JPH02218685A - 保護されたカルボキシ基を有するセフェム化合物およびその製造法 - Google Patents

保護されたカルボキシ基を有するセフェム化合物およびその製造法

Info

Publication number
JPH02218685A
JPH02218685A JP1344049A JP34404989A JPH02218685A JP H02218685 A JPH02218685 A JP H02218685A JP 1344049 A JP1344049 A JP 1344049A JP 34404989 A JP34404989 A JP 34404989A JP H02218685 A JPH02218685 A JP H02218685A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
amino
group
carboxylate
acetamide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1344049A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0524159B2 (ja
Inventor
Tsutomu Terachi
寺地　務
Kazuo Sakane
坂根　和夫
Jiro Goto
後藤　二郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Publication of JPH02218685A publication Critical patent/JPH02218685A/ja
Publication of JPH0524159B2 publication Critical patent/JPH0524159B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/38—Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof
    • C07D501/46—Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof with the 7-amino radical acylated by carboxylic acids containing hetero rings
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04—Antibacterial agents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Communicable Diseases (AREA)
  • Pharmacology & Pharmacy (AREA)
  • Oncology (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、抗菌性物質として有用な一般式（式中、Ｒ
１、Ｒ２、Ｒ４、Ｘおよび式−Ｎ畜゛：の基はそれぞれ
前と同じ意味）で示される化合物を還元することを特徴
とする製造法。
６６　一般式 （式中、Ｒはアミノまたは保護されたアミノ基；Ｒ２は
適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪族炭化水
素基、またはシクロ低級７（式中、Ｒはアミノまたは保
護されたアミ７基；Ｒは過当な着換基で置換されていて
もよい低級脂肪族炭化水素基、またはシクロ低級アルケ
ニル基；式−悶ｅ）で示される基は適当な置換基で置換
されていてもよい２素原子２個以上含有複素環カチオン
基をそれぞれ意味する）で示される新規セフェム化合物
、その塩類、それらの製造法、並びにそれらを有効成分
とする＃ｔ１ｍ感染症予防・治療剤に関するものである
。
この発明に係る上記新規セフェム化合物（１）は下記に
示す方法によダ製造できる。
またはその塩類 は式−べ■、！の基によυ置換さねうる基；式’、＝　
−、％。
の化合物は適当な置換基によジ置換されていてもよい、
窒素原子２個以上含有複素瑠化合物；Ｒ４は保護された
カルボキシ基；Ｘは酸残基をそれぞれ意味する） この発明の出発物質のうち、化合物Ｃ）は新規であシ、
下記の方法により製造できる。
中 まえはその塩類 ＜１） またはその塩類 （上記式中、Ｒ’　、　Ｒ’　オｘヒ式−Ｎ′＠ゝ・で
示される基はそれぞれ前と同じ意味でありｓＲ５または
その塩類 味し、アンチ異性体とは次の式 （上記式中、Ｒ’、Ｒ”、Ｒ’、Ｘ、式ｍ’：ｔｖ化合
物および式−珂Φ）の基はそれぞれ前と同じ意味である
） 目的化合物（１）ならびに出発化合物（１）、面、（Ｖ
）、距、（至）、および（２）Ｋ関しては、これらの目
的化合物および出発化合物社シン異性体、アンチ異性体
およびその混合物を包含する。たとえば、目的化合物（
１）を例にとると、クン異性体とは次の式 （式中、Ｒ１とＲ２はそれぞれ前と同じ意味）で示され
る部分構造を有する幾何異性体を意（式中　１１　　と
Ｒ２はそれぞれ前と同じ意味）で示される部分構造を有
するもう一方の幾何異性体を意味する。
上述した出発化合物（１）、面、α）、距、帽および■
についても、シン異性体とアンチ異性体はそれぞれ化合
物（１）に対して例示したのと同様の幾何異性体をいう
。
目的化合物（１）の塩類としては慣用の無毒な塩が好適
であシ、その具体例としては、アルカリ金属塩（例、ナ
トリウム塩、カリウム塩など）オヨヒアルカリ土類金属
撫（例、カルシウム塩、マグネシウム塩など）のような
金属塩、アンモニウムＬ　有機塩基塩（例、トリメチル
アミン塩、トリエチルアミン塩、ビリジｌ壜、ピコリン
塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ、Ｎ−−ジベンジル
エチレンジアミン塩など）、有ｍ酸塩（例、酢酸塩、マ
レイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼン
スルホン酸塩、ギ酸塩、トルエンスルホン酸塩など）、
無機酸塩（例、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩
、硫酸塩、リン酸塩など）、またはアミノ酸（例、アル
ギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸など）との塩な
どが挙げられる。
この明細書で用いた各種の定義について、その説明と好
適具体例について次に詳述する。
「低級」とは、特に指摘の々い限シ炭素数１〜６を意味
するものである。
Ｒ１で示される「保護されたアミノ」の好適な例として
はアシルアミノならびに少なくとも１アミノ基が挙げら
れる。
「アシルアミノ」および「アシルオキシ」におけるアＶ
ｆｉ／部分の好適例としては、カルバモイｙ、脂肪族ア
シμ基ならびに芳香環もしくは複素環を有するアシル基
が挙げられ、かかるアシ〜の好適な具体例としては低級
アμカッイル（例、ホルミル、アセチル、プロピオニル
、ブチリル、イソブチリル、パレリμ、イソバレリル、
オキサリル、サクシニル、ピパロイルなど）、低級アｐ
コキシカルポニ／Ｌ／（例、メトキシカルボニル、エト
キシカルボ二〜、プロポキシカルボニル、１−シクロブ
ロビルエトキシカルポニ〜、イソプロボキシカルボニ〃
、ブトキシカルポニ／Ｉ／、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボ
ニル、ベンチルオキシカルポニ〃、ヘキシルレオキシ力
ルポニｙなど）、低級アルカンスルホニＡ／（例、メジ
μ、エタンスルホニル、プロパンスルホニル、イソプロ
パンスルホニ〃、ブタンスルホニルなト）、アレーンス
ルホニ／Ｌ／（例、ベンゼンスルホニρ、トシｙなど）
、アロイル（例、ベンシイ／ｌ／、　　）ルオイル、キ
シロイル、ナフトイμ、フタロイル、インダンカｙボニ
ｙなど）、アリール低級アルカノイｆｉ７（例、フェニ
ルアセチル、フェニルプロピオニμなど）、アリール低
級アμコキシカルポニｌｖ（例、ペンジルオキシカルポ
ニμ、フェネチルオキシカルポニρなど）などが挙げら
れる。上記のアシル部分は少なくとも１個の適当な置換
基（低級ブルカノイ〃などのアシ〃、臭素、フッ素およ
びヨウ素などのハロゲンなど）を有していてもよい。
好適外低級脂肪族炭化水素基としては、低級アルキル、
低級アルケニル、低級アルキニ〜などが挙げられる。
好適な「低級アルキ〜」は炭素数１〜６のものであシ、
具体例としてはメチル、エチル、プロピμ、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチρ、ｔｅｒｔ−グチル、ペンチル
、ｔｅｒｔ−ベンチル１ヘキシルなどが挙げられ、炭素
数１〜４のものが好ましい。
好適な「低級アルケニル」は炭素数２〜６のものであシ
、具体例としてはビニル、アリル、イソプロペニル、１
−プロベニＡ／、２−７”Ｔ二μ、３−ベンテニｐなど
が挙げられ、炭素数２〜４のものが好ましい。
好適な「低級アルキニル」は炭素数２〜６のものであシ
、具体例としてはエチニμ、２−プロピニル、２−ブチ
二〜、３−ペンチニル、６−へキシニルなどが挙げられ
、炭素数２〜４のものが好ましい。
上記の低級脂肪族炭化水素基は１〜５個の適当な置換基
、たとえばカルボキン、後述するような保護されたカル
ボキシ、ハロゲン（例、塩素、臭素なト）、低級アルキ
ルチオ（例、エチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、
イソフ”ロビμチオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキ
シルチオなど）などで置換されていてもよい。
好適な［シクロ低級アルケニル」としては、７’ｃ、！
：ｔｉｆシクロベンテニ〜、シクロヘキセニルなどの炭
素数３〜６のものが挙けられ、炭素数５〜６のものが好
ましい。
好適なＲ３としては、アシルオキシ、ハロゲン（例、塩
素、臭素、ヨウ素もしくはフッ素）、アジドなどの酸残
基が挙げられ、ここで「アシルオキシ」におけるアシル
部分としては前に例示したものが言及できる。
好適な窒素原子２個以上含有複素環カチオン基としては
、窒素原子２個以上含有、飽和または不飽和の、単環ま
たは多環の複素環カチオン基が挙げられる。
窒素原子２個以上含有複素環カチオン基として好ましい
のは、窒素原子を２個以上含有する不飽和５〜６ｊｊ複
素単環カチオン基、たとえばイミダゾリオ、ピラゾリオ
、トリアゾリオ（例、ｊ、２．３−トリアゾリオ、１，
３．４−トリアゾリオもしくは１，２．４−トリアゾリ
オ）、テトフゾリオ、イリダジニオ、ピリミジニオ、ビ
フジニオ、トリアジニオ（ｇＡＪ、１，２．３−トリア
ジニオ、１゜２．４−トリアジニオもしくは１，３．５
−トリアジニオ）、テトラジニオなど；窒素原子を２個
以上含有する不飽和縮合複素環カチオン基、たとニオ、
プテリジニオなど；などであシ、これらの窒素原子２個
以上含有複素環カチオン基は、ヒドロキシ、低級アルキ
／ｌ／（例、メチ〃、エチμ、プロピＩ、イングロビ〃
、ブチ〃、イソプ千〃、ベンチμ、ヘキＳ／Ａ／など）
、アミノ、ハロゲン（例、塩素、臭素、３つ素もしくは
フッ素）、低級アルコキシ（例、メトキシ、エトキシ１
プロポキシなど）、低級アルキルチオ（例、メチルチオ
、メチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオなど）
、カルボキシ、保護されたカルボキシ、上述したような
低級アルケニル、ヒドロキシ低級アルキｆｉ／（例、ヒ
ドロキシメチル、ヒドロキシエチルなど）などの適当な
置換基１〜５個で置換されていてもよい。
好適な「保護された力μポキシ」としては「エステル化
されたカルボキシ」が挙げられ、「エステル化されたカ
ルボキシ」における好適なエステル部分は、低級アルキ
ルエステル（例、メチルエステル、エチルエステル、プ
ロピルエステｐ、イソプロピルエステμ、ブチルエステ
ル、イソブチルエステル、ｔ−ブチルエステル、ベン千
ルエステル、ｔ−ベン千μエステル、ヘキシルエステル
、１−シクロプロピＮエチμエヌテ／ｖなど）、低級ア
μケ二ｐエステｌｖ（例、ビニルエステル、アリルエス
テルなト）、低級アルキニルエステル（例、エチニルエ
ステル、プロピニルエステルなど）、モノ（モジくハシ
もしくはトリ）ハロ低級アルキルエステμ（例、２−ヨ
ードエチルエステル、２，２．２−）リクロｐエチルエ
ステルなど）低級アルカッイルオキシ低級フルキｙエヌ
テ／Ｌ／（例、アセトキシメチルエステ〃、プロピオニ
ルオキシメチｙエヌテ〜、ブチリμオキンメチルエステ
〃、バレリルオキシメチルエステμ、ビバロイｙオキシ
メチルエヌテμ、ヘキサノイルオキシメチルエステ／％
’、２−アセトキシエチルエステル、２−グロビオニ〃
オキシエチｐエステルなど）、低級アμカンス〜ホニル
低級アルキルエステ／Ｉ／（例、メシルメチルエステμ
、２−メシルエチルエステルなど）、アリール低級低級
アルキルエステルとえば１もしくは２以上の適当な置換
基装置ジルエステル、フェネチルエステル、トリチルエ
ステル、ジフェニルメチルエステル、ビス（メトキシフ
エニ／Ｌ／）メチルエステ＃、３．４−ジメトキシベン
ジルエステル、４−ヒドロキシ−３，５−ジーｔｅｒｔ
−ブチμベンジμエステμなど）、１または２以上の適
当な置換基を有していてもよいアリールエステル（例、
フエ二ｐエステル、トリルエステル、ｔ−ブチ／Ｌ／フ
ェニルエステル、キシリルエステル、メシチルエステル
、クメニルエステルなど）などが挙げられる。
窒素原子２個以上含有複素環化合物は上述したような窒
素原子２個以上含有複素環カチオン基に対応する複素環
化合物を意味する。
Ｘで示される好適な酸残基としては上述したものが言及
されうる。
目的化合物（１）の好ましい態様は次の通シである： Ｒ１の好ましいＢ様はアミノであシ、 Ｒ２は低級アルキ〜、カルボキシ低級アルキル、低級ア
ルキルチオ低級アルキル、低級アルケ二〜、低級アルギ
ニ／ｌ’またはシクロ低級アルケ二μであシ、 式−ｍｅ′：で示される基はトリアルキル、イミダゾリ
オ、ピリミジニオ、ピラゾリオ、ピリダシニオまたはビ
フジニオであシ、これらの基は１個の低級アルキ〃、ア
ミノ、低級アルケニμ、ハロゲン、ヒドロキシまたはヒ
ドロキシ低級アルキ〜で置換されていてもよい。
この発明の目的化合物の製造法について次に詳述する。
方皇己 目的化合物（１）ｔたはその塩類は、化合物（１）また
はその塩類に化合物１）を作用させることにょシ製造で
きる。
化合物（璽）の好適な塩としては、化合物（刀に対して
例示したものが挙けられる。
この反応は、水、リン酸緩伽液、アセトン、クロロホル
ム、アセトニトリル、ニトロベンゼン、種化メチレン、
塩化エチレン、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、
メタノール、エタノール、エーテ〜、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルスルホキシド、またはその他の反応に悪影
響を及はさない有機溶媒のような溶媒中で、好ましくは
極性の強い溶媒中で実施できる。これらの溶媒のうち、
親水性溶媒は水との混合物として使用してもよい。反応
は中性付近の媒質中で行なうのが好ましい。化合物（１
）を遊離形態で使用する場合、反応は塩基の存在下に実
施するのが好ましい。塩基の例としては、アルカリ金属
水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属ｌｉ次酸
塩などの無機塩基、トリアルキルアミンなどの有機塩基
が使用できる。反応温度に特に制限はないが、通常は室
温、加温または加熱下に反応を行なう。この反応はアル
カリ金属ハロゲン化物（例、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化
カリウムなど）、７μカリ金属チオシアン酸塩（例、チ
オシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウムなど）な
どの存在下に行逢うのが好ましい。
方法２ 化合物（１）またはその塩類は、化合物ａ）を力〃ポキ
シ保護基の脱離反応に付すことによシ製造できる。
この脱離反応には、カルボキシ保護基の脱離に使用され
る慣用の方法、たとえば、加水分解、還元、ルイス酸を
利用した脱離などのいずれもが適用できる。力〃ポキシ
保護基がエステルである場合、加水分解またはルイス酸
を用いた脱離が採用できる。加水分解は塩基または酸の
存在下に行なうのが好ましい。好適な塩基としては無Ｓ
塩基と有機塩基の両方が挙げられる。
好適な酸としては、有機酸（例、ギ酸、酢酸、プロピオ
ン酸など）および無機酸（例、塩酸、臭化水素酸、硫酸
など）が挙けられる。
この加水分解は、有機溶媒、水またはこれらの混合溶媒
中で通常行なわれる。
反応温度に特に制限はなく、カルボキシ保護基の種類お
よび説、麹法により適宜選択しうる。
ルイス酸を用いた脱離は、化合物（ＩＶ）にルイス酸を
作用させることにより行なわれる。ルイス酸としては、
三ハロゲン化ホウ素（例、＝塩化ホウ素、三フフ化ホウ
素など）、四ハロゲン化チタン（例、四塩化チタン、四
臭化チタンなど）、四ハロゲン化スズ（例、四塩化スズ
、四臭化スズなど）、ハロゲン化アルミニウム（例、塩
化アルミニウム、臭化アルミニウムなど）、トリハロ酢
Ｍ（例、）リクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸など）など
が使用できる。この脱離反応はカチオン捕捉剤（例、ア
ニソール、フェノールなど）の存在下に行なうのが好ま
しく、また通常ハニトロアルカン（例、ニトロメタン、
ニトロエタンなど）、ハロゲン化アルキレン（例、塩化
メチレン、塩化エチレンなど）、ジエチルエーテル、二
数化炭素その他の反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行
なわれる。これらの溶媒は混合溶媒として使用してもよ
い。反応温１！ＩＫ特に制限はないが、通常は冷却下、
室温または加温下に反応を行なう。
還元による脱離は、ハロ低級アルキ／Ｌ／（例、２−ヨ
ードエチ／９．２，２．２−　）リクロロエチルなど）
エステル、アリール低級アルキμ（例、ベンジル、ニト
ロベンジルなど）エステルなどの保護基の脱離に適用す
るのが好ましい。この脱離反応に適用できる還元法とし
ては、たとえば、金属（例、亜鉛、亜鉛アマμガムなど
）もしくはクロム化合物塩（例、塩化第一クロム、酢酸
第一クロム々ど）と有機本しくけ無機酸（例、酢酸、プ
ロピオン酸、塩酸など）との混合物を使用した還元；な
らびに慣用の金属触媒（例、パラジウム／炭素、ラネー
ニッケμなど）の存在下での慣用の接紗還元が挙けられ
る。
この’１１ｘｌｄ、水、アルコ−／Ｉ／（例、メタノー
ル、エタノールなど）、テトフヒドロ７フンその他の反
応に悪影響を及ぼさない溶媒中で通常行なわれる。これ
らの溶媒は混合溶媒として使用してもよい。反応温度に
特に制限はないが、通常は冷却、室温または加温下に反
応を行なう。
出発化合物面の製造について次に詳述する。
製造法１ 化合物０は化合物ｎ−ｔたはその塩類に式Ｎ’−’で示
される化合物を作用させることによシ製造できる。
この反応は方法１と同様の方法により実施できる。
製造法２ 化合物α）は化合物■を還元することにより製基を−Ｓ
−基に還元できる慣用の還元剤、たとえば、三ハロゲン
化リン（例、三塩化リン）のようなハロゲン化リン、の
存在下に実施できる。
この発明の目的化合物（１）は高い抗菌活性を示し、グ
ツふ陽性およびグラム陰性病原菌を含む多数の微生物の
増植を抑制する。
目的化合物（１）を医薬として用いる場合は、医薬上許
容される塩の形で用いてもよい。
この発明のセフェム化合物（１）またはその塩類は、治
療を目的として投与されるに際し、この化合物に医薬と
して許容しうる媒体、例えば経口、非経口もしくは外用
投与に適した有機もしくは無機、固体または液体の賦形
剤を混和した製剤の形で使用される。このような製剤と
しては、カプセル、錠剤、顆粒剤、軟膏、坐剤等の固体
状製剤、または溶液剤、懸濁剤もしくは乳剤等の液剤が
ある。さらに所望によシ前記製剤中に補助剤、安定剤、
湿潤剤もしくは乳化剤、緩衝剤、その他の慣用添加剤等
を含有させることもできる。
有効化合物の投与量は患者の年令および症状に応じても
変動するが、この発明の化合物の平均的な１回の投与量
としては、約５０〜．１００１１ｇ、２５０ηおよび５
００ダの量が多くの病原菌によりｅ起される感染症の治
療に有効である。一般に、日用量としては１ｗｇないし
約１ｏｏｏｑ或はそれ以上の量が投与されうる。
次に、目的化合物（１）の有用性を示すためにこの発明
に係る代表的化合物の抗―活性に関する試験データを示
す。
って求めた。
トリプチケース・ソーイ・ブロス（菌数１０８個／ｌ１
ｌ）中で一夜培養した各試験菌株の一白金耳ヲハート・
インフェージッン・アガー（Ｈニー寒天）に接種した。
この培地には抗菌剤が各濃度で含まれており、５７℃で
２０時間培養した後最低発育阻止濃度（Ｍ工Ｃ）を測定
した。（単位二μｆ＃） 試験化合物 （１）７−（２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾ−／Ｌ／−５−イル）アセトア
ミド）−３−（２−メチ／ｌ／−１−ビラゾリオメチ／
Ｉ／）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異
性体） （２）７−（２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，ｚ４−チアジアゾール−３−イ／Ｌ／）アセトアミ
ド）−３−（１−ピリダシニオメチ１ｖ）−５−セフェ
ム−４−カルボキシレート（シン異性体） （３）７−（２−メトキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾ−／Ｌ／−３−イ／Ｌ／）アセ
トアミド）−３−（１−ビリダシニオメチ／Ｌ／）−３
−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体） 以下に、この発明を製造例と実施例により説明する・ 製造例１ 五塩化リン（１＆６ｊＥ　）の塩化メチレン（１５０ｓ
ｔ）冷溶液に一１８℃で２−エトキシイミノ−２−（５
−アミノ−１，ｚ４−チアジアゾ−／１／−３−イｉｖ
）酢酸（シン異性体）（１７，３５りを加え、この混合
物を−１３〜−１０℃で１５分間攪拌した。一方、塩化
メチレン（４００ｇ？）中の７−アミノ−３−アセトア
セトキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（２５
，ＬＰ）とトリメチルシリルアセトアミド（８０５Ｆ）
との混合物を加温して透明溶液とし、−１０℃に冷却し
た。この冷溶液を上記の活性化混合物に加え、得られた
混合物を一１０℃で１時間攪拌した。反応混合物を重炭
酸ナトリウム（４２３”　）の水溶液（４５０ｇＪ）に
投入し、室温で１時間攪拌した。水層を分取し、６Ｎ塩
酸でＩＩＨ２に調整し、酢酸メチμで抽出し九抽出液を
水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発乾固した
。残渣をジエチルエーテルと共に摩砕して、７−（２−
エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チア
ジアゾ−ｆｉ／−５−イ／Ｉ／）アセトアミド〕−３−
アセトアセトキシメチ゛／Ｌ／−３−セフェム−４−カ
ルボン酸（！／シン異性体（２４，５５’）を得た。ｍ
９１０１〜１０６°Ｃ（分解）。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ−）：３４００．３３００．３１７０
．１７７０゜１７１０．１６６０，１６２０．１５２５
，１１４５．１０３５ｃｍ１−メチ／’−１，２，３−
）リアシーｙ（２，５Ｍｔ）、ヨウ化ナトリウム（１８
，ＯＦ）および水（３，０ｍ）の混合物に８０℃で攪拌
し表から７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ
−１，２，４−チアジアゾール・−５−イ／Ｉ／）アセ
トアミド〕セファロスポラン酸ナトリウム（シン異性体
）（５，３４１）を加え、攪拌を同じ温度で１時間続け
た。この混合物を室温に冷却し、水（２５ｇ（）で希釈
し、１Ｎ塩酸でｌ）Ｈ２Ｊに調整した。不溶物を炉去し
、ｐ液を酢酸エチルで洗浄した後、酢酸エチルを蒸発除
去し、非イオン性吸着樹脂ダイアイオンＨＰ−２０（商
標、三菱化成工業製）　（１６０ｇ？）でのカフムクロ
マトグフフィーに付し喪。カフムを水洗した後、２０％
メタノール水溶液で溶離を行なった。目的化合物を含有
する溶離液を集め、メタノールを減圧蒸発によシ除去し
、凍結乾燥して、７−〔２−エトキシイミノ−２−（５
−アミノ−１，２，４−チアジアゾ−〃−３−イ／Ｌ’
）アセトアミド−３−〔５−メチｆｉ／−１−（１，２
，３−）リアゾリオ）メチ／Ｌ’）−５−セフェム−４
−カルボキシレート（シン異性体）（１，ＯＦ）を得た
。ｍｐ１４１〜１４５°Ｃ（分解）。
工Ｅ（ＮｕｊＯｌ）：３４００−３１００．ｆ７７０，
１６６［１，１６１０゜１５３０　ｄ　０３５ｃＩＩｔ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−４６，δ）　：１．２３（３Ｂ、ｔ
、Ｊ＝７Ｈｚ）。
３．１５および３．５５（２Ｂ、ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ
）−４，ｊ３（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈ２）、４．３０（３
Ｈ，Ｓ）、５．００（ＩＴ（。
ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、５．３０および５．５９　（２Ｈ、
ＡＢｑ　、　Ｊ＝１４ＦＩＺ）、５．６７（ＩＨ，２ｄ
、Ｊ＝５および８Ｈｚ）。
８．１６（２Ｈ，’ｂｓ）、８．８２（ＩＨ，ｓ）、９
．０６（ｆＨ，ｓ）。
９．４２（ＩＨ，ｄ、、ｒ＝８Ｈｚ） 実施例２ ヨウ化ナトリウム＜１２．２５１）、５−メチルピリミ
ジン（１，８６７３’）、水（２，５震ｌ）およびアセ
トニトリ／Ｌ／（７，５ｇ＋／）の混合物に、６０℃で
攪拌しなから７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−ア
ミノ−１，２，４−チアジアゾ−／Ｌ／−３−イ／Ｌ／
）アセトアミドシー３−アセトアセトキシメチ／ｌ／−
３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体＞（５，Ｏ
Ｆ）を加え、攪拌を同じ１度で１時間続けた。反応混合
物を室温に冷却し、水（１５０ｇ／）と酢酸エチ／’（
１００ｇ／）との混合物で希釈した後、１Ｎ塩酸でｐＨ
２に調整した。水層を分取し、酢酸エチルで洗浄し、酢
酸エチルを蒸発除去した後、非イオン性吸着樹脂ダイア
イオンＨＰ−２０（１５０ｓ（）でのカフムクロマトグ
フフィーに付した。カラムを水洗した後、３０哄メタノ
−μ水溶液で溶離を行なった。目的化合物を含有する溶
離液を集め、４０ｍ１まで減圧濃縮し、酸性アルミナ（
１０ｐ　）に通し、凍結乾燥して、７−（２−エトキシ
イミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾ−
／％／−５−イ／Ｌ／）アセトアミド〕−３−（５−メ
チ／Ｉ／−１−ピリミジニオメチ１）−３−セフェム−
４−カルボキシＶ−）（！／シン異性体（１，４５３Ｅ
）を得た。ｍｐ１３５〜１４０°Ｃ（分解）。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）　：３２５０．３１５０　、１７７
０．１６６０　。
１６１０．１５２０ｃＩＩ ＮＭＲ（Ｄ２０．δ）：１．３２（３Ｈ，ｔ、、ｒ＝７
Ｈｚ）、２５８（３Ｈ，ｓン、　３．２８および３．７
２（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈ２）　、４３３（２Ｈ，
ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）　、５ＪＯ（ＩＨ。
ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、５３７および５ＡＯ＜　２Ｈ，ＡＢ
ｑ　。
Ｊ＝１４Ｈｚ）、５．９０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、
９２５（２Ｈ，ｓ）　、９．６０（ＩＨ，ｓ）実施例５ 実施例１および２と同様の方法によシ下記の化合物を得
た。
（１）　　７−（２−エトキシイミノ−２−（５−アミ
ノ−１，２，４−チアジアゾール−５−イ／Ｌ／）アセ
トアミド）−３−（２−メチ／Ｉ／−１−ピラゾリオメ
チル）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異
性体）、ｍｐ１４８〜１５８°Ｃ（分解）。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ　１　：３４００−３１　Ｄｏ　、　
１７７０　、１６６５　。
１６１０．１５３０ｃＩＩ ＮＭＲ（Ｄ２０．δ）：１．３４（３Ｈ，ｔ、、ｒ＝７
Ｈｚ）、５．１９゜３．５７（２Ｈ，ＡＢｑ　、、Ｔ＝
１８Ｈｚ）　、４．１１　（３Ｈ，Ｓ　）　。
４３７（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、５２７（ＩＨ，ｄ、
、７＝５Ｈｚ）。
５．２６および５５７（２Ｂ、ＡＢｑ、Ｊ＝１５Ｈｚ）
、５Ｊ３８（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、６．７８（ＩＨ
，ｔ、Ｊ＝３Ｈｚ）。
８．１！　１　（２Ｈ、ｄ　、　Ｊ＝５Ｈｚ　）（２１
７−（２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２
，４−チアジアゾール−３−イ／Ｉ／）アセトアミド）
−３−（１−ピリダシニオメチ１ｖ）−３−セフェム−
４−カルボキシレート（クン異性体）、ｍ１６５〜１７
０°Ｃ（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）：３４００−３１００．１７７Ｃ１
，１６６０゜１６１０．１５３０，１３５０．１０４０
ｃＩＭＮ１０４０ｃＩ、δ）：ｔ−２３（３Ｈ，ｔ、：
ｆ＝７Ｈｚ）　、５．０５−３．９２（２Ｈ，ｍ）、４
．２０（２Ｈ，ｑ　、Ｊ＝７Ｈｚ）、５．１０（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、５．４−５．９（２Ｈ，ｍ）、５．
７７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、７．６７（ＩＨ，ｍ）
、８．４２（１１Ｅ（、ｍ）、９２０（ＩＨ，ｍ）、９
．５２（ｊＨ，ｍ）（３）　　７−（２−エトキシイミ
ノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−
５−イ／Ｌ／）アセトアミド）−３−（１−ビラジニオ
メチ／Ｌ／）−３−セフェム−４−カルボキシレート（
シン異性体）、ｍ１６５〜１７０℃（分解）。
工Ｒ（ＮｔｌｊＯｌ）：３２５０，３１５０．１７７０
．１６６０゜１６１０．１５２０ｃＩＩ ＮＭＲ（Ｄ２０．δ）：１．５０（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈ
２）、３２７および３．７２　（２Ｈ，ＡＢｑ　、Ｊ＝
１８Ｈｚ）、　４３３（２Ｈ，（１。
Ｊ＝７Ｈｚ）　、５．３０（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、
５．４７および５．７５（２Ｈ，ＡＢｑ、、Ｔ＝１４Ｈ
ｚ）、５．９０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ｓＨｚ）、９．１３（
２Ｈ，ｂｓ）、９．４５（２Ｈ，ｂｓ）（４）７−（２
−メトキシイミノ−２−（５−アミノー１，２４４−チ
アジアゾ−ＩＬ／−３−イル）アセトアミド）−３−Ｎ
−ピリダシニオメチ／Ｌ’）　−３−セフェム−４−カ
ルボキクレート（シン異性体）、ｍｐ１６５〜１７０℃
（分解）。
工Ｒ（ＮｕｊＯｌ）：３４００−３１００．１７７０．
１６６０−ｆ５８０゜ｊ５５Ｄ、１０１０４０ ｔｘＮ　（Ｄ２０　、δ）：３．４７オ！ヒ３．８３（
２Ｈ，ＡＢｑ、、Ｔ＝１８Ｈｚ）、４．０５（３Ｈ，８
）　＊５．２５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）。
５．７２（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　ｓ　）　、　５Ｊ３７（
Ｉ　Ｈ，ｄ、　、Ｔ＝５Ｈｚ）　。
８５−８．７（２Ｈ，ｍ）　、　９．４−９５（Ｉ　Ｈ
，ｍ）　、　９．７−９．９（ＩＨ，ｍ） （５）７−（２−メトキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾ−／Ｉ／−５〜イル）アセトア
ミド）−３−（２−メチ／Ｌ／−１〜ピッゾリオメチ／
ｖ）−５−セフェム−４−カルボキクレート（シン異性
体）、ｍｐｌｏｏ　〜１１０°Ｃ（分解）。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３４００−３１００．１７７０．
ｊ６６０．１６１０゜１５３０．１２８５　、１０３５
　ｃＩｒ’ＮＭＲ（Ｄ２０．δ）：３．１５オヨヒ３Ｂ
７（２Ｈ９ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、４．０５（３Ｈ’
；ｓ）’、４．０８（３Ｈ，ｓ）、ａ２１（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝５Ｈｚ）、５．！２オよび５．４９（２Ｈ，ＡＢｑ
。
、ｒ＝１４Ｈ２）　、　５１３５　（ｊ　Ｈ，ｄ　、　
、Ｔ＝５Ｈ２ｔ　）　、　６．７−６Ｂ（ＩＨ，ｍ）、
８．１−８．３（２Ｈ，ｍ）（６）　　７−（２−エト
キシイミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾ−１ｖ−３−イ１ｖ）７セトアミド）−５−（２−エ
チｆｉ／−１−ビラゾリオメチＮ）−３−セフェム−４
−カルボキシレート（シン異性体）、ｍｐ１５０〜１５
５℃（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）：３３００．３１００．１７７０，
１６７０゜１６１０　、１５２５　ｃｍ ＮＭＲ（Ｄ２０　、δ）　：１．３２（３Ｈ，ｔ、、Ｔ
＝７Ｈｚ）　、１．５３（５Ｈ，ｔ　、　Ｊ＝７Ｈｚ　
）　、　５．ｔ　３および５５４Ｃ２１−１゜＃、、ｒ
＝１８Ｈｚ）、４３３（４Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）。
５ｊ！５（ＩＨ，ｄ、、Ｔ＝５Ｈｚ）、　５．４（２Ｈ
，ｍ）　、５．８５（ＩＨ，ｄ、、ｒ＝５Ｈｚ）、６．
７−６．９（ＩＨ，ｍ）。
８．２−８．３（２Ｈ，ｍ） （力　７−〔２−アリルオキシイミノ−２−（５−アミ
ノ−１，２，４−チアジアゾ−／Ｉ／−３−イ／Ｌ／）
アセトアミド）−５−（２−メチル−１−ピヲゾリオメ
チＡ〆）−５−セフェム−４−カルボキシレート（シン
異性体）、ｍＩ）１６５〜１７５℃（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）：３２００，３１００．ｊ７７０，
１６７０゜１６１０．１５２０５１ ＮＭＲ（Ｄ２０　、δ）：３２Ｄオヨび３ＡＯ（２Ｈ，
ＡＢｑ、、ｒ＝１８Ｈｚ）　、４．１５Ｃ３Ｈ，ｓ　）
　、４．６０−４．９３（２Ｈ，ｍ）　。
５．３０（ｊＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）　、５．１６−５Ａ
３（４Ｈ，ｍ）　。
５Ｊ３−６４（２Ｈ，ｍ）　、６Ｊ３０（ＩＨ，ｔ、Ｊ
＝＝３Ｈｚ）　。
８．２０（２Ｈ，（１，Ｊ＝５Ｈｚ） （８）　　７−（２−（２−プロピニルオキグイミノ）
−２−（５−アミノ−ｆ、２．４−チアジアゾ−／Ｌ／
−３−イル）アセトアミド）−５−（ｊ−ビリダシニオ
メチ／Ｌ／）−３−セフェム−４−カルボキシレート（
シン異性体）、ｍｐ１６０〜１６５℃（分解）。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３２５０．３２００，３１００．
１７７０゜１６６０．１６２０．１５２０（ＩＩ ＮＭＲ（Ｄ２０．δ）：３Ｊ）３（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝２Ｈ
ｚ）、３．４８および３．８３（２Ｈ，ＡＢｑ　、Ｊ＝
ｊ　８Ｈ１、４，９３（２Ｈ，ｄ。
Ｊ＝２Ｈｚ）、５．２７（１１（、ｄ、、Ｔ＝５Ｈｚ）
、５．７３（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　８）、５．８８（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）。
８．６０（２Ｈ，ｍ）、９．４７（ｆＨ，ｍ）、９Ｂ３
（ＩＬｍ）（９）　　７−（２−（２−プロビニルオキ
シイミノ）−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾ−μ−３−イ〜）アセトアミド）−３−（２−メチ１
ｖ−１−ビラゾリオメチμ）−６−セフェム−４−カル
ホキシレー）（シン異性体）、ｍｐ１６０〜１７０℃（
分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）：３２５０−３１００．１７６０，
１６７０゜１６１０．１５２０３　’ ＮＭＲ（Ｄ２０　、δ）：３Ｄ５（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝２Ｈ
ｚ）、３．２０および５５８（２Ｈ，ＡＢｑ　、、ｒ＝
１８Ｈｚ　）　、４．１３（′５Ｈ。
Ｓ）、イ９７（２Ｈ，ｄ、、ｒ＝２Ｈｚ）、５ＪＯ（Ｉ
Ｈ，ｄ。
Ｊ＝５Ｈｚ）　、５１７オヨび５５７（２Ｈ，ＡＢｑ　
、　Ｊ＝ｊ４Ｈｚ）、５．９２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝−５Ｈ
ｚ）、６．８０（ＩＨ。
ｔ、Ｊ＝３ＨｚＬ８．２３（２Ｈ，ｂｒｏａｄ、　５）
６１　７−（２−メチルチオメトキシイミノ−２−（５
−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−５−イ／Ｉ／
）アセトアミド）−３−（２−メチル−１−ピフゾリオ
メチｆｉｖ）−３−セフェム−４−カルボキクレート（
シン異性体）、ｍｐ１４５−１５０℃（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　：３２８０　、！＋１００．１７
７０．　ｆ　６６５゜１６０５．１５２５ｃＭ ＮＭＲ（Ｄ　Ｏ＋ＣＤ、ＯＤ、δ）：′２２３（５Ｅ（
，８）、３２５および３．４７（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１
８Ｈｚ）、４．１０（３Ｈ。
８）、５．２５（ｊＨ，ｄ、、Ｔ＝５Ｈｚ）　、５３５
（２Ｈ，ｓ）。
５．２８および５．４８（２Ｈ，ＡＢＱ、Ｊ＝１４Ｈｚ
）。
５．８７（１Ｈ，ｄ、　、７＝５Ｈ２）　、、６．７７
（１Ｈ，ｍ）　。
８．２０（２Ｉ（、ｍ） θ１）７−（２−カルボキクメトキシイミノ−２−（５
−アミノ−ｆ、２．４−チアジアゾ−／ｌ／−３−イＡ
／）アセトアミド）−３−（２−メチル−１−ビラゾリ
オメチル）−３−セフェム−４−カルボキクレート（シ
ン異性体）、ｍｐ１６５−１７０℃（分解）。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３４００，３２９ｏ、３１６０．
３１１０゜１７７０．１６７０．１６１５．１５２５ｃ
ＩＩＮＭＲ（Ｄ　Ｏ＋ＮａＨＣＯ３，δ）：３．２７オ
よび３．４７（２Ｆ（。
ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、４．１０（３Ｈ，Ｓ）、４．
７０（２Ｈ，ｓ）。
５．２７　（Ｉ　Ｈ，ｄ　、　、ｒ＝５Ｈｚ　）　、　
５３２および５Ａ５（２Ｈ，ＡＢｑ　、、ｒ＝１４Ｈｚ
）　、　５．９２（Ｉ　Ｈ，ｌ、：ｆ＝５Ｈｚ）、６．
７８（ＩＨ，ｍ）、８．２２（２Ｈ，ｍ）６埠　７−（
２−（２−シクロペンテン−１−イルオキシイミノ）　
−２−（、５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−
３−イｌｖ）アセトアミド〕−５−（２−メチ１ｖ−１
−ピラゾリオメチル）−３−セフェム−４−カルボキシ
レート（シン異性体）、ｍｐ１５５−１６０℃（分解）
。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３２５０．３１００．１７７０．
１６６０゜１６０５．１５２５ｃｒ１ ＮＭＲ（Ｄ２０−）−ＣＤ、ＯＤ、δ）：１．８３−２
．６３（４Ｈ，ｍ）　。
３２０および３．４３　（２Ｈ、ＡＢｑ　、　Ｊ＝１８
Ｈｚ　）　。
４、ｆ　２（３Ｈ，Ｓ　）　、５．１７（ＩＨ，ｄ　、
Ｊ＝５Ｈｚ）　。
５．１３−５４７（３Ｈ，ｍ）　、５．８０（ＩＨ，ｄ
、、ｒ＝５Ｈｚ）　。
５．７５−６Ｊ５Ｃ２Ｈ，ｍ）　、６．７７（ＩＨ，ｍ
）　、８，２０（２Ｈ，ｍ） （ｉ４７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾ−／Ｉ／−３−イρ）アセトア
ミド）−５−（２−アリ／Ｉ／−１−ピフゾリオメチ／
ｖ）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性
体）、ｍＸ）１５０−’１４０℃（分解）。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３４００−５１００Ａ７７０Ａ６
６０Ａ６１０゜１５３０ａＩ’ ＮＭＲ（Ｄ２０．δ）：１．３２（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、５ｊ３および３．４６（２Ｈ，ＡＢｑ、、Ｔ＝１
８Ｈ２）、４３１（２Ｈ，（１゜Ｊ＝７Ｈｚ）、５．０
−５３（４Ｈ，ｍ）　、５．２０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈ
ｚ）、５．２９および５Ｊ９（２Ｈ，ＡＢｑ、、ｒ＝１
４Ｈｚ）。
５Ｊ３２（ＩＨ，ｄ、、ｒ−＝５Ｈｚ）、５．８−６２
（ＩＨ，ｍ）。
６．８（ＩＨ，ｍ）、８．２（２Ｈ，ｍ）（１４）　　
７−（２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２
，４−チアジアゾ−／Ｌ’−５−イ／Ｉ／）アセトアミ
ｌ’）−３−（５−クロロ−１−ビリダシニオメチル）
−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体）
、ｍｐ１４５−１５０°Ｃ（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ　）　：３３００−！＋４００　、１
７７５　、１６７０゜１６１０．１５３０３ （１１７−（２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾ−〜−３−イル）アセトアミド
）−５−１ｊ−メチｙｖ−ｊ−（１，５，４−シリアゾ
リオメチ１ｖ））−５−セフェム−４−カルボキシレー
ト（シン異性体）、ｍｐｌ　５３−１５７℃（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　：５４００−３１００　、１７７
０　、１６６０　。
１６１０、ｊ５５ＤＤＩＩ ＮＭＲ（ＤＭＳ針へ、δ）：１．２２（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝
７Ｈｚ）。
３３−３．７（２Ｈ，ｍ）、４．（１５（３Ｈ，８）、
、４．１３（２Ｈ。
ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、４．７−５３（２Ｈ，ｍ＞、４．９
８（１Ｈ。
ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、５Ａ３（ＩＨ，２ｄ、Ｊ＝５によび
８Ｈｚ）、８．１０（２Ｈ，’ｂｒｏａｄ　ｓ）、９３
０（ＩＨ。
８）、９．３３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、１０２５（
ＩＨ，Ｓ）。
θ４　７−（２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾ−Ａ／−５−イｌｖ）アセトア
ミド）−３−（４−メチ／に−１−（１，２゜４−トリ
アシリ□オメチ／ｌ／））−３−セフェム−４−カルボ
キシレート（シン異性体）、ｍｌ）１５９〜１６４℃（
分解）。
１（Ｎｕｊｏｌ）：３４００−３１００．１７７０，１
６６０゜１６０！３．１５３０ｍ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　６．δ）：１．２３（３Ｈ，ｔ
、、ｒ＝７Ｈｚ）　。
３．１−３４３（２Ｈ，ｍ）　、３．９１　（３Ｈ，ｓ
　）　、　４．１２（２Ｈ，ｑ　。
Ｊ＝７Ｈｚ）　、４．９８（ＩＨ，ｄ、、ｒ＝５Ｈｚ）
　、５．０−５５（２Ｈ，ｍ）。
５．６３（１Ｈ，２ｄ　、Ｊ＝５　オよび８Ｈ２）、８
．１３（２Ｈ。
ｂｒｏａｄ　ｓ）　、　９．０３（ＩＨ，Ｓ　）　、９
．３１　（ｊＪｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、１０２５（１Ｈ，５
） ６７）　　７−（２−エトキシイミノ−２−（５−アミ
ノ−１，２，４−チアジアゾ＝／Ｌ／−５−イル）アセ
トアミド）−３−（３−ヒドロキシ−１−ビリダシニオ
メチル）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン
異性体）、ｍｐ１５９〜１６３℃（分解）。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３４００−３１００．１７７５．
１６７０゜１６１０．１５２００１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：１２７（３Ｈ，ｔ、、
ｒ＝７Ｈｚ）。
３５６Ｃ２Ｈ，ｂｒｏａＡ　ｓ）、４．１６（２Ｈ，ｑ
、、ｒ＝７Ｈｚ）。
４．９−５．６（３Ｈ，ｍ）　、５Ｂ３（ＩＨ，２（１
，、ｒ＝５および８Ｈｚ）、６．９１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
９Ｈｚ）、７．６（ＩＨ，ｍ）。
８．０９（２Ｈ，ｂｒｏａｄｓ）、８．４４（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝４Ｈ２）。
９５４（１Ｈ，ｄ、：ｆ＝８セ） θＦＪ７−（２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾ−／％／−３−イ／Ｌ／）アセ
トアミド）−３−（３−メチル−１−イミダゾリオメチ
／Ｉ／）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン
異性体）、ｍ９１５６〜１６５°Ｃ（分解）。
ｍ（Ｎｕｊｏｌ）　：３３００　、３１５０．１７７０
　、１６６０　。
１６０５ｊ５３Ｑａｇ　’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）　：１．２３（３Ｈ，ｔ
、Ｊ＝７酩）。
３．１２および３．５４（２Ｈ，ＡＢｑ、、Ｔ＝１８Ｈ
ｚ）、３．８６（３Ｈ，ｓ）、４．１５（２Ｈ，ｑ、Ｊ
＝７Ｈｚ）、５．０２（ＩＨ。
ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）　、５．０２および５．１８（２Ｈ，
ＡＢｑ。
Ｊ＝１４ジ）、５Δ６（ＩＨ，２ｄ、、ｒ＝５および９
七）。
７．６５（ＩＨ，８１）、７．９７（ＩＨ，Ｓ）、８，
２５（２Ｈ。
ｂｒｏａａ　ｓ）、９．３２（ＩＨ，ｓ）、９．４５（
ＩＨ，ｄ。
Ｊ＝９七） 実施例４ トリフルオロ酢酸（２０ｍｌ）中の７−〔２−エトキシ
イミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾ−
ｆｉ／−３−イ／Ｌ／）アセトアミド〕−３−（３−メ
チ／Ｉ／−１−イミダゾリオメチ／Ｌ／）−３−セフェ
ム−４−力μポキシレート・ジフェニルメチルエステル
のトリフルオロ酢酸塩（シン異性体）（３Ｆ）とアニソ
−／Ｌ／（７，５露ｌ）との混合物を水浴で冷却しなが
ら２０分間攪拌した。この混合物を攪拌下に冷ジイソプ
ロピルエーテル（１２０ｇ／）に投入し、析出した沈殿
を戸数した。この粉末を水（５０ｍｌ　）に懸濁させ、
重大政ナトリウム水溶液でｐＨ４〜５に調整し、不溶物
を炉去した。炉液を非イオン性吸着樹脂であるダイアイ
オンＨｐ−２０（１００ｄ）でのカラムクロマトグラフ
ィーに付した。カラムの水洗後、２０％メタノール水溶
液で溶離を行なった。目的化合物を含有する溶離液を集
め、メタノールを減圧蒸発により除去し、凍結乾燥して
、７−（２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，
２，４−チアジアゾール−６−イル）アセトアミド）−
３−（３−メチ／ｌ／−１−イミダゾリオメチ／Ｌ’）
−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体）
（１，４６９）を得た。ｍｐ１５６〜１６５℃（分解）
。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）：３３００．３１５０．１７７０．
１６６０゜１６０５．１５３０ａＩＩ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：１．２３（３Ｈ，ｔ、
Ｊ＝７Ｈｚ）、３．１２オヨび５５４Ｃ２Ｈ，ＡＢｑ　
、Ｊ＝１８Ｈｚ）　、３．８６（３Ｈ，ｓ）　。
４．１５（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、５４）２（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）。
５４３２および５．１８（２Ｈ，ＡＢｑ　、Ｊ＝１４Ｈ
ｚ　）　、　５．６６（ＩＨ，２ｄ、Ｊ＝５および９Ｈ
ｚ）　、７．６５（ＩＨ，Ｓ）　。
７．９７（ＩＨ，８）　、８．２５（２Ｈ，ｂｒｏａｄ
　ｓ）　、　９ｊ２（ＩＨ，ｓ）、９．４５（ＩＨ，ｄ
、、ｒ＝９Ｈｚ）。
実施例５ 実施例４と同様の方法によシ下記の化合物を得た。
（１）　　７−（２−エトキシイミノ−２−（５−アミ
ノ−１，ｚ４−チアジアゾール−５−イル→アセトアミ
ド）−３−（３−メチ／ｌ／−１−（１，２，３−トリ
アゾリオ）メチル〕−３−セフェムー４−力〜ボキシレ
ート（シン異性体）。ｍｐ１４１〜１４５℃（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）：３４００−３１００．１７７０．
１６６０．１６１０゜１５３０．１１０３５ｃ’ （２）７−（２−エトキンイミノ−２−（５−アミ）−
１，２，４−千７ジアゾー／Ｉ／−３−イｌｖ）アセト
アミド）−３−（５−メチ／Ｉ／−１−ピリミジニオメ
チＩＬ／）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シ
ン異性体）、ｍｐ１３５〜１４０°Ｃ（分解）。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３２５０．３１５０，１７７０，
１６６０゜１６１０．１５２０ｃ１１’ （３）７−（２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾ−／Ｉ／−３−イ／Ｉ／）アセ
トアミド）−５−（２−メチル−１−ピヲゾリオメチル
）−３−セフェム−４−力〜ポキシレート（シン異性体
）、ｍｐ１４８〜１５８°Ｃ（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）：３４００−３１００．１７７０．
１６６５．１６１０゜１５６０ａ１１ （４）　　７−（２−エトキシイミノ−２−（５−アミ
ノ−１，２，４−チアジアゾ−／Ｉ／−３−イ／Ｉ／）
アセトアミド）−３−（１−ビリダシニオメチ／％／）
−５−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体）
、ｍ９１５５〜１６０°Ｃ（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　：３４００−５ｊ　Ｄｏ　、　１
７７０　、１６６０　。
１６１０．１５３０，１３５０．１０４０３（５）７〜
〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２，４
−チアジアゾ−〜−５−イル）アセトアミド）−５−（
ｆ−ビヲジニオメチ／Ｉ／）−３−セフェム−４−カル
ボキシレート（シンＡ性体）、ｍｌ）１６５〜１７０℃
（分解）。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３２５０．３１５０．１７７０．
１６６０゜ｊ６ｊＯ，ｊ５２０ｃＭ　’ （６）７−（２−メトキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，ｚ４−チアジアゾ−１ｖ−３−イル）アセトアミド
）−３−（１−ピリダシニオメチＩＶ）−３−セフェム
−４−力ｙポキシレート（シン異性体）、ｍ９１６５〜
１７０°Ｃ（分解）。
工Ｒ（ＮｕｊＯｌ）　：３４００−３１００．１７７０
　、１６６０−１５８０　。
１５３０、１０４０３−１ （７）７−（２−メトキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド
）−３−（２−メチｌＬ／−１−ビラゾリオメチｆｉ／
）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体
）、ｍｐ１ｏｏ〜１１０℃（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）：３４００−３１００．１７７０．
１６６０゜１６１Ｑ、１５５０．１２Ｂ５．１０５５Ｃ
ｒｊ（８）　　７−（２−エトキシイミノ−２−（５−
アミノ−ｊ、２．４−チアジアゾ−／ｌ／−５−イ／Ｌ
／）アセトアミド）−３−（２−エチル−１−ピフゾリ
オメチ／Ｌ／）−３−セフェム−４−カルボキシレート
（シン異性体）、ｍｐ１５０〜１５５℃（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）：３３００．３１００，１７７０．
１６７０゜１６１０．１５２５ａ （９ン　７−〔２−アリルオキシイミノ−２−（５−ア
ミノ−１，Ｚ４−チアジアゾール−３−イル）アセトア
ミド）−３−（２−メチル−１−ビラゾリオメチル→−
３−セフェム−４−力ｙボキンレート（シン異性体）、
ｍｐｌ　６５〜１７５℃（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）：３２００，３１００．ｔ７７０．
ｔ６７０゜１６１０．１５２０ｎ ６０）　　７−（２−（２−プロピニルオキシイミノ）
−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３
−イｆｉ７）アセトアミド）−３−（１−ビリダシニオ
メチ／ｋ）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シ
ン異性体）。ｍ　Ｉ）　ｆ　６）−６’；Ｃ（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）：３２５０，３２００，３１００，
１７７０゜１６６０．１６２０．１５２０ｃｍ θ１）　７−（２−（２−プロピニルオキシイミノ）−
２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−６−
イル）アセトアミド）−３−（２−メチル−１−ビラゾ
リオメチｌＬ／＞−５−セフェム−４−カルボキシレー
ト（シン異性体）、ｍ９１６０〜１７０℃（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏ：Ｌ）　：３２５０−３１００　、１７
６０　、１６７０　。
１１０．１５２０ｚ ０２）７−（２−メチルチオメトキシイミノ−２−（５
−アミノ−１，ｚ４−チアジアゾール−６−イＶＶ−）
（’／７異性体）、ｍｐ１４５〜１５０°Ｃ（分解）。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３２Ｂ０，３１００，１７７０．
１６６５．１６０５゜１５２５ａｒ１ ６υ　７−（２−力μポキシメトキシイミノー２−（５
−アミノ−１，２，４−チアジアゾ−ｔｖ−５−イ／ｖ
）アセトアミド）−３−（２−メチ／ｌ／−１−ピフゾ
リオメチＮ）−３−セフェム−４−カルボキシレート（
シン異性体）、ｍｐｌ　６５〜１７０℃（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）：３４００　、３２９０　、３１６
０　、３１１０　。
１７７０．１６７０．１６１５．１５２５ｃＩＩＩ（１
４７−（２−（２−シクロペンテン−１−イルオキシイ
ミノ）−２−（５−アミノ−１，ｚ４−チアジアゾ−／
ｖ−５−イ／Ｌ／）アセトアミド〕−５−（２−メチｌ
Ｌ／−１−ピフゾリオメチル）−５−セフェム−４−カ
ルボキシレート（シン異性体）、ｍ９１５５〜１６０°
Ｃ（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）：３２５０．３１００．１７７０，
１６６０゜１６０５．１５２５３　’ θつ　７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾ−Ａ／−５−イル）アセトアミ
ド）−５−（２−アリル−１−ビラゾリオメチｆｉ／）
　−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体
）、ｍｐｊ３０〜１４０℃（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　：３４００−３１００　、１７７
０　、１６６０゜１６１０　、１５３０１１ ０尋　７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾ−〃−３−イ／Ｌ／）アセトア
ミド）−３−（３−クロロ−１−ピリダシニオメチ／Ｌ
／）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性
体）、ｍｐ１４５〜１５０°Ｃ（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）：３３００−３１００．１７７５．
１６７０゜１６１０．１５３０ｚ　’ ０乃　７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾ−／Ｌ／−３−イＡ／）アセト
アミド）−３−（３−メチ／Ｌ／−１−（１，３，４−
）リアゾリオメチ＃））−３−セフェム−４−カルボキ
シレート（シン異性体）、ｍｐ１５３〜１５７℃（分解
）。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３４００−３１００．１７７０，
１６６０゜ｊ６１０．１５５０ｔｌｌ θ１７−（２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１
，２，４−チアジアゾール−３−イ／Ｌ／）アセトアミ
ド）−３−（４−メチ／Ｌ／−１−（１，２，４−トリ
アゾリオメチｙ））−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート（シン異性体）、ｍｐ１５９〜１６４℃（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）：３４００−３１００．１７７０．
１６６０゜１６０５　、１５３０ｄｗ θリ　７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾ−／Ｌ’−５−イ／ｖ）７−ｔ
！）アミド）−３−（５−ヒドロキシ−１−ピリダシニ
オメチ／Ｌ／）−３−セフェム−４−カルボキシレート
（シン異性体）、ｍｐｌ　５９〜１６３℃（分解）。
工Ｒ（ＮｕｊＯｌ）：３４００−３１００．１７７５．
１６７０゜１６１０．１５２０ｃ１１ 製造例２ 五塩化リン（５４，６Ｆ）の塩化メチレン（５００ｍｌ
）溶液に、−２０℃で冷却攪拌し々から２−エトキシイ
ミノ−２−（５−アミノ−ｔ、　２．４−チアジアゾ−
／Ｉ／−３−イル）酢酸（シン異性体）（５４，ＯＦ）
を加えた。この混合物を−１５〜−１２℃で５０分間、
次いで一５℃で２時間攪拌した。目的化合物の沈殿を含
有する得られた反応混合物に一５℃でジイソプロピルエ
ーテル（５００ｄ）を加え、混合物を一５〜１０°Ｃで
３・０分間攪拌した。析出した沈殿を枦取し、ジイソプ
ロピルエーテルで洗浄し、乾燥して、２−エトキシイミ
ノ−２−（５−アミノ−１，ｚ４−チアジアゾール−３
−イ／Ｉ／）アセチルクロリド塩酸塩（シン異性体）（
６０，１７Ｆ）を得た。ｍｐ１２５〜１２７℃（分解）
。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）：１７８５．１６２５．１０５５ａ
分析値：（Ｃ６Ｈ８０２Ｎ４ＳＣ１□）ＣＨＮ　　　　
Ｓ　　　Ｃ１ 計算値：　２６５７２．９５２ＯＡ６　ｊｌ、８１　２
６．２０実測値：　２６．１３２．９９２０．４９１１
．７７２６．４１製造例３ 塩化メチレン（３００＋ｗＪ）中の７−アミノ−３−ク
ロロメチル−３−セフェム−４−カルボン酸・ジフェニ
ルメチルエステルの塩ｅ塩Ｃ２７９）の懸濁液に、Ｎ、
Ｎ−ジメチルアニリン（３６２ｐ）を５°Ｃに水浴冷却
しながら加えた。得られた溶液に２−エトキシイミノ−
２−（５−アミノ−１，２゜４−チアジアゾ−／ｌ／−
５−イ／Ｉ／）アセチルクロリド塩酸塩（シン異性体）
（１６，２ｐ）を１１℃よシ低温で少しづつ加え、この
混合物を５℃で４５分間攪拌した１３反応混合物を塩化
メチレン（１００ｄ）と水（２００ｓＪ）との混合溶媒
で希釈し、１Ｎ塩酸でＩ）Ｈ２に調整した。有機層を分
取し、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発乾固し
た。
残渣をジエチルエーテル中で摩砕して、７−〔２−エト
キシイミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾ−１ｖ−３−イル〕アセトアミド〕−３−クロロメチ
Ａ／−３−セフェム−４−カルボン酸ｅジフエニμメチ
ルエステ／Ｌ／（シン異性体）（３２，４Ｆ）を得た。
ｍ９１２０〜１２５℃（分解）。
工Ｒ（ＮｕｊＯｌ）　：３３００．３１５０　、１７８
０．１７２５　。
１６７５．１６２５．１５３０．１４９５３ＮＭＲ（Ｄ
ＭＳＯ−４６，δ）：１．２８（３Ｈ，ｔ、、ｒ＝７Ｈ
ｚ）　。
３．６８（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　ｓ　）　、４２３（２Ｈ
，ｑ　、　Ｊ＝７Ｈｚ）　。
４．４７（２Ｈ，ｓ）、５．２７（１Ｈ，ｄ、、Ｔ＝５
七）、５．９７（ＩＨ，２ｄ、Ｊ＝５および８Ｈｚ）、
７．０（ＩＨ，８）。
７．２−７．７（１０Ｈ，ｍ）、８．１７（２Ｈ，ｂｒ
ｏａｄ　ｓ）。
９．６２（ｊＨ，（１，、ｒ＝８Ｈ２）製造例４ 塩化メチレン（１００ｇｔ）と酢酸（１０ｇＪ、）の混
合溶媒中の７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミ
ノ−１，Ｚ４−チアジアゾ−ｆｉ／−３−イｌ′ｖ）ア
セトアミドクー６−クロロメチ／Ｌ／−３−セフェム−
４−力ｙポン酸・ジフェニルメチルエステル（シン異性
体）（１０５１）の冷溶液に、３０惨過酸化水素水（１
，８４ｇｔ）とタングステン酸ナトリウム（０，３ｊｌ
）とを加えた。
この混合物を水浴中で４５分間攪拌したのち、ジエチ〜
エーテ／Ｌ／＜５００ｍ１）に投入した。析出した沈殿
を戸数し、ジエチルエーテルで洗浄シテ、７−〔２−エ
トキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジ
アゾ−／ｌ／−５−イｆｉｌ＞アセトアミ）’）−３−
クロロメチル−３−セフェム−４−カ１５５℃（分解）
。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３２８０．３１７０．１７８５．
１７２３゜１６６７　、１６２８　、１５３０３−’Ｎ
ＭＲ（ＤＭＳＯ−４６，δ）：１．３０（３Ｂ、ｔ、、
ｒ＝−７Ｈｚ）。
３．９０（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　ｓ　）　、　４．２３（
２Ｈ，ｑ　、　、Ｔ＝７Ｈｚ）　、４．５８（２Ｈ，’
ｂｒｏａｄ　ｓ）　、５．１２（ＩＨ，ｄ。
、Ｔ＝５Ｈｚ）、６．１０（ＩＨ，２ｄ、、ｒ＝：５お
よび８Ｈｚ）。
７．０２（ＩＨ，Ｓ）　、７．２０−７．７３（１０Ｈ
，ｍ）　、８．１５（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　ｓＬ９．００
（１Ｂ、ｄ、Ｊ＝８Ｈ’ｚ）製造例５ ７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２
，４−チアジアゾ−／ｌ／−３−イｆｉ／）アセトアミ
）”：）−３−クロロメチル−６−セフェム−４−カル
ボン酸−１−オキシド・ジフェニルメチルエステル（シ
ン異性体）（９，８５Ｐ）のアセトン（２２２ｓＪ）冷
溶液にヨウ化ナトリウム（８，２２Ｆ）を加え、この混
合物を水浴冷却しながら２時間攪拌した。溶媒を減圧蒸
発した後、残渣を塩化メチレン（２００ｇｔ）と水（１
００鄭ｌ）との混合溶媒に溶解した。有機層を分取し、
チオ硫酸ナトリウム水溶液・および水で順に洗浄し、硫
酸マグネノー２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イ／Ｌ／）アセトアミドクー３−ヨードメ
チル−５−セフェム−４−カルボン酸−１−オキシド・
ジフェニルメチルエステ／Ｉ／（シン異性体）（１０，
３９ＪＩＦ　）’を得た。ｍ９１５９〜１６３°Ｃ（分
解）。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）　：３２５０．３１５０．１７８０
　、１７２０　。
ｊ６７０．１６２０．１５２０３ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：１．２９（３Ｈ，ｔ、
、Ｔ＝７Ｈｚ）。
３．９５（２Ｈ，ｍ）　、　４．２５（２Ｈ，ｑ　、Ｊ
＝７Ｈｚ　）　、　４．５０（２Ｈ，ｍ）、５．１２（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）　、６．０５（１Ｈ。
２ｄ　、　Ｊ＝５および９Ｈ２）、７．０Ｏ（ＩＨ，Ｓ
）、７．４（１０Ｈ，ｍ）　、　８．１３（２Ｈ，ｂｒ
ｏａｄ　ｓ　）　、８．９６（ＩＨ，ｄ、、ｒ＝９Ｈｚ
） 製造例６ テトラヒドロフラン（７ｇｔ）中の７−（２−エトキシ
イミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾ−
１Ｌ／−３−イ／ｌ／）アセトアミド）−５−ｓ−ドメ
チ／ｌ／−５−セフェム−４−カルボン酸−１−オキシ
ドφジフェニルメ千ルエステ／Ｉ／（シン異性体）（４
Ｐ）と１−メチルイミダゾ−ｆｉ／（０，５Ｐ）との混
合物を室温で４０分間攪拌した。析出した沈殿を戸数し
、テトラヒドロフランで洗浄し、乾燥して、７−〔２−
エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チア
ジアゾ−、Ａ／−３−イル）アセトアミド）−３−（３
−メチＡ／−１−イミダゾリオメチル）−６−セフェム
−４−カルボキシレート−１−オキシド・ジフェニルメ
チルエステμ・ヨーシト（シン異性体）（４，２０２）
を得た。
ｍｐ１０５〜１ｊ４″″Ｃ（分解）。
ＩＲ（ＮｕｊＯｌ）　：３２５０，３１５０．１７９０
．１７２０゜１６７０．１６１ＯＡ５２０ｃｍ　’ ＮＭＲ（ＤＭＳ　０−４６．δ）：１ｊ１（３Ｈ，ｔ、
、ｒ＝７Ｈｚ）、３．７７（３Ｈ０ｓ）、４．１０（２
Ｈ，ｍ）、４．１５（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、５．１
（３Ｈ，ｍ）、６．０７（２ｄ、ｔＨ，、ｒ＝５および
８Ｈｚ）　、６．８７（ＩＨ，８）　、　７Ｊ　３（１
１Ｈ，ｍ）　。
７．６０（ＩＨ，ｓ）、８．００（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　
ｓ）　、８．９１（ＩＨ，ｄ、、ｒ＝８Ｈ２）、８．９
３ＮＨ，ｂｒｏａｄ　Ｓ）製造例７ アセトニトリ／Ｌ’（４０厘ｔ）中の７−〔２−エトキ
シイミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾ
ール−６−イ／Ｌ／）アセトアミド）−３−（３エステ
ル・ヨーシト（シン異性体）（４Ｆ）、！：Ｎ、Ｎ−ジ
メチルアニリン（１，２１Ｆ）との混合物に、水浴で冷
却し表から攪拌下に８°Ｃよシ低温１で三塩化リン（１
，３７Ｆ）を滴下した。得られた混合物を同じ温度で２
．５時間攪拌した後、ジエチルエーテル（４５ｍｌ）を
これに加えた。析出した沈殿を枦取し、ジエチルエーテ
ルで洗浄し、乾燥して、７−〔２−エトキシイミノ−２
−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾ−）ｖ−６−
イ／Ｌ／）アセトアミド）−３−（５−メチ／＆−１−
イミダゾリオ）ｆＮ）−３−セフェム−４−カルボキシ
レート・ジフェニルメチルニスｆ　／Ｌ／−ヨーシ）’
（シン異性体）（４，１８５Ｅ）を得た。ｍｐｌ　１５
゜５〜１２０．５°Ｃ（分解）。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：１７８０，１７２０，１６８０，
１６３０゜１５３（Ｂｌｌ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：１．２２（３Ｈ，ｔ、
Ｊ＝７Ｈｚ）。
３、ｏ９（３Ｈ，ｓ　）　、　３Ｂ６（２Ｈ，ｍ）　、
４．１８（２Ｈ，（１゜Ｊ＝７Ｈｚ）　、　５．１８（
３Ｈ，ｍ）　、６．０５（ＩＨ，２ｄ。
Ｊ＝５　ａｎｄ９Ｈｚ）　、６．９４（１Ｈ，Ｓ）、７
．４（１５Ｈ，ｍ）　。
５’６０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） 製造例８ テトラヒドロフランとメタノールの１＝１混合溶媒（１
０Ｗｔ）中の７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−ア
ミノ−１，２，４−チアジアゾ−Ａ／−３−イ／ｖ）ア
セトアミド）−３−（５−メチ／に−１−イミダゾリオ
メチ／Ｌ／）　−５−セフェム−４−カルボキンレート
やジフェニルメチルエステル・ヨーシト（シン異性体）
（３，９））の溶液を、イオン交換樹脂〔アンパーライ
トエＲＡ−４００（商標、ローム・アンド・ハース社製
）トリフルオロ酢酸塩形）（４０ｓ＋ｌ）を充填し九カ
ラムに通した。同じ溶媒（８０ｇ？）で溶出を行ない、
溶出液を蒸発乾固した。残渣をジエチルエーテル中で摩
砕して、７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ
−１，２，４−チアジアゾール−６−イル）アセトアミ
ド）−３−（３−メチ／ｌ／−１−イミダゾリオメチ／
Ｌ’）−５−セフェム−４−カルボキシレート・ジフェ
ニμメチμニスＰ／Ｉ／・トリフルオロ酢酸塩（シン異
性体）（２，７４Ｆ）を得た。ｍｐｌ　１０〜１１９．
！５°Ｃ（分解）。
工Ｒ（ＮｕｊＯｌ）　：３２５０．３１５０．１７９０
．１７２０　。
１６９０．１６７０．１６３０，１５３０．ｔ５００１
−’製造例９ 製造例１と同様にして下記の化合物を得た。
７−〔２−メチルチオメトキシイミノ−２−（５−アミ
ノ−１，２，４−チアジアゾ−Ａ／−３−イｉＬ／）ア
セトアミド〕セファロヌボラン酸（シン異性体）、ｍｌ
　５．５〜１０３．５°Ｃ（分解）。
工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）：３４００，３３００．３１９０．
１７７０゜１７２０．１６７０．１６２０，１５２５ｃ
！ＭＮＭｌ”ｉ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）　：２Ｊ）Ｏ（
５Ｈ，ｓ３．２．１７（３Ｈ，ｓ　）　。
３、！：１０　（２Ｈ，ｂｒｏａ（Ｉ　Ｓ　）　、　４
，１．Ｆ３および４．９２（２Ｈ。
ＡＢｑ　、Ｊ＝１３Ｈｚ）　、５．１０（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝５Ｈｚ）　、５．２０（２Ｈ，ｓ）、５．７７（ＩＨ
，２ｄ、Ｊ＝５および８Ｆ（Ｚ　）　、　８．０７（２
Ｈ，ｂｒｏａｄ　ｓＬ９．５３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５１Ｅ
（ｚ）実施例６ 前述の実施例と同様にして下記の化合物を得た。
（１）　　７−（２−エトキシイミノ−２−（５−アミ
ノ−１，２，４−チアジアゾ−／Ｌ’−３−イ／Ｌ／）
アセトアミド）−５−（２−（２−ヒドロキシエチル）
−１−ビフゾリオメチｙ）−３−セフェム−４−カルボ
キシレート（シン異性体）、ｍ９１４０〜１４７℃（分
解）。
Ｔｌ１（Ｎｕｊｏｌ）　：３４００−３１００　、１７
７０　、１６６０　。
１６ｆＯ，１５２５，１２８０，１０３５ｃｌ１０３５
ｃｌＲＮ、δ）　：１．３５（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）
　、３．１７および３．５５（２Ｈ，ＡＢｑ、、Ｔ＝１
８Ｈｚ）、３．９９（２Ｈ。
ｔ、　Ｊ＝５Ｈ２）　、　４３７（２Ｈ，ｑ　、、ｒ＝
７Ｈｚ）　、　４．７２（２Ｈ，ｔ、、Ｔ＝５Ｈｚ）　
、５５０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）　。
５．４８（２Ｈ，ｂｒｏａｄ　ｓ）、５．９２（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝５Ｈ！Ｚ）　、６．８９（１Ｈ，ｍ）　、８．
３５（２Ｈ，ｍ）（２）７−（２−エトキシイミノ−２
−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）アセトアミド）−３−（２−アミノ−１−ピリミジ
ニオメチＩｔ）−３−セフェム−４−カルボキシレート
（シン異性体）、ｍｐ１９５〜２００℃（分解）。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）　：３２８０．３１６０　、　’Ｉ
　７６５　、　ｊ　６６０゜１６３５．１６１０．１５
６５．１５２０．１０３０備ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−（１６
，δ）：１．３４（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）。
３．４０および５．８３（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ
）。
４．１４（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、４．７０および５
．４５（２Ｈ，ＡＢｑ、、Ｔ＝１４ＢＺ）、　５ｆ１８
（１Ｈ，ａ、Ｊ＝５Ｈｚ）　、５．７０（ＩＨ，ｄｄ、
、ｒ＝５および８ＨｚＬ７．０（ＩＨ，ｍ）＃８．１（
２Ｈ，ｂｒｏａ（Ｉ　Ｂ）、８．５（ＩＨ，ｍ）、８．
７（ＩＨ，ｍ）、９Ｊ６（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１はアミノまたは保護されたアミノ基；Ｒ
    ＾２は適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪族
    炭化水素基、またはシクロ低級アルケニル基；式▲数式
    、化学式、表等があります▼で示される基は適当な置換
    基で置換されていてもよい窒素原子２個以上含有複素環
    カチオン基をそれぞれ意味する）で示される新規セフエ
    ム化合物およびその塩類。
  2. （２）▲数式、化学式、表等があります▼基が▲数式、
    化学式、表等があります▼である特許請求の範囲第１項
    記載の化合物のシン異性体。
  3. （３）Ｒ＾１がアミノ；Ｒ＾２が低級アルキルチオもし
    くはカルボキシで置換されていてもよい低級脂肪族炭化
    水素基、またはシクロ低級アルケニル基；式▲数式、化
    学式、表等があります▼で示される基が、低級アルキル
    、アミノ、低級アルケニル、ハロゲン、ヒドロキシもし
    くはヒドロキシ低級アルキルで置換されていてもよい、
    ２個以上の窒素原子含有不飽和５〜６員複素単環カチオ
    ン基である特許請求の範囲第２項記載の化合物。
  4. （４）Ｒ＾２がそれぞれ１個の低級アルキルチオもしく
    はカルボキシで置換されていてもよい低級アルキル、低
    級アルケニルもしくは低級アルキニル、またはシクロ低
    級アルケニル；式▲数式、化学式、表等があります▼で
    示される基がそれぞれ低級アルキル、アミノ、低級アル
    ケニル、ハロゲン、ヒドロキシおよびヒドロキシ低級ア
    ルキルから選ばれた置換基を１個有していてもよいトリ
    アゾリオ、イミダゾリオ、ピリミジニオ、ピラゾリオ、
    ピリダジニオもしくはピラジニオである特許請求の範囲
    第３項記載の化合物。
  5. （５）Ｒ＾２がメチル、エチル、アリル、２−プロピニ
    ル、カルボキシメチル、メチルチオメチルまたは２−シ
    クロペンテン−１−イル；式▲数式、化学式、表等があ
    ります▼で示される基が、１個のメチルで置換されたト
    リアゾリオ、１個のメチルで置換されたイミダゾリオ、
    １個のメチルもしくはアミノで置換されたピリミジニオ
    、１個のメチル、エチル、２−ヒドロキシエチルもしく
    はアリルで置換されたピラゾリオ、１個のヒドロキシも
    しくはクロルで置換されていてもよいピリダジニオ、ま
    たはピラジニオである特許請求の範囲第４項記載の化合
    物。
  6. （６）Ｒ＾２が低級アルキル；式▲数式、化学式、表等
    があります▼で示される基が１個の低級アルキルで置換
    されたトリアゾリオである特許請求の範囲第４項記載の
    化合物。
  7. （７）Ｒ＾２が低級アルキル；式▲数式、化学式、表等
    があります▼で示される基が１個の低級アルキルで置換
    されたイミダゾリオである特許請求の範囲第４項記載の
    化合物。
  8. （８）Ｒ＾２が低級アルキル；式▲数式、化学式、表等
    があります▼で示される基が１個の低級アルキルまたは
    アミノで置換されたピリミジニオである特許請求の範囲
    第４項記載の化合物。
  9. （９）Ｒ＾２が低級アルキル、低級アルケニル、低級ア
    ルキニル、カルボキシ低級アルキル、低級アルキルチオ
    低級アルキルまたはシクロ低級アルケニル；式▲数式、
    化学式、表等があります▼で示される基が１個の低級ア
    ルキル、ヒドロキシ低級アルキルまたは低級アルケニル
    で置換されたピラゾリオである特許請求の範囲第４項記
    載の化合物。
  10. （１０）Ｒ＾２が低級アルキルまたは低級アルキニル；
    式▲数式、化学式、表等があります▼で示される基が１
    個のヒドロキシまたはハロゲンで置換されていてもよい
    ピリダジニオである特許請求の範囲第４項記載の化合物
    。
  11. （１１）Ｒ＾２が低級アルキル；式▲数式、化学式、表
    等があります▼で示される基がピラジニオである特許請
    求の範囲第４項記載の化合物。
  12. （１２）７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ
    −１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミ
    ド〕−３−（３−メチル−１−イミダゾリオメチル）−
    ３−セフエム−４−カルボキシレート（シン異性体）、 ７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２
    ，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３
    −〔３−メチル−１−（１，２，３−トリアゾリオ）メ
    チル〕−３−セフエム−４−カルボキシレート（シン異
    性体）、 ７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２
    ，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３
    −（５−メチル−１−ピリミジニオメチル）−３−セフ
    エム−４−カルボキシレート（シン異性体）、 ７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２
    ，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３
    −（２−メチル−１−ピラゾリオメチル）−３−セフエ
    ム−４−カルボキシレート（シン異性体）、 ７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２
    ，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３
    −（１−ピリダジニオメチル）−３−セフエム−４−カ
    ルボキシレート（シン異性体）、 ７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２
    ，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３
    −（１−ピラジニオメチル）−３−セフエム−４−カル
    ボキシレート（シン異性体）、 ７−〔２−メトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２
    ，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３
    −（１−ピリダジニオメチル）−３−セフエム−４−カ
    ルボキシレート（シン異性体）、 ７−〔２−メトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２
    ，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３
    −（２−メチル−１−ピラゾリオメチル）−３−セフエ
    ム−４−カルボキシレート（シン異性体）、 ７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２
    ，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３
    −（２−エチル−１−ピラゾリオメチル）−３−セフエ
    ム−４−カルボキシレート（シン異性体）、 ７−〔２−アリルオキシイミノ−２−（５−アミノ−１
    ，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕
    −３−（２−メチル−１−ピラゾリオメチル）−３−セ
    フエム−４−カルボキシレート（シン異性体）、 ７−〔２−（２−プロピニルオキシイミノ）−２−（５
    −アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）ア
    セトアミド〕−３−（１−ピリダジニオメチル）−３−
    セフエム−４−カルボキシレート（シン異性体）、 ７−〔２−（２−プロピニルオキシイミノ）−２−（５
    −アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）ア
    セトアミド〕−３−（２−メチル−１−ピラゾリオメチ
    ル）−３−セフエム−４カルボキシレート（シン異性体
    ）、 ７−〔２−メチルチオメトキシイミノ−２−（５−アミ
    ノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセトア
    ミド〕−３−（２−メチル−１−ピラゾリオメチル）−
    ３−セフエム−４−カルボキシレート（シン異性体）、 ７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（５−アミ
    ノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセトア
    ミド〕−３−（２−メチル−１−ピラゾリオメチル）−
    ３−セフエム−４−カルボキシレート（シン異性体）、 ７−〔２−（２−シクロペンテン−１−イルオキシイミ
    ノ）−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール
    −３−イル）アセトアミド〕−３−（２−メチル−１−
    ピラゾリオメチル）−３−セフエム−４−カルボキシレ
    ート（シン異性体）、 ７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２
    ，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３
    −（２−アリル−１−ピラゾリオメチル）−３−セフエ
    ム−４−カルボキシレート（シン異性体）、 ７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２
    ，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３
    −（３−クロロ−１−ピリダジニオメチル）−３−セフ
    エム−４−カルボキシレート（シン異性体）、 ７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２
    ，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３
    −〔３−メチル−１−（１，３，４−トリアゾリオメチ
    ル）〕−３−セフエム−４−カルボキシレート（シン異
    性体）、 ７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２
    ，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３
    −〔４−メチル−１−（１，２，４−トリアゾリオメチ
    ル）〕−３−セフエム−４−カルボキシレート（シン異
    性体）、 ７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２
    ，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３
    −（３−ヒドロキシ−１−ピリダジニオメチル）−３−
    セフエム−４−カルボキシレート（シン異性体）、 ７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２
    ，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３
    −〔２−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピラゾリオメ
    チル〕−３−セフエム−４−カルボキシレート（シン異
    性体）、および７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−
    アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセ
    トアミド〕−３−（２−アミノ−１−ピリミジニオメチ
    ル）−３−セフエム−４−カルボキシレート（シン異性
    体） よりなる群から選ばれた特許請求の範囲第５項記載の化
    合物。
  13. （１３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１はアミノまたは保護されたアミノ基；Ｒ
    ＾２は適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪族
    炭化水素基、またはシクロ低級アルケニル基；式▲数式
    、化学式、表等があります▼で示される基は適当な置換
    基で置換されていてもよい、窒素原子２個以上含有複素
    環カチオン基をそれぞれ意味する）で示される新規セフ
    エム化合物またはその塩類の製造に際し、 （ａ）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１とＲ＾２はそれぞれ上記と同じ意味であ
    り、Ｒ＾３は式▲数式、化学式、表等があります▼の基
    により置換されうる基を意味する）で示される化合物ま
    たはその塩類に、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、式▲数式、化学式、表等があります▼の化合物
    は、適当な置換基で置換されていてもよい、窒素原子２
    個以上含有複素環化合物を意味する）で示される化合物
    を作用させるか、または （ｂ）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２および式▲数式、化学式、表等
    があります▼の基はそれぞれ前と同じ意味であり、Ｒ＾
    ４は保護されたカルボキシ基、Ｘは酸残基をそれぞれ意
    味する）で示される化合物を、カルボキシ保護基の脱離
    反応に付すことを特徴とする製造法。
  14. （１４）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１はアミノまたは保護されたアミノ基；Ｒ
    ＾２は適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪族
    炭化水素基、またはシクロ低級アルケニル；Ｒ＾４は保
    護されたカルボキシ基；Ｘは酸残基、Ｙは▲数式、化学
    式、表等があります▼または−Ｓ−、式▲数式、化学式
    、表等があります▼で示される基は適当な置換基で置換
    されていてもよい、窒素原子２個以上含有複素環カチオ
    ン基をそれぞれ意味する）で示される化合物およびその
    塩類。
  15. （１５）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１はアミノまたは保護されたアミノ基；Ｒ
    ＾２は適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪族
    炭化水素基、またはシクロ低級アルケニル基；Ｒ＾４は
    保護されたカルボキシ基；Ｘは酸残基；式▲数式、化学
    式、表等があります▼で示される基は適当な置換基で置
    換されていてもよい、窒素原子２個以上含有複素環カチ
    オン基をそれぞれ意味する）で示される化合物の製造に
    際し、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾４、Ｘおよび式▲数式、
    化学式、表等があります▼の基はそれぞれ前と同じ意味
    ）で示される化合物を還元することを特徴とする製造法
    。
  16. （１６）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１はアミノまたは保護されたアミノ基；Ｒ
    ＾２は適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪族
    炭化水素基、またはシクロ低級アルケニル基；式▲数式
    、化学式、表等があります▼で示される基は適当な置換
    基で置換されていてもよい窒素原子２個以上含有複素環
    カチオン基をそれぞれ意味する）で示される化合物また
    はその塩類を有効成分とする細菌感染症予防・治療剤。
JP1344049A 1981-04-03 1989-12-28 保護されたカルボキシ基を有するセフェム化合物およびその製造法 Granted JPH02218685A (ja)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB8110556 1981-04-03
GB8110556 1981-04-03
GB8122896 1981-07-24
GB8122896 1981-07-24
GB8132775 1981-10-30
GB8132775 1981-10-30

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5526382A Division JPS584789A (ja) 1981-04-03 1982-04-02 新規セフエム化合物およびその製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02218685A true JPH02218685A (ja) 1990-08-31
JPH0524159B2 JPH0524159B2 (ja) 1993-04-06

Family

ID=27261154

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1344049A Granted JPH02218685A (ja) 1981-04-03 1989-12-28 保護されたカルボキシ基を有するセフェム化合物およびその製造法

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP0062321B1 (ja)
JP (1) JPH02218685A (ja)
DE (1) DE3279470D1 (ja)
ES (1) ES511101A0 (ja)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3248281A1 (de) * 1982-12-28 1984-06-28 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Kristalisierte cephem-saeureadditionssalze und verfahren zu ihrer herstellung
GB8401093D0 (en) * 1984-01-16 1984-02-15 Fujisawa Pharmaceutical Co Cephem compounds
NO165842C (no) * 1984-04-23 1991-04-17 Takeda Chemical Industries Ltd Analogifremgangsmaate for fremstilling av terapeutisk aktive cefem-forbindelser.
US4788185A (en) * 1984-04-23 1988-11-29 Takeda Chemical Industries, Ltd. Cephalosporin compounds
JPS60231683A (ja) * 1984-05-02 1985-11-18 Teijin Ltd セフアロスポリン誘導体その製造法及びそれを有効成分とする抗菌剤
PH22107A (en) * 1984-06-07 1988-06-01 Takeda Chemical Industries Ltd 3-pyrazolo(1,5-a)pyrdinium cephem compounds
IL77458A (en) * 1985-01-14 1990-07-26 Eisai Co Ltd Cephem derivatives,their production and antibacterial compositions containing them and certain novel intermediates therefor
US4698336A (en) * 1985-01-30 1987-10-06 Eisai Co., Ltd. 3-(pyrrolidinio)methyl-3-cephem derivatives
ATE89826T1 (de) * 1985-03-01 1993-06-15 Takeda Chemical Industries Ltd Antibakterielle verbindungen, ihre herstellung und verwendung.
NO166283C (no) * 1985-03-01 1991-06-26 Takeda Chemical Industries Ltd Analogifremgangsmaate for fremstilling av terapeutisk aktive 7beta-(2-(5-amino-1,2,4-tiadiazol-3-yl)-2(z)-substituertoksyiminoacetamido)-3-(heterocyclylmetyl)-3-cefem-4-karboksylsyrederivater.
DE3687200T2 (de) * 1985-09-03 1993-05-27 Otsuka Kagaku Kk Cephalosporinderivate.
US4826834A (en) * 1985-09-27 1989-05-02 Takeda Chemical Industries, Ltd. Cephem compounds
CN86107947A (zh) 1985-11-22 1987-05-27 藤沢药品工业株式会社 新的头孢烯化合物及其制备方法
CA1293719C (en) * 1986-09-22 1991-12-31 Takao Takaya Cephem compounds and processes for preparation thereof
GB8721016D0 (en) * 1987-09-07 1987-10-14 Fujisawa Pharmaceutical Co Cephem compounds
US5210080A (en) * 1987-09-07 1993-05-11 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Cephem compounds
IE63094B1 (en) * 1987-09-14 1995-03-22 Fujisawa Pharmaceutical Co Cephem compound and a process for preparation thereof
GB8805642D0 (en) * 1988-03-09 1988-04-07 Fujisawa Pharmaceutical Co New cephem compounds & processes for preparation thereof
US5173485A (en) * 1988-03-09 1992-12-22 Fujisawa Pharmaceutical Company, Ltd. Cephem compounds
US5202315A (en) * 1989-05-11 1993-04-13 Lucky, Ltd. Cephalosporin compounds
US5215982A (en) * 1989-11-10 1993-06-01 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Cephem compounds
US5194433A (en) * 1990-11-13 1993-03-16 Bristol-Myers Squibb Company Antibiotic c-3 catechol-substituted cephalosporin compounds, compositions and method of use thereof
KR930009796B1 (ko) * 1991-05-25 1993-10-11 주식회사 대웅제약 신규의 세팔로스포린 및 그의 제조방법
KR0157073B1 (ko) * 1992-10-01 1998-11-16 김태훈 세팔로스포린 유도체 및 그의 제조방법
US5654005A (en) * 1995-06-07 1997-08-05 Andrx Pharmaceuticals, Inc. Controlled release formulation having a preformed passageway
TW526202B (en) 1998-11-27 2003-04-01 Shionogi & Amp Co Broad spectrum cephem having benzo[4,5-b]pyridium methyl group of antibiotic activity
TW200524943A (en) * 2003-09-18 2005-08-01 Fujisawa Pharmaceutical Co Cephem compounds

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4970990A (ja) * 1973-09-29 1974-07-09
JPS5559197A (en) * 1978-10-27 1980-05-02 Glaxo Group Ltd Novel cephalosporin compound
JPS5566591A (en) * 1978-11-15 1980-05-20 Glaxo Group Ltd Cephalosporin antibiotic
JPS55105689A (en) * 1978-12-29 1980-08-13 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem and cepham compounds, their preparation and preventive and remedy for microbism
JPS55115888A (en) * 1979-02-23 1980-09-06 Glaxo Group Ltd Cephalosporin antibiotic
JPS5781493A (en) * 1980-09-12 1982-05-21 Ciba Geigy Ag Ammoniomethyl compound, manufacture and medicinal composition containing same
JPS584789A (ja) * 1981-04-03 1983-01-11 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd 新規セフエム化合物およびその製造法
JPS5872591A (ja) * 1981-10-02 1983-04-30 イ−ライ・リリ−・アンド・カンパニ− ピラジニウム置換セフアロスポリン

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES485440A1 (es) * 1978-10-27 1980-07-01 Glaxo Group Ltd Un procedimiento para la preparacion de antibioticos de ce- falosporina
NZ192127A (en) * 1978-11-15 1982-12-21 Glaxo Group Ltd Cephalosporin antibiotics
ES8103103A1 (es) * 1979-02-23 1981-02-16 Glaxo Group Ltd Un procedimiento para la preparacion de un antibiotico de cefalosporina.
EP0025017A1 (de) * 1979-08-28 1981-03-11 Ciba-Geigy Ag Polyazathiaverbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung, pharmazeutische Präparate enthaltend solche Verbindungen und Verwendung von letzteren
GR78245B (ja) * 1980-09-12 1984-09-26 Ciba Geigy Ag

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4970990A (ja) * 1973-09-29 1974-07-09
JPS5559197A (en) * 1978-10-27 1980-05-02 Glaxo Group Ltd Novel cephalosporin compound
JPS5566591A (en) * 1978-11-15 1980-05-20 Glaxo Group Ltd Cephalosporin antibiotic
JPS55105689A (en) * 1978-12-29 1980-08-13 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem and cepham compounds, their preparation and preventive and remedy for microbism
JPS55115888A (en) * 1979-02-23 1980-09-06 Glaxo Group Ltd Cephalosporin antibiotic
JPS5781493A (en) * 1980-09-12 1982-05-21 Ciba Geigy Ag Ammoniomethyl compound, manufacture and medicinal composition containing same
JPS584789A (ja) * 1981-04-03 1983-01-11 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd 新規セフエム化合物およびその製造法
JPS5872591A (ja) * 1981-10-02 1983-04-30 イ−ライ・リリ−・アンド・カンパニ− ピラジニウム置換セフアロスポリン

Also Published As

Publication number Publication date
EP0062321B1 (en) 1989-03-01
ES8306160A1 (es) 1983-05-01
ES511101A0 (es) 1983-05-01
EP0062321A2 (en) 1982-10-13
DE3279470D1 (en) 1989-04-06
EP0062321A3 (en) 1983-11-09
JPH0524159B2 (ja) 1993-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH02218685A (ja) 保護されたカルボキシ基を有するセフェム化合物およびその製造法
MC1921A1 (fr) Derives acyles
JPS5896092A (ja) ７−アシルアミノ−３−置換セフアロスポラン酸誘導体およびその製造法
EP0074645B1 (en) New cephem compounds, processes for their preparation and pharmaceutical antibacterial composition containing them
JPS6127989A (ja) セフアロスポリン化合物の製法
JPH0261479B2 (ja)
JPS5989689A (ja) ７−置換−３−ビニル−３−セフエム化合物、その製法およびそれを含有する抗菌剤
SE450384B (sv) Nya cefemforeningar och forfarande for deras framstellning
AU612990B2 (en) Antibiotic compounds
JPH0327552B2 (ja)
JPS59155391A (ja) 新規セファロスポリン誘導体
JPS5951292A (ja) セファロスポリン化合物
JPS6351389A (ja) セフアロスポリン誘導体、その製造法及び抗菌活性組成物
JPH064643B2 (ja) セフアロスポリン化合物
JPS62158289A (ja) 新規セフアロスポリン誘導体
JPS6011714B2 (ja) セフアロスポリン誘導体およびその製造法
JPS58135894A (ja) ７―置換ブチルアミド―３―ビニルセファロスポラン酸誘導体
JPS6236387A (ja) ３，７−ジ置換−３−セフエム化合物およびその製法
JPS61126089A (ja) セフアロスポリン誘導体、その製法およびそれらを含有する抗菌剤
JPS5841887A (ja) 新規セフエム化合物およびその製造法、並びに細菌感染症予防・治療剤
JPH0526795B2 (ja)
JPS59184186A (ja) 新規セフエム化合物
JPS5810589A (ja) 新規セフエム化合物およびその製造法、並びに細菌感染症予防・治療剤
KR850000322B1 (ko) 새로운 세펨화합물의 제조방법
JPH07501311A (ja) 新規な３−縮合ピリジニウムメチルセファロスポリン化合物