JPH02215978A - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
- Publication number
- JPH02215978A JPH02215978A JP3337389A JP3337389A JPH02215978A JP H02215978 A JPH02215978 A JP H02215978A JP 3337389 A JP3337389 A JP 3337389A JP 3337389 A JP3337389 A JP 3337389A JP H02215978 A JPH02215978 A JP H02215978A
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- Japan
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- vacuum
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- vacuum vessel
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Links
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 title abstract 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は真空を利用して処理を行なう装置に関する。
従来、この種の真空処理装置は第２図に示すように、大
気吸入弁３を閉じて真空容器１内を真空排気弁４を介し
て真空ポンプ２にて真空引きを行い、大気開放時には大
気吸入弁３を開いて開放する構造のもの、或いは第３図
に示すように、真空容器１に大気吸入弁３．３′及び真
空排気弁４゜４′を２個並列に設けて、大気の吸気又は
真空排気をゆっくり行ない、塵埃の舞い上げる衝撃を少
なくする構造（スローベント・スローバキューム）のも
のがある。
気吸入弁３を閉じて真空容器１内を真空排気弁４を介し
て真空ポンプ２にて真空引きを行い、大気開放時には大
気吸入弁３を開いて開放する構造のもの、或いは第３図
に示すように、真空容器１に大気吸入弁３．３′及び真
空排気弁４゜４′を２個並列に設けて、大気の吸気又は
真空排気をゆっくり行ない、塵埃の舞い上げる衝撃を少
なくする構造（スローベント・スローバキューム）のも
のがある。
上述した従来の真空処理装置のうち、第２図に示す単一
の排気又は吸気の場合、真空容器を大気又は真空にする
際の気体の激しい動きで塵埃が舞い上がり、真空容器内
で処理しようとする製品に付着し、汚染してしまうとい
う欠点がある。又塵埃の舞い上がりを防止するため、第
３図に示すように真空排気速度を低下させ（スローバキ
ューム機能）又は大気吸気圧力を低下させる（スローベ
ント機能）対策を行なうと、真空引き又は大気吸気時間
が長くなり、製品処理能力の低下を招くという欠点があ
る。
の排気又は吸気の場合、真空容器を大気又は真空にする
際の気体の激しい動きで塵埃が舞い上がり、真空容器内
で処理しようとする製品に付着し、汚染してしまうとい
う欠点がある。又塵埃の舞い上がりを防止するため、第
３図に示すように真空排気速度を低下させ（スローバキ
ューム機能）又は大気吸気圧力を低下させる（スローベ
ント機能）対策を行なうと、真空引き又は大気吸気時間
が長くなり、製品処理能力の低下を招くという欠点があ
る。
本発明の目的は前記課題を解決した真空処理装置を提供
することにある。
することにある。
上述した従来の真空処理装置に対し、本考案による真空
処理装置では、真空排気及び大気吸入の気体の流量を制
御することにより、真空容器内での塵埃の舞い上がりを
防止し、処理製品の塵埃付着を低減させるという相違点
を有する。
処理装置では、真空排気及び大気吸入の気体の流量を制
御することにより、真空容器内での塵埃の舞い上がりを
防止し、処理製品の塵埃付着を低減させるという相違点
を有する。
前記目的を達成するため、本発明は真空を利用した処理
装置において、排気又は吸気時に真空容器を流れる気体
の流量を制御することにより、塵埃の舞い上がりを低減
する機構を有するものである。
装置において、排気又は吸気時に真空容器を流れる気体
の流量を制御することにより、塵埃の舞い上がりを低減
する機構を有するものである。
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
第１図は本発明の一実施例を示すシステムブロック図で
ある。
ある。
図において、本発明に係る真空処理装置は真空圧力指示
計７、弁開口制御ボックス８及び開口調整付排気・吸気
弁５．６を付加したものである。
計７、弁開口制御ボックス８及び開口調整付排気・吸気
弁５．６を付加したものである。
その他の構成は従来と同じである。真空排気の場合、排
気弁４を開け、同時に弁開口制御ボックス８の圧力信号
から排気速度がほぼ一定となる開口面積になるように開
口調整付排気弁６を開いていく、逆に、大気吸入の場合
、吸入弁３を開け、同時に弁開口制御ボックス８の圧力
信号から吸入速度がほぼ一定となる開口面積になるよう
に開口調整付吸入弁５を開いていく。
気弁４を開け、同時に弁開口制御ボックス８の圧力信号
から排気速度がほぼ一定となる開口面積になるように開
口調整付排気弁６を開いていく、逆に、大気吸入の場合
、吸入弁３を開け、同時に弁開口制御ボックス８の圧力
信号から吸入速度がほぼ一定となる開口面積になるよう
に開口調整付吸入弁５を開いていく。
すなわち、本発明の真空処理装置では、真空容器を真空
排気又は大気吸入にする際の配管系に開口調整付排気・
吸気弁（流量制御弁）４．５を設は又真空容器内部の圧
力を監視すると同時に真空排気の場合は真空容器圧力に
対し、弁の開口を反比例させながら開いて排気する。又
、大気吸入の場合は真空容器内圧力に対し、弁の開口を
比例させながら開いて大気を吸入する。上述した気体の
流量制御は真空容器内の気体の流速はほぼ一定に保たれ
、塵埃の舞い上がる気体の流速度以下に流速を保つこと
により、製品のｎ埃汚染を極力低減できる。
排気又は大気吸入にする際の配管系に開口調整付排気・
吸気弁（流量制御弁）４．５を設は又真空容器内部の圧
力を監視すると同時に真空排気の場合は真空容器圧力に
対し、弁の開口を反比例させながら開いて排気する。又
、大気吸入の場合は真空容器内圧力に対し、弁の開口を
比例させながら開いて大気を吸入する。上述した気体の
流量制御は真空容器内の気体の流速はほぼ一定に保たれ
、塵埃の舞い上がる気体の流速度以下に流速を保つこと
により、製品のｎ埃汚染を極力低減できる。
第４図（ａ） 、 （ｂ）に本発明の真空処理装置と従
来の処理装置の大気吸入時の吸入速度Ｖｎの変化と容器
内圧力の変化Ｐｎを示す。
来の処理装置の大気吸入時の吸入速度Ｖｎの変化と容器
内圧力の変化Ｐｎを示す。
図において、９は本発明の真空処理装置の吸気速度、１
０は従来の真空処理装置の吸気速度、１１は従来のスロ
ーベント機構付真空処理装置の吸気速度、１２は本発明
の真空容器内圧力、１３は従来の真空処理装置の容器内
圧力、１４は従来のスローベント機構付真空処理装置の
容器内圧力を示す。
０は従来の真空処理装置の吸気速度、１１は従来のスロ
ーベント機構付真空処理装置の吸気速度、１２は本発明
の真空容器内圧力、１３は従来の真空処理装置の容器内
圧力、１４は従来のスローベント機構付真空処理装置の
容器内圧力を示す。
第４図（ａ） 、 （ｂ）において、本発明における吸
入速度Ｖ１は大気圧までほぼ一定であり変化がないこと
が特徴であり、塵埃の舞い上がりを防止する吸入速度以
下で大気吸入を行なっても、吸入時間をそれほど延ばす
ことなく、吸入できることを示している。従来の真空処
理装置の吸入速度ｖ２は吸入開始時に最大となり、塵埃
の舞い上がりの要因となる。又従来のスローベント機能
付真空処理装置の吸入速度Ｖ３は塵埃の舞い上りを防止
できるが、大気になるまでの時間が他の処理装置より時
間がかかってしまう欠点が生じてしまうことがわかる。
入速度Ｖ１は大気圧までほぼ一定であり変化がないこと
が特徴であり、塵埃の舞い上がりを防止する吸入速度以
下で大気吸入を行なっても、吸入時間をそれほど延ばす
ことなく、吸入できることを示している。従来の真空処
理装置の吸入速度ｖ２は吸入開始時に最大となり、塵埃
の舞い上がりの要因となる。又従来のスローベント機能
付真空処理装置の吸入速度Ｖ３は塵埃の舞い上りを防止
できるが、大気になるまでの時間が他の処理装置より時
間がかかってしまう欠点が生じてしまうことがわかる。
以上説明したように本発明は排気及び吸入速度をほぼ一
定に保つことにより、真空容器内の塵埃の舞い上がりを
防止することで製品への塵埃の付着を極力抑え、汚染を
防ぐことで製品歩留を向上させる効果がある。又、従来
のスローベント機能付真空処理装置に比べ短時間で真空
排気及び大気吸入ができる効果がある。
定に保つことにより、真空容器内の塵埃の舞い上がりを
防止することで製品への塵埃の付着を極力抑え、汚染を
防ぐことで製品歩留を向上させる効果がある。又、従来
のスローベント機能付真空処理装置に比べ短時間で真空
排気及び大気吸入ができる効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示すシステムブロック図、
第２図は従来の真空処理装置を示すシステムブロック図
、第３図は従来のスローベント機能付真空処理装置を示
すシステムブロック図、第４図（ａ） 、 （ｂ）は各
真空処理装置の吸気速度と容器内圧力の特性比較図であ
る。 １・・・真空容器 ２・・・真空ポンプ３．３
′・・・大気吸入弁 ４．４′・・・真空排気弁５・・
・開口調整付大気吸入弁 ６・・・開口調整付真空排気弁 ７・・・真空圧力測定指示計 ８・・・弁開口制御ボックス
第２図は従来の真空処理装置を示すシステムブロック図
、第３図は従来のスローベント機能付真空処理装置を示
すシステムブロック図、第４図（ａ） 、 （ｂ）は各
真空処理装置の吸気速度と容器内圧力の特性比較図であ
る。 １・・・真空容器 ２・・・真空ポンプ３．３
′・・・大気吸入弁 ４．４′・・・真空排気弁５・・
・開口調整付大気吸入弁 ６・・・開口調整付真空排気弁 ７・・・真空圧力測定指示計 ８・・・弁開口制御ボックス
Claims (1)
- （１）真空を利用した処理装置において、排気又は吸気
時に真空容器を流れる気体の流量を制御することにより
、塵埃の舞い上がりを低減する機構を有することを特徴
とする真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3337389A JPH02215978A (ja) | 1989-02-13 | 1989-02-13 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3337389A JPH02215978A (ja) | 1989-02-13 | 1989-02-13 | 真空処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02215978A true JPH02215978A (ja) | 1990-08-28 |
Family
ID=12384785
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3337389A Pending JPH02215978A (ja) | 1989-02-13 | 1989-02-13 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02215978A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016035703A1 (ja) * | 2014-09-02 | 2016-03-10 | 千住金属工業株式会社 | 真空処理装置、その制御方法、真空はんだ処理装置及びその制御方法 |
-
1989
- 1989-02-13 JP JP3337389A patent/JPH02215978A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016035703A1 (ja) * | 2014-09-02 | 2016-03-10 | 千住金属工業株式会社 | 真空処理装置、その制御方法、真空はんだ処理装置及びその制御方法 |
| JP2016050572A (ja) * | 2014-09-02 | 2016-04-11 | 千住金属工業株式会社 | 真空処理装置、その制御方法、真空はんだ処理装置及びその制御方法 |
| CN106605064A (zh) * | 2014-09-02 | 2017-04-26 | 千住金属工业株式会社 | 真空处理装置及其控制方法、真空焊接处理装置及其控制方法 |
| TWI611472B (zh) * | 2014-09-02 | 2018-01-11 | 千住金屬工業股份有限公司 | 真空處理裝置、其控制方法、真空焊接處理裝置以及其控制方法 |
| US10307849B2 (en) | 2014-09-02 | 2019-06-04 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | Vacuum-processing device and control method therefor, and vacuum soldering device and control method therefor |
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