JPS59155391A - 新規セファロスポリン誘導体 - Google Patents
新規セファロスポリン誘導体Info
- Publication number
- JPS59155391A JPS59155391A JP58029063A JP2906383A JPS59155391A JP S59155391 A JPS59155391 A JP S59155391A JP 58029063 A JP58029063 A JP 58029063A JP 2906383 A JP2906383 A JP 2906383A JP S59155391 A JPS59155391 A JP S59155391A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- amino
- group
- compound
- cephem
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D257/00—Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D257/02—Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
- C07D257/04—Five-membered rings
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
- C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
- C07D417/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Communicable Diseases (AREA)
- Pharmacology & Pharmacy (AREA)
- Oncology (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、７β−Ｃ２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）−２ｉ（２−ピロリドン−３−イル）オキシイミ
ノ）アセトアミド）−：３− （１−アミノ−ＩＨ−テ
トラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸〔１） 、その薬理的に許容される塩およ
びそれらの製法に関する。
イル）−２ｉ（２−ピロリドン−３−イル）オキシイミ
ノ）アセトアミド）−：３− （１−アミノ−ＩＨ−テ
トラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸〔１） 、その薬理的に許容される塩およ
びそれらの製法に関する。
本発明のセファロスポリン誘導体〔■〕は、新規化合物
で′あり、優れた抗菌作用を有する医薬化合物として有
用である。
で′あり、優れた抗菌作用を有する医薬化合物として有
用である。
本発明の化合物［Ｉ］は、下記に示す方法により製する
ことができる。
ことができる。
即ち、一般式
（但しＩＲ’は水素原子又はエステル残基を表わす）で
示される７−アミノ−３−セフェム誘導体［１１］また
はその塩と一般式 （但し、Ｒは水素原１子またはアミノ基の保護基を表わ
す）で示される酢酸誘導体側またはその力／？ボキシル
基における反応性誘導体とを反応させて一般式 （但しｌ Ｒ’およびＲ２は前記と同一意味を有する）
で示される７−置換アミノ−３−セフェム誘導体［ＩＶ
］を製し１次いで基Ｒ１がエステル残基および／または
基Ｒ２がアミノ基の保護基である場合には当該残基、保
護基を脱雅させることにより１式で示される本発明化合
物〔Ｉ〕を製することができる。
示される７−アミノ−３−セフェム誘導体［１１］また
はその塩と一般式 （但し、Ｒは水素原１子またはアミノ基の保護基を表わ
す）で示される酢酸誘導体側またはその力／？ボキシル
基における反応性誘導体とを反応させて一般式 （但しｌ Ｒ’およびＲ２は前記と同一意味を有する）
で示される７−置換アミノ−３−セフェム誘導体［ＩＶ
］を製し１次いで基Ｒ１がエステル残基および／または
基Ｒ２がアミノ基の保護基である場合には当該残基、保
護基を脱雅させることにより１式で示される本発明化合
物〔Ｉ〕を製することができる。
尚・本発明化合物〔Ｉ〕および原料化合物［Ｌ］並びに
〔■■〕における式 で示される部分構造は別に定めない限り式（Ｚ）−異性
体 （Ｅ）−異性体で示される幾何異
性のいずれをもあるいはそれらの混合したものをも意味
するものとする。
〔■■〕における式 で示される部分構造は別に定めない限り式（Ｚ）−異性
体 （Ｅ）−異性体で示される幾何異
性のいずれをもあるいはそれらの混合したものをも意味
するものとする。
また、原料化合物〔ｌＩ［］および［］Ｖ］には９式で
示される３−置換−２−ピロリドン基の３位不斉炭素原
子によって（３Ｒ）一体および（３Ｓ）一体並びに（３
Ｒ８）一体が存在するが、そのいずれもが原料化合物と
して使用でき、それぞれに対応する化合物（１）を得る
こ゛とができる。
示される３−置換−２−ピロリドン基の３位不斉炭素原
子によって（３Ｒ）一体および（３Ｓ）一体並びに（３
Ｒ８）一体が存在するが、そのいずれもが原料化合物と
して使用でき、それぞれに対応する化合物（１）を得る
こ゛とができる。
本発明で用いるアミノ基の保護基（Ｒ２）としては、ペ
プチド合成において慣用されるアミ７基の保護基が含ま
れ１例えばホ゛ルミル基、アセチル基。
プチド合成において慣用されるアミ７基の保護基が含ま
れ１例えばホ゛ルミル基、アセチル基。
クロロアセチル基、トリクロロアセチル基、ヒバロイル
基、メトキシカルボニル基、エトキシカルη ボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、：Ｐ−−メト
キシベンジルオキシカルボニル基、第三級ブチルオキシ
カルボニル基等のアシル基、ベンジル基ジフェニルメチ
ル基、トリチル基、４−メトキシベンジル基、 ３ 、
’ ４−ジメトキシベンジル基等があげられる。また、
エステル残基（Ｒ１）としては例えば加水分解、還元反
応等により脱離容易な工ステル残基であればよ（、その
例としては第三級ブチル基、ベンジル基、ジフェニルメ
チル基＋４−メトキシベ゛ンジル基、４−ニトロベンジ
ル基。
基、メトキシカルボニル基、エトキシカルη ボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、：Ｐ−−メト
キシベンジルオキシカルボニル基、第三級ブチルオキシ
カルボニル基等のアシル基、ベンジル基ジフェニルメチ
ル基、トリチル基、４−メトキシベンジル基、 ３ 、
’ ４−ジメトキシベンジル基等があげられる。また、
エステル残基（Ｒ１）としては例えば加水分解、還元反
応等により脱離容易な工ステル残基であればよ（、その
例としては第三級ブチル基、ベンジル基、ジフェニルメ
チル基＋４−メトキシベ゛ンジル基、４−ニトロベンジ
ル基。
メトキシメチル基、トリメチルシリル基等が好ましい。
化合物〔■〕もしくはその塩と化合物〔■〕もしくはそ
のカルボキシル基における反応性誘導体との反応は、適
当な溶媒中で塩基の存在下もしくは非存在下に慣用され
るアミド形成反応により実施することができる。化合物
［１１）の塩としては例えば大トリウム塩、カリウム塩
の如きアルカリ金属塩。
のカルボキシル基における反応性誘導体との反応は、適
当な溶媒中で塩基の存在下もしくは非存在下に慣用され
るアミド形成反応により実施することができる。化合物
［１１）の塩としては例えば大トリウム塩、カリウム塩
の如きアルカリ金属塩。
トリエチルアミン塩、トリメチルアミン塩の如き有機ア
ミン塩があげられる。化合物［１［［）のカルボキシル
基、における反応性誘導体の例としては、酸ハライド（
例えば酸クロリド、酸プロミド等）。
ミン塩があげられる。化合物［１［［）のカルボキシル
基、における反応性誘導体の例としては、酸ハライド（
例えば酸クロリド、酸プロミド等）。
酸アジド、酸無水物（例えばアルキル炭酸混酸無水物等
）、活性エステル（例えば４−ニトロフェニルエステル
、２．４−ジニトロフェニルエステル、もしくはＮ−ヒ
ドロキシサクシソイミド。Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
、１−ヒドロキシベンズトリアゾール、１−ヒドロキシ
−２−ピロリドン等とのエステル）または活性アミド（
例えばイミダゾール、４−置換イミダゾール、トリアゾ
ールなどとの酸アミド）などをあげることができる。
）、活性エステル（例えば４−ニトロフェニルエステル
、２．４−ジニトロフェニルエステル、もしくはＮ−ヒ
ドロキシサクシソイミド。Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
、１−ヒドロキシベンズトリアゾール、１−ヒドロキシ
−２−ピロリドン等とのエステル）または活性アミド（
例えばイミダゾール、４−置換イミダゾール、トリアゾ
ールなどとの酸アミド）などをあげることができる。
塩基としては、たとえば水酸化犬トリウム、水酸化カリ
ウム等の水酸化アルカリ金属、炭酸すＩ−ＩＪウム・炭
酸カリウム等の炭酸アルカリ金属・トリアルキルアミン
、ピリジン、Ｎ−アルキルモルホリン、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアニリン等の無機もしくは有機の塩基を使用できる。
ウム等の水酸化アルカリ金属、炭酸すＩ−ＩＪウム・炭
酸カリウム等の炭酸アルカリ金属・トリアルキルアミン
、ピリジン、Ｎ−アルキルモルホリン、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアニリン等の無機もしくは有機の塩基を使用できる。
反応溶媒の例としては、ジオキ廿ン、テトラヒドロフラ
ン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸エチ
ル、ピリジン、アセトン、もしくはこれらと水との混合
溶媒または水などを好適にあげることができる。反応は
一般に−３０−５０℃でスムースに進行する。化合物１
”１ｌＩ）を遊離酸の型で使用する場合には、縮合剤（
例えばＮ 、 Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイミド
、Ｎ−シクロへ革シルーＮ’−モルホリノカルボジイミ
ド、Ｎ−エチル−Ｎ’−（３−ジメチルアミノプロピル
）カルボジイミド、オキシ塩化リン・三塩化リン、塩化
チオニル・オキザリルクロリド、トリフェニルホスフィ
ンまたはジメチルホルムアミドとオキシ塩化リンとから
製せられる化合物、ジメチルホルムアミドと塩化チオニ
／しからヅせられる化合物等のヴイルスマーイヤ試薬な
ど）の存在下に一２０〜４０’Ｃで反応を実施するのが
よい。また、化合物［１１１）を酸ハライド。
ン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸エチ
ル、ピリジン、アセトン、もしくはこれらと水との混合
溶媒または水などを好適にあげることができる。反応は
一般に−３０−５０℃でスムースに進行する。化合物１
”１ｌＩ）を遊離酸の型で使用する場合には、縮合剤（
例えばＮ 、 Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイミド
、Ｎ−シクロへ革シルーＮ’−モルホリノカルボジイミ
ド、Ｎ−エチル−Ｎ’−（３−ジメチルアミノプロピル
）カルボジイミド、オキシ塩化リン・三塩化リン、塩化
チオニル・オキザリルクロリド、トリフェニルホスフィ
ンまたはジメチルホルムアミドとオキシ塩化リンとから
製せられる化合物、ジメチルホルムアミドと塩化チオニ
／しからヅせられる化合物等のヴイルスマーイヤ試薬な
ど）の存在下に一２０〜４０’Ｃで反応を実施するのが
よい。また、化合物［１１１）を酸ハライド。
酸無水物、活性エステルもしくは活性アミドの型で使用
する場合には、塩基の存在下に−２０・〜１０℃で反応
を実施するのがよい。
する場合には、塩基の存在下に−２０・〜１０℃で反応
を実施するのがよい。
上記の如くして製した化合物〔Ｉｖｌにおいて、基Ｒが
エステル残基および／または基Ｒ２がアミノ基の保護基
である場合のこれら残基、保護基の脱離反応には、加水
分解、加溶媒分解、還元等のエステル残基やアミノ基の
保護基に関する一般的脱離法を適用することができる。
エステル残基および／または基Ｒ２がアミノ基の保護基
である場合のこれら残基、保護基の脱離反応には、加水
分解、加溶媒分解、還元等のエステル残基やアミノ基の
保護基に関する一般的脱離法を適用することができる。
これらの方法は脱離される基の種類に応じて選択される
が、加水分解には酸キまたは塩基を用いる方法が含まれ
る。これらの方法の中、酸を用いる加水分解は特に好ま
しい方法であり９例えばエステル残基が第三級ブチル基
、メトキシメチル基、ジフェニルメチル基―４−メトキ
シベンジル基、トリアルキルシリル基等である場合、も
しくはアミン基の保護基がホルミル基ｌ第三級グトキシ
カルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、４−メト
キシベンジルオキシカルボニル基、トリチル基等である
場合の当該残基、保護基の脱離に適用される。使用する
酸としては、たとえばギ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼ
ンスルホン酸、４−トルエンスルホン２．塩酸。
が、加水分解には酸キまたは塩基を用いる方法が含まれ
る。これらの方法の中、酸を用いる加水分解は特に好ま
しい方法であり９例えばエステル残基が第三級ブチル基
、メトキシメチル基、ジフェニルメチル基―４−メトキ
シベンジル基、トリアルキルシリル基等である場合、も
しくはアミン基の保護基がホルミル基ｌ第三級グトキシ
カルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、４−メト
キシベンジルオキシカルボニル基、トリチル基等である
場合の当該残基、保護基の脱離に適用される。使用する
酸としては、たとえばギ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼ
ンスルホン酸、４−トルエンスルホン２．塩酸。
臭化水素酸、フッ化水素等の有機もしくは無機の酸があ
げられる。反応は・無溶媒下・または水もしくは親水性
溶媒（たとえばメタノール、エタノール、酢酸、ジオキ
サン等）中で９通常０・−６０℃で実施するのが好まし
い。さらに、これら残基。
げられる。反応は・無溶媒下・または水もしくは親水性
溶媒（たとえばメタノール、エタノール、酢酸、ジオキ
サン等）中で９通常０・−６０℃で実施するのが好まし
い。さらに、これら残基。
保護基の脱離法としては、接触還元による方法も好まし
い方法の一つである。この接触還元法は。
い方法の一つである。この接触還元法は。
化合物（ｒｖ）に於て、エステル残基（Ｒ１）がたとえ
ばベアジル基、４−メトキシベンジル基、４−＝）ロベ
ンジル基、ジフェニルメチル基である場合。
ばベアジル基、４−メトキシベンジル基、４−＝）ロベ
ンジル基、ジフェニルメチル基である場合。
および／またはアミノ基の保詳基（Ｒ２）がたとえばベ
ンジルオキシカルボニル基、４−メトキシベンジルオキ
シカルボニル基、トリチル基、ベンジル基、３．４−ジ
メトキシベンジル基等の場合に好適に用いられる。接触
還元触媒の例としては、たとえばパッジ１クムー炭素、
パラジウム黒、パラジウム・硫酸バリウム、酸化白金、
ラネーニッケル。
ンジルオキシカルボニル基、４−メトキシベンジルオキ
シカルボニル基、トリチル基、ベンジル基、３．４−ジ
メトキシベンジル基等の場合に好適に用いられる。接触
還元触媒の例としては、たとえばパッジ１クムー炭素、
パラジウム黒、パラジウム・硫酸バリウム、酸化白金、
ラネーニッケル。
ラネーコバルト等の一般的触媒を５１１．いることがで
きる。反応は、適当な溶媒（例えば水、メタノール、エ
タノール ｉ：ｉ’、 酸、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等）中、１０〜６０℃で常圧乃至加圧下にスムー
スに進行する。
きる。反応は、適当な溶媒（例えば水、メタノール、エ
タノール ｉ：ｉ’、 酸、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等）中、１０〜６０℃で常圧乃至加圧下にスムー
スに進行する。
本発明の化合物〔Ｉ〕またはその薬理的に許容しうる塩
は、新規物質であり１人間および家きんを含めての動物
に対する抗菌剤や化学療法剤としてダラム陽性および陰
性菌により引き起こされる伝染病の治療に有用な物質で
あり、また動物用飼料への栄養添加物としても有用であ
る。すなわち、化合物［１〕およびその塩は広範囲の微
生物、殊にスタフィロコッカス属、エシェリッヒア腐、
シゲラ属、クレブシェラ属、プロテウス属、シトロバク
タ−属、エンテロバクタ−属、セラチア属およびシュー
ドモナス属に屈する微生物に対して強い抗菌作用を有し
ている。例えば化合物［Ｉ］の寒天希釈法による最小発
育阻止濃度（Ｍ、１．Ｃ，、μｙ／ｍｉ：）を例示すれ
ば下記の通りである。菌名（Ｍ、１．Ｃ，）：スタフィ
ロコツカス・エビデルミデス（１，５６）。
は、新規物質であり１人間および家きんを含めての動物
に対する抗菌剤や化学療法剤としてダラム陽性および陰
性菌により引き起こされる伝染病の治療に有用な物質で
あり、また動物用飼料への栄養添加物としても有用であ
る。すなわち、化合物［１〕およびその塩は広範囲の微
生物、殊にスタフィロコッカス属、エシェリッヒア腐、
シゲラ属、クレブシェラ属、プロテウス属、シトロバク
タ−属、エンテロバクタ−属、セラチア属およびシュー
ドモナス属に屈する微生物に対して強い抗菌作用を有し
ている。例えば化合物［Ｉ］の寒天希釈法による最小発
育阻止濃度（Ｍ、１．Ｃ，、μｙ／ｍｉ：）を例示すれ
ば下記の通りである。菌名（Ｍ、１．Ｃ，）：スタフィ
ロコツカス・エビデルミデス（１，５６）。
エシェリヒア・コリー（０，３９）、シゲラ・ソンネ（
０，１）、タレブシエラ・ニーモニア（０，２）、プロ
テウス・ミラビリス（≦０．０５）、シトロバクタ−・
ブレンディー（ｃ、ｉ）、 エンテロバクタ−・クロ
アカニ（０，２）、セラチア・ マルセッセンス（０，
２）、 シュードモナス・アエルギノザ（１，５６）
。
０，１）、タレブシエラ・ニーモニア（０，２）、プロ
テウス・ミラビリス（≦０．０５）、シトロバクタ−・
ブレンディー（ｃ、ｉ）、 エンテロバクタ−・クロ
アカニ（０，２）、セラチア・ マルセッセンス（０，
２）、 シュードモナス・アエルギノザ（１，５６）
。
さらに５本発明の化合物。ＣＩ）は、各種のβ−ラクタ
メース産生細菌、殊にエシェリヒア・コリーＭＬ −１
４１ＯＲ，ＧＮ −８２３、エシェリヒア・コリー Ｍ
Ｌ ’ １４１０ ＲＧＮ □−２３８、プロテウ
ス・ブルガリス ＧＮ７６／Ｃ−１により生産されるβ
−ラクタメースに対して高い安定性を有するという特徴
をも有している。また、化合物〔Ｉ）の毒性は低く・例
えば化合物［１３をマウスに静脈内投与（投与ｉ ：
４ｐ／Ｋｓ’） Ｌ／た場合７投与移７日間でのマウス
の死亡例は全（みられない。
メース産生細菌、殊にエシェリヒア・コリーＭＬ −１
４１ＯＲ，ＧＮ −８２３、エシェリヒア・コリー Ｍ
Ｌ ’ １４１０ ＲＧＮ □−２３８、プロテウ
ス・ブルガリス ＧＮ７６／Ｃ−１により生産されるβ
−ラクタメースに対して高い安定性を有するという特徴
をも有している。また、化合物〔Ｉ）の毒性は低く・例
えば化合物［１３をマウスに静脈内投与（投与ｉ ：
４ｐ／Ｋｓ’） Ｌ／た場合７投与移７日間でのマウス
の死亡例は全（みられない。
本発明の化合物〔■〕及びその塩は、径口的にも非経口
的（例えば静脈内投与、筋肉内投与、皮下投与）にも投
与することができる。その投与量は患者の年令１体重あ
るいは状態、または疾患の症状の程度によって変動する
が、一般的には化合物〔Ｉ〕またはその塩の１日投与量
は約０５〜約１０２／に９体重、好ましくは０５〜４．
０９ ／Ｋｑ体重であるのが好ましい。
的（例えば静脈内投与、筋肉内投与、皮下投与）にも投
与することができる。その投与量は患者の年令１体重あ
るいは状態、または疾患の症状の程度によって変動する
が、一般的には化合物〔Ｉ〕またはその塩の１日投与量
は約０５〜約１０２／に９体重、好ましくは０５〜４．
０９ ／Ｋｑ体重であるのが好ましい。
さらに、化合物〔■〕およびその塩は、経口または非経
口投与に適した医薬的に許容される賦形剤を加えて使用
することもできる。賦形剤としては例えばゼラチン、乳
糖、グルコース、塩化ナトリウム、デン粉、ステアリン
酸マグネシウム、タルり、植物油、その他医ｙＩＢ、形
剤として治常用いられているものをあげることができる
。この製剤は錠剤、丸網、カプセル剤、散剤の如き固形
剤形であってもよ（、溶液、けん濁液、エマルジョンの
如き液体網形であってもよい。更に上記製剤に要すれば
補助物質、安定化剤、湿潤剤もしくは乳化剤その他・頃
用の添加物を混入してもよい。
口投与に適した医薬的に許容される賦形剤を加えて使用
することもできる。賦形剤としては例えばゼラチン、乳
糖、グルコース、塩化ナトリウム、デン粉、ステアリン
酸マグネシウム、タルり、植物油、その他医ｙＩＢ、形
剤として治常用いられているものをあげることができる
。この製剤は錠剤、丸網、カプセル剤、散剤の如き固形
剤形であってもよ（、溶液、けん濁液、エマルジョンの
如き液体網形であってもよい。更に上記製剤に要すれば
補助物質、安定化剤、湿潤剤もしくは乳化剤その他・頃
用の添加物を混入してもよい。
なお２本発明の原料化合物のうち、化合物［ｎ］は１例
えば次の如（して製することができる。
えば次の如（して製することができる。
［ＶＩ）
〔〜１〕
（但し ＲＲおよびＲ４は低級アルキル基を表わし。
Ｒ１は前記と同一意味を有する）
また、化合物［Ｉ［１）は１例えば次の如くして製する
ことができる。
ことができる。
（但し、Ｒ５は低板アルキル基、Ｘはハロゲン原子を表
わし Ｒ２は前記と同一意味を有する）即ち、原料化合
物［１１）は、まずジチオカルバジン酸類化合物〔■〕
とアルカリ金属アジ、ド（例えばナトリウムアジド）も
しくはテトラ低級アルキルグアニジウムアジド（例えば
テトラメチルグアニジウムアシド）とを、適当な溶媒（
例えばアルカノール・ジメチルアセトアミド、ホルムＴ
ミド。
わし Ｒ２は前記と同一意味を有する）即ち、原料化合
物［１１）は、まずジチオカルバジン酸類化合物〔■〕
とアルカリ金属アジ、ド（例えばナトリウムアジド）も
しくはテトラ低級アルキルグアニジウムアジド（例えば
テトラメチルグアニジウムアシド）とを、適当な溶媒（
例えばアルカノール・ジメチルアセトアミド、ホルムＴ
ミド。
水もしくはそれらの混合物）中５０〜１００℃で反応さ
せて・１−アミノ−５−メツＬカプトーＩＨ−テトラゾ
ールい１〕を製し９次いてこの化合物［ＶＴ）に７−ア
ミノセフアロス、ｊソラン戯誘導体〔■〕を反応させる
ことにより製することができる。例えば溶媒中、炭量ナ
トリウム、炭酵カリウム、トリエチルアミンの如き塩基
の存在下で好適に製することができる。化合物［■〕も
しくは化合物〔■〕を塩の形で使用する場合には溶媒と
してリン酸緩衝液（ｐＨ６〜７）を用いるのが好ましい
。また、化合物［ＶＴ］と化合物〔■〕を遊艷の形で使
用する場合にはアセトニトリル、酢酸、ニトロメタンの
如き有機溶媒を用いるのが好ましい。さらにこの場合に
は化合物〔■〕を溶媒に溶＋１１するに際し、メタンス
ルホン酸あるい′は三フッ化ホウ素・エーテル液を使用
するのが好ましい。化合物［ＶＴ）または〔■〕の塩と
しては、ナトリウム塩、カリウム塩の如きアルカリ１１
塩、Ｆリエチルアミン塩、トリメチルアミン塩の如き有
機アミン塩を好適にあげることができる。反応は不活性
気体（例えば窒素ガス。
せて・１−アミノ−５−メツＬカプトーＩＨ−テトラゾ
ールい１〕を製し９次いてこの化合物［ＶＴ）に７−ア
ミノセフアロス、ｊソラン戯誘導体〔■〕を反応させる
ことにより製することができる。例えば溶媒中、炭量ナ
トリウム、炭酵カリウム、トリエチルアミンの如き塩基
の存在下で好適に製することができる。化合物［■〕も
しくは化合物〔■〕を塩の形で使用する場合には溶媒と
してリン酸緩衝液（ｐＨ６〜７）を用いるのが好ましい
。また、化合物［ＶＴ］と化合物〔■〕を遊艷の形で使
用する場合にはアセトニトリル、酢酸、ニトロメタンの
如き有機溶媒を用いるのが好ましい。さらにこの場合に
は化合物〔■〕を溶媒に溶＋１１するに際し、メタンス
ルホン酸あるい′は三フッ化ホウ素・エーテル液を使用
するのが好ましい。化合物［ＶＴ）または〔■〕の塩と
しては、ナトリウム塩、カリウム塩の如きアルカリ１１
塩、Ｆリエチルアミン塩、トリメチルアミン塩の如き有
機アミン塩を好適にあげることができる。反応は不活性
気体（例えば窒素ガス。
アルゴンガス等）ふん囲気中で行うのが好ましく。
反応温度は１０〜７０℃、好ましくは２０〜５０℃にコ
ントロールするのが好都合である。
ントロールするのが好都合である。
一方、原料化合物［ｌ１１）は、まず２−ヒドロキシイ
ミ／ 酢酸誘導体〔■〕と３−ハロゲノ−２−ピロリド
ン〔■〕とを、適当な溶媒（例えばジメチルスルホキシ
ド等）中、塩基（たとえば炭酸カリウム等）の存在下に
１０〜５０℃で反応させて２−ｒ（２−ピロリドン−３
−イル）オキシイミノ〕酢酸ｎ杉体〔Ｘ〕を混し１次い
でこの化合物〔Ｘ〕を常法によりケン化反応に付すこと
により取得することができる。また、化合物〔ｍ〕は先
に化合物〔〜］〕をケン化反応に付して遊離カルボン酸
とした後、これに化合物〔■〕を前記の如（反応さぜる
ことによっても製することができる。
ミ／ 酢酸誘導体〔■〕と３−ハロゲノ−２−ピロリド
ン〔■〕とを、適当な溶媒（例えばジメチルスルホキシ
ド等）中、塩基（たとえば炭酸カリウム等）の存在下に
１０〜５０℃で反応させて２−ｒ（２−ピロリドン−３
−イル）オキシイミノ〕酢酸ｎ杉体〔Ｘ〕を混し１次い
でこの化合物〔Ｘ〕を常法によりケン化反応に付すこと
により取得することができる。また、化合物〔ｍ〕は先
に化合物〔〜］〕をケン化反応に付して遊離カルボン酸
とした後、これに化合物〔■〕を前記の如（反応さぜる
ことによっても製することができる。
ここに得られる化合物［１１１］には、２−ピロリドン
基の３位に存在する不斉炭素原子により、２第１の光学
活性体が存在“する。これら光学活性体は。
基の３位に存在する不斉炭素原子により、２第１の光学
活性体が存在“する。これら光学活性体は。
要すれば各光学異性体に分割することができる。
例えば化合物〔■コ（Ｒ２−トリチルｆ５）は、Ｌ−も
しくはＤ−フェニルアラニンメチルエステルと適当な溶
媒（例えばメタノールとジオキサンの混液）中で反応さ
せると、２種のジアステレオマー塩ヲ生成し、これら塩
は分別再結晶することにより各ジアステレオマー塩に分
割することができる。
しくはＤ−フェニルアラニンメチルエステルと適当な溶
媒（例えばメタノールとジオキサンの混液）中で反応さ
せると、２種のジアステレオマー塩ヲ生成し、これら塩
は分別再結晶することにより各ジアステレオマー塩に分
割することができる。
実験例
下記検体化合物の最小発育阻止濃度（Ｍ、１．Ｃ，。
μ９／ｄ ） ヲハート・・「ンフユージョン寒天培地
を使用して寒天平板希釈法により３７°Ｃｌ２Ｏ時間後
にｉンｊ定して求めた。その結果は下記第１表に示す通
りである。
を使用して寒天平板希釈法により３７°Ｃｌ２Ｏ時間後
にｉンｊ定して求めた。その結果は下記第１表に示す通
りである。
試１食化合物
化合物（１）
７β−Ｃ２−＜２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（（Ｚ）−（（３Ｓ）−２−ピロリドン−３−イル）
オキシイミノ）アセトアミド〕−３−（１−アミノ−Ｉ
Ｈ−テトラゾール−５−、イル）チオメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸のナトリウム塩 化合物（２） ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（（Ｚ）−（（３Ｒ）−２−ピロリドン−３−イル）
オキシイミノ）アセトアミド）−３−（１−アミン−Ｉ
Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸のナト リ Ｔン ム 塩 化合物（３） ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル） −
２−４（Ｚ）−（（３Ｒ８）−２−ヒｏ ＩＪ ｌ’７
−３−イル）オキシイミノ）アセトアミド）−３−（１
−アミノ−ＩＨ−′テトラゾールー５−イル）チオメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウム塩 第 １ 表 原料化合物の合成 参考例１ し は） ジチオカルバキン酸メチルエステルｌｌ０Ｆおよ
び９７％ナトリウムアジド６０．４９をエタノール２１
と水０．４１！との混液に加え・１６時間加熱辺流する
。反応後、混合物を減圧下４０〜４５℃で湿縮する。残
有にエタノール５００ｍ１を加え、析出する沈殿物をろ
取する。結晶をエタノールで洗浄し、乾燥することによ
り、１−アミノ−５−メルカプト−ＩＨ−テトラゾール
・ナトリウム塩９２９（収率７３％）を粗製物として樽
る。水晶１１．２２９を水４゜−にとかし、２Ｎ硫酸３
０Ｊを０〜５℃で加え・次いでエーテルにて抽出する。
−（（Ｚ）−（（３Ｓ）−２−ピロリドン−３−イル）
オキシイミノ）アセトアミド〕−３−（１−アミノ−Ｉ
Ｈ−テトラゾール−５−、イル）チオメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸のナトリウム塩 化合物（２） ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（（Ｚ）−（（３Ｒ）−２−ピロリドン−３−イル）
オキシイミノ）アセトアミド）−３−（１−アミン−Ｉ
Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸のナト リ Ｔン ム 塩 化合物（３） ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル） −
２−４（Ｚ）−（（３Ｒ８）−２−ヒｏ ＩＪ ｌ’７
−３−イル）オキシイミノ）アセトアミド）−３−（１
−アミノ−ＩＨ−′テトラゾールー５−イル）チオメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウム塩 第 １ 表 原料化合物の合成 参考例１ し は） ジチオカルバキン酸メチルエステルｌｌ０Ｆおよ
び９７％ナトリウムアジド６０．４９をエタノール２１
と水０．４１！との混液に加え・１６時間加熱辺流する
。反応後、混合物を減圧下４０〜４５℃で湿縮する。残
有にエタノール５００ｍ１を加え、析出する沈殿物をろ
取する。結晶をエタノールで洗浄し、乾燥することによ
り、１−アミノ−５−メルカプト−ＩＨ−テトラゾール
・ナトリウム塩９２９（収率７３％）を粗製物として樽
る。水晶１１．２２９を水４゜−にとかし、２Ｎ硫酸３
０Ｊを０〜５℃で加え・次いでエーテルにて抽出する。
抽出層より溶媒を留去し、残有を酢酸エチル・ｎ−ヘキ
サン混液から再結晶することにより、１−アミノ−５−
メルカプ１−−ＩＨ−テトラゾール４，３りを無負針状
晶として得る。収率５９．８％ ｍｐ、 １６２〜１６３℃（分解） ＩＨ洲：、”（、：＝１） ： ３２５０．３２２０．
３０５０．１６６０゜６１０ Ｍａｓｓ −／ ： １１７ （Ｍ ＋ ｂａｓｅ
ｐｅａｋ） 、７４，６０゜４３、２８ （２＋ ７β−アミノ−セファロスポラン酸２７．２
７を炭酸水素す） ＩＪウム９．２４９の水１１溶液に
かくはん下に加え、ごれに１−アミノ−５−メルカプ）
−ＩＨ−テトラゾール・ナトリウム塩２７．８９を加え
、アルゴン気流下５２〜５３℃で３時間かくはんする。
サン混液から再結晶することにより、１−アミノ−５−
メルカプ１−−ＩＨ−テトラゾール４，３りを無負針状
晶として得る。収率５９．８％ ｍｐ、 １６２〜１６３℃（分解） ＩＨ洲：、”（、：＝１） ： ３２５０．３２２０．
３０５０．１６６０゜６１０ Ｍａｓｓ −／ ： １１７ （Ｍ ＋ ｂａｓｅ
ｐｅａｋ） 、７４，６０゜４３、２８ （２＋ ７β−アミノ−セファロスポラン酸２７．２
７を炭酸水素す） ＩＪウム９．２４９の水１１溶液に
かくはん下に加え、ごれに１−アミノ−５−メルカプ）
−ＩＨ−テトラゾール・ナトリウム塩２７．８９を加え
、アルゴン気流下５２〜５３℃で３時間かくはんする。
反応物を活性炭処理して脱色し、水冷下メタンスルホン
酸約６ｒｎｌで液性をｐＨ４，６に調整する。
酸約６ｒｎｌで液性をｐＨ４，６に調整する。
析出物をろ取し、水洗後、減圧上五酸化リンで乾燥する
こと１どより、７β−アミノ−３−［（１−アミノ−Ｉ
Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオメチル〕−３−セフ
ェムー４−カルボン酸１７．３９を黄土色粉末として得
る。収率５２％ ｍｐ、 ２０６℃（分解） ＩＲシ二言’（、−１） ： ３３００． ３１５
０． １７８５． １６ｉ０゜１５２０、１４００．１
３４０．１２８０．１２１ＯＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６−
ＣＦＲＣＯＯＨ）δ：３．８０ （２Ｈ，Ｓ 、 ２位
ＣＨ２） 、 ４．４０ （２Ｈ，ｄｄ、 Ｊ＝５．４
゜１３．５ Ｈｚ 、 Ｃ”位ＣＨ２） 、５．’２０
（２Ｈ，ｓ 、６位および７位Ｈ） 参考例２ け） （Ｚ） −２−（２−）クチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−ヒドロキ、ジイミノ酢酸エチルエ
ステル１５．８５’のジメチルスルホキシド７０ｍ１溶
液に無水炭酸カリウム５．８９を加える。室温で２０分
かくはん後、３−ブロモ−２−ピロリドン６．６２を加
え、室温で２０時間かくはんする。反応混合物を水８０
０ｍ／に注入し、析出結晶をろ取し、水洗する。得られ
る結晶をクロロホルムにとかし、水洗後乾燥する。クロ
ロホルムを留去し、残有に酢酸エチル１００ｒｎｌを加
え、室温に放置する。析出結晶をろ取し、乾燥すること
により、２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル） −２７Ｃ＜Ｚ）−（２−ピロリドン−３−イル）
オキシイミノ〕酢酸エチルエステル１６．．０９ ヲ得
６゜ｍｐ、 ２０９〜２１０℃ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ！８） ８ ： １．３０ （３Ｈ，
ｔ 、Ｊ＝ ７Ｈｚ） 。
こと１どより、７β−アミノ−３−［（１−アミノ−Ｉ
Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオメチル〕−３−セフ
ェムー４−カルボン酸１７．３９を黄土色粉末として得
る。収率５２％ ｍｐ、 ２０６℃（分解） ＩＲシ二言’（、−１） ： ３３００． ３１５
０． １７８５． １６ｉ０゜１５２０、１４００．１
３４０．１２８０．１２１ＯＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６−
ＣＦＲＣＯＯＨ）δ：３．８０ （２Ｈ，Ｓ 、 ２位
ＣＨ２） 、 ４．４０ （２Ｈ，ｄｄ、 Ｊ＝５．４
゜１３．５ Ｈｚ 、 Ｃ”位ＣＨ２） 、５．’２０
（２Ｈ，ｓ 、６位および７位Ｈ） 参考例２ け） （Ｚ） −２−（２−）クチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−ヒドロキ、ジイミノ酢酸エチルエ
ステル１５．８５’のジメチルスルホキシド７０ｍ１溶
液に無水炭酸カリウム５．８９を加える。室温で２０分
かくはん後、３−ブロモ−２−ピロリドン６．６２を加
え、室温で２０時間かくはんする。反応混合物を水８０
０ｍ／に注入し、析出結晶をろ取し、水洗する。得られ
る結晶をクロロホルムにとかし、水洗後乾燥する。クロ
ロホルムを留去し、残有に酢酸エチル１００ｒｎｌを加
え、室温に放置する。析出結晶をろ取し、乾燥すること
により、２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル） −２７Ｃ＜Ｚ）−（２−ピロリドン−３−イル）
オキシイミノ〕酢酸エチルエステル１６．．０９ ヲ得
６゜ｍｐ、 ２０９〜２１０℃ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ！８） ８ ： １．３０ （３Ｈ，
ｔ 、Ｊ＝ ７Ｈｚ） 。
２．１〜２．６（２Ｈ，ｍ） 、 ３．１〜３．６（２
Ｈ，ｍ） 。
Ｈ，ｍ） 。
４．３４ （２Ｈ１ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、４．９０ （Ｉ
Ｈｌｉ −Ｊ＝７Ｈｚ） 、 ６．５３ （ＩＨ，ｓ
） 、 ７．０〜７．８（１７Ｈ，ｍ ）（２） （
１１で製したエチルエステル体１６９を、メタノール１
６０ ｒｎｌと２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液３０ｒｒＬ
ｌとの混液に加え、これを３０分間還流する。冷後。
Ｈｌｉ −Ｊ＝７Ｈｚ） 、 ６．５３ （ＩＨ，ｓ
） 、 ７．０〜７．８（１７Ｈ，ｍ ）（２） （
１１で製したエチルエステル体１６９を、メタノール１
６０ ｒｎｌと２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液３０ｒｒＬ
ｌとの混液に加え、これを３０分間還流する。冷後。
析出結晶をろ取し・メタノールで洗浄後・この結晶を水
３０−に加え・２Ｎ塩酸を加えて液性をｐＨ３に調整す
る。析出結晶をろ取し乾燥することにより、２−（２−
）クチルアミノチアゾール−４−イル’） −２−（（
Ｚ）−（２二゛ピロリド？−３−イル）オキシイミノ〕
酢酸１１．４９を得る。
３０−に加え・２Ｎ塩酸を加えて液性をｐＨ３に調整す
る。析出結晶をろ取し乾燥することにより、２−（２−
）クチルアミノチアゾール−４−イル’） −２−（（
Ｚ）−（２二゛ピロリド？−３−イル）オキシイミノ〕
酢酸１１．４９を得る。
ｍｌ）、 １５０〜１５３℃（分解）
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ： １．８〜２．４（２
Ｈ，ｍ）、２．９〜３．４（２Ｈ１ｍ）、４．６３（Ｉ
Ｈ９ｔ、Ｊ＝ ７Ｈｚ）。
Ｈ，ｍ）、２．９〜３．４（２Ｈ１ｍ）、４．６３（Ｉ
Ｈ９ｔ、Ｊ＝ ７Ｈｚ）。
６．７６（ＩＨ，Ｓ ）、 ６．９〜７．６（１５
Ｈ，ｍ）。
Ｈ，ｍ）。
７．８５ （Ｉ Ｈ，ｓ ） 、 ８．７０ （ＩＨ
１ｂｒｏａｄ８ｓ）（３） （２）で製した酢酸誘導
体３０７のメタノール６Ｏｒｎｌ 液にＬ−フェニルア
ラニンメチルエステル１０．５りのジオキサン１００Ｊ
ｎＩ１１１ｆを加え、これを５０℃に加熱して溶液とす
る。この溶液にジオキサン７００ｍ１を加え・室温で５
時間かくはんする。析出結晶をろ取する（ろ液を「ろ液
Ｉ」と称す）。１４．：ｌの徂結晶を得る。本品をメタ
ノール２４ｍ１にとかし・これにジオキサン２８０ ｒ
ｒＬｔを加え、室温で４時間かくはんする。析出結晶を
ろ取（ろ液を［ろ？＆ ＩＩ Ｊと称す）することによ
り、２−（２−）クチルアミノチアゾール−４−イル）
−２−［（Ｚ）−（（３Ｓ）−２−ゼロリドン−３−イ
ル）オキシイミノ〕酢酸・Ｌ−フェニルアラニンメチル
エステル塩１２．２１を得る。
１ｂｒｏａｄ８ｓ）（３） （２）で製した酢酸誘導
体３０７のメタノール６Ｏｒｎｌ 液にＬ−フェニルア
ラニンメチルエステル１０．５りのジオキサン１００Ｊ
ｎＩ１１１ｆを加え、これを５０℃に加熱して溶液とす
る。この溶液にジオキサン７００ｍ１を加え・室温で５
時間かくはんする。析出結晶をろ取する（ろ液を「ろ液
Ｉ」と称す）。１４．：ｌの徂結晶を得る。本品をメタ
ノール２４ｍ１にとかし・これにジオキサン２８０ ｒ
ｒＬｔを加え、室温で４時間かくはんする。析出結晶を
ろ取（ろ液を［ろ？＆ ＩＩ Ｊと称す）することによ
り、２−（２−）クチルアミノチアゾール−４−イル）
−２−［（Ｚ）−（（３Ｓ）−２−ゼロリドン−３−イ
ル）オキシイミノ〕酢酸・Ｌ−フェニルアラニンメチル
エステル塩１２．２１を得る。
〔α片−１４，０°（Ｃ＝１．メタノール）本品１２．
２９のメタノール１２０ｍ７！溶液に０． Ｉ Ｎ塩酸
１７６ｒｎｌを加え、水冷下に２時間かくはんする。
２９のメタノール１２０ｍ７！溶液に０． Ｉ Ｎ塩酸
１７６ｒｎｌを加え、水冷下に２時間かくはんする。
析出結晶をろ取し、メタノールで洗浄することにより、
２−（２−）クチルアミノチアゾール−４−イル） −
２−［（Ｚ）−’（（３Ｓ） −２−ピロリドン−３−
イル）オキシイミノ〕酢酸７．５９を得る。
２−（２−）クチルアミノチアゾール−４−イル） −
２−［（Ｚ）−’（（３Ｓ） −２−ピロリドン−３−
イル）オキシイミノ〕酢酸７．５９を得る。
ｍｐ、１４２〜１４３℃（分解）
〔α斥５−３８．８°（Ｃ＝１． ジメチルホルムア
ミド） （４） （３）のろ液ｌおよび■を減圧下に濃縮乾固
する。残有をメタ／−ル２５０ｒｒＬｌに溶解し、０．
ＩＮ塩酸４５０ ；ｒｌを加え、水冷下２時間かくはん
する。析出品をろ取し乾燥することにより、（Ｒ）−異
性体過剰の２−（２−トリチルアミノ゛チアゾールー４
−イル） −２［（Ｚ）−（２−ピロリドン−３−イル
）オキシイミノ〕酢酸２０９を回収する。本品２０２お
よびメタノール４０ｍ１をＤ−フェニルアラニンメチル
エステル７．０９のジオキサン７Ｏｒｎｌ液に加え。
ミド） （４） （３）のろ液ｌおよび■を減圧下に濃縮乾固
する。残有をメタ／−ル２５０ｒｒＬｌに溶解し、０．
ＩＮ塩酸４５０ ；ｒｌを加え、水冷下２時間かくはん
する。析出品をろ取し乾燥することにより、（Ｒ）−異
性体過剰の２−（２−トリチルアミノ゛チアゾールー４
−イル） −２［（Ｚ）−（２−ピロリドン−３−イル
）オキシイミノ〕酢酸２０９を回収する。本品２０２お
よびメタノール４０ｍ１をＤ−フェニルアラニンメチル
エステル７．０９のジオキサン７Ｏｒｎｌ液に加え。
５０℃に加熱して溶解する。この溶液にジオキサン４５
０ｒｎｌを加え１次いで室温にて４時間かくはんする。
０ｒｎｌを加え１次いで室温にて４時間かくはんする。
析出結晶をろ取しく １３．３ ｆり 、これをメタノ
ール２０ｍ１にとかし９次いでジオキサン２６ｏｒｎｌ
を加え。
ール２０ｍ１にとかし９次いでジオキサン２６ｏｒｎｌ
を加え。
室温で４時間かくはんする。析出結晶をろ取することに
より、２−（２−１リチルアミノチアゾール−４−イル
−２−Ｃ（Ｚ’）−（（３Ｒ）−２−ピロリドン−３−
イル）オキシイミノ〕酢Ｇ −Ｄ−フェニルアラニンメ
チルエステル塩１２．Ｃ１を得る。
より、２−（２−１リチルアミノチアゾール−４−イル
−２−Ｃ（Ｚ’）−（（３Ｒ）−２−ピロリドン−３−
イル）オキシイミノ〕酢Ｇ −Ｄ−フェニルアラニンメ
チルエステル塩１２．Ｃ１を得る。
〔α斥５＋１３．９°・（Ｃ＝１ 、メタノール）本品
１２．２９のメタノール１２０ ｍｌ溶液に０．ＩＮ塩
酸１７４ｍ１を加え！水冷下に２時間かくはんする。
１２．２９のメタノール１２０ ｍｌ溶液に０．ＩＮ塩
酸１７４ｍ１を加え！水冷下に２時間かくはんする。
析出結晶をろ取し、メタノールで洗浄することにより、
２− （２−）クチルアミノチアゾール−４−イル）
−２−［（Ｚ） −（（３Ｒ）−２−ピロリドン−３−
イル）オキシイミノ〕酢酸７．３２を得る。
２− （２−）クチルアミノチアゾール−４−イル）
−２−［（Ｚ） −（（３Ｒ）−２−ピロリドン−３−
イル）オキシイミノ〕酢酸７．３２を得る。
ｍｐ、 １４３ ＝−１４４°Ｃ（分解）〔α几５＋
３７．４°（Ｃ＝１．ジメチルホルムアミド）実施例１ ２−（２−）クチルアミノチアゾール−４−イル）−２
−（（Ｚ）−（（３Ｓ）−２−ピロリドン−３−イル）
オキシイミノ）酢酸２．３ｇをテトラヒドロフラン３０
ｒｒＬｌとＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド１０、ｎｌの
混液に溶解する。水冷下、この溶液に１−ヒドロキシベ
ンズトリアゾール０６４９およびＮ、Ｎ’−ジシクロへ
キシルカルボジイミド０．９４９を加え。
３７．４°（Ｃ＝１．ジメチルホルムアミド）実施例１ ２−（２−）クチルアミノチアゾール−４−イル）−２
−（（Ｚ）−（（３Ｓ）−２−ピロリドン−３−イル）
オキシイミノ）酢酸２．３ｇをテトラヒドロフラン３０
ｒｒＬｌとＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド１０、ｎｌの
混液に溶解する。水冷下、この溶液に１−ヒドロキシベ
ンズトリアゾール０６４９およびＮ、Ｎ’−ジシクロへ
キシルカルボジイミド０．９４９を加え。
室温で２時間かくはんする。反応混合物を氷冷し。
これにＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド１（Ｗ 、 水０
．４ｄおよびトリエチルアミン０．６２の混合物に７β
−アミノ−３−（１−アミノ−ＩＨ−テトラゾール−５
−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸１
．０７をとかした溶液を加え２次いで室温で２０時間か
くはんする。反応液を氷水７５ｄに注入し、酢酸エチル
２５ｉを加え数分間かくはんし。
．４ｄおよびトリエチルアミン０．６２の混合物に７β
−アミノ−３−（１−アミノ−ＩＨ−テトラゾール−５
−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸１
．０７をとかした溶液を加え２次いで室温で２０時間か
くはんする。反応液を氷水７５ｄに注入し、酢酸エチル
２５ｉを加え数分間かくはんし。
不溶物をろ去し、水層を分取する。水層を１０％塩酸で
ｐＨ３とし、析出するアメ状物を酢酸エチル：テトラヒ
ドロフラン（１０’： ３ ）の混合液で抽出する。抽
出層を水洗後乾燥する。溶媒を留去し。
ｐＨ３とし、析出するアメ状物を酢酸エチル：テトラヒ
ドロフラン（１０’： ３ ）の混合液で抽出する。抽
出層を水洗後乾燥する。溶媒を留去し。
残有に少量の酢酸エチルを加えて粉末化し、ろ取して粉
末１．５５９を得る。本品に８０％ギ酸７ｍｌを加え室
温で１時間かくはんする。これに水３０ｒｎｌを加え、
不溶物をろ去する。ろ液を減圧乾固し、残有にエーテル
を加え粉末化し、ろ取する。この粉末を水にけん濶し、
炭酸水素犬１−リウム承溶７反を加えて溶解する。この
溶液をスチレンーンビニルベンゼン共電合１本（商品名
；タイヤイオンＨＰ−２０）１４０ ｍＩＯカラムに通
す。カラムを水洗後、２０％メタノールで目的物を・δ
出させる。■的ｉ′りを含む溶出ｌ’！：ｆ、を減圧乾
固し・残有にアセトンを加えて粉末化し、ろ取すること
により、７β−（２−（１−アミノチアゾール−４−イ
ル） −２−１（Ｚ）−（（３Ｓ） −２−ピロリドン
−３−イル）オキシイミノ）アセＩ・アミド〕−３−（
１−アミノ−１Ｈ−ヂト７ ソール−５−イル）チオメ
チル−３−セフェム−４−カルホンじの丈トリウムｉ、
ｊ３８８ｒ′ｉを微黄色粉本として得る。
末１．５５９を得る。本品に８０％ギ酸７ｍｌを加え室
温で１時間かくはんする。これに水３０ｒｎｌを加え、
不溶物をろ去する。ろ液を減圧乾固し、残有にエーテル
を加え粉末化し、ろ取する。この粉末を水にけん濶し、
炭酸水素犬１−リウム承溶７反を加えて溶解する。この
溶液をスチレンーンビニルベンゼン共電合１本（商品名
；タイヤイオンＨＰ−２０）１４０ ｍＩＯカラムに通
す。カラムを水洗後、２０％メタノールで目的物を・δ
出させる。■的ｉ′りを含む溶出ｌ’！：ｆ、を減圧乾
固し・残有にアセトンを加えて粉末化し、ろ取すること
により、７β−（２−（１−アミノチアゾール−４−イ
ル） −２−１（Ｚ）−（（３Ｓ） −２−ピロリドン
−３−イル）オキシイミノ）アセＩ・アミド〕−３−（
１−アミノ−１Ｈ−ヂト７ ソール−５−イル）チオメ
チル−３−セフェム−４−カルホンじの丈トリウムｉ、
ｊ３８８ｒ′ｉを微黄色粉本として得る。
ｍｐ、２３０℃付近で黒変する。
ＮＮ１Ｒ（Ｄ２０ ＞ δ−＝２．０〜２．８ （２Ｈ
５ｍ） 、３．１〜３．８（４Ｈ１ｍ ）３ ４．０
７＜ ＩＨ、ｄ 、 Ｊ＝ １３Ｈｚ ）、４
．３９（ＬＨｌｄ、Ｊ＝１３Ｈｚ ） 、５．０３ （
Ｈ（、ｔ 、Ｊ ＝ ７Ｈｚ）。
５ｍ） 、３．１〜３．８（４Ｈ１ｍ ）３ ４．０
７＜ ＩＨ、ｄ 、 Ｊ＝ １３Ｈｚ ）、４
．３９（ＬＨｌｄ、Ｊ＝１３Ｈｚ ） 、５．０３ （
Ｈ（、ｔ 、Ｊ ＝ ７Ｈｚ）。
５．１６（ＩＨｌｄ−Ｊ＝６Ｈｚ）、 ５．７１（ＩＨ
ｌｄ、 Ｊ −６Ｈｚ ） 、６．９７ （Ｉ
Ｈ７Ｓ ）実施例２ ２−（２−１−リチルア゛ミノチアゾールー４−イル）
−２−１（Ｚ） −（（３Ｒ，） −２−ピロリドン−
３−イル）オキシイミノ）酢酸１．１５ Ｆをテトラヒ
ドロフラン１５ｒｎｅとＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド
５ｒｎｌの混液にとかす。水冷かくはん下、これに１−
ヒドロキシベンズトリアゾール０．３２ ｉおよびＮ、
Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイミド０．４７９を
加え。
ｌｄ、 Ｊ −６Ｈｚ ） 、６．９７ （Ｉ
Ｈ７Ｓ ）実施例２ ２−（２−１−リチルア゛ミノチアゾールー４−イル）
−２−１（Ｚ） −（（３Ｒ，） −２−ピロリドン−
３−イル）オキシイミノ）酢酸１．１５ Ｆをテトラヒ
ドロフラン１５ｒｎｅとＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド
５ｒｎｌの混液にとかす。水冷かくはん下、これに１−
ヒドロキシベンズトリアゾール０．３２ ｉおよびＮ、
Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイミド０．４７９を
加え。
同、：′λで２０分１次いで室温で２時間がくはんする
。
。
この反応１：２合物を再び水冷し、これにＮ、Ｎ−ジメ
チルアセトアミド５猷、水０．２ｍｅおよびトリエチル
アミン０３りの混液に７β−アミン−３−（１−アミツ
ーＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸Ｏ，Ｓグヲ溶解した溶液を加え
る。次いで実施例１と同様に反応処理すれば、７β−［
２−（２−アミノケアゾール−４−イル） −２’−１
（Ｚ）−（（３Ｒ）−２−ピロリドン−３−、イル）オ
キシイミノ）アセトアミ目−３−（１−アミノ−ＩＨ−
テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−
４−カルボンａのカトリウム塩２４２ｑを無色粉末とし
て得る。
チルアセトアミド５猷、水０．２ｍｅおよびトリエチル
アミン０３りの混液に７β−アミン−３−（１−アミツ
ーＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸Ｏ，Ｓグヲ溶解した溶液を加え
る。次いで実施例１と同様に反応処理すれば、７β−［
２−（２−アミノケアゾール−４−イル） −２’−１
（Ｚ）−（（３Ｒ）−２−ピロリドン−３−、イル）オ
キシイミノ）アセトアミ目−３−（１−アミノ−ＩＨ−
テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−
４−カルボンａのカトリウム塩２４２ｑを無色粉末とし
て得る。
ｍｐ、２３０℃付近にて黒変する。
ＮＭＲ（Ｄ２０） δ： ２．０〜２．７ （２Ｈ，−
ｍ ）３．２−３．８ （４Ｈ，ｍ ）、 ４．０８
（ＬＨ９ｄ 、Ｊ＝１３Ｈｚ）４．４０ （ＩＨｌｄ
、Ｊ＝１３Ｈｚ ） 、 ５．０５ （ＩＨ９ｔ −Ｊ
−７Ｈｚ ） 、５．１６ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ ５Ｈｚ
） 、５．７６（ＩＨ，ｄ＝ Ｊ＝５Ｈｚ ）−７，０
０（ＩＨｌＳ）実施例３ ２−（２−）ジチルアミノチアゾール−４−イル）
２−（（Ｚ） （（３Ｒ３） −２−ヒｏ！ＪＦン
ー３−イル）オキシイミノ）酢酸１１．５Ｓ’のテトラ
ヒドロフラン１５０ｒｎｌけん濁液に、氷冷かく−はん
下に１−ヒドロキシベンズトリアゾール３．２９および
Ｎ。
ｍ ）３．２−３．８ （４Ｈ，ｍ ）、 ４．０８
（ＬＨ９ｄ 、Ｊ＝１３Ｈｚ）４．４０ （ＩＨｌｄ
、Ｊ＝１３Ｈｚ ） 、 ５．０５ （ＩＨ９ｔ −Ｊ
−７Ｈｚ ） 、５．１６ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ ５Ｈｚ
） 、５．７６（ＩＨ，ｄ＝ Ｊ＝５Ｈｚ ）−７，０
０（ＩＨｌＳ）実施例３ ２−（２−）ジチルアミノチアゾール−４−イル）
２−（（Ｚ） （（３Ｒ３） −２−ヒｏ！ＪＦン
ー３−イル）オキシイミノ）酢酸１１．５Ｓ’のテトラ
ヒドロフラン１５０ｒｎｌけん濁液に、氷冷かく−はん
下に１−ヒドロキシベンズトリアゾール３．２９および
Ｎ。
Ｎ′−ジシクロへキシルカルボジイミド４．７タを加え
。
。
次いで室温にて２時間か（はんする。この反応混合物を
氷冷し、これにＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド５０ｉ
、水２ｄおよびトリエチルアミン３りの混液に７β−ア
ミノ−３−（１−アミノ−Ｉ Ｈ−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸４．
９９を溶解した溶液を加え。
氷冷し、これにＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド５０ｉ
、水２ｄおよびトリエチルアミン３りの混液に７β−ア
ミノ−３−（１−アミノ−Ｉ Ｈ−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸４．
９９を溶解した溶液を加え。
５〜ｌＯ℃で１時間、ついで室温で１５時間かくはんす
る。反応液を氷水７５．Ｏｎｒｌに注入し・酢酸エチ／
” ２５（Ｗを加え、１０分間かくはんする。不溶物を
ろ去し、ろ液より水層を分取する。この水層に１０％塩
酸を加えてｐＨ３となし、析出するアメ状物ヲ酢酸エチ
ル：テトラヒドロフラン（Ｈ）：３）混液で抽出する。
る。反応液を氷水７５．Ｏｎｒｌに注入し・酢酸エチ／
” ２５（Ｗを加え、１０分間かくはんする。不溶物を
ろ去し、ろ液より水層を分取する。この水層に１０％塩
酸を加えてｐＨ３となし、析出するアメ状物ヲ酢酸エチ
ル：テトラヒドロフラン（Ｈ）：３）混液で抽出する。
抽出層を水洗後乾燥し、溶媒を留去し、残香に酢酸エチ
ルを加えて粉末としろ取する。水晶をテトラヒドロフラ
ン１００７７１／に加温して溶解し、酢酸エチル２５０
ｒｎｌを加えて冷却し、析出品をろ取することにより、
７β−［２−（２−）ジチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（（Ｚ）−＜（３Ｒ３）−Ｌ２−ピロリドン
−３−イル）オキシイミノ）アセトアミド）−３−（１
−アミノ−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸４．８２を無色結晶ト
シて得る。
ルを加えて粉末としろ取する。水晶をテトラヒドロフラ
ン１００７７１／に加温して溶解し、酢酸エチル２５０
ｒｎｌを加えて冷却し、析出品をろ取することにより、
７β−［２−（２−）ジチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（（Ｚ）−＜（３Ｒ３）−Ｌ２−ピロリドン
−３−イル）オキシイミノ）アセトアミド）−３−（１
−アミノ−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸４．８２を無色結晶ト
シて得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ｓ ： ２．０〜２．４（２
Ｈ，ｍ）−３，０〜３．４（２Ｈ，ｍ）、３．５〜３．
９（２Ｈ，ｍ） 。
Ｈ，ｍ）−３，０〜３．４（２Ｈ，ｍ）、３．５〜３．
９（２Ｈ，ｍ） 。
４．１〜４．５ （２Ｈ，ｍ） 、 ４．５〜４．９（
ＩＨ，ｍ） 。
ＩＨ，ｍ） 。
５．０〜５．３（ＩＨ，ｍ）、 ５．４〜５．９（ＩＨ
，ｍ）＝６．７０（ＩＨ９Ｓ ）、 ６．９０（２Ｈ
，ｂｒｏａｄｓ）。
，ｍ）＝６．７０（ＩＨ９Ｓ ）、 ６．９０（２Ｈ
，ｂｒｏａｄｓ）。
７．０〜７．７ （１５Ｈ，ｍ ） 、 ７．８５
（ＩＨ，ｂｒｏａｄ ｓ）。
（ＩＨ，ｂｒｏａｄ ｓ）。
８．６〜８．９ （ＩＨ，’ｍ） 、 ９．３＝−９
，８（ＩＨ，ｍ）上記で得た結晶を８０％ギ酸２２．ｎ
ｌ、に加え室温で１時間かくはんする。反応液に水４０
ｒｒｌを加え、不溶物をろ去し、ろ液を減圧乾固し、残
香にエーテルを加え粉末化しろ取する。以下実施例１と
同様に処理することにより、７β−Ｃ２−＜２−アミノ
チアゾール−４−イル’）−２１（Ｚ）−（（３Ｒ８）
−２−ピロリドン−３−、イル）オキシイミノ）アセト
アミド）−：１（１−アミノ−ＩＨ−テトラして得る。
，８（ＩＨ，ｍ）上記で得た結晶を８０％ギ酸２２．ｎ
ｌ、に加え室温で１時間かくはんする。反応液に水４０
ｒｒｌを加え、不溶物をろ去し、ろ液を減圧乾固し、残
香にエーテルを加え粉末化しろ取する。以下実施例１と
同様に処理することにより、７β−Ｃ２−＜２−アミノ
チアゾール−４−イル’）−２１（Ｚ）−（（３Ｒ８）
−２−ピロリドン−３−、イル）オキシイミノ）アセト
アミド）−：１（１−アミノ−ＩＨ−テトラして得る。
ｍｐ、２３０℃付近で黒変する。
ＮＭＲ（Ｄ２０ ） δ：２．０〜２．７ （２Ｈ１ｍ
） 、３．２〜３．８（４Ｈ＝ｍ）、４．０７（ＩＨ
９ｄ、Ｊ＝ １３Ｈｚ） 。
） 、３．２〜３．８（４Ｈ＝ｍ）、４．０７（ＩＨ
９ｄ、Ｊ＝ １３Ｈｚ） 。
４．３９（ＩＩ（、ｄ＋ Ｊ＝１３Ｈｚ） 、５．０３
（１■（、ｔ 。
（１■（、ｔ 。
Ｊ＝７Ｈｚ）、 ５．１６（ＩＨ９ｄ、Ｊ ＝ ５Ｈｚ
）、５．７６（ＩＨ，ｄ、 Ｊ ＝ ５Ｈｚ ） 、
７．０２（ＩＨ，ｓ ）自発手続補正書 昭和夕と年−−・月二（日 特許庁長官殿 ■、小事件表示 昭和５に年特許願第Ｚ７θ６３ 号 仰 懲咬辷シジ、 ３、省ｌｉ 、＋１：をする者 事件との関係 特許出願人 ｘ阪イｌ大り市東区道修町３丁目２１番地（〒５４１）
（２９５） Ｉｌ＋辺製薬株式会社 代表者松原一部 ・１３代理 人 大阪府大阪市淀川区加島３丁目１６番８９号（〒５３２
）５、補正により増加する発明の数 ６、補正の対象 ゛−゛ 補 正 の 内 容 １．明細容筒１１頁下から８〜７行目の「薬理的に許容
しつる塩は」 を ［薬理的に許容しうる塩（例えはナト１ウム堝。
）、５．７６（ＩＨ，ｄ、 Ｊ ＝ ５Ｈｚ ） 、
７．０２（ＩＨ，ｓ ）自発手続補正書 昭和夕と年−−・月二（日 特許庁長官殿 ■、小事件表示 昭和５に年特許願第Ｚ７θ６３ 号 仰 懲咬辷シジ、 ３、省ｌｉ 、＋１：をする者 事件との関係 特許出願人 ｘ阪イｌ大り市東区道修町３丁目２１番地（〒５４１）
（２９５） Ｉｌ＋辺製薬株式会社 代表者松原一部 ・１３代理 人 大阪府大阪市淀川区加島３丁目１６番８９号（〒５３２
）５、補正により増加する発明の数 ６、補正の対象 ゛−゛ 補 正 の 内 容 １．明細容筒１１頁下から８〜７行目の「薬理的に許容
しつる塩は」 を ［薬理的に許容しうる塩（例えはナト１ウム堝。
カリウム塩等のアルカリ金属塩、了ンモニワム塩、トリ
エチルアミン塩、リジン塩等のアミン塩、」福酸塩、臭
化水素酸塩等の酸付加塩など）は」 に訂正する。
エチルアミン塩、リジン塩等のアミン塩、」福酸塩、臭
化水素酸塩等の酸付加塩など）は」 に訂正する。
２、同第１２頁９行目の
「ニーモニアＪ を
１−ニューモニア」
に訂正する。
３、同＠１３頁９〜１１行目の
「約０．５〜約１０ノ／に９体重、好ましくは０．５〜
４、０ ｙ／に９体重である」Ｃを 「約０．５〜約１０Ｆ、好ましく ’；１０．５〜４．
ＯＳｉ’である」 に訂正τる。
４、０ ｙ／に９体重である」Ｃを 「約０．５〜約１０Ｆ、好ましく ’；１０．５〜４．
ＯＳｉ’である」 に訂正τる。
４、同第１９頁四重表最下欄
［ｄｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ Ｍ Ｌ −１４１Ｑ Ｒ
Ｇ Ｎ −３２３」を 「Ｅｓｃｈｅｒｉｃｎｉａ ｃｏｌｉ ’Ｊ Ｌ −１
４１Ｑ ＲＧＮ−８２３Ｊ に訂正する。
Ｇ Ｎ −３２３」を 「Ｅｓｃｈｅｒｉｃｎｉａ ｃｏｌｉ ’Ｊ Ｌ −１
４１Ｑ ＲＧＮ−８２３Ｊ に訂正する。
５、同第２１頁第１表最上欄の
「シトロバクタ−・フレンデイ」 を
［シトロバクタ−・７０インデイ」
に訂正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 ７β−（２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）、−２−（（２−ピロリドン−３−イル）オキシイミ
ノ）アセトアミドｌ −３−（１−アミツー−Ｉ Ｈ−
テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−
４−カルボンじ、およびその蘂理的に許容される塩。 ２．７β−Ｃ２−Ｃ２−アミノチアゾール−４−イル’
）−２−（（Ｚ）−（（３Ｓ） −２−ピロリドン−３
−イル）オキシイミノ）アセトアミド〕−３，−（１−
アミノ−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸である特許請求の範囲第
１項記載の化合物。 ３、一般式 （但し、Ｒ１は水素原子又はエステル残基を表わす）で
示される７−アミノ−３−セフェム誘導体またはその塩
と一般式 （但し Ｒ２は水素原子またはアミノ基の保護基を表わ
す）で、示される酢酸誘導体またはそのカルボキシル基
における反応性誘導体とを反応して一般式 （但しｌ Ｒ’およびＲ２は前記と同一意味を有する）
で示される７−直換アミノー３−セフェム誘導体を製し
、要すれば化合物［ＩＶ）のアミノ基の保護基およＷま
たはエステル残基を脱離することを特徴とする７β−［
２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（（２
−ピロリドン−３−イル）オキシイミノ）アセトアミド
）−３−（１−アミノ−ＩＨ−テトラゾール−５−イル
）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸またはそ
の薬理的に許容され、５塩の製法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58029063A JPS59155391A (ja) | 1983-02-22 | 1983-02-22 | 新規セファロスポリン誘導体 |
| US06/578,380 US4547494A (en) | 1983-02-22 | 1984-02-09 | Pyrrolidomoxine cephalosporins |
| DE8484300874T DE3467579D1 (en) | 1983-02-22 | 1984-02-13 | Novel cephalosporin compound and a process for preparing same |
| EP84300874A EP0117109B1 (en) | 1983-02-22 | 1984-02-13 | Novel cephalosporin compound and a process for preparing same |
| KR1019840000669A KR840007731A (ko) | 1983-02-22 | 1984-02-13 | 세팔로스포린 화합물의 제조방법 |
| ES529966A ES529966A0 (es) | 1983-02-22 | 1984-02-22 | Un procedimiento para la fabricacion de un nuevo compuesto de cefalosporina. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58029063A JPS59155391A (ja) | 1983-02-22 | 1983-02-22 | 新規セファロスポリン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59155391A true JPS59155391A (ja) | 1984-09-04 |
| JPH0145474B2 JPH0145474B2 (ja) | 1989-10-03 |
Family
ID=12265902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58029063A Granted JPS59155391A (ja) | 1983-02-22 | 1983-02-22 | 新規セファロスポリン誘導体 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4547494A (ja) |
| EP (1) | EP0117109B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59155391A (ja) |
| KR (1) | KR840007731A (ja) |
| DE (1) | DE3467579D1 (ja) |
| ES (1) | ES529966A0 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6185392A (ja) * | 1984-10-03 | 1986-04-30 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | セフアロスポリン化合物の新規製法 |
| JPS61171464A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-08-02 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | オキシイミノ酪酸誘導体の製法 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IE55406B1 (en) * | 1982-08-07 | 1990-09-12 | Tanabe Seiyaku Co | Novel cephalosporin compounds and preparation thereof |
| JPS60132983A (ja) * | 1983-12-21 | 1985-07-16 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | チアゾ−ル酢酸誘導体及びその製法 |
| JPS60142987A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-07-29 | Mochida Pharmaceut Co Ltd | セフアロスポリン誘導体 |
| EP0150507B1 (en) * | 1983-12-29 | 1992-08-05 | Mochida Pharmaceutical Co., Ltd. | Cephalosporin derivatives, processes for producing the same and compositions containing them |
| JPS6178792A (ja) * | 1984-09-26 | 1986-04-22 | Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd | ７−〔α−（２−アミノ−４−チアゾリル）−α−（４−オキソ−２−アゼチジニル置換イミノ）アセトアミド〕−３−置換メチル−Δ↑３−セフエム−４−カルボン酸およびその製造法 |
| US4840945A (en) * | 1985-04-01 | 1989-06-20 | Mochida Pharmaceutical Co., Ltd. | Cephalosporin derivatives |
| US4758557A (en) * | 1985-06-26 | 1988-07-19 | Meiji Seika Kaisha, Ltd. | Cephalosporin derivatives and bactericides containing the same |
| JPS63107989A (ja) * | 1986-06-04 | 1988-05-12 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | セファロスポリン化合物 |
| US4880798A (en) * | 1986-11-25 | 1989-11-14 | Mochida Pharmaceutical Co., Ltd. | Cephalosporin derivatives |
| JPS63132893A (ja) * | 1986-11-25 | 1988-06-04 | Mochida Pharmaceut Co Ltd | 新規セフアロスポリン誘導体、その製法およびそれらを有効成分とする抗菌剤 |
| AT389701B (de) * | 1987-10-08 | 1990-01-25 | Tanabe Seiyaku Co | Neue cephalosporinverbindungen und diese enthaltende pharmazeutische zusammensetzungen |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2714880A1 (de) * | 1977-04-02 | 1978-10-26 | Hoechst Ag | Cephemderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
| FR2508458A1 (fr) * | 1981-06-29 | 1982-12-31 | Sandoz Sa | Nouveaux derives de l'acide cephalosporanique, leur preparation et leur application comme medicaments |
-
1983
- 1983-02-22 JP JP58029063A patent/JPS59155391A/ja active Granted
-
1984
- 1984-02-09 US US06/578,380 patent/US4547494A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-02-13 DE DE8484300874T patent/DE3467579D1/de not_active Expired
- 1984-02-13 EP EP84300874A patent/EP0117109B1/en not_active Expired
- 1984-02-13 KR KR1019840000669A patent/KR840007731A/ko not_active Ceased
- 1984-02-22 ES ES529966A patent/ES529966A0/es active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6185392A (ja) * | 1984-10-03 | 1986-04-30 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | セフアロスポリン化合物の新規製法 |
| JPS61171464A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-08-02 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | オキシイミノ酪酸誘導体の製法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES8506726A1 (es) | 1985-07-16 |
| DE3467579D1 (en) | 1987-12-23 |
| EP0117109A2 (en) | 1984-08-29 |
| JPH0145474B2 (ja) | 1989-10-03 |
| EP0117109B1 (en) | 1987-11-19 |
| US4547494A (en) | 1985-10-15 |
| EP0117109A3 (en) | 1985-08-28 |
| KR840007731A (ko) | 1984-12-10 |
| ES529966A0 (es) | 1985-07-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3750443T2 (de) | Cephalosporinverbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und antibakterielle Mittel. | |
| JPS59155391A (ja) | 新規セファロスポリン誘導体 | |
| BE897864A (fr) | Procede de production de composes de 3-vinyl-3-cephem 7-substitues et nouveaux produits ainsi obtenus | |
| AU612990B2 (en) | Antibiotic compounds | |
| JPS5951292A (ja) | セファロスポリン化合物 | |
| DE2225694A1 (de) | Cephalosporinverbindungen und Ver fahren zu deren Herstellung | |
| DE2739448A1 (de) | 7-substituierte aminoacetamido- oxadethiacephalosporine, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung bei der behandlung bakterieller erkrankungen | |
| JPH0633281B2 (ja) | 新規セファロスポリン化合物及び抗菌剤 | |
| JP3363157B2 (ja) | 抗菌性の置換７−アシルアミノ−３−（メチルヒドラゾノ）メチルセファロスポリンおよび中間体 | |
| DE69613385T2 (de) | Cephemverbindungen | |
| JPH06102667B2 (ja) | セファロスポリン化合物およびその用途 | |
| JPS62209082A (ja) | セフアロスポリン誘導体 | |
| KR870000611B1 (ko) | 세팔로스포린의 제조방법 | |
| JPH04266889A (ja) | 抗生物質ｃ−３カテコ−ル−置換セファロスボリン化合物、組成物およびその使用法 | |
| JPS638387A (ja) | セフエム化合物 | |
| JPH06145176A (ja) | セファロスポリン化合物、その製造法および中間体化合物 | |
| JPS59130878A (ja) | 新規なセフアロスポリン類及びその製造方法 | |
| JPS6117589A (ja) | 新規セフアロスポリン誘導体及びその製造法 | |
| CH640241A5 (de) | Cephalosporinverbindungen, verfahren zur herstellung derselben und solche wirksubstanzen enthaltende therapeutische praeparate. | |
| BE881870A (fr) | Nouvelles cephalosporines qui exercent une activite contre des organismes gram-negatifs | |
| JPS62161793A (ja) | 新規セフアロスポリン誘導体，その製法およびそれらを有効成分とする抗菌剤 | |
| JPH02288884A (ja) | 新規なセファロスポリン化合物 | |
| JPS63146887A (ja) | 新規なセファロスポリン化合物 | |
| BE890499A (fr) | Nouvelles cephalosporines, leur procede de preparation et leur application en therapeutique | |
| JPS60163816A (ja) | 抗菌剤 |