JPH0223329A - 抜き文字性能等が改良された明室用ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
抜き文字性能等が改良された明室用ハロゲン化銀写真感光材料Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/04—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with macromolecular additives; with layer-forming substances
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はハロゲン化銀写真感光材料の製造方法に関し、
さらに詳しくは迅速現像適性が優れた印刷感光材料に関
する。
さらに詳しくは迅速現像適性が優れた印刷感光材料に関
する。
近年、ハロゲン化銀写真感光材料の消費量は、増加の一
途をたどっている。このためハロゲン化銀写真感光材料
の現像処理枚数が増加し、現像処理の迅速化、つまり同
一時間内での処理量を増加させることが要求されている
。
途をたどっている。このためハロゲン化銀写真感光材料
の現像処理枚数が増加し、現像処理の迅速化、つまり同
一時間内での処理量を増加させることが要求されている
。
上記傾向は、印刷製版分野でも見受けられる。
即ち、情報の即時性や回数の増加が急増している為、印
刷製版の作業も短納期にしかもより多くの量をこなす必
要が出てきている。この様な印刷製版業界の要望を満た
すには、印刷工程の簡易化を促進するとともに、印刷製
版用フィルムを一層迅速に処理する必要がある。
刷製版の作業も短納期にしかもより多くの量をこなす必
要が出てきている。この様な印刷製版業界の要望を満た
すには、印刷工程の簡易化を促進するとともに、印刷製
版用フィルムを一層迅速に処理する必要がある。
一般に超迅速処理を行うと、定着時間と水洗時間が短時
間になる為、処理されたフィルム中に残留する含硫塩濃
度が増加し、処理後のフィルムが保存中に黄色に変化す
る問題が生ずる。
間になる為、処理されたフィルム中に残留する含硫塩濃
度が増加し、処理後のフィルムが保存中に黄色に変化す
る問題が生ずる。
又、他の問題として現像時間が短時間となる為、現像液
の現像活性度や現像液温の昇温を行い当初の感度に調整
しても濃度が低下する問題が生ずる。
の現像活性度や現像液温の昇温を行い当初の感度に調整
しても濃度が低下する問題が生ずる。
さらに乾燥不充分の問題もおこる。
本明細書でいう超迅速処理とは、自動現像機にフィルム
の先端を挿入してから現像槽、渡り部分、定着槽、渡り
部分、水洗槽、渡り部分、乾燥部分を通過してフィルム
の先端が乾燥部分から出て来るまでの全時間〔換言すれ
ば、処理ラインの全長(m)をライン搬送速度(m/s
ec、)で割った商(sec、))が、20秒〜60秒
である処理を言う。ここで渡り部分の時間を含めるべき
理由は、当業界ではよく知られていることであるが、渡
り部分に於いてもその前のプロセスの液がゼラチン膜中
に膨潤している為に実質上処理工程が進行していると見
なせる為である。
の先端を挿入してから現像槽、渡り部分、定着槽、渡り
部分、水洗槽、渡り部分、乾燥部分を通過してフィルム
の先端が乾燥部分から出て来るまでの全時間〔換言すれ
ば、処理ラインの全長(m)をライン搬送速度(m/s
ec、)で割った商(sec、))が、20秒〜60秒
である処理を言う。ここで渡り部分の時間を含めるべき
理由は、当業界ではよく知られていることであるが、渡
り部分に於いてもその前のプロセスの液がゼラチン膜中
に膨潤している為に実質上処理工程が進行していると見
なせる為である。
特公昭51−47045号には、迅速処理におけるゼラ
チン量の重要性の把載があるが、処理時間は渡り部分も
含めた全処理時間が60〜120秒である。しかしこの
時間では、近年の超迅速地理の要望を満たすことは出来
ない。ゼラチン量を減らすことは有力な手段であるが、
ゼラチン減量により集版、返し工程での抜き文字画質を
低下することがわかった。
チン量の重要性の把載があるが、処理時間は渡り部分も
含めた全処理時間が60〜120秒である。しかしこの
時間では、近年の超迅速地理の要望を満たすことは出来
ない。ゼラチン量を減らすことは有力な手段であるが、
ゼラチン減量により集版、返し工程での抜き文字画質を
低下することがわかった。
集版返し工程に用いられる明室用感光材料は文字或いは
網点画像の形成された現像処理ずみフィルムを原稿とし
て、これらの原稿と返し用感光材料を密着露光して、ネ
ガ像/ポジ像変換あるいはポジ像/ポジ変換を行うのに
利用される感光材料であるが、網点画像及び線画、文字
画像がおのおのその網点面積及び線巾、文字画像中に従
ってネガ像/ポジ像変換される性能を有すること及び網
点画像のトーン調節性、文字線画像の線巾調節性が、可
能である性能を有することが要望され、それに應える明
室用感光材料が提供されてきた。しかるに重ね返しによ
る抜き文字画像形成という高度な画像変換作業において
は、従来の暗室用感光材料に用いた明室返し工程による
方法にくらべて、抜き文字画像の品質が劣化してしまう
という欠点をもっていた。これについて重要なことは重
ね返しによる抜き文字画像形成の方法が網点原稿及び線
画原稿のおのおのの網点面積及び画線巾に従ってネガ像
/ポジ像変換が行われることが理想であるが、しかし網
点原稿が返し用感光材料の乳剤面に直接密着させて露光
されるのに対し、線画原稿は貼り込みベース、及び網点
原稿を中間に介して、返し用感光材料に露光されること
になる。
網点画像の形成された現像処理ずみフィルムを原稿とし
て、これらの原稿と返し用感光材料を密着露光して、ネ
ガ像/ポジ像変換あるいはポジ像/ポジ変換を行うのに
利用される感光材料であるが、網点画像及び線画、文字
画像がおのおのその網点面積及び線巾、文字画像中に従
ってネガ像/ポジ像変換される性能を有すること及び網
点画像のトーン調節性、文字線画像の線巾調節性が、可
能である性能を有することが要望され、それに應える明
室用感光材料が提供されてきた。しかるに重ね返しによ
る抜き文字画像形成という高度な画像変換作業において
は、従来の暗室用感光材料に用いた明室返し工程による
方法にくらべて、抜き文字画像の品質が劣化してしまう
という欠点をもっていた。これについて重要なことは重
ね返しによる抜き文字画像形成の方法が網点原稿及び線
画原稿のおのおのの網点面積及び画線巾に従ってネガ像
/ポジ像変換が行われることが理想であるが、しかし網
点原稿が返し用感光材料の乳剤面に直接密着させて露光
されるのに対し、線画原稿は貼り込みベース、及び網点
原稿を中間に介して、返し用感光材料に露光されること
になる。
このため網点原稿を忠実にネガ像/ポジ像変換する露光
量を与えると線画原稿は、貼り込みペース及び網点画像
によるスペーサーを介したピンボケ露光となるための、
線画の白ヌケの部分の画線巾が狭くなってしまう。これ
が抜き文字画像の品質が劣化してしまう原因であるが、
この現象は、光源系についての寄与が大きく、従来作業
においての抜き文字の露光ラチチュードは、一般の単純
反転に比較して狭いものであり、十分な露光管理が安定
した抜き文字作業の基本であることは公知のとおりであ
る。しかし十分な露光管理を行いながら、従来の明室用
感材がもつ抜き文字画像品質劣化を防ぐということより
も感材そのものの写真性能への期待度が高かった。当初
、超迅速処理を可能とするためゼラチンを減量すること
は膜厚が減少し、返し原稿としての網点を露光する場合
、露光量の増大に対する網点面積が増大する率(網点の
太らし性能)が高くなり、抜き文字品質も向上すると考
えられていたが、これに反する結果であった。そのため
迅速処理のためにはゼラチンを減量しても画質劣化が起
こらない対策が必要である。
量を与えると線画原稿は、貼り込みペース及び網点画像
によるスペーサーを介したピンボケ露光となるための、
線画の白ヌケの部分の画線巾が狭くなってしまう。これ
が抜き文字画像の品質が劣化してしまう原因であるが、
この現象は、光源系についての寄与が大きく、従来作業
においての抜き文字の露光ラチチュードは、一般の単純
反転に比較して狭いものであり、十分な露光管理が安定
した抜き文字作業の基本であることは公知のとおりであ
る。しかし十分な露光管理を行いながら、従来の明室用
感材がもつ抜き文字画像品質劣化を防ぐということより
も感材そのものの写真性能への期待度が高かった。当初
、超迅速処理を可能とするためゼラチンを減量すること
は膜厚が減少し、返し原稿としての網点を露光する場合
、露光量の増大に対する網点面積が増大する率(網点の
太らし性能)が高くなり、抜き文字品質も向上すると考
えられていたが、これに反する結果であった。そのため
迅速処理のためにはゼラチンを減量しても画質劣化が起
こらない対策が必要である。
上記のごとき問題に対して本発明の目的は、全処理時間
か20〜60秒である超迅速地理が可能な明室用ハロゲ
ン化銀写真感光材料を提供することである。
か20〜60秒である超迅速地理が可能な明室用ハロゲ
ン化銀写真感光材料を提供することである。
本発明の上記目的は、300nm〜450nmに主たる
感光性を有し、粒径が0.05〜0.20μmであるハ
ロゲン化銀粒子を含有させた明室用ハロゲン化銀写真感
光材料において、感光性ハロゲン化銀を有する側の写真
構成層のゼラチン量が1.5〜3.0g/m”の範囲に
あり、該感光材料中にはポリマーラテックス量を0.7
5〜1.5g/m2の範囲に含有し、かつ画像露光、現
像処理した場合、濃度0.3〜3.0に規定されるγ値
が実質的に6.0以上の値を有することを特徴とする明
室用ハロゲン化銀写真感光材料により達成される。
感光性を有し、粒径が0.05〜0.20μmであるハ
ロゲン化銀粒子を含有させた明室用ハロゲン化銀写真感
光材料において、感光性ハロゲン化銀を有する側の写真
構成層のゼラチン量が1.5〜3.0g/m”の範囲に
あり、該感光材料中にはポリマーラテックス量を0.7
5〜1.5g/m2の範囲に含有し、かつ画像露光、現
像処理した場合、濃度0.3〜3.0に規定されるγ値
が実質的に6.0以上の値を有することを特徴とする明
室用ハロゲン化銀写真感光材料により達成される。
以下更に本発明の詳細について説明する。
超迅速処理可能な明室返し感光材料をつくる場合、ゼラ
チンを減量することは、処理液の感光材料中への拡散性
が向上し、濃度低下防止に有効であるが、抜き文字性能
が劣化するために、網の太らせを検討した。即ち、従来
は返し原稿としての網点を露光する場合、露光量の増大
に対する網点面積が増大する率を向上させることで適性
露光における抜き文字性能のよいものをえようとする考
えである。 網の太らせ性能については乳剤層中または
保護層中に粒子の大きなものが含有された場合、露光時
にその大きな粒子に光が当たり、反射することで、隣接
するハロゲン化銀粒子を感光してしまうというイラジェ
ーション効果に注目し、この効果を上げるためにポリマ
ーラテックスに注目した。感光材料用ポリマーラテック
スが塗布乳剤中に添加された場合、イオン溶液中に規則
的な構造が出来る。即ち高分子ラテックス球とよべる(
プラスチック性の非常に小さいポールと考えれば良い)
ものが溶液中で規則正しく分布しているのである。この
ことからラテックス添加量を多くして大きさが揃った溶
質を一定体積により多くつめこむことで粒子による光の
散乱効果を向上させようとするものである。このことか
らさらに研究を進めた結果、超迅速地理を行なうに当た
りゼラチン量とポリマーラテックスの量をバランスさせ
ることにより本発明を達成することができた。
チンを減量することは、処理液の感光材料中への拡散性
が向上し、濃度低下防止に有効であるが、抜き文字性能
が劣化するために、網の太らせを検討した。即ち、従来
は返し原稿としての網点を露光する場合、露光量の増大
に対する網点面積が増大する率を向上させることで適性
露光における抜き文字性能のよいものをえようとする考
えである。 網の太らせ性能については乳剤層中または
保護層中に粒子の大きなものが含有された場合、露光時
にその大きな粒子に光が当たり、反射することで、隣接
するハロゲン化銀粒子を感光してしまうというイラジェ
ーション効果に注目し、この効果を上げるためにポリマ
ーラテックスに注目した。感光材料用ポリマーラテック
スが塗布乳剤中に添加された場合、イオン溶液中に規則
的な構造が出来る。即ち高分子ラテックス球とよべる(
プラスチック性の非常に小さいポールと考えれば良い)
ものが溶液中で規則正しく分布しているのである。この
ことからラテックス添加量を多くして大きさが揃った溶
質を一定体積により多くつめこむことで粒子による光の
散乱効果を向上させようとするものである。このことか
らさらに研究を進めた結果、超迅速地理を行なうに当た
りゼラチン量とポリマーラテックスの量をバランスさせ
ることにより本発明を達成することができた。
本発明のゼラチン量は、感光性ノ\ロゲン化銀を含む側
、つまり片面当たりの量であり、1.5〜3.0g/I
2、好ましくは2.0〜2−5g/m”の範囲である。
、つまり片面当たりの量であり、1.5〜3.0g/I
2、好ましくは2.0〜2−5g/m”の範囲である。
また、本発明の重要な特徴の1つである濃度0゜3〜3
,0について規定されるγが6.0であるという硬調な
写真性能はネガ型、ポジ型いずれの場合にも適用される
が、特にネガ型写真感光材料においてはハロゲン化銀写
真感光材料中に含まれる感光性ハロゲン化銀乳剤を含有
する親水性コロイド層の少なくとも1層中および/また
はその隣接層中にテトラゾリウム化合物またはヒドラジ
ン化合物またはポリアルキレンオキサイド化合物を含有
させ、かつ現像主薬としてHQ単独あるいはPQ、ある
いはMQを含み、かつpH1O” 13の処理液で処理
することによって得ることが特に好ましい。
,0について規定されるγが6.0であるという硬調な
写真性能はネガ型、ポジ型いずれの場合にも適用される
が、特にネガ型写真感光材料においてはハロゲン化銀写
真感光材料中に含まれる感光性ハロゲン化銀乳剤を含有
する親水性コロイド層の少なくとも1層中および/また
はその隣接層中にテトラゾリウム化合物またはヒドラジ
ン化合物またはポリアルキレンオキサイド化合物を含有
させ、かつ現像主薬としてHQ単独あるいはPQ、ある
いはMQを含み、かつpH1O” 13の処理液で処理
することによって得ることが特に好ましい。
まずテトラゾリウム化合物を用いる方法について述べる
。テトラゾリウム化合物をハロゲン化銀写真材料に用い
るという技術は、例えば特開昭52−18317号、同
53−17719号、同53−17720号および同6
1−149946号公報等に開示されている。以下これ
をテトラゾリウム硬調化技術とよぶ。
。テトラゾリウム化合物をハロゲン化銀写真材料に用い
るという技術は、例えば特開昭52−18317号、同
53−17719号、同53−17720号および同6
1−149946号公報等に開示されている。以下これ
をテトラゾリウム硬調化技術とよぶ。
本発明に用いられるテトラゾリウム化合物の具体例とし
ては特開昭62−11253号に記載の一般式■1、■
−2、■−3で表される化合物をあげることが事が出来
る。
ては特開昭62−11253号に記載の一般式■1、■
−2、■−3で表される化合物をあげることが事が出来
る。
〔■−1〕
〔■−2〕
〔■−3〕
式中RS、R7,Rs、Rs、Riz、R13,R14
及びRasはそれぞれアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、°ドデシル基等)、アリル基、フ
ェニル基(例えばフェニル基、トリル基、ヒドロキシフ
ェニル基、カルボキシフェニル基、アミノフェニル基、
メルカプトフェニル基、メトキシフェニル基等)、ナフ
チル基(例えばα−ナフチル基、β〜ナフチル基、ヒド
ロキシナフチル基、カルボキジナフチル基、アミノナフ
チル基等)、及び複素環基(例えばチアゾリル基、ベン
ゾチアゾリル基、オキサシリル基、ピリミジニル基、ピ
リジル基等)から選ばれる基を表しこれらはいずれも金
属キレートあるいは錯体を形成するような基でもよい。
及びRasはそれぞれアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、°ドデシル基等)、アリル基、フ
ェニル基(例えばフェニル基、トリル基、ヒドロキシフ
ェニル基、カルボキシフェニル基、アミノフェニル基、
メルカプトフェニル基、メトキシフェニル基等)、ナフ
チル基(例えばα−ナフチル基、β〜ナフチル基、ヒド
ロキシナフチル基、カルボキジナフチル基、アミノナフ
チル基等)、及び複素環基(例えばチアゾリル基、ベン
ゾチアゾリル基、オキサシリル基、ピリミジニル基、ピ
リジル基等)から選ばれる基を表しこれらはいずれも金
属キレートあるいは錯体を形成するような基でもよい。
R6−R11及びR11はそれぞれアリル基、フェニル
基、ナフチル基、複素環基、アルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基・メルカプトメチ
ル基、メルカプトエチル基等)、水酸基、アルキルフェ
ニル基、アルコキシフェニル基、カルボキシル基または
その塩、カルボキシアルキル基(例えばメトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基)、アミノ基(例えばア
ミン基、エチルアミノ基、アニリノ基等)、メルカプト
基、ニトロ基及び水素原子から選ばれる基を表し、Dは
2価の芳香族基を表し、Eはアルキレン基、アリレン基
、アラルアルキレン基から選ばれる基を表し )(eは
アニオンを表しnは1または2を表す。l;だし化合物
が分子内塩を形成する場合nは1である。
基、ナフチル基、複素環基、アルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基・メルカプトメチ
ル基、メルカプトエチル基等)、水酸基、アルキルフェ
ニル基、アルコキシフェニル基、カルボキシル基または
その塩、カルボキシアルキル基(例えばメトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基)、アミノ基(例えばア
ミン基、エチルアミノ基、アニリノ基等)、メルカプト
基、ニトロ基及び水素原子から選ばれる基を表し、Dは
2価の芳香族基を表し、Eはアルキレン基、アリレン基
、アラルアルキレン基から選ばれる基を表し )(eは
アニオンを表しnは1または2を表す。l;だし化合物
が分子内塩を形成する場合nは1である。
次に本発明に使用されるテトラゾリウム化合物のカチオ
ン部分の具体例を示すが、本発明に用いることのできる
化合物のカチオン部分は必ずしもこれらに限定されるも
のではない。
ン部分の具体例を示すが、本発明に用いることのできる
化合物のカチオン部分は必ずしもこれらに限定されるも
のではない。
(T−1) 2−(ベンゾチアゾール−2−イル)−
3=7二二−ルー5−ドデシル−2H−テトラゾリウム
(T−2) 2.3−ジフェニール−5−(4−t−
オクチルオキシフェニル)−2H−テトラゾリウム(T
−3) 2,3.5−トリフエニールー2H−テトラ
ゾリウム (T−4) 2,3.5−トリ(p−カルボキシエチ
ル7エ二−ル)−2H−テトラゾリウム (T −5) 2−(ベンゾチアゾール−2−イル)
−3=フェニール−5−(o−クロルフェニール)−2
H−テトラゾリウム (T−12,3−ジフェニール−2H−テトラゾリウム (T−7) 2.3−ジフェニール−5−メチル−2
Hテトラゾリウム (T −8) 3−(p−ヒドロキシフェニール)−
5−メチル−2−フェニール−28−テトラゾリウム(
T−9) 2.3−ジフェニール−5−エチル−2H
−テトラゾリウム (T−10) 2.3−ジフェニール−5−ローへキ
シル−2H−テトラゾリウム (T −11) 5−シアノ−2,3−ジフェニール
−2H−テトラゾリウム (T −12) 2−(ベンゾチアゾール−2−イル
)−5−フェニール−3−(4−hリル)−2H−テト
ラゾリウム (T −13) 2 ’−(ベンゾチアゾール−2−
イル)−5−(4−クロロフェニール)−3−(4−ニ
トロフェニール)−2H−テトラゾリウム (T −14) 5−エトキシカルボニル−2,3−
ジ(3−ニトロフェニール)−2H−テトラゾリウム(
T −15) 5−アセチル−2,3〜ジ(p−エト
キシフェニール)−2H−テトラゾリウム (T−16) 2.5−ジフェニール−3−(p−ト
リール)−2H−テトラゾリウム (T−17) 2.5−ジフェニール−3−(p〜ヨ
ードフェニール)2H−テトラゾリウム (T−18) 2.3−ジフェニール−5−(p−ジ
フェニール)−2H−テトラゾリウム (T −19) 5−(p−ブロモフェニール)−2
−フェニール−3−(2,4,6−1リクロルフエニー
ル)−2H−テトラゾリウム (T −20) 3−Cp−ハイドロキシフェニール
)−5〜(pニトロフェニール)−2−フェニール−2
H−テトラゾリウム (T−21) 5−(3,4−ジメトキシフェニール
)−3−(2−エトキシフェニール)l!−(4−メト
キシフェニール)−2H−テトラゾリウム (T −22) 5−(4−シアノフェニール)−2
,3−ジフェニール−2H−テトラゾリウム (T −23) 3−(p−アセトアミドフェニール
)−2゜5−ジフェニール−2H−テトラゾリウム(T
−24) 5−アセチル−2,3−ジフェニール−
2H−テトラゾリウム (T−25) 5−(フルー2イル)−2,3−ジフ
ェニル−2H−テトラゾリウム (T −26) 5−(チエシー2イル)−2,3−
ジフェニール−2H−テトラゾリウム (T−27) 2.3−ジフェニール−5−(ピリド
−4イル)−2H−テトラゾリウム (T−28) 2.3−ジフェニール−5−(キノー
ル−2イル)−2H−テトラゾリウム (T−29) 2.3−ジフェニール−5−(ベンゾ
オキサゾール−2イル)−2H−テトラゾリウム(T−
30) 2.3−ジフェニール−5−二トロー2H−
テトラゾリウム (T−31) 2.2’、3.3’−テトラフェニー
ル−5゜5’−1,4−ブチレン−ジー(2H−テトラ
ゾリウム)(T−32) 2.2 ’、3.3 ’−
テトラフェニールー5゜5′−p−フェニレン−ジー(
2H−テトラゾリウム)(T−33) 2−(4,5
−ジメチルチアゾール−2イル)−3,5−ジフェニー
ル−2H−テトラゾリウム(T−34) 3,5−ジ
フェニール−2−(トリアジン2イル−2H−テトラゾ
リウム) (T −35) 2−(ベンゾチアゾール−2イル)
−3−(4−メトキシフェニール)−5−7エニールー
2H−テトラゾリウム (T−36) 2.3−ジメトキシフェニール−5−
7二二−ルー2H−テトラゾリウム (T−37) 2.3.5−トリス(メトキシフェニ
ール)−2H−テトラゾリウム (T−38) 2.3−ジメチルフェニール−5−フ
ェニール−2H−テトラゾリウム (T−39) 2.3−ヒドロキシエチル−5−フェ
ニル−2H−テトラゾリウム (T−40) 2.3−ヒドロキシメチル−5−7エ
ニールー2H−テトラゾリウム (T−41) 2.3−シアノヒドロキシフェニール
−5−フェニル−2H−テトラゾリウム (T−42) 2.3−ジ(p−クロロフェニル)−
5−7エニールー2H−テトラゾリウム (T−43) 2.3−ジ(ヒドロキシエトキシフェ
ニール)−5−7エニルー2H−テトラゾリウム(T−
44) 2.3−ジ(2−ピリジル)−5−7エ二ル
ー2H−テトラゾリウム (T−45) 2,3.5−トリス(2−ピリジル)
−2H−テトラゾリウム (T−46) 2.3.5−トリス(4−ピリジル)
−2H−テトラゾリウム テトラゾリウム化合物を非拡散性として用いる場合カチ
オン部分とアニオン部分を適宜選択することによって得
られる非拡散性化合物が用いられる。
3=7二二−ルー5−ドデシル−2H−テトラゾリウム
(T−2) 2.3−ジフェニール−5−(4−t−
オクチルオキシフェニル)−2H−テトラゾリウム(T
−3) 2,3.5−トリフエニールー2H−テトラ
ゾリウム (T−4) 2,3.5−トリ(p−カルボキシエチ
ル7エ二−ル)−2H−テトラゾリウム (T −5) 2−(ベンゾチアゾール−2−イル)
−3=フェニール−5−(o−クロルフェニール)−2
H−テトラゾリウム (T−12,3−ジフェニール−2H−テトラゾリウム (T−7) 2.3−ジフェニール−5−メチル−2
Hテトラゾリウム (T −8) 3−(p−ヒドロキシフェニール)−
5−メチル−2−フェニール−28−テトラゾリウム(
T−9) 2.3−ジフェニール−5−エチル−2H
−テトラゾリウム (T−10) 2.3−ジフェニール−5−ローへキ
シル−2H−テトラゾリウム (T −11) 5−シアノ−2,3−ジフェニール
−2H−テトラゾリウム (T −12) 2−(ベンゾチアゾール−2−イル
)−5−フェニール−3−(4−hリル)−2H−テト
ラゾリウム (T −13) 2 ’−(ベンゾチアゾール−2−
イル)−5−(4−クロロフェニール)−3−(4−ニ
トロフェニール)−2H−テトラゾリウム (T −14) 5−エトキシカルボニル−2,3−
ジ(3−ニトロフェニール)−2H−テトラゾリウム(
T −15) 5−アセチル−2,3〜ジ(p−エト
キシフェニール)−2H−テトラゾリウム (T−16) 2.5−ジフェニール−3−(p−ト
リール)−2H−テトラゾリウム (T−17) 2.5−ジフェニール−3−(p〜ヨ
ードフェニール)2H−テトラゾリウム (T−18) 2.3−ジフェニール−5−(p−ジ
フェニール)−2H−テトラゾリウム (T −19) 5−(p−ブロモフェニール)−2
−フェニール−3−(2,4,6−1リクロルフエニー
ル)−2H−テトラゾリウム (T −20) 3−Cp−ハイドロキシフェニール
)−5〜(pニトロフェニール)−2−フェニール−2
H−テトラゾリウム (T−21) 5−(3,4−ジメトキシフェニール
)−3−(2−エトキシフェニール)l!−(4−メト
キシフェニール)−2H−テトラゾリウム (T −22) 5−(4−シアノフェニール)−2
,3−ジフェニール−2H−テトラゾリウム (T −23) 3−(p−アセトアミドフェニール
)−2゜5−ジフェニール−2H−テトラゾリウム(T
−24) 5−アセチル−2,3−ジフェニール−
2H−テトラゾリウム (T−25) 5−(フルー2イル)−2,3−ジフ
ェニル−2H−テトラゾリウム (T −26) 5−(チエシー2イル)−2,3−
ジフェニール−2H−テトラゾリウム (T−27) 2.3−ジフェニール−5−(ピリド
−4イル)−2H−テトラゾリウム (T−28) 2.3−ジフェニール−5−(キノー
ル−2イル)−2H−テトラゾリウム (T−29) 2.3−ジフェニール−5−(ベンゾ
オキサゾール−2イル)−2H−テトラゾリウム(T−
30) 2.3−ジフェニール−5−二トロー2H−
テトラゾリウム (T−31) 2.2’、3.3’−テトラフェニー
ル−5゜5’−1,4−ブチレン−ジー(2H−テトラ
ゾリウム)(T−32) 2.2 ’、3.3 ’−
テトラフェニールー5゜5′−p−フェニレン−ジー(
2H−テトラゾリウム)(T−33) 2−(4,5
−ジメチルチアゾール−2イル)−3,5−ジフェニー
ル−2H−テトラゾリウム(T−34) 3,5−ジ
フェニール−2−(トリアジン2イル−2H−テトラゾ
リウム) (T −35) 2−(ベンゾチアゾール−2イル)
−3−(4−メトキシフェニール)−5−7エニールー
2H−テトラゾリウム (T−36) 2.3−ジメトキシフェニール−5−
7二二−ルー2H−テトラゾリウム (T−37) 2.3.5−トリス(メトキシフェニ
ール)−2H−テトラゾリウム (T−38) 2.3−ジメチルフェニール−5−フ
ェニール−2H−テトラゾリウム (T−39) 2.3−ヒドロキシエチル−5−フェ
ニル−2H−テトラゾリウム (T−40) 2.3−ヒドロキシメチル−5−7エ
ニールー2H−テトラゾリウム (T−41) 2.3−シアノヒドロキシフェニール
−5−フェニル−2H−テトラゾリウム (T−42) 2.3−ジ(p−クロロフェニル)−
5−7エニールー2H−テトラゾリウム (T−43) 2.3−ジ(ヒドロキシエトキシフェ
ニール)−5−7エニルー2H−テトラゾリウム(T−
44) 2.3−ジ(2−ピリジル)−5−7エ二ル
ー2H−テトラゾリウム (T−45) 2,3.5−トリス(2−ピリジル)
−2H−テトラゾリウム (T−46) 2.3.5−トリス(4−ピリジル)
−2H−テトラゾリウム テトラゾリウム化合物を非拡散性として用いる場合カチ
オン部分とアニオン部分を適宜選択することによって得
られる非拡散性化合物が用いられる。
本発明に用いられるテトラゾリウム化合物のアニオン部
としては例えば、 塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等のハロ
ゲンイオン、 硫酸、硝酸、過塩素酸等の無機酸の酸基、スルホン酸、
カルボン酸等の有機酸の酸基、p−トルエンスルホン酸
アニオン等の低級アルキルベンゼンスルホン酸アニオン
、 p−ドデシルベンゼンスルホン酸アニオン等の高級アル
キルベンゼンスルホン酸アニオン、ラウリルスルフェー
トアニオン等の高級アルキル硫酸エステルアニオン、 ジー2−エチルへキシルスルホサクシネートアニオン等
のジアルキルスルホサクシネートアニオン、セチルポリ
エテノキシサル1フエートアニオン等のポリエーテルア
ルコール硫酸エステルアニオン、ステアリン酸アニオン
等の高級脂肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等の
ポリマーに酸根のついたもの等を挙げることができる。
としては例えば、 塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等のハロ
ゲンイオン、 硫酸、硝酸、過塩素酸等の無機酸の酸基、スルホン酸、
カルボン酸等の有機酸の酸基、p−トルエンスルホン酸
アニオン等の低級アルキルベンゼンスルホン酸アニオン
、 p−ドデシルベンゼンスルホン酸アニオン等の高級アル
キルベンゼンスルホン酸アニオン、ラウリルスルフェー
トアニオン等の高級アルキル硫酸エステルアニオン、 ジー2−エチルへキシルスルホサクシネートアニオン等
のジアルキルスルホサクシネートアニオン、セチルポリ
エテノキシサル1フエートアニオン等のポリエーテルア
ルコール硫酸エステルアニオン、ステアリン酸アニオン
等の高級脂肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等の
ポリマーに酸根のついたもの等を挙げることができる。
そしてアニオン部分とカチオン部分を適宜選択すること
により本発明に係る非拡散性のテトラゾリウム化合物を
合成することができる。このようにして合成された本発
明に係る化合物は例えば2゜35−トリフエニールー2
H−テトラゾリウム−ジオクチルサクシネートスルホン
酸塩等であり、これらは後記実施例にて詳述する如く、
夫々の可溶性塩をゼラチンに分散せしめた後、両者を混
合してゼラチンマド、リックス中に分散させる場合と、
酸化剤の結晶を純粋に合成してから、適当な溶媒(例え
ばジメチルスルホキシド)に溶かしてからゼラチンマト
リックス中に分散させる場合がある。
により本発明に係る非拡散性のテトラゾリウム化合物を
合成することができる。このようにして合成された本発
明に係る化合物は例えば2゜35−トリフエニールー2
H−テトラゾリウム−ジオクチルサクシネートスルホン
酸塩等であり、これらは後記実施例にて詳述する如く、
夫々の可溶性塩をゼラチンに分散せしめた後、両者を混
合してゼラチンマド、リックス中に分散させる場合と、
酸化剤の結晶を純粋に合成してから、適当な溶媒(例え
ばジメチルスルホキシド)に溶かしてからゼラチンマト
リックス中に分散させる場合がある。
分散が均一になりにくいときは超音波とかマントンゴー
リンホモジナイザーなと適当なホモジナイザーで乳化分
散する方法が好結果を与えることもアル。また、ジオク
チル7タレート等のような高沸点溶媒中に微分散をし、
プロテクト化して親水性コロイド層中に分散することも
可能である。
リンホモジナイザーなと適当なホモジナイザーで乳化分
散する方法が好結果を与えることもアル。また、ジオク
チル7タレート等のような高沸点溶媒中に微分散をし、
プロテクト化して親水性コロイド層中に分散することも
可能である。
次にヒドラジン誘導体(例えば米国特許4,166゜7
42号、同4,168.977号、同4,221.85
7号、同4,224゜401号、同4,243.739
号、同4,272.606号、同4,311゜781号
にみられるように、特定のアシルヒドラジン化合物)を
添加したネガ型ハロゲン化銀写真感光材料を、pH11
,0〜12.3で亜硫酸保但剤を0.15モル/Q以上
含む液で処理することにより硬調なネガ画像を得る方法
(以下ヒドラジン硬調現像システムと称する。)につい
て述べる。
42号、同4,168.977号、同4,221.85
7号、同4,224゜401号、同4,243.739
号、同4,272.606号、同4,311゜781号
にみられるように、特定のアシルヒドラジン化合物)を
添加したネガ型ハロゲン化銀写真感光材料を、pH11
,0〜12.3で亜硫酸保但剤を0.15モル/Q以上
含む液で処理することにより硬調なネガ画像を得る方法
(以下ヒドラジン硬調現像システムと称する。)につい
て述べる。
この方法に使われるヒドラジン誘導体の例としては、米
国特許4,478,928号に記載されているスルフィ
ン酸残基がヒドラゾ部分に結合しているアリールヒドラ
ジド類の他、下お一般式(H)で表される化合物が挙げ
られる。
国特許4,478,928号に記載されているスルフィ
ン酸残基がヒドラゾ部分に結合しているアリールヒドラ
ジド類の他、下お一般式(H)で表される化合物が挙げ
られる。
一般式(H)
R、−N HN HG R2
式中、R1は脂肪族基または芳香族基を表し、R2は水
素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しく
は無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアルコキ
シ基または置換若しくは無置換のアリールオキシ基を表
し、Gはカルボニル基、スルホニル基、スルホキシ基、
ホスホリル基またはN置換若しくは無置換のイミノメチ
レン基を表す。一般式(H)に示すヒドラジン誘導体に
ついては特開昭62−210458号に開示しであるが
、同公報に記載しである具体例化合物は本発明において
も用いる事が出来る。
素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しく
は無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアルコキ
シ基または置換若しくは無置換のアリールオキシ基を表
し、Gはカルボニル基、スルホニル基、スルホキシ基、
ホスホリル基またはN置換若しくは無置換のイミノメチ
レン基を表す。一般式(H)に示すヒドラジン誘導体に
ついては特開昭62−210458号に開示しであるが
、同公報に記載しである具体例化合物は本発明において
も用いる事が出来る。
本発明にはヒドラジン誘導体を、ハロゲン化銀1モルあ
たりI X 10−’モルないし5 X to−”モル
含有させるのが好ましく、特にI X 10−’モルな
いし2 X 10−”モルの範囲が好ましい添加量であ
る。
たりI X 10−’モルないし5 X to−”モル
含有させるのが好ましく、特にI X 10−’モルな
いし2 X 10−”モルの範囲が好ましい添加量であ
る。
本発明にヒドラジン誘導体を写真感光材料中に含有させ
るときは、水溶性の場合は水溶液として、水不溶性の場
合はアルコール類(たとえばメタノール、エタノール)
エステル類(たとえハ酢酸エチル)、ケトン類(たとえ
ばアセトン)などの水に混和しうる有機溶媒の溶液とし
て、ハロゲン化銀乳剤溶液又は、親水性コロイド溶液に
添加すればよい。
るときは、水溶性の場合は水溶液として、水不溶性の場
合はアルコール類(たとえばメタノール、エタノール)
エステル類(たとえハ酢酸エチル)、ケトン類(たとえ
ばアセトン)などの水に混和しうる有機溶媒の溶液とし
て、ハロゲン化銀乳剤溶液又は、親水性コロイド溶液に
添加すればよい。
本発明にはヒドラジン誘導体を単独で使用してもよく、
2種類以上併用してもよい。
2種類以上併用してもよい。
またポリアルキレンオキシド化合物を用いる方法はリス
型写真感光材料として知られており、該リス型ハロゲン
化銀感光材料をハイドロキノン現像液として亜流酸イオ
ン濃度はかなり高い(0,2モル/Q以上)が高pH(
10,5以上)かつ、ニトロインダゾール系化合物を含
む現像液を用いることで、硬調な画像が得られるシステ
ム(特開昭58−190943に開示)も知られている
。(以下、迅速リス技術と称する。) 次に、迅速リス技術に用いられるポリアルキレンオキシ
ド化合物について説明する。
型写真感光材料として知られており、該リス型ハロゲン
化銀感光材料をハイドロキノン現像液として亜流酸イオ
ン濃度はかなり高い(0,2モル/Q以上)が高pH(
10,5以上)かつ、ニトロインダゾール系化合物を含
む現像液を用いることで、硬調な画像が得られるシステ
ム(特開昭58−190943に開示)も知られている
。(以下、迅速リス技術と称する。) 次に、迅速リス技術に用いられるポリアルキレンオキシ
ド化合物について説明する。
本発明に用いるポリアルキレンオキシド化合物は、炭素
数2〜4のアルキレンオキシド、たとえばエチレンオキ
シド、プロピレン−1,2−オキシド、ブチレン−1,
2−オキシドなど、好ましくはエチレンオキシドの、少
なくともlO単位から成るポリアルキレンオキシドと、
水、脂肪族アルコール、芳香族アルコール、脂肪酸、有
機アミン、ヘキシトール誘導体などの活性水素原子を少
なくとも1個有する化合物との縮合物あるいは二種以上
のポリアルキレンオキシドのブロックコポリマーなどを
包含する。すなわち、ポリアルキレンオキシド化合物と
して、具体的には ポリアルキレングリコール類 ポリアルキレングリコールアルキルエーテル類//
// アリールエーテル類11
// (アルキルアリール)エステル類 ポリアルキレングリコールエステル類 ポリアルキレングリコール脂肪酸アミド類ポリアルキレ
ングリコールアミン酸 ポリアルキレングリコール・ブロック共重合体ポリアル
キレングリコールクラフト重合物などを用いることがで
きる。
数2〜4のアルキレンオキシド、たとえばエチレンオキ
シド、プロピレン−1,2−オキシド、ブチレン−1,
2−オキシドなど、好ましくはエチレンオキシドの、少
なくともlO単位から成るポリアルキレンオキシドと、
水、脂肪族アルコール、芳香族アルコール、脂肪酸、有
機アミン、ヘキシトール誘導体などの活性水素原子を少
なくとも1個有する化合物との縮合物あるいは二種以上
のポリアルキレンオキシドのブロックコポリマーなどを
包含する。すなわち、ポリアルキレンオキシド化合物と
して、具体的には ポリアルキレングリコール類 ポリアルキレングリコールアルキルエーテル類//
// アリールエーテル類11
// (アルキルアリール)エステル類 ポリアルキレングリコールエステル類 ポリアルキレングリコール脂肪酸アミド類ポリアルキレ
ングリコールアミン酸 ポリアルキレングリコール・ブロック共重合体ポリアル
キレングリコールクラフト重合物などを用いることがで
きる。
ポリアルキレンオキシド類は分子中に一つとは限らず、
二つ以上含まれてもよい。その場合側々のポリアルキレ
ンオキシド鎖がlOより少ないアルキレンオキシド単位
から成ってもよいが、分子中のアルキレンオキシド単位
の合計は少なくとも10でなければならない。分子中に
二つ以上のポリアルキレンオキシド類を有する場合、そ
れらの各々は異るアルキレンオキシド単位、たとえばエ
チレンオキシドとプロピレンオキシドから成っていても
よい。本発明で用いるポリアルキレンオキシド化合物は
、好ましくは14以上100までのアルキレンオキシド
単位を含むものである。
二つ以上含まれてもよい。その場合側々のポリアルキレ
ンオキシド鎖がlOより少ないアルキレンオキシド単位
から成ってもよいが、分子中のアルキレンオキシド単位
の合計は少なくとも10でなければならない。分子中に
二つ以上のポリアルキレンオキシド類を有する場合、そ
れらの各々は異るアルキレンオキシド単位、たとえばエ
チレンオキシドとプロピレンオキシドから成っていても
よい。本発明で用いるポリアルキレンオキシド化合物は
、好ましくは14以上100までのアルキレンオキシド
単位を含むものである。
本発明で用いるポリアルキレンオキシド化合物の具体例
をあげると次の如くである。
をあげると次の如くである。
ポリアルキレンオキシド化合物例
I HO(CH,CH20)IO
2C+2HzaO(C)12cHzo)+aH0(CH
2CH2O)3゜H C6旧ycH= CHCaHtsOs(CHzCHzO
)+sHCr+112xCOO(CH2CH20)a。
2CH2O)3゜H C6旧ycH= CHCaHtsOs(CHzCHzO
)+sHCr+112xCOO(CH2CH20)a。
HCr+Ht3CONH(CJCHzO)+3HC8H
*5N(CHzXCHzCHzO)*+)]IO0H(
CH2CH20)a(CH2H20)b(CH2CH2
0)CHl CHl 1+b+c−50 b : (a+c) =10: 9本発明には
ポリアルキレンオキシド化合物の添加量としてはハロゲ
ン化銀1モルあt;す1O−4〜10−”g1モルAg
含有させるのが好ましく、特に10−”〜10’g1モ
ルAg含有させるのが好ましい。
*5N(CHzXCHzCHzO)*+)]IO0H(
CH2CH20)a(CH2H20)b(CH2CH2
0)CHl CHl 1+b+c−50 b : (a+c) =10: 9本発明には
ポリアルキレンオキシド化合物の添加量としてはハロゲ
ン化銀1モルあt;す1O−4〜10−”g1モルAg
含有させるのが好ましく、特に10−”〜10’g1モ
ルAg含有させるのが好ましい。
又更に下記の化学増感を行っても行わなくともよいが、
未化学増感の方が特に好ましい。
未化学増感の方が特に好ましい。
ハロゲン化銀乳剤は塩化金酸類、三塩化金などのような
金化合物、イリジウムの如き貴金属の塩、銀塩と反応し
て硫化銀を形成するイオウ化合物、第一スズ塩、アミン
類の如き還元性物質で粒子を粗大化しないで感度を上昇
させることが出来る。
金化合物、イリジウムの如き貴金属の塩、銀塩と反応し
て硫化銀を形成するイオウ化合物、第一スズ塩、アミン
類の如き還元性物質で粒子を粗大化しないで感度を上昇
させることが出来る。
又、イリジウムの如き貴金属の塩、赤血塩等鉄化合物を
ハロゲン化銀粒子の物理熟成時、又は核生成時に存在せ
しめることも出来る。
ハロゲン化銀粒子の物理熟成時、又は核生成時に存在せ
しめることも出来る。
本発明に使用される感光性ハロゲン化銀粒子の平均粒径
とは、球状粒子の場合は、その直径を、球状以外の形状
の粒子の場合はその投影像を同面積の円像に換算した時
の直径を示し、平均粒径0.05μm〜0.2μmのも
のである。
とは、球状粒子の場合は、その直径を、球状以外の形状
の粒子の場合はその投影像を同面積の円像に換算した時
の直径を示し、平均粒径0.05μm〜0.2μmのも
のである。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤の製法、増感法、
バインダー添加剤等については写真業界で公知の技術を
用いる事が出来る。例えば添加剤についてはリサーチ・
ディスクロージャー第176巻、No、 17643(
1978年12月)および同第187巻、 No。
バインダー添加剤等については写真業界で公知の技術を
用いる事が出来る。例えば添加剤についてはリサーチ・
ディスクロージャー第176巻、No、 17643(
1978年12月)および同第187巻、 No。
18716(1979年11月)に記載されている。
本発明に使用されるハロゲン化銀乳剤(以下、ハロゲン
化銀乳剤という)には、ハロゲン化銀として臭化銀、沃
臭化銀、沃塩化銀、塩臭化銀、および塩化銀等の通常の
ハロゲン化銀乳剤に使用される任意のものを用いる事が
でるきが、好ましくは、ネガ型ハロゲン化銀乳剤として
60モル%以上の塩化銀を含む塩臭化銀又はポジ型ハロ
ゲン化銀乳剤として10モル%以上の臭化銀を含む塩臭
化銀、臭化銀、ヨウ臭化銀である。
化銀乳剤という)には、ハロゲン化銀として臭化銀、沃
臭化銀、沃塩化銀、塩臭化銀、および塩化銀等の通常の
ハロゲン化銀乳剤に使用される任意のものを用いる事が
でるきが、好ましくは、ネガ型ハロゲン化銀乳剤として
60モル%以上の塩化銀を含む塩臭化銀又はポジ型ハロ
ゲン化銀乳剤として10モル%以上の臭化銀を含む塩臭
化銀、臭化銀、ヨウ臭化銀である。
ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒子は、粒
子を形成する過程および/または成長させる過程で、カ
ドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩
(を含む錯塩)、ロジウム塩(を含む錯塩)および鉄塩
(を含む錯塩)から選ばれる少なくとも1種を用いて金
属イオンを添加し、粒子内部におよび/または粒子表面
にこれらの金属元素を含有させることができ、特に水溶
性ロジウム塩を含有させるのが好適である。また適当な
還元的雰囲気におくことにより、粒子内部および/また
は粒子表面に還元増感核を付与できる。
子を形成する過程および/または成長させる過程で、カ
ドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩
(を含む錯塩)、ロジウム塩(を含む錯塩)および鉄塩
(を含む錯塩)から選ばれる少なくとも1種を用いて金
属イオンを添加し、粒子内部におよび/または粒子表面
にこれらの金属元素を含有させることができ、特に水溶
性ロジウム塩を含有させるのが好適である。また適当な
還元的雰囲気におくことにより、粒子内部および/また
は粒子表面に還元増感核を付与できる。
水溶性ロジウム塩を添加する場合好ましくはlX 10
”” l X 10−’モル/ Agl l モルが好
ましい。
”” l X 10−’モル/ Agl l モルが好
ましい。
尚、蛍光増白剤としては、スチルベン系、トリアジン系
、ピラゾリン系、クマリン系、アセチレン系の蛍光増白
剤を好ましく用いることができる。
、ピラゾリン系、クマリン系、アセチレン系の蛍光増白
剤を好ましく用いることができる。
これらの化合物は水溶性のものでもよく、また不溶性の
ものを分散物の形で用いてもよい。
ものを分散物の形で用いてもよい。
マット剤として、英国特許第1,055,713号、米
国特許第1.939,213号、同第2,221.87
3号、同2,268.662号、同2,332,037
号、同2,376.005号、同2,391.181号
、同2,701.245号、同2,992.lO1号、
同3゜079.257号、同3,262.782号、同
3,516,832号、同3゜539.344号、同3
,591.379号、同3,754,924号、同3゜
767.448号等に記載されている有機マット剤、西
独特許2,592.321号、英国特許第760.77
5%、同l。
国特許第1.939,213号、同第2,221.87
3号、同2,268.662号、同2,332,037
号、同2,376.005号、同2,391.181号
、同2,701.245号、同2,992.lO1号、
同3゜079.257号、同3,262.782号、同
3,516,832号、同3゜539.344号、同3
,591.379号、同3,754,924号、同3゜
767.448号等に記載されている有機マット剤、西
独特許2,592.321号、英国特許第760.77
5%、同l。
260.772%、米国特許第1,201.905号、
同2.192.241号、同3,053.662号、同
3,062,649号、同3,257.206号、同3
,322,555号、同3,353.958号、同3,
370゜951号、同3,411,907号、同3,4
37.484号、同3,523゜022号、−′同3.
615.554号、同3,635,714号、同3,7
69゜020号、同4,021,245号、同4,02
9,504号等に記載されている無機マット剤等を好ま
しく用いることができる。
同2.192.241号、同3,053.662号、同
3,062,649号、同3,257.206号、同3
,322,555号、同3,353.958号、同3,
370゜951号、同3,411,907号、同3,4
37.484号、同3,523゜022号、−′同3.
615.554号、同3,635,714号、同3,7
69゜020号、同4,021,245号、同4,02
9,504号等に記載されている無機マット剤等を好ま
しく用いることができる。
本発明の写真感光材料中に添加されるポリマーラテック
スとは写真乳剤層その他の親水性コロイドに含有される
もので一般には寸度安定性の改良などの目的で用いられ
ろ水不溶または難溶性合成ポリマーの分散物のことであ
り、本発明において例えばアルキル(メタ)アクリレー
ト、アルコキシ(メタ)アクリレート、グリシジル(メ
タ)アクリレート、メタアクリルアミド、ビニルエステ
ル(例えば酢酸ビニル)、アクリロニトリル、オレフィ
ン、スチレンなどの単薬もしくは組み合わせまたはこれ
らとアクリル酸、メタアクリル酸、−1I不飽和ジカル
ボン酸、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、ス
ルホアルキル(メタ)アクリレート、スチレンスルホン
酸等の組み合わせを単量体成分とするポリマーを用いる
ことができる。
スとは写真乳剤層その他の親水性コロイドに含有される
もので一般には寸度安定性の改良などの目的で用いられ
ろ水不溶または難溶性合成ポリマーの分散物のことであ
り、本発明において例えばアルキル(メタ)アクリレー
ト、アルコキシ(メタ)アクリレート、グリシジル(メ
タ)アクリレート、メタアクリルアミド、ビニルエステ
ル(例えば酢酸ビニル)、アクリロニトリル、オレフィ
ン、スチレンなどの単薬もしくは組み合わせまたはこれ
らとアクリル酸、メタアクリル酸、−1I不飽和ジカル
ボン酸、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、ス
ルホアルキル(メタ)アクリレート、スチレンスルホン
酸等の組み合わせを単量体成分とするポリマーを用いる
ことができる。
尚、添加量としては0.75〜1.5g/m”好ましく
は1.2〜1−5g/m2である。寸度安定性向上技術
としては例えば特公昭39−4272号、同39−17
702号、同43−13482号、米国特許23760
05号、同2763625号、同2772166号、同
2852386号、同2853457号等に記載されて
いる。
は1.2〜1−5g/m2である。寸度安定性向上技術
としては例えば特公昭39−4272号、同39−17
702号、同43−13482号、米国特許23760
05号、同2763625号、同2772166号、同
2852386号、同2853457号等に記載されて
いる。
本発明の感光材料は、該感光材料を構成する乳剤層が感
度を有しているスペクトル領域の電磁波を用いて露光で
きる。光源としては自然光(日光)、タングステン電灯
、蛍光灯、ヨーツクオーツ灯、水銀灯、マイクロ波発光
のUV灯、キセノナーク灯、炭素アーク灯、キセノンフ
ラッシュ灯等、公知の光源のいずれをも用いることがで
きる。特に450n+a以下に最高感度を持つ本発明の
感光材料をまた実質的に370nm以下の光を含まない
光で感光層を画像露光としても好ましい結果を得ること
ができる。特に明室返し感光材料においては400n+
mの光に対する感度が360nmの光に対する感度の3
0倍以上あるのが特に好ましい。
度を有しているスペクトル領域の電磁波を用いて露光で
きる。光源としては自然光(日光)、タングステン電灯
、蛍光灯、ヨーツクオーツ灯、水銀灯、マイクロ波発光
のUV灯、キセノナーク灯、炭素アーク灯、キセノンフ
ラッシュ灯等、公知の光源のいずれをも用いることがで
きる。特に450n+a以下に最高感度を持つ本発明の
感光材料をまた実質的に370nm以下の光を含まない
光で感光層を画像露光としても好ましい結果を得ること
ができる。特に明室返し感光材料においては400n+
mの光に対する感度が360nmの光に対する感度の3
0倍以上あるのが特に好ましい。
次に、「実質的に370nm以下の光を含まない光で感
光層を画像感光する」方法としては、感光材料中に紫外
線吸収剤を含有させる方法、紫外線を吸収する光学フィ
ルターを用いる方法、370t1m以下の発光エネルギ
ーを実質的に有さない光源を用いる方法などがある。
光層を画像感光する」方法としては、感光材料中に紫外
線吸収剤を含有させる方法、紫外線を吸収する光学フィ
ルターを用いる方法、370t1m以下の発光エネルギ
ーを実質的に有さない光源を用いる方法などがある。
まず、第1の方法について説明する。
ここで紫外線吸収剤はハロゲン化銀乳剤の固有感度を1
72以下にさせる塩を用いるが、この紫外線吸収剤とし
ては300〜400nmにピークを有する紫外線吸収剤
を用いることができ、さらに好ましくは、300〜38
0niにピークを有する紫外線吸収剤である。
72以下にさせる塩を用いるが、この紫外線吸収剤とし
ては300〜400nmにピークを有する紫外線吸収剤
を用いることができ、さらに好ましくは、300〜38
0niにピークを有する紫外線吸収剤である。
紫外線吸収剤としては、例えば、アリール基で置換され
たベンゾトリアゾール化合物、4−チアゾリドン化合物
、ベンゾフェノン化合物、桂皮酸エステル化合物、ブタ
ジェン化合物、ベンゾオキサゾール化合物さらに紫外線
吸収剤ポリマーを用いることができる。
たベンゾトリアゾール化合物、4−チアゾリドン化合物
、ベンゾフェノン化合物、桂皮酸エステル化合物、ブタ
ジェン化合物、ベンゾオキサゾール化合物さらに紫外線
吸収剤ポリマーを用いることができる。
紫外線吸収剤の具体例は、米国特許3,533,794
号、同3,314,794号、同3,352.681号
、特開昭46−2784号、米国特許3,705,80
5号、同3 、707 、375号、同4,045,2
29号、同3,700,455号、同3,499,76
2号、西独特許出願公告1,547,563号などに記
載されている。
号、同3,314,794号、同3,352.681号
、特開昭46−2784号、米国特許3,705,80
5号、同3 、707 、375号、同4,045,2
29号、同3,700,455号、同3,499,76
2号、西独特許出願公告1,547,563号などに記
載されている。
本発明では特開昭62−210458号に記載しである
具体的化合物を使用する事が出来る。
具体的化合物を使用する事が出来る。
本発明において紫外線吸収剤は360nmの/10ゲン
化銀乳剤の固有感度を1/2以下にさせるように添加さ
れるが、その添加量は360nmでの吸光度が0.3以
上となる量であり、さらに好ましくは36Qnmでの吸
光度が0.4以上となる量である。
化銀乳剤の固有感度を1/2以下にさせるように添加さ
れるが、その添加量は360nmでの吸光度が0.3以
上となる量であり、さらに好ましくは36Qnmでの吸
光度が0.4以上となる量である。
紫外線吸収剤のモル吸光係数により異なるが、通常10
−”g/+n”〜1g/m”の範囲で添加される。好ま
しくは50+ig〜500B/m”である。
−”g/+n”〜1g/m”の範囲で添加される。好ま
しくは50+ig〜500B/m”である。
本発明の紫外線吸収剤は乳剤層、表面保護層、中間層な
どに含有させられる。
どに含有させられる。
上記紫外線吸収剤は適肖な溶媒〔例えば水、アルコール
(例えばメタノール、エタノール、プロパツールなど)
、アセトン、メチルセロソルブ、など、あるいはこれら
の混合溶媒〕に溶解して本発明の非感光性の親水性コロ
イド層用塗布液中に添加することができる。
(例えばメタノール、エタノール、プロパツールなど)
、アセトン、メチルセロソルブ、など、あるいはこれら
の混合溶媒〕に溶解して本発明の非感光性の親水性コロ
イド層用塗布液中に添加することができる。
これらの紫外線吸収剤は2種以上組合せて用いることも
できる。
できる。
本発明において、前述のセーフライト染料と紫外線吸収
剤とは同一層に存在してもよいしまた異なっl;層に存
在していてもよい。
剤とは同一層に存在してもよいしまた異なっl;層に存
在していてもよい。
次に、第2の方法について説明する。紫外線を吸収する
光学フィルター(つまり、光源用フィルター)としては
、コダックラッチンフィルターN。
光学フィルター(つまり、光源用フィルター)としては
、コダックラッチンフィルターN。
−2Bのような370nm以下の光を殆ど透過しないフ
ィルターを用いるのが好ましい。より具体的には透過率
にして20%以下が好ましく、10%以下がより好まし
い。
ィルターを用いるのが好ましい。より具体的には透過率
にして20%以下が好ましく、10%以下がより好まし
い。
次に、第3の方法について説明する。光源自身が370
am以下の領域に発光エネルギーを実質的に有さない光
源としてはアイグラフィクス(株)装面品名アイドルフ
ィン、大日本スクリーン(株)製、製版用プリンターP
−603用光源(メタルハライドランプTYPE 5P
G−2000(2K W )日本電池株式会社製)など
がある。
am以下の領域に発光エネルギーを実質的に有さない光
源としてはアイグラフィクス(株)装面品名アイドルフ
ィン、大日本スクリーン(株)製、製版用プリンターP
−603用光源(メタルハライドランプTYPE 5P
G−2000(2K W )日本電池株式会社製)など
がある。
この第3の方法に用いられる光源としては、300〜4
20nmの領域における発光エネルギーのうち、300
〜370nmの領域における発光エネルギーが30%以
下のものが好ましく、特に20%以下のものが好ましく
用いられる。
20nmの領域における発光エネルギーのうち、300
〜370nmの領域における発光エネルギーが30%以
下のものが好ましく、特に20%以下のものが好ましく
用いられる。
更に、市販の明室用感光材料(例えばコニカ(株)製C
RH−100、富士写真フィルム(株)製KUV −1
00など)等を従来の明室用光源より高容量の光源を用
いて、紫外線をカットする光学フィルター(光源用フィ
ルター)を介して露光することもできる。ここで用いら
れる高容量光源としては、例えばアイグラフィック(株
)製紐高圧水銀灯H−15−L 31(15K W )
などを挙げることができる。
RH−100、富士写真フィルム(株)製KUV −1
00など)等を従来の明室用光源より高容量の光源を用
いて、紫外線をカットする光学フィルター(光源用フィ
ルター)を介して露光することもできる。ここで用いら
れる高容量光源としては、例えばアイグラフィック(株
)製紐高圧水銀灯H−15−L 31(15K W )
などを挙げることができる。
紫外線を吸収する光学フィルター(光源用フィルター)
を光源と感光材料との間に用いて感光する場合、感光材
料中に実質的に370nm以下の光を含まない光が感光
層に到達するように紫外線吸収剤等を含有した層を設け
る場合などにおいては、従来の公知の光源を用いること
ができ、る。例えば、大日本スクリーン(株)製、製版
用プリンターP−607用光源(超高圧水銀灯: UR
T−CHM−1000)、同社製P−627FM用光源
などを挙げることができる。
を光源と感光材料との間に用いて感光する場合、感光材
料中に実質的に370nm以下の光を含まない光が感光
層に到達するように紫外線吸収剤等を含有した層を設け
る場合などにおいては、従来の公知の光源を用いること
ができ、る。例えば、大日本スクリーン(株)製、製版
用プリンターP−607用光源(超高圧水銀灯: UR
T−CHM−1000)、同社製P−627FM用光源
などを挙げることができる。
本発明の方法において、露光時間としては、用いる光源
の容量、感光材料の感度(含分−光感度)などに応じて
選択されるが通常60秒〜5秒で行われる。場合によっ
ては長時間(2〜3分間)の露光を行ってもよい。
の容量、感光材料の感度(含分−光感度)などに応じて
選択されるが通常60秒〜5秒で行われる。場合によっ
ては長時間(2〜3分間)の露光を行ってもよい。
本発明の方法による感光材料の現像処理には、公知の方
法による黒白、カラー、反転などの各種現像処理を用い
ることができるが、高コントラストを与える印刷用感光
材料のための処理を行う場合特に有効である。
法による黒白、カラー、反転などの各種現像処理を用い
ることができるが、高コントラストを与える印刷用感光
材料のための処理を行う場合特に有効である。
本発明において、フィルター染料あるいはハレーション
防止その他種々の目的で用いられる染料には、トリアリ
ル染料、オキサノール染料、ヘミオキサノール染料、メ
ロシアニン染料、シアニン染料、スチリル染料、アゾ染
料が包含される。なかでもオキサノール染料;ヘミオキ
サノール染料およびメロシアニン染料が有用である。更
に本発明には特願昭62−153156号記載の化合物
を使用することが出来る。
防止その他種々の目的で用いられる染料には、トリアリ
ル染料、オキサノール染料、ヘミオキサノール染料、メ
ロシアニン染料、シアニン染料、スチリル染料、アゾ染
料が包含される。なかでもオキサノール染料;ヘミオキ
サノール染料およびメロシアニン染料が有用である。更
に本発明には特願昭62−153156号記載の化合物
を使用することが出来る。
即ち、本発明の目的を達成するために用いられる減感色
素は、ポーラログラフの陽極電位と陰極電位の和が正で
ある化合物がよく、そのような化合物は数多くの特許中
、文献中に記載されており、いずれの減感色素も用いる
ことができるが、特に減感色素としては上記特願昭公報
に示す下記一般式(1)〜(V)で表されるものが好ま
しく用いることができる。
素は、ポーラログラフの陽極電位と陰極電位の和が正で
ある化合物がよく、そのような化合物は数多くの特許中
、文献中に記載されており、いずれの減感色素も用いる
ことができるが、特に減感色素としては上記特願昭公報
に示す下記一般式(1)〜(V)で表されるものが好ま
しく用いることができる。
これらの化合物は、米国特許第3.567.456号、
同3,615.639号、同3,579.345号、同
3,615,608号、同3,598,596号、同3
,598,955号、同3,592.653号、同3,
582.343号、特公昭40−26751号、同40
−27332号、同43−13167号、同45−88
33号、同47−8746号等の明細書を参考にして合
成することができる。
同3,615.639号、同3,579.345号、同
3,615,608号、同3,598,596号、同3
,598,955号、同3,592.653号、同3,
582.343号、特公昭40−26751号、同40
−27332号、同43−13167号、同45−88
33号、同47−8746号等の明細書を参考にして合
成することができる。
一般式(1)
一般式(II)
一般式CI)及びCI[]式中R1は水素またはハロゲ
ン原子、シアン基、またはニトロ基でR1とR2で芳香
族環を形成してもよい。
ン原子、シアン基、またはニトロ基でR1とR2で芳香
族環を形成してもよい。
R1及びR2は夫々アルキル基、低級アルケニル基、フ
ェニル基または低級ヒドロキシアルキル基を表し、R,
及びR2が水素原子以外の場合にはアリール基であって
もよ<、nは1〜4の正数、R。
ェニル基または低級ヒドロキシアルキル基を表し、R,
及びR2が水素原子以外の場合にはアリール基であって
もよ<、nは1〜4の正数、R。
は低級アルキル基またはスルホン化低級アルキル基を表
し、Xは酸アニオンを表す。
し、Xは酸アニオンを表す。
一般式CII[)
一般式(III)式中、R1及びR2はそれぞれ水素原
子またはニトロ基、R1及びR4は低級アルキル基、ア
リル基またはフェニル基、2はニトロベンゾチアゾール
核、ニトロベンゾオキサゾ−Jし核、ニトロベンゾセレ
ナゾール核、イミダゾ[4・5−b]キノキサリン核、
3・3−ジメチル−3H−ピロロ[2・3−b1ピリジ
ン核、3・3−ジアルキル−H−ニトロインドール核、
チアゾロ[4・5−b1キノリン核、ニトロキノリン核
、ニトロチアソール核、ニトロナフトチアゾール核、ニ
トロオキサゾール核、ニトロナフトオキサゾール核、ニ
トロセレナゾール核、ニトロナフトセレナゾール核また
はニトロピリジン核を形成するために必要な原子群、X
はアニオン、m及びnそれぞれl又は2を表す。ただし
化合物が分子内塩を形成する場合はnはlを表す。
子またはニトロ基、R1及びR4は低級アルキル基、ア
リル基またはフェニル基、2はニトロベンゾチアゾール
核、ニトロベンゾオキサゾ−Jし核、ニトロベンゾセレ
ナゾール核、イミダゾ[4・5−b]キノキサリン核、
3・3−ジメチル−3H−ピロロ[2・3−b1ピリジ
ン核、3・3−ジアルキル−H−ニトロインドール核、
チアゾロ[4・5−b1キノリン核、ニトロキノリン核
、ニトロチアソール核、ニトロナフトチアゾール核、ニ
トロオキサゾール核、ニトロナフトオキサゾール核、ニ
トロセレナゾール核、ニトロナフトセレナゾール核また
はニトロピリジン核を形成するために必要な原子群、X
はアニオン、m及びnそれぞれl又は2を表す。ただし
化合物が分子内塩を形成する場合はnはlを表す。
一般式(IV)
一般式〔■)式中、R l,R 2,R 3及びR4は
それぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、またはニトロ基、R,は水
素原子、アルキル基またはニトロ基を表す。Zは非置換
またはそれぞれ低級アルキル基、フェニル基、チエニル
基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シア
ノ基、アルキルスルフォニル基、アルコキシカルボニル
基、フェニルスルフォニル基、トリフルオロメチル基で
置換されたチアゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフト
チアゾール核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核
、ナフトオキサゾール核、セレナゾール核、ベンゾセレ
ナゾール核、ナフトセレナゾール核、チアゾリン核、ピ
リジン核、キノリン核、イソキノリン核、3.3−ジア
ルキル−3H−インドール核、イミダゾール核、ベンゾ
イミダゾール核またはす7トイミダゾール核を形成する
に必要な原子群を表し+LL及びL2はそれされ非置換
または低級アルキル基もしくはアリール基で置換された
メチン鎖を表し、R6及びR7はそれぞれ非置換もしく
は置換基を有するアルキル基、アルケニル基、アリール
基、スルホアルキル基、またはアラルキル基、Xはアニ
オン、m及びnはそれぞれ1または2を表す。ただし化
合物が分子内塩を形成する場合はnはlを表す。
それぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、またはニトロ基、R,は水
素原子、アルキル基またはニトロ基を表す。Zは非置換
またはそれぞれ低級アルキル基、フェニル基、チエニル
基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シア
ノ基、アルキルスルフォニル基、アルコキシカルボニル
基、フェニルスルフォニル基、トリフルオロメチル基で
置換されたチアゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフト
チアゾール核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核
、ナフトオキサゾール核、セレナゾール核、ベンゾセレ
ナゾール核、ナフトセレナゾール核、チアゾリン核、ピ
リジン核、キノリン核、イソキノリン核、3.3−ジア
ルキル−3H−インドール核、イミダゾール核、ベンゾ
イミダゾール核またはす7トイミダゾール核を形成する
に必要な原子群を表し+LL及びL2はそれされ非置換
または低級アルキル基もしくはアリール基で置換された
メチン鎖を表し、R6及びR7はそれぞれ非置換もしく
は置換基を有するアルキル基、アルケニル基、アリール
基、スルホアルキル基、またはアラルキル基、Xはアニ
オン、m及びnはそれぞれ1または2を表す。ただし化
合物が分子内塩を形成する場合はnはlを表す。
一般式〔■〕
R2)(e
一般式(V)式中、R1及びR1はそれぞれアルキル基
、R2はアリール基を表す。L+及びり、はそれぞれ非
置換または低級アルキル基もしくはアリール基で置換さ
れたメチン鎖を表し、Zはチアゾール核、ベンゾチアゾ
ール核、ナフトチアゾール核、オキサゾール核、ベンズ
オキサゾール核、ナフトオキサゾール核、セレナゾール
核、ベンゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核、チ
アゾリン核、ピリジン核、キノリン核、3・3−ジアル
キルインドレニン核、イミダゾール核、イミダゾ[4・
5−b]キノキサリン核を形成するために必要な原子群
、Xはアニオン、mは1〜3、nは1〜2の正の整数を
表す。
、R2はアリール基を表す。L+及びり、はそれぞれ非
置換または低級アルキル基もしくはアリール基で置換さ
れたメチン鎖を表し、Zはチアゾール核、ベンゾチアゾ
ール核、ナフトチアゾール核、オキサゾール核、ベンズ
オキサゾール核、ナフトオキサゾール核、セレナゾール
核、ベンゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核、チ
アゾリン核、ピリジン核、キノリン核、3・3−ジアル
キルインドレニン核、イミダゾール核、イミダゾ[4・
5−b]キノキサリン核を形成するために必要な原子群
、Xはアニオン、mは1〜3、nは1〜2の正の整数を
表す。
次に上記一般式CI)〜CV)で示される化合物の具体
例を、以下に示す。なお本発明が、これら化合物に限定
されるものではないことは云うまでもない。また下記例
示化合物において、Ptsはパラトルエンスルホン酸ア
ニオンを表す。
例を、以下に示す。なお本発明が、これら化合物に限定
されるものではないことは云うまでもない。また下記例
示化合物において、Ptsはパラトルエンスルホン酸ア
ニオンを表す。
(例示化合物)
CH2C)!208
CH2CHxOHIe
N)ICOCH。
C,H。
O2
CI(。
C2H。
本発明に係る減感色素の使用量はハロゲン化銀1モル当
りl mg−1,000mgがよく、特に好ましいのは
5mg〜300mgの範囲で選択される。添加時期は、
ハロゲン化銀生成時、物理熟成時、化学熟成時、熟成後
、あるいは塗布液調整時いずれでもかまわない。また、
本発明の減感色素は、感度の低下を防止するために45
0nm以下の感度の低いものが望ましく、分光感度最大
波長が500am以上のものが好ましい。
りl mg−1,000mgがよく、特に好ましいのは
5mg〜300mgの範囲で選択される。添加時期は、
ハロゲン化銀生成時、物理熟成時、化学熟成時、熟成後
、あるいは塗布液調整時いずれでもかまわない。また、
本発明の減感色素は、感度の低下を防止するために45
0nm以下の感度の低いものが望ましく、分光感度最大
波長が500am以上のものが好ましい。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は通常の印刷用現像
液のいずれを用いて処理することができるが、特に明細
書に記載の硬調化剤のうちテトラゾリウム化合物、ヒド
ラジン化合物を使用する場合はpl(10,0〜12.
9で0.5モル/Q以上の亜硫酸塩を含むPQまたはM
Q系の現像液で処理すると特に好ましい結果かえられる
。またポリアルキレンオキシド化合物を使用する場合は
上記のPQ。
液のいずれを用いて処理することができるが、特に明細
書に記載の硬調化剤のうちテトラゾリウム化合物、ヒド
ラジン化合物を使用する場合はpl(10,0〜12.
9で0.5モル/Q以上の亜硫酸塩を含むPQまたはM
Q系の現像液で処理すると特に好ましい結果かえられる
。またポリアルキレンオキシド化合物を使用する場合は
上記のPQ。
MQ系現像液の他いわゆるリス型現像液を用いても好ま
しい結果かえられる。しかし、本発明はこのような組み
合わせに限定されるものではない。
しい結果かえられる。しかし、本発明はこのような組み
合わせに限定されるものではない。
本発明において、定着液は、感光材料の硬膜性を上げる
ためにAQ化合物を含有させることが好ましく、その含
有量が使用液中のAI2換算量でO01〜39/Qであ
るときにさらに好ましい。
ためにAQ化合物を含有させることが好ましく、その含
有量が使用液中のAI2換算量でO01〜39/Qであ
るときにさらに好ましい。
定着液に含まれる好ましい亜硫酸濃度は0.03〜0.
4モル/12であり、より好ましくは0.04〜0.3
モル/Qである。
4モル/12であり、より好ましくは0.04〜0.3
モル/Qである。
好ましい定着液1) Hは3.9〜6.5であり、この
pHで定着液は好ましい写真性能を与え、しかも本発明
の感光材料の効果が顕著となる。最も好ましい液はpH
は4.2〜5.3である。
pHで定着液は好ましい写真性能を与え、しかも本発明
の感光材料の効果が顕著となる。最も好ましい液はpH
は4.2〜5.3である。
本発明における全処理時間20秒〜60秒とは現像、定
着、水洗、乾燥の全工程(全てワタリを含む)を含んだ
時間であるが、現像秒数と定着秒数は全く独立に設定す
ることができどちらが長くともよく、またもちろん同じ
秒数特に好ましくは現像;定着1:0.3〜l:3であ
る。また現像温度と定着温度も全く独立に設定してもよ
くどちらが高くともよく、またもちろん同じ温度であっ
てもよい。特に好ましくは定着温度が現像温度に対し一
15°C〜+15℃の範囲である。また水洗水は常温が
あることが装置上好ましいが、温調器をとりつけること
で昇温しでもよい。
着、水洗、乾燥の全工程(全てワタリを含む)を含んだ
時間であるが、現像秒数と定着秒数は全く独立に設定す
ることができどちらが長くともよく、またもちろん同じ
秒数特に好ましくは現像;定着1:0.3〜l:3であ
る。また現像温度と定着温度も全く独立に設定してもよ
くどちらが高くともよく、またもちろん同じ温度であっ
てもよい。特に好ましくは定着温度が現像温度に対し一
15°C〜+15℃の範囲である。また水洗水は常温が
あることが装置上好ましいが、温調器をとりつけること
で昇温しでもよい。
現像後、定着後の温度はそれぞれ20℃〜45°Cが旭
理液の保恒性および臭気性の面からして好ましい。
理液の保恒性および臭気性の面からして好ましい。
以下に本発明の実施例を詳細に記述するが、本発明がこ
れらに限定されるものではないことはいうまでもない。
れらに限定されるものではないことはいうまでもない。
実施例1
明室返し用感材としてネガ型のハロゲン化銀感光材料を
下記の様にして作成した。
下記の様にして作成した。
(乳剤の調整)
下記のようにして臭化銀含有率2モル%の塩臭化銀乳剤
を調製した。
を調製した。
硝酸銀60g当り23.9m9のペンタブロモロジウム
カリウム塩、塩化ナトリウムおよび臭化カリウムを含有
する水溶液と硝酸銀水溶液とをゼラチン水溶液中に撹拌
しつつ、25℃、30°C240°C150°Cで25
分間で同時混合してそれぞれ平均粒径0,05μm。
カリウム塩、塩化ナトリウムおよび臭化カリウムを含有
する水溶液と硝酸銀水溶液とをゼラチン水溶液中に撹拌
しつつ、25℃、30°C240°C150°Cで25
分間で同時混合してそれぞれ平均粒径0,05μm。
0.10μm、 0.20μm、 0.30μmの塩臭
化銀乳剤をそれぞれ作成した。
化銀乳剤をそれぞれ作成した。
これらの乳剤に安定剤として6−メチル−4−ヒドロキ
シ−1,3,3a、7−チトラザインデンを20011
19加えた後、水洗、脱塩した。
シ−1,3,3a、7−チトラザインデンを20011
19加えた後、水洗、脱塩した。
これに201119の6−メチル4−ヒドロキシ−1,
3,3a、7−チトラザインデンを加えた後、イオウ増
感した。
3,3a、7−チトラザインデンを加えた後、イオウ増
感した。
イオウ増感後、それぞれ必要な分のゼラチンを加え、安
定剤として6−メチル−4・ヒドロキシ−1,3,3a
。
定剤として6−メチル−4・ヒドロキシ−1,3,3a
。
7−チトラザインデンを加え、次いで水にて260II
I2に仕上げて乳剤を調製した。
I2に仕上げて乳剤を調製した。
(乳剤添加用ラテックス(L)の作成)水40Qに名糖
産業製KMDS(デキストラン硫酸エステルナトリウム
塩)を0.25に9および過硫酸アンモニウム0.05
に9加えた液に液温81 ’Oで撹拌しつつ窒素雰囲気
下でn−ブチルアクリレート4.51に9、スチレン5
.49に9およびアクリル酸0.1に9の混合液を1時
間かけて添加、その後過硫酸アンモニウムを0.005
に9加え、更に1.5時間撹拌後、冷却、更にアンモニ
ア水にてpHを6に合せた。
産業製KMDS(デキストラン硫酸エステルナトリウム
塩)を0.25に9および過硫酸アンモニウム0.05
に9加えた液に液温81 ’Oで撹拌しつつ窒素雰囲気
下でn−ブチルアクリレート4.51に9、スチレン5
.49に9およびアクリル酸0.1に9の混合液を1時
間かけて添加、その後過硫酸アンモニウムを0.005
に9加え、更に1.5時間撹拌後、冷却、更にアンモニ
ア水にてpHを6に合せた。
得られたラテックス液をWhotman社製GF/Dフ
ィルターで濾別し、水で50.5に9に仕上げる事で平
均粒径0.25μの単分散な乳剤液添加用ラテックス(
L)を作成した。
ィルターで濾別し、水で50.5に9に仕上げる事で平
均粒径0.25μの単分散な乳剤液添加用ラテックス(
L)を作成した。
前記乳剤に以下の添加剤を加えて、ハロゲン化銀乳剤塗
布液を下記の様に調製した。
布液を下記の様に調製した。
(乳剤塗布液の調製)
前記乳剤液に殺菌剤として化合物(K)を91119加
えた後、0.5規定水酸化ナトリウム液を用いてpHを
6.5に調整、次いで下記化合物(T)を表1−1のよ
うに加え、更に、ハロゲン化銀1モル当りサポニン20
%水溶液を5 mQ、 ドデシルベンゼンスルフオン
酸ナトリウムを180m9.5−メチルベンズトリアゾ
ールを80ng、前記乳剤液添加用ラテックス液(L)
を表1−2のEl−(1)〜E5− (2)のように加
え、以下化合物(M)を60my、および増粘剤として
スチレン−マレイン酸共重合体水性ポリマーを280
mgを順次加えて、水にて4751!lI2に仕上げて
乳剤塗布液表1に示すような塗布液El〜E5を調製し
た。
えた後、0.5規定水酸化ナトリウム液を用いてpHを
6.5に調整、次いで下記化合物(T)を表1−1のよ
うに加え、更に、ハロゲン化銀1モル当りサポニン20
%水溶液を5 mQ、 ドデシルベンゼンスルフオン
酸ナトリウムを180m9.5−メチルベンズトリアゾ
ールを80ng、前記乳剤液添加用ラテックス液(L)
を表1−2のEl−(1)〜E5− (2)のように加
え、以下化合物(M)を60my、および増粘剤として
スチレン−マレイン酸共重合体水性ポリマーを280
mgを順次加えて、水にて4751!lI2に仕上げて
乳剤塗布液表1に示すような塗布液El〜E5を調製し
た。
次いで乳剤保護膜塗布液を下記の様にして調製し tこ
。
。
(乳剤保護膜塗布液P−1の調製)
ゼラチン中に純水を加え、膨潤後40°Cで溶解、次い
で塗布助剤として、下記化合物(Z)の1%水溶液を2
.9Q、フィルター染料として下記の化合物(N)を8
09、マット剤として平均粒径8μmの不定をシリカを
20g、平均粒径3μmの不定型シリカを10g、およ
び下記化合物(B)を62g順次加え、更にクエン酸液
でpH5,4とした後、水にてに仕上げて乳剤保護膜塗
布液P−1を調製した。
で塗布助剤として、下記化合物(Z)の1%水溶液を2
.9Q、フィルター染料として下記の化合物(N)を8
09、マット剤として平均粒径8μmの不定をシリカを
20g、平均粒径3μmの不定型シリカを10g、およ
び下記化合物(B)を62g順次加え、更にクエン酸液
でpH5,4とした後、水にてに仕上げて乳剤保護膜塗
布液P−1を調製した。
化合物(T)
化合物(Z)
化合物
(M)
化合物
(N)
化合物
(A)
化合物(B)
ゼラチン36に9を水に膨潤し、加温して溶解後、染料
として下記化合物(C−1)を1.6に9、(C−2)
を310g、(C−3)を1.9に9、前記化合物(N
)を2.9Kg、水溶液にして加え、次にサポニンの2
0%水溶液を1112、物性調整剤として下記化合物(
C−4)を5に9加え更に、メタノール溶液として、下
記化合物(C−5)を63g、および下記化合物(C−
6)を2709加えた。この液に増粘剤として、スチレ
ン−マレイン酸共重合体水溶性ポリマーを8009加え
粘度調製5、更にクエン酸水溶液を用いてpH5,4に
調製し、最後にグリオキザールを144g加え、水にて
960aに仕上げてBC塗布液B−1を調製した。
として下記化合物(C−1)を1.6に9、(C−2)
を310g、(C−3)を1.9に9、前記化合物(N
)を2.9Kg、水溶液にして加え、次にサポニンの2
0%水溶液を1112、物性調整剤として下記化合物(
C−4)を5に9加え更に、メタノール溶液として、下
記化合物(C−5)を63g、および下記化合物(C−
6)を2709加えた。この液に増粘剤として、スチレ
ン−マレイン酸共重合体水溶性ポリマーを8009加え
粘度調製5、更にクエン酸水溶液を用いてpH5,4に
調製し、最後にグリオキザールを144g加え、水にて
960aに仕上げてBC塗布液B−1を調製した。
化合物(C−1)
次いでバッキング下層を塗布するのに用いるバッキング
塗布液を下記の様にして調製した。
塗布液を下記の様にして調製した。
(バッキング塗布液B−1の調製)
化合物(C
化合物(C−5) 化合物(C−6)化合物
(C−3)
化合物
(C−4)
次いでバッキング層の保護膜層塗布用として保護膜塗布
液p−2を下記の様にして調製した。
液p−2を下記の様にして調製した。
(保護膜塗布液P−2の調製)
ゼラチン50に9を水に膨潤し、加温溶解後、2−スル
ホネート−コハク酸ビス(2−エチルヘキシル)エステ
ルナトリウム塩を340g加え、マット剤としてポリメ
チルメタアクリレート(平均粒径約0.4μ)を1.7
に9、塩化ナトリウムを3.4に9加え、更にグリオキ
ザールをl−IKg、ムコクロル酸を5409加え、水
にて100012に仕上げて保護膜塗布液P−2を調製
しt;。
ホネート−コハク酸ビス(2−エチルヘキシル)エステ
ルナトリウム塩を340g加え、マット剤としてポリメ
チルメタアクリレート(平均粒径約0.4μ)を1.7
に9、塩化ナトリウムを3.4に9加え、更にグリオキ
ザールをl−IKg、ムコクロル酸を5409加え、水
にて100012に仕上げて保護膜塗布液P−2を調製
しt;。
前記の各塗布液を特開昭59−09941の実施例−1
の下引き層を施したポリエチレンテレフタレートフィル
ム(厚さ100μm)上の両面に片面毎に塗布し、表1
に示す評価試料を作成した。
の下引き層を施したポリエチレンテレフタレートフィル
ム(厚さ100μm)上の両面に片面毎に塗布し、表1
に示す評価試料を作成した。
その際、下引き層を塗設した支持体の一方の面上にバッ
キング下層をB−1塗布液を用いてゼラチン乾燥重量が
2ti/ m”になる様に塗布し、同時にその上部にバ
ッキング保護膜層を保護膜液P−2を用いてゼラチン乾
燥重量が19/11”となる様に塗布乾燥した。次いで
支持体の他の1面上に乳剤層をゼラチン乾燥重量が表−
2になるように、また塗布銀量が4.0g/ m2とな
る様に塗布し、その上部に乳剤保護膜層を保護膜液P−
1を用いてゼラチン乾燥重量が表−2の値となる様に硬
膜剤としてホルマリンを加えながら乳剤層と同時に塗布
乾燥し、評価試料El−(1)〜E5−(2)を作成し
tこ。
キング下層をB−1塗布液を用いてゼラチン乾燥重量が
2ti/ m”になる様に塗布し、同時にその上部にバ
ッキング保護膜層を保護膜液P−2を用いてゼラチン乾
燥重量が19/11”となる様に塗布乾燥した。次いで
支持体の他の1面上に乳剤層をゼラチン乾燥重量が表−
2になるように、また塗布銀量が4.0g/ m2とな
る様に塗布し、その上部に乳剤保護膜層を保護膜液P−
1を用いてゼラチン乾燥重量が表−2の値となる様に硬
膜剤としてホルマリンを加えながら乳剤層と同時に塗布
乾燥し、評価試料El−(1)〜E5−(2)を作成し
tこ。
表1−1
上記試料El−(1)〜E5−(2)を各々米国フュー
ジョン(FUSION)社製無電放電管光源をとりつけ
た明室プリンターP−627FM(大日本スクリーン製
)にてあらかじめ準備した原稿と乳剤面を密着させ露光
した。得られた試料について現像液は添加した硬調化剤
との組み合わせで決め、テトラゾリウム化合物を添加し
た試料は下記現像液及び定着液を用いた。また速度可変
の自動現像機を用い迅速現像条件により処理した。処理
した試料はそれぞれ濃度0.3〜3.0の範囲でTを求
め抜き文字性能、ひびわれテストを行って評価した。
ジョン(FUSION)社製無電放電管光源をとりつけ
た明室プリンターP−627FM(大日本スクリーン製
)にてあらかじめ準備した原稿と乳剤面を密着させ露光
した。得られた試料について現像液は添加した硬調化剤
との組み合わせで決め、テトラゾリウム化合物を添加し
た試料は下記現像液及び定着液を用いた。また速度可変
の自動現像機を用い迅速現像条件により処理した。処理
した試料はそれぞれ濃度0.3〜3.0の範囲でTを求
め抜き文字性能、ひびわれテストを行って評価した。
(組成A)
純水(イオン交換水) 15Q+n
12エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 2gジエ
チレングリコール 509亜硫酸カリ
ウム (55%W/V水溶液) 100m4炭酸
カリウム 509ハイドロキ
ノン 1595−メチルベン
ゾトリアゾール 200mg1−フェニル−5
−メルカプトテトラゾール 30mg水酸化カリウム
使用液のpHを10.4にする量臭化カリウム
4.5g(組成り) 純水(イオン交換水) 3mQジ
エチレングリコール 509エチレン
ジアミン四酢酸二ナトリウム塩 251119酢酸(9
0%水溶液) 0.3mff5−
ニトロインダゾール 110mg1−
フェニル−3・ピラゾリドン 500mg
現像液の使用時に水500I中に上記組成物A、組成物
Bの順に溶かし、lI2に仕上げて用いた。
12エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 2gジエ
チレングリコール 509亜硫酸カリ
ウム (55%W/V水溶液) 100m4炭酸
カリウム 509ハイドロキ
ノン 1595−メチルベン
ゾトリアゾール 200mg1−フェニル−5
−メルカプトテトラゾール 30mg水酸化カリウム
使用液のpHを10.4にする量臭化カリウム
4.5g(組成り) 純水(イオン交換水) 3mQジ
エチレングリコール 509エチレン
ジアミン四酢酸二ナトリウム塩 251119酢酸(9
0%水溶液) 0.3mff5−
ニトロインダゾール 110mg1−
フェニル−3・ピラゾリドン 500mg
現像液の使用時に水500I中に上記組成物A、組成物
Bの順に溶かし、lI2に仕上げて用いた。
(組成A)
チオ硫酸アンモニウム(72,5%W/V水溶液)23
On+71亜硫酸ナトリウム 9
.5g酢酸ナトリウム・3水塩 15.
99硼酸 6.7g
クエン酸ナトリウム・2水塩 2g酢酸
(90%W/W水溶液) 3.1m
12(組成り) 純水(イオン交換水) 17mQ硫
酸(50%W/Wの水溶液) 5.
89硫酸アルミニウム (AQ20.換算含量が8.1%L’Wの水溶液)
26.59定着液の使用時に水500m12中に上記
組成A1組成Bの順に溶かし、I+2に仕上げて用いた
。この定着液のpHは約4.3であった。
On+71亜硫酸ナトリウム 9
.5g酢酸ナトリウム・3水塩 15.
99硼酸 6.7g
クエン酸ナトリウム・2水塩 2g酢酸
(90%W/W水溶液) 3.1m
12(組成り) 純水(イオン交換水) 17mQ硫
酸(50%W/Wの水溶液) 5.
89硫酸アルミニウム (AQ20.換算含量が8.1%L’Wの水溶液)
26.59定着液の使用時に水500m12中に上記
組成A1組成Bの順に溶かし、I+2に仕上げて用いた
。この定着液のpHは約4.3であった。
(工程) (温度) (時間) (タンク容量)
現 像 35°O15秒 20(4
0り定 着 35°O15秒
2Off水 洗 18℃ 10秒
to(20α)乾 燥 40℃
10秒 20I2乾燥機伝熱係数1
80Kcaff/ h−m” ・℃自動現像機設置環境
湿度(温度)−23℃、(相対湿度)−40%各工程時
間は次工程までのいわゆるワタリ搬送時間も含む。
現 像 35°O15秒 20(4
0り定 着 35°O15秒
2Off水 洗 18℃ 10秒
to(20α)乾 燥 40℃
10秒 20I2乾燥機伝熱係数1
80Kcaff/ h−m” ・℃自動現像機設置環境
湿度(温度)−23℃、(相対湿度)−40%各工程時
間は次工程までのいわゆるワタリ搬送時間も含む。
D ry to Dry時間 50秒ラインスピード
2000+++m/ win次に各評価方法について
説明する。
2000+++m/ win次に各評価方法について
説明する。
■γ値は下記式による。
■ひびわれテスト
得られたEl−(1)〜E5−(2)の試料を縦15c
m横4cmのサイズに断裁し、各サンプルを絶乾状態で
ある湿度0%−温度40℃の条件下におき、5日目にそ
の乳剤面の状態を評価する。評価ランクは目視5段階評
価にて行い、乳剤面に全く異常がなくひびわれの兆候が
認められないものを最も良いレベル5とし、最も悪いレ
ベルが1である。3以上が実用しうるレベルである。
m横4cmのサイズに断裁し、各サンプルを絶乾状態で
ある湿度0%−温度40℃の条件下におき、5日目にそ
の乳剤面の状態を評価する。評価ランクは目視5段階評
価にて行い、乳剤面に全く異常がなくひびわれの兆候が
認められないものを最も良いレベル5とし、最も悪いレ
ベルが1である。3以上が実用しうるレベルである。
■抜き文字画質評価:抜き文字画質5としては、50%
の網点面積が返し用感光材料上に50%の網点面積とな
るように適正露光を行った時に、30μm巾の文字が再
現される画質をいい、非常に良好な抜き文字画質である
。一方抜き文字画質lとは、同様の適正露光を与えたと
き150μm巾以上の文字しか再現することのできない
画質を言い、良くない抜き文字品質である。3以上が実
用し得るレベルである。
の網点面積が返し用感光材料上に50%の網点面積とな
るように適正露光を行った時に、30μm巾の文字が再
現される画質をいい、非常に良好な抜き文字画質である
。一方抜き文字画質lとは、同様の適正露光を与えたと
き150μm巾以上の文字しか再現することのできない
画質を言い、良くない抜き文字品質である。3以上が実
用し得るレベルである。
表2の結果から粒径が0.05〜0.20μmであるハ
ロゲン化銀感光材料中のハロゲン化銀を含む乳剤層中の
総ゼラチン量が2.0〜3−5g/m2の範囲でかつ含
まれるポリマーラテックスが0.75〜1.5g/m2
の範囲においてかつ濃度0.3〜3.0に規定されるr
値が6.0以上の値をもつハロゲン化銀写真感光材料は
超迅速処理を行うとその抜き文字性能、ひびわれにお実
施例 2 実施例 lにおいて硬調化剤としてテトラゾリウム化合
物を用いたが、濃度0.3〜3.0に規定されるγ値が
6以上になるようにするためにヒドラジン化合物、ポリ
アルキレンオキシド化合物を硬調化剤として使用した。
ロゲン化銀感光材料中のハロゲン化銀を含む乳剤層中の
総ゼラチン量が2.0〜3−5g/m2の範囲でかつ含
まれるポリマーラテックスが0.75〜1.5g/m2
の範囲においてかつ濃度0.3〜3.0に規定されるr
値が6.0以上の値をもつハロゲン化銀写真感光材料は
超迅速処理を行うとその抜き文字性能、ひびわれにお実
施例 2 実施例 lにおいて硬調化剤としてテトラゾリウム化合
物を用いたが、濃度0.3〜3.0に規定されるγ値が
6以上になるようにするためにヒドラジン化合物、ポリ
アルキレンオキシド化合物を硬調化剤として使用した。
実施例 1と同様にして粒径0゜05μm、0.IIL
m、0.211m、0.3μIの粒子を調製した。乳剤
調製の際にテトラゾリウム化合物の代わりに前掲ヒドラ
ジン化合物(H)、ポリアルキレンオキシド化合物(P
E0)を表3−1のように加え、またポリマーラテック
ス量を表−3−2に示すごと〈実施例1と同じように添
加して塗布乳剤を調製し、実施例1と同じようにゼラチ
ン量を変えて塗布し塗布試料H−1−(]、 )〜)l
−5−(2)及びP−1−(1)〜p−5−(2)を得
て実施例1と同様に画像露光、現像処理をしてγ値、抜
き文字の評価を行った。この結果を表4に示す。尚、H
−1−El−5は現像液Bを用い、P−1−P−5は現
像液Cにより処理した。定着液は前記のも化合物 (H) 化合物(P) 5−メチルベンゾトリアゾール n−ブチル・ジェタノールアミ 水を加えて 0.6g 15.09 Q (pH= 11.6) 現像液 C コニカ(株)製、迅速リス用現像液 CDL−271A
Bを使用した。
m、0.211m、0.3μIの粒子を調製した。乳剤
調製の際にテトラゾリウム化合物の代わりに前掲ヒドラ
ジン化合物(H)、ポリアルキレンオキシド化合物(P
E0)を表3−1のように加え、またポリマーラテック
ス量を表−3−2に示すごと〈実施例1と同じように添
加して塗布乳剤を調製し、実施例1と同じようにゼラチ
ン量を変えて塗布し塗布試料H−1−(]、 )〜)l
−5−(2)及びP−1−(1)〜p−5−(2)を得
て実施例1と同様に画像露光、現像処理をしてγ値、抜
き文字の評価を行った。この結果を表4に示す。尚、H
−1−El−5は現像液Bを用い、P−1−P−5は現
像液Cにより処理した。定着液は前記のも化合物 (H) 化合物(P) 5−メチルベンゾトリアゾール n−ブチル・ジェタノールアミ 水を加えて 0.6g 15.09 Q (pH= 11.6) 現像液 C コニカ(株)製、迅速リス用現像液 CDL−271A
Bを使用した。
すi
現像液 B
ハイドロキノン
N−メチルp・アミノフエ
水酸化ナトリウム
水酸化カリウム
5・スルホサリチル酸
ホウ酸
ノ
亜硫酸カリウム
エチレンジアミン四酢酸二ナト
臭化カリウム
45.0g
0.8g
15.09
55.09
45.0g
35.09
110.09
リウム塩 1.0g
6.0g
−ル1/2硫酸塩
表4の結果からテトラゾリウム化合物の代わりにヒドラ
ジド化合物を用いても同様に良好な結果を得ることがで
きた。またポリアルキレンオキシド化合物を使用しても
同様に良好な結果をえることができt;。
ジド化合物を用いても同様に良好な結果を得ることがで
きた。またポリアルキレンオキシド化合物を使用しても
同様に良好な結果をえることができt;。
本発明により、抜き文字品質の低下を招くことなく、全
処理時間が20〜60秒の超迅速処理を可能とする明室
用ハロゲン化銀写真感光材料を提供することかできた。
処理時間が20〜60秒の超迅速処理を可能とする明室
用ハロゲン化銀写真感光材料を提供することかできた。
Claims (1)
- 300nm〜450nmに主たる感光性を有し、粒径が
0.05〜0.20μmであるハロゲン化銀粒子を含有
させた明室用ハロゲン化銀写真感光材料において、感光
性ハロゲン化銀を有する側の写真構成層のゼラチン量が
1.5〜3.0g/m^2の範囲にあり、該感光材料中
にはポリマーラテックス量を0.75〜1.5g/m^
2の範囲に含有し、かつ画像露光、現像処理した場合、
濃度0.3〜3.0に規定されるγ値が実質的に6.0
以上の値を有することを特徴とする明室用ハロゲン化銀
写真感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17468588A JPH0223329A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | 抜き文字性能等が改良された明室用ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17468588A JPH0223329A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | 抜き文字性能等が改良された明室用ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0223329A true JPH0223329A (ja) | 1990-01-25 |
Family
ID=15982901
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17468588A Pending JPH0223329A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | 抜き文字性能等が改良された明室用ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0223329A (ja) |
-
1988
- 1988-07-12 JP JP17468588A patent/JPH0223329A/ja active Pending
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