JPH02229143A - 1,3―ジヒドロキシ―4,6―ジアミノベンゼン又はその塩の製造方法 - Google Patents
1,3―ジヒドロキシ―4,6―ジアミノベンゼン又はその塩の製造方法Info
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- JPH02229143A JPH02229143A JP1049929A JP4992989A JPH02229143A JP H02229143 A JPH02229143 A JP H02229143A JP 1049929 A JP1049929 A JP 1049929A JP 4992989 A JP4992989 A JP 4992989A JP H02229143 A JPH02229143 A JP H02229143A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、ポリヘンゾピスオキザゾール(以下PBOと
略称する)のモノマーである1、3−ジヒドロキシ−4
,6−ジアミツヘンゼン又はその塩を新規な工程で得る
製法に関する。
略称する)のモノマーである1、3−ジヒドロキシ−4
,6−ジアミツヘンゼン又はその塩を新規な工程で得る
製法に関する。
PBOのポリリン酸溶液である液晶性トープから作られ
る糸及び膜は、高強度、高弾性率を有し、又耐熱性、耐
薬品性に非常に優れた特性を有するポリマーであり、産
業上きわめて有用性が高い(特公昭61−501452
号公報)。
る糸及び膜は、高強度、高弾性率を有し、又耐熱性、耐
薬品性に非常に優れた特性を有するポリマーであり、産
業上きわめて有用性が高い(特公昭61−501452
号公報)。
下記にPBOの一般の構造式を示す。
一方、PBOを合成するモノマーには、1.3−ジヒド
ロキシ−4,6−ジアミツヘンゼンまたはその塩(以下
略してD A OHと称する)とテレフタレール酸が用
いられる。従来、DAOI+は、例えば下記の反応工程
によって得られていた。(Ber、 Dtsch、 C
hemGes、、 16.552(1883)、)(イ
) (ロ) (ハ) (ニ) しかしながら、従来の技術による場合、中間生成物にジ
ニトロレゾルシン(ハ)が得られ、これは象、速に加熱
したり強い衝撃を与えることによって爆発性を持つ。さ
らに、レゾルシン(イ)のニトロ化の際に反応副産物と
してトリニトロ体が生じ、これもさらに爆発性の高い物
質であることが知られている。これらの事実は、産業上
危険性をはらみ、管理上も安全面から十分な注意が必要
である。尚、ニトロ化効率も30%と悪かった。先に、
本発明者らは、新規な化合物1.3−ショウド−4゜6
−ジアミツベンゼン又はそのg導体を得ることに成功し
た(特願昭63−65887号)。
ロキシ−4,6−ジアミツヘンゼンまたはその塩(以下
略してD A OHと称する)とテレフタレール酸が用
いられる。従来、DAOI+は、例えば下記の反応工程
によって得られていた。(Ber、 Dtsch、 C
hemGes、、 16.552(1883)、)(イ
) (ロ) (ハ) (ニ) しかしながら、従来の技術による場合、中間生成物にジ
ニトロレゾルシン(ハ)が得られ、これは象、速に加熱
したり強い衝撃を与えることによって爆発性を持つ。さ
らに、レゾルシン(イ)のニトロ化の際に反応副産物と
してトリニトロ体が生じ、これもさらに爆発性の高い物
質であることが知られている。これらの事実は、産業上
危険性をはらみ、管理上も安全面から十分な注意が必要
である。尚、ニトロ化効率も30%と悪かった。先に、
本発明者らは、新規な化合物1.3−ショウド−4゜6
−ジアミツベンゼン又はそのg導体を得ることに成功し
た(特願昭63−65887号)。
本発明は、1,3−ジョウトー4.6−ジアミツベンゼ
ン又はその誘導体を含む1,3−ジハロ−4,6−ジア
ミツベンゼン誘導体をD A 011の合成の中間体と
して利用することにより、危険性の高いニトロ化合物を
中間体とする反応工程を通らず、前期のモノマーDAO
Hを得る方法を提供することを目的としている。
ン又はその誘導体を含む1,3−ジハロ−4,6−ジア
ミツベンゼン誘導体をD A 011の合成の中間体と
して利用することにより、危険性の高いニトロ化合物を
中間体とする反応工程を通らず、前期のモノマーDAO
Hを得る方法を提供することを目的としている。
上記目的を達成した本発明は次の通りである。
即ち、本発明は、
一般式
(式中Xは、塩素、臭素、ヨウ素、及びフッ素原子から
選ばれた基であり、式中R1は水素原子及びアミノ基の
保護基であり、また、該式の化合物は酸性塩であっても
よい。)で表わされる1、3−ジハロ−4,6−ジアミ
ツベンゼン誘導体を有機液相中で金属アルコラード及び
銅含有触媒存在下に於て反応させ、ついで酸性溶液中で
還元剤存在下で処理することを特徴とする1、3−ジヒ
「ワキシー4.6−ジアミツベンゼン又はその塩の製造
方法である。
選ばれた基であり、式中R1は水素原子及びアミノ基の
保護基であり、また、該式の化合物は酸性塩であっても
よい。)で表わされる1、3−ジハロ−4,6−ジアミ
ツベンゼン誘導体を有機液相中で金属アルコラード及び
銅含有触媒存在下に於て反応させ、ついで酸性溶液中で
還元剤存在下で処理することを特徴とする1、3−ジヒ
「ワキシー4.6−ジアミツベンゼン又はその塩の製造
方法である。
本発明の1,3−ジヒドロキシ−4,6−ジアミツベン
ゼン又はその塩の製造方法は、1.3−ジハロ−4,6
ジアミノベンゼン誘導体を出発物質として二段階反応に
よってなる。
ゼン又はその塩の製造方法は、1.3−ジハロ−4,6
ジアミノベンゼン誘導体を出発物質として二段階反応に
よってなる。
出発物質1,3−ジハロ−4,6−ジアミツベンゼン誘
導体は、下(式A)によって示され、 式中χは、独立に塩素、臭素、ヨウ素、及びフッ素原子
から選ばれた基であり、(本発明において明細書内では
ハロは塩素、臭素、ヨウ素、及びフン素原子を意味する
。但し、好ましくはヨウ素がよい。)、式中R,は独立
に水素原子及びアミノ基の保護基として知られるもので
あるアシル基、尿素及びウレタン残基、アルキル及びア
リール基を示す。例えば、−COCII3.−COC,
R5,−Coal、−QCI(。
導体は、下(式A)によって示され、 式中χは、独立に塩素、臭素、ヨウ素、及びフッ素原子
から選ばれた基であり、(本発明において明細書内では
ハロは塩素、臭素、ヨウ素、及びフン素原子を意味する
。但し、好ましくはヨウ素がよい。)、式中R,は独立
に水素原子及びアミノ基の保護基として知られるもので
あるアシル基、尿素及びウレタン残基、アルキル及びア
リール基を示す。例えば、−COCII3.−COC,
R5,−Coal、−QCI(。
oczusなどである。但し、これらのR1はアミン基
の保護基として導入されるものであり、ここに表わされ
たものに限定されるものではない。また、(式A)の化
合物は塩酸、燐酸、硫酸、硝酸、炭酸などの酸性塩であ
ってもよい。
の保護基として導入されるものであり、ここに表わされ
たものに限定されるものではない。また、(式A)の化
合物は塩酸、燐酸、硫酸、硝酸、炭酸などの酸性塩であ
ってもよい。
まず第一段階は、1,3−ジハロ−4,6−ジアミツヘ
ンゼン誘導体と金属アルコラードを有機液相中で銅含有
触媒存在下に於て反応させ安定な中間物質を得る。−船
釣な反応式は次の通りである。
ンゼン誘導体と金属アルコラードを有機液相中で銅含有
触媒存在下に於て反応させ安定な中間物質を得る。−船
釣な反応式は次の通りである。
式中R,,Xは前記に示した通りである。l?OMは金
属アルコラードを示す。Rは炭化水素鎖C711□7゜
1(但しnは1から10の整数)であり、例えば、C1
1+、−CzHs、CJt、 Ctl(C1h) 2
.C4H9CH(CHz)zである。又、目はアルカリ
金属、アルカリ土類金属などであり、Na+ K+ L
i、 Mg+ Caなどをいう。但し、アルカリ土類金
属などの二価の金属アルコラードの場合、反応式中でR
OMは(RO) zhと表わされる。
属アルコラードを示す。Rは炭化水素鎖C711□7゜
1(但しnは1から10の整数)であり、例えば、C1
1+、−CzHs、CJt、 Ctl(C1h) 2
.C4H9CH(CHz)zである。又、目はアルカリ
金属、アルカリ土類金属などであり、Na+ K+ L
i、 Mg+ Caなどをいう。但し、アルカリ土類金
属などの二価の金属アルコラードの場合、反応式中でR
OMは(RO) zhと表わされる。
使用する金属アルコラードの量は、1,3−ジハロ4.
6−ジアミツベンゼン誘導体に対して0.5〜10II
IoQ%(好ましくは1〜5moj2%)である。
6−ジアミツベンゼン誘導体に対して0.5〜10II
IoQ%(好ましくは1〜5moj2%)である。
銅含有触媒としては、好ましくは、ヨウ化第−銅、塩化
第一銅または酸化第一・銅であり、使用する触媒量は1
,3−ジハロ−4,6−ジアミツヘンセンに対して04
01〜5重量%(好ましくは0.1〜1.0重量%)の
量がよい。
第一銅または酸化第一・銅であり、使用する触媒量は1
,3−ジハロ−4,6−ジアミツヘンセンに対して04
01〜5重量%(好ましくは0.1〜1.0重量%)の
量がよい。
木ノラ法で使用する反応媒体は、反応中安定ならはとん
な有機溶媒でも使用できるが、好ましい反応媒体は、メ
タノール、エタノールなどのアルコール、ジメチルスル
ホキシド、N−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミ
ドなどであり、又これらの混合物も使用することもでき
る。金属アルコラードが分解したり目的とする中間物以
外の不純物が出来るため、使用する反応媒体中には好ま
しくは水は含まれない方がよく、出来る限り11000
pp以下(より好ましくは1100pp以下)にして反
応させた方がよい。反応溶媒量は所望の1.3−ジヒド
ロキシ−4,6−ジアミツベンセン誘導体を得るに適当
な量の前記溶媒を使用できるが、好ましくば1,3ジハ
ロ−4,6−ジアミツヘンセン誘導体1グラムあたり1
〜500g (より好ましくは5g〜100g)であ
る。
な有機溶媒でも使用できるが、好ましい反応媒体は、メ
タノール、エタノールなどのアルコール、ジメチルスル
ホキシド、N−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミ
ドなどであり、又これらの混合物も使用することもでき
る。金属アルコラードが分解したり目的とする中間物以
外の不純物が出来るため、使用する反応媒体中には好ま
しくは水は含まれない方がよく、出来る限り11000
pp以下(より好ましくは1100pp以下)にして反
応させた方がよい。反応溶媒量は所望の1.3−ジヒド
ロキシ−4,6−ジアミツベンセン誘導体を得るに適当
な量の前記溶媒を使用できるが、好ましくば1,3ジハ
ロ−4,6−ジアミツヘンセン誘導体1グラムあたり1
〜500g (より好ましくは5g〜100g)であ
る。
反応温度は、所望の生成物が製造されるあらゆる温度で
行うことが出来るが、好ましくは100〜250 ’C
に保つことがよい。圧力は通常自然圧力であるが、オー
トクレーブ中自生圧下であることが望ましい。また、よ
り高い圧力が任意に窒素または他の不活性ガスの存在下
に使用されうる。
行うことが出来るが、好ましくは100〜250 ’C
に保つことがよい。圧力は通常自然圧力であるが、オー
トクレーブ中自生圧下であることが望ましい。また、よ
り高い圧力が任意に窒素または他の不活性ガスの存在下
に使用されうる。
また、反応は、不純物の生成を防くために不活性ガス雰
囲気下で行うのが望ましい。
囲気下で行うのが望ましい。
反応後、ハロゲン化物はハロゲン単独に再転化されうる
。
。
第一段階で得られた1、3−ジアルコキシ−46−ジア
ミツベンゼン誘導体は、単離してもそのままの状態でも
第二段階に移ることが出来るが、好ましくは塩酸などを
反応液に添加することによって有機溶媒から1,3−ジ
アルコキシ−4,6−ジアミツヘンセン誘導体を単離し
たほうがよい。
ミツベンゼン誘導体は、単離してもそのままの状態でも
第二段階に移ることが出来るが、好ましくは塩酸などを
反応液に添加することによって有機溶媒から1,3−ジ
アルコキシ−4,6−ジアミツヘンセン誘導体を単離し
たほうがよい。
第二段階の反応としては、1.3−ジアルコキシ−46
−ジアミツベンゼン誘導体を酸性溶液中、還元剤存在下
で反応し1.3−ジヒドロキシ−4,6−ジアミツヘン
セン又はその塩を製造する。−船釣な反応式%式% 式中R,,Rは前記の定義どおりである。
−ジアミツベンゼン誘導体を酸性溶液中、還元剤存在下
で反応し1.3−ジヒドロキシ−4,6−ジアミツヘン
セン又はその塩を製造する。−船釣な反応式%式% 式中R,,Rは前記の定義どおりである。
1.3−ジアルコキシ−4,6−ジアミツヘンゼン誘導
体を1,3−ジヒドロキシ−4,6−ジアミツヘンゼン
にする方法は、例えば、塩化第一錫、鉄粉、錫、パラジ
ウムなどの還元剤を酸性媒体中で使用することにより生
成させることが出来る。還元剤は、目的物質である1、
3−ジヒドロキシ−4,6−ジアミツベンゼンが、酸化
によって容易に変性するため、これを防止する目的のた
めに使用する。酸化反応媒体としては、濃塩酸、臭化水
素酸、ヨウ化水素酸等がそのまま用いられる。還元の反
応は、好ましくは塩化第−錫一臭化水素酸の組合せが望
ましい。反応は不活性ガス雰囲気下であるのが望ましく
、反応温度は生成物が生成するあらゆる温度条件でよい
が、好ましくは0〜100°Cである。この場合、通常
はアミン塩を溶液より沈澱させ、濾別することができる
。その後、生成物を再結晶により精製することが出来る
。また、得られた1、3ジヒドロキシ−4,6−ジアミ
ツヘンゼン塩は他の塩の形にも変えられる。
体を1,3−ジヒドロキシ−4,6−ジアミツヘンゼン
にする方法は、例えば、塩化第一錫、鉄粉、錫、パラジ
ウムなどの還元剤を酸性媒体中で使用することにより生
成させることが出来る。還元剤は、目的物質である1、
3−ジヒドロキシ−4,6−ジアミツベンゼンが、酸化
によって容易に変性するため、これを防止する目的のた
めに使用する。酸化反応媒体としては、濃塩酸、臭化水
素酸、ヨウ化水素酸等がそのまま用いられる。還元の反
応は、好ましくは塩化第−錫一臭化水素酸の組合せが望
ましい。反応は不活性ガス雰囲気下であるのが望ましく
、反応温度は生成物が生成するあらゆる温度条件でよい
が、好ましくは0〜100°Cである。この場合、通常
はアミン塩を溶液より沈澱させ、濾別することができる
。その後、生成物を再結晶により精製することが出来る
。また、得られた1、3ジヒドロキシ−4,6−ジアミ
ツヘンゼン塩は他の塩の形にも変えられる。
単離された1、3−ジヒドロキシ−4,6−ジアミツヘ
ンゼン塩は、空気中の酸素などにより簡単に酸化される
ため保存には十分注意を要する。このため、例えば窒素
ガス置換した容器中で冷開所に保存するとよい。
ンゼン塩は、空気中の酸素などにより簡単に酸化される
ため保存には十分注意を要する。このため、例えば窒素
ガス置換した容器中で冷開所に保存するとよい。
以下に本発明を実施例をもって詳しく説明するが、本発
明は決してこれらに限定されるものではない。
明は決してこれらに限定されるものではない。
実施例1
1.3−ジヨウビー4,6−ジアミツヘンゼンシアセチ
ル化物Logとナトリウムメチラー1−5、Ogとヨウ
化銅0.5gと100gの無水メタノールを窒素置換し
た反応容器にいれ、180°CC11Oatで6時間反
応した。その後、取り出した混合物に、塩化第一錫を1
00g溶解させた濃臭化水素酸300戚を窒素ガス雰囲
気撹拌下、4時間で添加した。沈澱物を濾別し6N−塩
酸で再結晶させDAO)Iを2.3g(収率49%)得
た。再結晶は以下の方法で行った。塩化第一錫を6g、
活性炭2gを入れた塩酸200 mlに上記沈澱物をい
れ、窒素雰囲気下で90°Cで未溶解物を濾別した。濾
液を0°Cに冷却し再結晶させ、濾別し、アセトンで洗
浄後、真空乾燥(室温)した。
ル化物Logとナトリウムメチラー1−5、Ogとヨウ
化銅0.5gと100gの無水メタノールを窒素置換し
た反応容器にいれ、180°CC11Oatで6時間反
応した。その後、取り出した混合物に、塩化第一錫を1
00g溶解させた濃臭化水素酸300戚を窒素ガス雰囲
気撹拌下、4時間で添加した。沈澱物を濾別し6N−塩
酸で再結晶させDAO)Iを2.3g(収率49%)得
た。再結晶は以下の方法で行った。塩化第一錫を6g、
活性炭2gを入れた塩酸200 mlに上記沈澱物をい
れ、窒素雰囲気下で90°Cで未溶解物を濾別した。濾
液を0°Cに冷却し再結晶させ、濾別し、アセトンで洗
浄後、真空乾燥(室温)した。
実施例2
1.3−ジブロム−4,6−ジアミツヘンゼンジアセチ
ル化物Logとナトリウムメチラート4.0gとヨウ化
銅0.5gと100gの無水メタノールを窒素置換した
反応容4にいれ、220 ”CC115atで6時間反
応した。その後、取り出した混合物に、塩化第一錫を1
00g溶解させた濃塩酸300 mIlを窒素ガス雰囲
気撹拌下、4時間で添加した。沈澱物を濾別し6N−塩
酸で再結晶させたDAOHを2.53g (収率42
%)得た。
ル化物Logとナトリウムメチラート4.0gとヨウ化
銅0.5gと100gの無水メタノールを窒素置換した
反応容4にいれ、220 ”CC115atで6時間反
応した。その後、取り出した混合物に、塩化第一錫を1
00g溶解させた濃塩酸300 mIlを窒素ガス雰囲
気撹拌下、4時間で添加した。沈澱物を濾別し6N−塩
酸で再結晶させたDAOHを2.53g (収率42
%)得た。
実施例3
1.3−ジョウドー4,6−ジアミツベンゼンジアセチ
ル化物10gとカリウム−ter t−ブチラード5.
5gとヨウ化銅0.5gと100gの無水メタノールを
窒素置換した反応容器にいれ、180°CC11Oat
で6時間反応した。その後、取り出した混合物に、塩化
第一錫を100g溶解させた濃臭化水素酸300 mR
を窒素ガス雰囲気撹拌下、4時間で添加した。沈澱物を
濾別し6N−塩酸で再結晶させD A 011を2.6
3g (収率55%)得た。
ル化物10gとカリウム−ter t−ブチラード5.
5gとヨウ化銅0.5gと100gの無水メタノールを
窒素置換した反応容器にいれ、180°CC11Oat
で6時間反応した。その後、取り出した混合物に、塩化
第一錫を100g溶解させた濃臭化水素酸300 mR
を窒素ガス雰囲気撹拌下、4時間で添加した。沈澱物を
濾別し6N−塩酸で再結晶させD A 011を2.6
3g (収率55%)得た。
実施例4
■、3−ジョウドー4,6−ジアミツヘンゼンジアセチ
ル化物10gとカリウム−ter t−ブチラー1−5
.5gとヨウ化銅0.5gと100gの無水ジメチルス
ルホキシドを窒素置換した反応容器にいれ、190°C
で6時間還流した。その後、取り出した混合物に、塩化
第一錫を100g溶解させた濃塩酸300rtdlを窒
素ガス雰囲気撹拌下、4時間で添加した。
ル化物10gとカリウム−ter t−ブチラー1−5
.5gとヨウ化銅0.5gと100gの無水ジメチルス
ルホキシドを窒素置換した反応容器にいれ、190°C
で6時間還流した。その後、取り出した混合物に、塩化
第一錫を100g溶解させた濃塩酸300rtdlを窒
素ガス雰囲気撹拌下、4時間で添加した。
沈澱物を濾別し6N−塩酸で再結晶させDAOHを2.
14g (収率45%)得た。
14g (収率45%)得た。
実施例で得られたDAOllは元素分析(第1表)、赤
外吸収分析(第1図)、質量分析(ダイレクトマススペ
クトル、CI法)(第2図)、液体クロマトグラフにて
確認した。
外吸収分析(第1図)、質量分析(ダイレクトマススペ
クトル、CI法)(第2図)、液体クロマトグラフにて
確認した。
液体クロマトグラフ(検出機(UV)、カラム:TSK
gel、ODS、80TM X溶離液:メタノール/水
−773、流量: 0.5 mu / min、)によ
り室温で分離すると各実施例で得られた生成物は、いず
れも3.6m1n、付近に検出ピークを持っていた。
gel、ODS、80TM X溶離液:メタノール/水
−773、流量: 0.5 mu / min、)によ
り室温で分離すると各実施例で得られた生成物は、いず
れも3.6m1n、付近に検出ピークを持っていた。
という産業上優れた特徴を有する。
第1図は、実施例1で得られたDAOHの赤外吸収スペ
クトルの結果を示す図である。 第2図は、実施例1で得られたD A OI+の質量分
析(ダイレクトマススペクトル、CI法)の結果を示す
図である。 特許出願人 旭化成工業株式会社 〔発明の効果〕
クトルの結果を示す図である。 第2図は、実施例1で得られたD A OI+の質量分
析(ダイレクトマススペクトル、CI法)の結果を示す
図である。 特許出願人 旭化成工業株式会社 〔発明の効果〕
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Xは、塩素、臭素、ヨウ素、及びフッ素原子から
選ばれた基であり、式中R_1は水素原子及びアミノ基
の保護基であり、また、該式の化合物は酸性塩であって
もよい。)で表わされる1,3−ジハロ−4,6−ジア
ミノベンゼン誘導体を有機液相中で金属アルコラート及
び銅含有触媒存在下に於て反応させ、ついで酸性溶液中
で還元剤存在下で処理することを特徴とする1,3−ジ
ヒドロキシ−4,6−ジアミノベンゼン又はその塩の製
造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1049929A JPH02229143A (ja) | 1989-03-03 | 1989-03-03 | 1,3―ジヒドロキシ―4,6―ジアミノベンゼン又はその塩の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1049929A JPH02229143A (ja) | 1989-03-03 | 1989-03-03 | 1,3―ジヒドロキシ―4,6―ジアミノベンゼン又はその塩の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02229143A true JPH02229143A (ja) | 1990-09-11 |
Family
ID=12844706
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1049929A Pending JPH02229143A (ja) | 1989-03-03 | 1989-03-03 | 1,3―ジヒドロキシ―4,6―ジアミノベンゼン又はその塩の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02229143A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995017374A1 (en) * | 1993-12-23 | 1995-06-29 | The Dow Chemical Company | A process for the preparation of diaminoresorcinol |
| WO1995017372A1 (en) * | 1993-12-23 | 1995-06-29 | The Dow Chemical Company | A method of cleaving arylethers |
| US6222074B1 (en) | 1998-01-27 | 2001-04-24 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Process for preparation of 4,6-diaminoresorcinol or salts thereof |
-
1989
- 1989-03-03 JP JP1049929A patent/JPH02229143A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995017374A1 (en) * | 1993-12-23 | 1995-06-29 | The Dow Chemical Company | A process for the preparation of diaminoresorcinol |
| WO1995017372A1 (en) * | 1993-12-23 | 1995-06-29 | The Dow Chemical Company | A method of cleaving arylethers |
| US5463129A (en) * | 1993-12-23 | 1995-10-31 | The Dow Chemical Company | Cleaving arylethers |
| US6222074B1 (en) | 1998-01-27 | 2001-04-24 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Process for preparation of 4,6-diaminoresorcinol or salts thereof |
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