより各ホルダ係止部３１Ａと３１Ｂ
……３４Ａと３４Ｂの縦溝３６ａ〜４３ａを通つ
て横溝３６ｂ，３６ｃ……４３ｂ，４３ｃのいず
れにも自由に差し込まれる。

このような構成からなる支持具２０において、
各支持棒２１，２２のホルダ係止部３１Ａと３１
Ｂ……３４Ａと３４Ｂおよび５０Ａと５０Ｂ……
５３Ａと５３Ｂは、基板１の寸法サイズに応じて
選定され、その選定されたホルダ係止部に４つの
ホルダ２３が以下に記すように着脱自在に取り付
けられる。この場合、本実施例は基板サイズが７
インチ角の基板１を設置する例を示しており、そ
のため７インチ角基板用のホルダ係止部３４Ａ，
３４Ｂ，５３Ａ，５３Ｂが選定され、これらのホ
ルダ係止部に前記各ホルダ２３Ａ〜２３Ｄが各支
持棒２１，２２の端面側より、当接面８４が互い
に対向するよう内側に向けて取付けられる。この
取付けは一対の係合部７３，７４を各支持棒２
１，２２の通路４５Ａ，４５Ｂ，６５Ａ，６５Ｂ
に挿入し、さらに各ホルダ係止部３４Ａ，３４
Ｂ，５３Ａ，５３Ｂの縦溝４２ａ，４３ａ，６１
ａ，６２ａより基板１の板厚に応じて、例えば板
厚が0.09インチの場合、上方の横溝４２ｂ，４３
ｂ，６１ｂ，６２ｂにそれぞれ係入し、0.25イン
チの場合には下方の横溝４２ｃ，４３ｃ，６１
ｃ，６２ｃにそれぞれ係入すれば、0.09インチの
基板と0.25インチの基板とは同一高さとなる。そ
して、基板１の各端面の中央部分を各ホルダ２３
Ａ〜２３Ｄの当接面８４にそれぞれ当接させつ
つ、端面部分近傍の底面を載置面８２上に載せる
と、基板１は４つのホルダ２３Ａ〜２３Ｄによつ
て保持される。この場合、各ホルダ２３Ａ〜２３
Ｄは、その係合部７３，７４が前記横溝４２ｂ，
４３ｂ，６１ｂ，６２ｂ又は４２ｃ，４３ｃ，６
１ｃ，６２ｃに挿入されていることで、上下方向
の移動を防止され、また、これらの横溝が縦溝４
２ａ，４３ａ，６１ａ，６２ａより外側に形成さ
れていることで、支持具２０の回転時の遠心力に
よる外側方向への移動も防止される。一方、横溝
４２ｂ，４３ｂ，６１ｂ，６２ｂ（４２ｃ，４３
ｃ，６１ｃ，６２ｃも同様）の長さ₅（第１図）
と、係合部７３，７４の幅W₁との関係をW₁＜
_５＜W₁＋２（mm）と設定することにより左右方向
に対しては若干の移動を許容している。これは基
板１を支持具２０上に設置する際、基板１の端面
部分を当接面８４に当接した状態で載置面８２ま
で下げていくことが困難になることを防止するた
め、設置時における基板１のなじみをよくし、滑
らかに設置するために有効とされる。

かくしてこのような支持具２０によれば、各種
寸法サイスおよび各種板厚の基板１を設置した
際、その中心が回転軸１１の中心と一致して回転
する。すなわち、基板サイズの異なるものであつ
ても板厚が同じである限り同一平面上に設置する
ことができ、さらには板厚が異なるものであつて
も各ホルダ係止部３１Ａと３１Ｂ……３４Ａと３
４Ｂ，５０Ａと５０Ｂ……５３Ａと５３Ｂの２つ
の横溝３６ｂ，３６ｃ……４３ｂ，４３ｃ，５５
ｂ，５５ｃ……６２ｂ，６２ｃのいずれか一方を
板厚に応じて選択することで、ほぼ同一平面上に
設置することができるため、噴出孔が各種サイズ
の基板の中心を常に指向し、したがつて噴出液を
基板の表面全体に均一にゆきわたらせることがで
きる。

また、ホルダ２３，２３Ａ〜２３Ｄは各支持棒
２１，２２に着脱自在に取付けられるだけで、止
ねじ等によつて固定されないため、基板１のサイ
ズおよび厚みの変更に伴うホルダの取付位置の変
更が簡単かつ容易で短時間に行え、取扱い性さら
には装置の稼動率を向上させる。

また、基板１の４隅を支持せず、各辺の中央部
分を支持しているので、支持棒２１，２２の長さ
を短かくすることができる。したがつて、最も小
さい４インチ角の基板を設置した場合、その基板
の下方から主表面と平行にはみ出す支持棒２１，
２２の突出寸法を短かくできる。それ故、支持具
２０を回転させてもチヤンバー内の空気の乱れが
少なく、またこの空気の乱れが少なければ噴出液
の流れを乱すことも少ないため、噴出液を基板の
表面全体に均一にゆきわたらせることができる。

また、当接面８４の高さｈを基板１の板厚Ｔよ
り小さく設定すると、基板１の各端面部分表面上
の噴出液を当接面８４によつて阻止することがな
く、遠心力によつて良好に飛ばすことができる。
すなわち、仮りにｈ＞Ｔとすると、当接面８４が
基板１の表面より上方に突出するため、この突出
部に噴出液が当つて滞留し、遠心力によつては飛
ばされないことから、噴出液の膜厚が不均一にな
る虞れがあるが、本実施例においてはｈ＜Ｔに設
定しているので、このような不具合を防止でき
る。但し、ｈ＝Ｔでも同様の効果が得られる。

また、基部７６および側壁７８，７９の上面を
斜面としているので、これら上面に落下した噴出
液が流れ易く、早く吹き飛ばすことができる。

なお、上記実施例は十字状に交差する２本の支
持棒２１，２２と４個のホルダ２３とで支持具２
０を構成したが、本考案はこれに何ら限定される
ものではなく、基板サイズ，ホルダ２３の幅寸
法，支持具２０自体の回転数等によつては１本の
支持棒と２個のホルダで支持具を構成することを
可能である。

また、上記実施例は各支持棒２１，２２の端面
側よりホルダ２３を通路４５Ａ，４５Ｂ，６５
Ａ，６５Ｂに沿つて取付けるようにしたが、各ホ
ルダ係止部３１Ａ，３１Ｂ……３４Ａ，３４Ｂ，
５０Ａ，５０Ｂ……５３Ａ，５３Ｂの縦溝３６ａ
〜４３ａ，５５ａ〜６２ａを支持棒２１，２２の
上面にまで延在させれば、前記通路が不要で上方
からの取付けが可能である。

また、上記実施例は基板１の当接面８４を２つ
設けたが、側壁７８，７９の数を増減することに
より１個あるいは３個以上であつてもよい。

〔考案の効果〕

以上設明したように本考案に係るスプレー装置
は、支持棒に対してホルダを着脱自在に取付けて
いるので、基板サイズおよび基板の板厚の変更に
対して迅速かつ容易に対応でき、取扱い性および
稼動率を向上させることができる。また、ホルダ
の取付高さを基板の板厚に応じて変更し得るた
め、何れの基板も同一平面上に設置することがで
きる。したがつて、被噴出領域の中心軸が回転中
心軸からずれることがなく、噴出液を基板の表面
全体に均一にゆきわたらせることができる。ま
た、基板の端面部分を保持するため、隅部を保持
する場合、に比べて支持棒の長さを短かくするこ
とができる。この結果、チヤンバー内の空気の乱
れが減少し、噴出液をより一層均一に塗布するこ
とができる。そのため、特にレジスト露光後の現
像，エツチング，洗浄の一連の各工程において使
用した場合、均一な線幅のパターンを形成するこ
とができ、その実用的効果は非常に大である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案に係るスプレー装置の支持具を
示す一部分解斜視図、第２図および第３図はそれ
ぞれ支持棒の一部破断側面図、第４図および第５
図は第２図−線および−線断面図、第６
図は支持具の要部底面図、第７図〜第９図は従来
のスプレー装置を示し、第７図は全体構成図、第
８図は支持具上に基板を設置した状態の平面図、
第９図は支持具の平面図である。１……基板、１３……チヤンバー、１４……噴
出孔、１５……噴出液、２０……支持具、２１，
２２……支持棒、２３，２３Ａ〜２３Ｄ……ホル
ダ、３１Ａ，３１Ｂ〜３４Ａ，３４Ｂ……ホルダ
係止部、３６ａ〜４３ａ……縦溝、３６ｂ，３６
ｃ〜４３ｂ，４３ｃ……横構（係止部）、４５Ａ，
４５Ｂ……通路、５０Ａ，５０Ｂ〜５３Ａ，５３
Ｂ……ホルダ係止部、５５ａ〜６２ａ……縦溝、
５５ｂ，５５ｃ〜６２ｂ，６２ｃ……横溝（係止
部）、６５Ａ，６５Ｂ……通路、７０……ホルダ
ー本体、７１，７２……脚片、７３，７４……係
合部、８２……載置面、８４……当接面。

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

チヤンバー内に配設され駆動装置によつて回転
される支持具上に基板を配置し、前記チヤンバー
内に設けた噴出孔から前記基板に向けて噴出液を
噴出し、前記支持具の回転により噴出液を前記基
板の表面全体にほぼ均一にゆきわたらせるスプレ
ー装置において、前記支持具は少なくとも１本の
支持棒と、この支持棒にそれぞれ着脱自在に取付
けられ前記基板を保持する一対のホルダとを備
え、前記支持棒は長手方向中央を回転中心とし、
また前記支持棒の両側面にはそれぞれ一対からな
る複数組のホルダ係止部が前記基板の各種サイズ
に応じて、前記回転中心を中心として左右対称な
位置に設けられ、各ホルダ係止部は高さ方向に並
設され前記ホルダを選択的に係止する複数個の係
止部を有し、前記ホルダは前記基板の端面部分に
当接する当接面と、前記端面部分近傍の底面を支
持する載置面とを有する本体と、この本体の下面
両側部に垂設された左右一対の脚片と、これら一
対の脚片の内側面に対向して突設され前記各ホル
ダ係止部の複数個の係止部に選択的に係合する一
対の係合部とを備えていることを特徴とするスプ
レー装置。