JPH02224285A - パルスガスレーザ発振装置 - Google Patents
パルスガスレーザ発振装置Info
- Publication number
- JPH02224285A JPH02224285A JP4293189A JP4293189A JPH02224285A JP H02224285 A JPH02224285 A JP H02224285A JP 4293189 A JP4293189 A JP 4293189A JP 4293189 A JP4293189 A JP 4293189A JP H02224285 A JPH02224285 A JP H02224285A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- gas laser
- anode
- laser oscillation
- pair
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明はガスレーザ発振装置に関する。
（従来の技術）
ＴＥＡＣＯレーザ、エキシマレーザ等のパルスガスレー
ザ発振装置では安定な主放電を得るために放電空間を予
備電離する方式が採られている。この予備電離方式には
コロナ放電、紫外線あるいはＸ線等が利用されている。
ザ発振装置では安定な主放電を得るために放電空間を予
備電離する方式が採られている。この予備電離方式には
コロナ放電、紫外線あるいはＸ線等が利用されている。
上記紫外線の予備電離方式を利用したガスレーザ発振装
置の一つとして第３図に示す特開昭６３−２２８７７４
号公報に開示されたものが知られている。すなわち、図
中（１）は陰極、（２）は陽極、（３）は陰極（１）お
よび陽極（２）を保持する保持板、（４ａ） 、 （４
ｂ）は予備電離のための複数対のピン電極、（５）は陰
極（１）側になる一方のピン電極（４ａ）に設けられた
ピーキングコンデンサ、（Ｂ）は共振器の一方をなす高
反射鏡、（７）は共振器の他方をなす出力鏡であり、共
振器以外の各要素はガスレーザ媒質が所定圧力で封入さ
れた図示せぬ気密容器内に設けられている。上記ピン電
極（４ａ） 、 （４ｂ）は共振軸方向に沿って陰極（
１）および陽極（２）の両側にほぼ同ピツチで設けられ
ている。また、ピン電極（４ａ） 、 （４ｂ）のギャ
ップ（８）は陰極（１）、陽極（２）の放電面から等距
離になる放電空間（９）のほぼ中央部分に位置させたも
のと、陰極（１）寄りに位置させたものとが共振軸方向
に沿って交互に配設されている。
置の一つとして第３図に示す特開昭６３−２２８７７４
号公報に開示されたものが知られている。すなわち、図
中（１）は陰極、（２）は陽極、（３）は陰極（１）お
よび陽極（２）を保持する保持板、（４ａ） 、 （４
ｂ）は予備電離のための複数対のピン電極、（５）は陰
極（１）側になる一方のピン電極（４ａ）に設けられた
ピーキングコンデンサ、（Ｂ）は共振器の一方をなす高
反射鏡、（７）は共振器の他方をなす出力鏡であり、共
振器以外の各要素はガスレーザ媒質が所定圧力で封入さ
れた図示せぬ気密容器内に設けられている。上記ピン電
極（４ａ） 、 （４ｂ）は共振軸方向に沿って陰極（
１）および陽極（２）の両側にほぼ同ピツチで設けられ
ている。また、ピン電極（４ａ） 、 （４ｂ）のギャ
ップ（８）は陰極（１）、陽極（２）の放電面から等距
離になる放電空間（９）のほぼ中央部分に位置させたも
のと、陰極（１）寄りに位置させたものとが共振軸方向
に沿って交互に配設されている。
（発明が解決しようとする課題）
上記従来の構成では陽極（２）側の放電空間の予備電離
が弱くなる欠点があった。また、陰極（１）寄りにギャ
ップ（８）を位置させたことから、各ギャップ（８）か
らの紫外線の内、放電面に平行な紫外線（１０）は第４
図に示すように、陰極（１）自体に直・接照射するので
、陰極（１）に直接照射した分だけ陰極（１）の放電面
を照射する紫外線の照射パワーが低くなる問題があった
。本発明はこの様な問題に対処するためになされたもの
で、より安定な主放電面が得られるガスレーザ発振装置
を提供することを目的とする。
が弱くなる欠点があった。また、陰極（１）寄りにギャ
ップ（８）を位置させたことから、各ギャップ（８）か
らの紫外線の内、放電面に平行な紫外線（１０）は第４
図に示すように、陰極（１）自体に直・接照射するので
、陰極（１）に直接照射した分だけ陰極（１）の放電面
を照射する紫外線の照射パワーが低くなる問題があった
。本発明はこの様な問題に対処するためになされたもの
で、より安定な主放電面が得られるガスレーザ発振装置
を提供することを目的とする。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段と作用）
上記課題を解決するためにガスレーザ媒質が所定圧力に
保たれたレーザ管と、このレーザ管内に所定の放電空間
をおいて対向配置された陰極および陽極と、上記陰極の
放電面の幅方向側部に長手方向に沿って所定間隔で設け
られた複数のピン電極対と、これらピン電極対に設けら
れた複数のピーキングコンデンサとを具備するガスレー
ザ発振装置において、上記複数のピン電極対はそのギャ
ップを上記陰極および陽極の放電面からほぼ等距離にな
る上記放電空間の中央部と上記陰極の放電面との中間に
位置する第１のピン電極対と、上記放電空間の中央部と
上記陽極の放電面との中間に位置する第２のピン電極対
とを備えた構成とし、放電面に予備電離が均一に作用す
る。
保たれたレーザ管と、このレーザ管内に所定の放電空間
をおいて対向配置された陰極および陽極と、上記陰極の
放電面の幅方向側部に長手方向に沿って所定間隔で設け
られた複数のピン電極対と、これらピン電極対に設けら
れた複数のピーキングコンデンサとを具備するガスレー
ザ発振装置において、上記複数のピン電極対はそのギャ
ップを上記陰極および陽極の放電面からほぼ等距離にな
る上記放電空間の中央部と上記陰極の放電面との中間に
位置する第１のピン電極対と、上記放電空間の中央部と
上記陽極の放電面との中間に位置する第２のピン電極対
とを備えた構成とし、放電面に予備電離が均一に作用す
る。
（実施例）
以下、実施例を示す図面に基づいて本発明を説明する。
第３図と共通する部分には同一符号を付して説明する。
第１図は本発明の一実施例で、従来と異なる点は放電空
間（９）の中央部を通る軸。
間（９）の中央部を通る軸。
線（１５）と陰極（１）の放電面（１６）との中間部に
ギャップ（１４ａ）を位置させた第１のピン電極（１７
ａ） 、 （１７ｂ）と、軸線（１５）と陽極（２）の
放電面（１８）との中間部、すなわち、軸線（１５）を
中心にギャップ（１４ａ）と対称にギャップ（１４ｂ）
を位置させた第２のピン電極（１９ａ） 、 （１９ｂ
）とを共振軸方向に沿って交互に配設したことにある。
ギャップ（１４ａ）を位置させた第１のピン電極（１７
ａ） 、 （１７ｂ）と、軸線（１５）と陽極（２）の
放電面（１８）との中間部、すなわち、軸線（１５）を
中心にギャップ（１４ａ）と対称にギャップ（１４ｂ）
を位置させた第２のピン電極（１９ａ） 、 （１９ｂ
）とを共振軸方向に沿って交互に配設したことにある。
上記の構成によって第２図に示すように、スパークする
ギャップの位置が横断面方向でみると、陰極（１）、陽
極（２）の片側ずつ二か所に設けられたことになり、し
かも各ギャップ（１４ａ） 、 （１４ｂ）からの紫外
線（２０ａ） 、 （２０ｂ）の内、平行に出る紫外線
が放電空間（９）に進む位置となる。このことから、陽
極（２）側のギャップ（１４ｂ）は第３図に示した従来
例と比べて陰極（１）の放電面（１Ｂ）に対してより離
れた位置となるため、放電面（１６）は急角度の条件で
照射される。このことは放電面（１８）においても同様
である。
ギャップの位置が横断面方向でみると、陰極（１）、陽
極（２）の片側ずつ二か所に設けられたことになり、し
かも各ギャップ（１４ａ） 、 （１４ｂ）からの紫外
線（２０ａ） 、 （２０ｂ）の内、平行に出る紫外線
が放電空間（９）に進む位置となる。このことから、陽
極（２）側のギャップ（１４ｂ）は第３図に示した従来
例と比べて陰極（１）の放電面（１Ｂ）に対してより離
れた位置となるため、放電面（１６）は急角度の条件で
照射される。このことは放電面（１８）においても同様
である。
［発明の効果］
放電空間内に紫外線が均等に照射されるとともに、放電
面へ急角度の入射によって放電面に凹凸がある場合でも
、凹部内まで紫外線が照射され、特に陰極（１）表面か
ら光電子放出が促進され、陰極（ｌ）、陽極（２）両方
の放電面全体からより均一に電子が放出される。このた
め、主放電がより安定するほか、放電空間の均一主放電
が達成され、出力鏡（７）から放出するレーザ光（Ｌ）
の強度分布が平坦化し、高反射鏡（６）、出力鏡（７）
への局部的な強い発振がなくなるので、これら鏡への熱
影響が極めて小さくなり、一方では装置の高寿命化、他
方では大電力の投入を可能ならしめて高出力化が達成で
きた。また強度分布の平坦化はたとえば半導体リソグラ
フィ、レーザマーカ等の加工分野においては、強度分布
を平坦化する光学系が不要となり、装置の小形化を計る
ことができた。
面へ急角度の入射によって放電面に凹凸がある場合でも
、凹部内まで紫外線が照射され、特に陰極（１）表面か
ら光電子放出が促進され、陰極（ｌ）、陽極（２）両方
の放電面全体からより均一に電子が放出される。このた
め、主放電がより安定するほか、放電空間の均一主放電
が達成され、出力鏡（７）から放出するレーザ光（Ｌ）
の強度分布が平坦化し、高反射鏡（６）、出力鏡（７）
への局部的な強い発振がなくなるので、これら鏡への熱
影響が極めて小さくなり、一方では装置の高寿命化、他
方では大電力の投入を可能ならしめて高出力化が達成で
きた。また強度分布の平坦化はたとえば半導体リソグラ
フィ、レーザマーカ等の加工分野においては、強度分布
を平坦化する光学系が不要となり、装置の小形化を計る
ことができた。
第１図は本発明の一実施例を示す側面図、第２図は第１
図中の■−■線部分の断面図、第３図は従来例を示す側
面図、第４図は第３図中のＩＶ−ＩＶ線部分における拡
大断面模式図である。 （１）・・・陰極 （２）・・・陽極
図中の■−■線部分の断面図、第３図は従来例を示す側
面図、第４図は第３図中のＩＶ−ＩＶ線部分における拡
大断面模式図である。 （１）・・・陰極 （２）・・・陽極
Claims (2)
- （１）ガスレーザ媒質が所定圧力に保たれたレーザ管と
、このレーザ管内に所定の放電空間をおいて対向配置さ
れた陰極および陽極と、上記陰極の放電面の幅方向側部
に長手方向に沿って所定間隔で設けられた複数のピン電
極対と、これらピン電極対に設けられた複数のピーキン
グコンデンサとを具備するガスレーザ発振装置において
、上記複数のピン電極対はそのギャップを上記陰極およ
び陽極の放電面からほぼ等距離になる上記放電空間の中
央部を中心にして上記陰極側になる第１のピン電極対と
、上記陽極側になる第２のピン電極対とを備えたことを
特徴とするパルスガスレーザ発振装置。 - （２）第１のピン電極対と第２のピン電極対少なくとも
一対を陰極および陽極の長手方向に沿って交互に配設し
た請求項１項記載のパルスガスレーザ発振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4293189A JPH02224285A (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | パルスガスレーザ発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4293189A JPH02224285A (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | パルスガスレーザ発振装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02224285A true JPH02224285A (ja) | 1990-09-06 |
Family
ID=12649762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4293189A Pending JPH02224285A (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | パルスガスレーザ発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02224285A (ja) |
-
1989
- 1989-02-27 JP JP4293189A patent/JPH02224285A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4584513B2 (ja) | 固体レーザー用の光増幅器装置（Ｖｅｒｓｔａｅｒｋｅｒ−Ａｎｏｒｄｎｕｎｇ） | |
| US4697271A (en) | Solid-state laser device capable of effectively exciting a plurality of slab-shaped laser media | |
| US5303254A (en) | Transversely discharge-pumped gas laser | |
| EP0504652B1 (en) | Gas laser oscillating device | |
| JPH02224285A (ja) | パルスガスレーザ発振装置 | |
| GB1054792A (ja) | ||
| JP2592821B2 (ja) | ガスレーザ装置 | |
| JP2666149B2 (ja) | 放電励起ガスレーザ装置の紫外線予備電離電極 | |
| JPH0738476B2 (ja) | スラブ型固体レーザ発振器 | |
| JPH0318752B2 (ja) | ||
| JPH0484474A (ja) | レーザ装置 | |
| JPS63202982A (ja) | レ−ザ発振装置 | |
| JPS61251087A (ja) | 放電励起型短パルスレ−ザ装置 | |
| JPS63129681A (ja) | エキシマレ−ザ装置 | |
| JPS6231185A (ja) | レ−ザ発振器 | |
| JPS63228682A (ja) | ガスレ−ザ発振装置 | |
| JPH0465174A (ja) | ガスレーザ装置 | |
| JPS63245977A (ja) | 紫外線励起型レ−ザ発振管 | |
| JPH01274485A (ja) | パルスレーザ装置 | |
| JPH0748577B2 (ja) | ガスレーザ装置 | |
| JPS62291188A (ja) | 放電型レ−ザ− | |
| JPH08279636A (ja) | レーザ発振装置 | |
| JPH01194374A (ja) | ガスレーザ発振装置 | |
| JPS63217681A (ja) | パルスガスレ−ザ装置 | |
| JPH05259555A (ja) | 高繰返しパルスレーザ電極 |