JPH0222985Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0222985Y2 JPH0222985Y2 JP1983184671U JP18467183U JPH0222985Y2 JP H0222985 Y2 JPH0222985 Y2 JP H0222985Y2 JP 1983184671 U JP1983184671 U JP 1983184671U JP 18467183 U JP18467183 U JP 18467183U JP H0222985 Y2 JPH0222985 Y2 JP H0222985Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- heat treatment
- tube
- heater section
- treatment furnace
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Furnace Details (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(1) 考案の技術分野
本考案は熱処理炉、特に反応管およびヒータ部
とを垂直に配置する縦型の熱処理炉に関する。
とを垂直に配置する縦型の熱処理炉に関する。
(2) 技術の背景
熱処理炉はCVD装置あるいは拡散炉等に使用
されているが、半導体基板の熱処理にあたつては
特に炉内の温度分布を均一にし、また制度の高い
温度制御を行う必要がある。
されているが、半導体基板の熱処理にあたつては
特に炉内の温度分布を均一にし、また制度の高い
温度制御を行う必要がある。
(3) 従来技術と問題点
第１図は従来の縦型熱処理炉の構造を示す断面
図である。図中、１は石英管、２はヒータ部であ
る。
図である。図中、１は石英管、２はヒータ部であ
る。
従来の縦型熱処理炉の場合、ヒータ部２の中に
入る内部治具例えば石英管１との間にすきまがあ
るため、上昇気流の発生により矢印で示すような
対流が起こる。そのため炉内の位置によつて温度
差が生ずるという欠点がある。
入る内部治具例えば石英管１との間にすきまがあ
るため、上昇気流の発生により矢印で示すような
対流が起こる。そのため炉内の位置によつて温度
差が生ずるという欠点がある。
(4) 考案の目的
本考案は石英管とヒータ部との間の空間をいく
つかの遮熱板でしきることによつて形成される各
部屋ごとで対流を起させ放熱がないようにして炉
内の温度分布を均一にすることを目的とするもの
である。
つかの遮熱板でしきることによつて形成される各
部屋ごとで対流を起させ放熱がないようにして炉
内の温度分布を均一にすることを目的とするもの
である。
(5) 考案の構成
上記の目的は、被処理物を収容する垂直に設置
される管と、前記管の周囲に配置されたヒータ部
とを備える縦型の熱処理炉において、前記管と前
記ヒータ部との間の空間に前記ヒータ部より部分
的に突出してなり、且つ前記管の直径方向に拡が
る遮熱板を複数枚配置したことを特徴とする熱処
理炉によつて達成される。
される管と、前記管の周囲に配置されたヒータ部
とを備える縦型の熱処理炉において、前記管と前
記ヒータ部との間の空間に前記ヒータ部より部分
的に突出してなり、且つ前記管の直径方向に拡が
る遮熱板を複数枚配置したことを特徴とする熱処
理炉によつて達成される。
(6) 考案の実施例
以下図を用いて本考案の一実施例を説明する。
第２図ａは本考案の一実施例である縦型処理炉の
断面図、第２図ｂは第２図ａに於いてＡ−A′で
示す部分の断面図である。
第２図ａは本考案の一実施例である縦型処理炉の
断面図、第２図ｂは第２図ａに於いてＡ−A′で
示す部分の断面図である。
図中３は遮熱板であり、第１図と同一部位は同
一番号で示す。本考案に於いては第２図の如く炉
内の石英管１と、ヒータ部２との間の空間に一定
間隔をおいて遮熱板３を取り付けて、前記空間を
いくつかの部屋のように分ける。そして各部屋の
中で対流を起こさせて、温度変化を小さくし、炉
内の温度分布が均一になる様にしている。この様
にすることで対流の影響を受けず、炉のどの部分
に於いても温度を均一にすることが可能となる。
一番号で示す。本考案に於いては第２図の如く炉
内の石英管１と、ヒータ部２との間の空間に一定
間隔をおいて遮熱板３を取り付けて、前記空間を
いくつかの部屋のように分ける。そして各部屋の
中で対流を起こさせて、温度変化を小さくし、炉
内の温度分布が均一になる様にしている。この様
にすることで対流の影響を受けず、炉のどの部分
に於いても温度を均一にすることが可能となる。
(7) 考案の効果
以上説明した様に本考案によれば、例えば半導
体装置の製造に使用されるCVD装置、拡散炉に
おいて、炉内に複数の遮熱板を取り付けることに
よつて、炉内が各部屋に分かれヒータ部からの熱
と、内部治具からの輻射熱の逃げを小さくし、炉
全体の温度分布を向上させることができる。それ
に伴つて温度制御の精度も向上し、温度制御が容
易になる。
体装置の製造に使用されるCVD装置、拡散炉に
おいて、炉内に複数の遮熱板を取り付けることに
よつて、炉内が各部屋に分かれヒータ部からの熱
と、内部治具からの輻射熱の逃げを小さくし、炉
全体の温度分布を向上させることができる。それ
に伴つて温度制御の精度も向上し、温度制御が容
易になる。
第１図は従来の縦型熱処理炉の構造を示す断面
図、第２図ａは本考案の一実施例である縦型熱処
理炉の断面図、第２図ｂは第２図ａに於いてＡ−
A′で示す部分の断面図である。 １……石英管、２……ヒータ部、３……遮熱
板。
図、第２図ａは本考案の一実施例である縦型熱処
理炉の断面図、第２図ｂは第２図ａに於いてＡ−
A′で示す部分の断面図である。 １……石英管、２……ヒータ部、３……遮熱
板。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 被処理物を収容する垂直に設置される管と、前
記管の周囲に配置されたヒータ部とを備える縦型
の熱処理炉において、 前記管と前記ヒータ部との間の空間に前記ヒー
タ部より部分的に突出してなり、且つ前記管の直
径方向に拡がる遮熱板を複数枚配置したことを特
徴とする熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983184671U JPS6092826U (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983184671U JPS6092826U (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 熱処理炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6092826U JPS6092826U (ja) | 1985-06-25 |
| JPH0222985Y2 true JPH0222985Y2 (ja) | 1990-06-21 |
Family
ID=30399354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1983184671U Granted JPS6092826U (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6092826U (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3242281B2 (ja) * | 1995-03-13 | 2001-12-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置 |
| JP6333128B2 (ja) | 2014-09-03 | 2018-05-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 磁気アニール装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5124955Y2 (ja) * | 1971-06-16 | 1976-06-25 |
-
1983
- 1983-11-30 JP JP1983184671U patent/JPS6092826U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6092826U (ja) | 1985-06-25 |
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