JPH02230608A - Tabテープ用素材およびtabテープ - Google Patents

Tabテープ用素材およびtabテープ

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JPH02230608A
JPH02230608A JP4859289A JP4859289A JPH02230608A JP H02230608 A JPH02230608 A JP H02230608A JP 4859289 A JP4859289 A JP 4859289A JP 4859289 A JP4859289 A JP 4859289A JP H02230608 A JPH02230608 A JP H02230608A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper foil
tab tape
polyimide film
leads
tape
Prior art date
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Pending
Application number
JP4859289A
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English (en)
Inventor
Masaki Baba
馬場 順己
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は伸縮性の少ない新規なTABテープ用素材及び
TAB用テープに関する。
[従来の技術] 通常、TABテープは開口部を有する125μm程度の
厚みのポリイミドフィルム1に厚みが35μ直の銅箔を
接着し、この銅箔をフォト・エッチングして配線パター
ンを形成している.この配線パターンのフィンガーリー
ド部は前記開口部に片持ち状に張り出しており、使用に
際してはフィンガーリード先端部が半導体素子の電極部
に加熱圧着される.この際、ポリイミドフィルムは僅か
に収縮する。この収縮率は、例えば、市販のポリイミド
フィルムであるカプトンH(デュポン社製)のみをTA
Bテープ用素材として用いた場合には150゜Cで0.
07χであり、200°Cで0、13χであり、250
゜C テ0.22 Z テ%り、300゜c テo.3
zであり、コービレックスSS(宇部興産製)のみをT
ABテープ用素材として用いた場合には150゜C T
 O.03 zテあり、200°C テ0.06 Zで
あり、250゜Cで0.08χであり、300゜Cで0
.2zである. このようにTABテープ用素材としてポリイミドフィル
ムのみを用いた場合の収縮率はO.n%以下と僅かでは
あるが、100 X 100μm程度の半導体素子の電
極部にとっては重要な問題となってくる.例えば、13
 X 13 a++aの半導体素子の一辺に、幅が約1
00μmの電極が125μmピッチで100個並んでい
る場合に、0.3%の収縮率で一辺につき約40μmの
累積誤差が生じることになる。このような場合、半導体
素子の一辺の片側の!極中心をフィンガーリードの中心
に合せると、他端の電極が対応するフィンガーリード先
端部よりはみだしてしまい、その結果、TAB方式を適
用することは困難となるからである。
[発明が解決しようとする課題] 本発明は上記問題点を解消し、伸縮の少ない新規なTA
B用テープ素材及びこれを用いたTAB用テープを提供
するものである。
[課題を解決するための手段] 上記課題を解決するための本発明の方法は、銅箔の少な
くとも片面にポリイミドフィルムを有するTABテープ
用素材であり、銅箔の少なくとも片面にポリイミドフィ
ルムを有し、ポリイミドフィルムの銅箔と相対する表面
に配線パターンを有するTABテープである。
[作用] 以下、本発明を実施の一例を用いて説明する。
第1図は本発明のTABテープの実施の1例を示したも
のであり、銅箔1と、その両面に接着剤2で接着された
ポリイミドフィルム3からなるTABテープ用素材4と
、該素材4の中央部に開けられたデバイスホール5に、
そのフィンガーリード6が片持ち状に張り出すように設
けられた配線パターン7からなるTABテープの断面図
であり、第2図は該TABテープの平面図である. こ
のTABテープの製造に際しては、幅35 mm、厚さ
35μmの銅箔の両面に約20μIで接着剤を塗布し、
その上から厚さ25〜30μmのポリイミドフィルムを
張合わせて得られたT A. Bテーブ用素材の片面に
約20μmの接着剤を塗布し、中央部に、半導体素子よ
り少しだけ大きなデバイスホールを開け、その上に幅2
6 mm、厚さ35μmの銅箔を接合し、この銅箔をフ
ォトエッチングによりそのフィンガーリードがデバイス
ホールより片持ち状に張り出す用に所望の配線パターン
を形成するのである. 本発明において銅箔の少なくとも片面にポリイミドフィ
ルムを接合するのは銅箔によりポリイミドフィルムの加
熱収縮を押え、TABテープ用素材の自体の加熱収縮を
小さくするためである。よって、用いる銅箔の厚みはポ
リイミドフィルムの加熱収縮の程度に応じて変化させる
ことが望ま17い 本実施例のTAB用テープ素材は銅箔の両面にポリイミ
ドフィルムを接合したものであり、当然両面が絶縁され
ているが、両面の絶縁を不要とする場合には銅箔の片面
のみにポリイミドフィルムを接合すれば良い. また、両面に配線パターンをもつTA.Bテーブを作成
する場合にはTABテープ用素材の両面にパターン形成
用銅箔を接合し、これらを用いてバターニングし配線パ
ターンを形成すれば良い。更に、上記実施例のTABテ
ープのデバイスホールは半導体素子上の電極とフィンガ
ーリード先端部の接合時の位置合せをしやすくするため
に設けたものであり、必ずしも必要とされるものではな
い3なお、銅箔のかわりにAIやKoverや42アロ
イ等を使用することも可能であり、ポリイミドフィルム
のかわりに他の絶縁製樹脂フィルムを使用ずることも可
能である。
[実施例−11 幅35 mm、厚さ35μmの銀箔の両面に20 Jl
mの厚みで接着剤を塗布し、その上から厚さ25ミクロ
ンのポリイミドフィルム(宇部興産製コービl/ツクス
S)を張合わせてTABテープ用素材とした。この素材
をプレスにかけ、フィンガーリード形成用デバイスホー
ルを開口し,幅26.4a+m、厚さ35ノlmのパタ
ーン形成用の銅箔を張合わせた。次いで、リード幅50
μコ、リードピッチ125ノ11ノード長さ2 mmの
パターンをデバイスホールの四辺へ各100リードづつ
配置し、パターンニングし、エッチングしてパターンを
形成しTABテープを形成した.なお、このTABテー
プのリードの1・一タルピッチは12.375 mmと
なる。
このTABテープを150、200、250、300°
Cで夫々1時間ホットブレーl・上で加熱し、加熱前後
のリードのトータルピッチの差を収縮量とした.得られ
た結果は150゜C テ0.01 z、200゜cで0
.01 z、250 ”C ″C:0.04 z、30
0゜C テ0.09 Zであり従来のポリイミドフィル
ム単体を用いたものの収縮率の半分以下にすることがて
きた.[発明の効果] 本発明の方法によれば、TABテープ用素材の熱収縮が
大幅に減少できるため以下の利点がもたらされる. TAB組み立て工程における様々な熱履歴に対して優れ
た寸法安定性が得られる. ボンデイング後のリードへのフィルム熱、収縮によるス
トレスを減少させることができるのでリードの変形の防
止もでき、デバイスホールへのリードの突出部を小さく
できる.
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のTABテープの実施の1例の断面図を
示したものであり、第2図は該TABテープの平面図で
ある. 4−−−T A Bテープ用素材 5−一一デバイスホール 6−一一フィンガーリード 7−一一配線パターン

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、銅箔の少なくとも片面にポリイミドフィルムを有す
    るTABテープ用素材 2、銅箔の少なくとも片面にポリイミドフィルムを有し
    、ポリイミドフィルムの銅箔と相対する表面に配線パタ
    ーンを有するTABテープ
JP4859289A 1989-03-02 1989-03-02 Tabテープ用素材およびtabテープ Pending JPH02230608A (ja)

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JPH02230608A true JPH02230608A (ja) 1990-09-13

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