JPH0223512A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH0223512A JPH0223512A JP63173315A JP17331588A JPH0223512A JP H0223512 A JPH0223512 A JP H0223512A JP 63173315 A JP63173315 A JP 63173315A JP 17331588 A JP17331588 A JP 17331588A JP H0223512 A JPH0223512 A JP H0223512A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- projections
- protective layer
- perpendicularly magnetized
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、Ｃｏ系合金垂直磁化膜を磁気記録層とした高
密度磁気記録媒体に関する。
密度磁気記録媒体に関する。
従来の技術
垂直磁気記録は高密度記録の場合の損失が少ないことか
ら、将来１（μｍ）Ｘｌ（μｍ）のピット面積での情報
のやりとりを実現できる記録技術として期待されている
。
ら、将来１（μｍ）Ｘｌ（μｍ）のピット面積での情報
のやりとりを実現できる記録技術として期待されている
。
しかしながら実用的見地から今日の技術をみると、ヘッ
ド摺動時の磁気記録媒体の部分的破壊損傷の問題に代表
される解決すべき課題１が残されている。現在、Ｃｏ−
０ｒに代表される垂直磁化膜はスパッタリング法を中心
に研究が進められていて、成膜条件により、媒体損傷を
改善する試み〔第２９期日本潤滑学会春期研究発表会予
稿集、３７７頁（１９８５））適当な保護膜〔日本応用
磁気学会第４６回研究会、４６−７．５７頁（１９８６
））や表面性を検討し突起を減らすことの有効性の確認
〔磁気記録研究会資料 ＭＲ８７−４６，９頁（１ｅｓ
ｙ ））等が知られ、潤滑剤の併用によって改善がはか
られてきている。
ド摺動時の磁気記録媒体の部分的破壊損傷の問題に代表
される解決すべき課題１が残されている。現在、Ｃｏ−
０ｒに代表される垂直磁化膜はスパッタリング法を中心
に研究が進められていて、成膜条件により、媒体損傷を
改善する試み〔第２９期日本潤滑学会春期研究発表会予
稿集、３７７頁（１９８５））適当な保護膜〔日本応用
磁気学会第４６回研究会、４６−７．５７頁（１９８６
））や表面性を検討し突起を減らすことの有効性の確認
〔磁気記録研究会資料 ＭＲ８７−４６，９頁（１ｅｓ
ｙ ））等が知られ、潤滑剤の併用によって改善がはか
られてきている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、現状では、十分な耐久性を得ようとする
と保護膜厚が厚くなってきて、短波長になる程大きく影
響するスペーシング損失により、垂直磁気記録の特長が
そこなわれるといった課題があり、改善が望まれていた
。
と保護膜厚が厚くなってきて、短波長になる程大きく影
響するスペーシング損失により、垂直磁気記録の特長が
そこなわれるといった課題があり、改善が望まれていた
。
本発明は、上記した事情に鑑みなされたもので、耐久性
と広帯域０７Ｈを共に改善した垂直磁気記録用の磁気記
録媒体を提供するものである。
と広帯域０７Ｈを共に改善した垂直磁気記録用の磁気記
録媒体を提供するものである。
課題を解決するための手段
上記した課題を解決するため本発明の磁気記録媒体は高
分子フィルム上にＣｏ系合金垂直磁化膜を配し、表層部
に部分的に窒素イオン注入部から成る突起を形成した上
に保護層を配するようにしたものである。
分子フィルム上にＣｏ系合金垂直磁化膜を配し、表層部
に部分的に窒素イオン注入部から成る突起を形成した上
に保護層を配するようにしたものである。
作用
本発明の磁気記録媒体は上記した構成により、微細な突
起がヘッド摺動下での接触面積を減らし、摩擦をかん和
するのと、突起自体が窒化物で硬いので、保護層の膜厚
を薄くしても耐久性が確保できかつ、突起部も垂直磁化
膜として構成できるので雑音の増加を防げＣ／Ｎも維持
できることになる。
起がヘッド摺動下での接触面積を減らし、摩擦をかん和
するのと、突起自体が窒化物で硬いので、保護層の膜厚
を薄くしても耐久性が確保できかつ、突起部も垂直磁化
膜として構成できるので雑音の増加を防げＣ／Ｎも維持
できることになる。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の実施例について説明
する。図は本発明の一実施例に係る磁気記録媒体の拡大
断面図である。図で１はポリエチレンテレフタレート、
ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルサルフオン
、ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン等の高分子
フィルムで、平均粗さは１０人〜５０Ａ、最大粗さ３０
人〜１００人の平滑な表面をもったものが好ましい。
する。図は本発明の一実施例に係る磁気記録媒体の拡大
断面図である。図で１はポリエチレンテレフタレート、
ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルサルフオン
、ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン等の高分子
フィルムで、平均粗さは１０人〜５０Ａ、最大粗さ３０
人〜１００人の平滑な表面をもったものが好ましい。
２はＧｏ−Ｏｒ 、 （ｊｏ−Ｔｉ 、 Ｃｏ−Ｔａ
、 Ｃｏ−０ｒ−ＷｂＯｏ −Ｃｒ −Ｚ ｒ等のＣｏ
系合金垂直磁化膜で、必要ならＴｉ、Ｓｉ、Ｇｏ等の下
地層やＦｅ−Ｎｉ等の軟磁性層と組み合わせてもよく、
高分子フィルムの両面に構成してもよい。垂直磁化膜の
形成はイオンブレーティング法、スパッタリング法、電
子ビーム蒸着法等により行えばよい。
、 Ｃｏ−０ｒ−ＷｂＯｏ −Ｃｒ −Ｚ ｒ等のＣｏ
系合金垂直磁化膜で、必要ならＴｉ、Ｓｉ、Ｇｏ等の下
地層やＦｅ−Ｎｉ等の軟磁性層と組み合わせてもよく、
高分子フィルムの両面に構成してもよい。垂直磁化膜の
形成はイオンブレーティング法、スパッタリング法、電
子ビーム蒸着法等により行えばよい。
３はイオン注入部から構成される突起で、窒素イオン注
入を１０ＫｅＶ〜６０ＫｅＶ のエネルギー範囲で行
って得られるもので、突起の高さは、３０人〜１００人
が好ましく、Ｃ０ＮＸとしてみる時Ｘが０．３〜０．５
５ の範囲になるように調整するのが好ましい。０．３
以下では突起先端の硬さが小さく、耐久性が不十分で、
０．５６以上になると、突起部の垂直異方性がくずれ雑
音源となることでＣ／Ｎ低下が極短波長（例えば０．４
μｍ以下で著しい。）で起ることでこの範囲とするのが
よい。
入を１０ＫｅＶ〜６０ＫｅＶ のエネルギー範囲で行
って得られるもので、突起の高さは、３０人〜１００人
が好ましく、Ｃ０ＮＸとしてみる時Ｘが０．３〜０．５
５ の範囲になるように調整するのが好ましい。０．３
以下では突起先端の硬さが小さく、耐久性が不十分で、
０．５６以上になると、突起部の垂直異方性がくずれ雑
音源となることでＣ／Ｎ低下が極短波長（例えば０．４
μｍ以下で著しい。）で起ることでこの範囲とするのが
よい。
勿論合金系によっては硬さを増すように作用するものも
あるので、前述のＸは０．２から０．６の範囲に広げら
れる場合もあるので、材料によっては最適条件を調整し
て実施できるのは勿論である。４はプラズマ重合膜、ダ
イヤモンド薄膜、脂肪酸。
あるので、前述のＸは０．２から０．６の範囲に広げら
れる場合もあるので、材料によっては最適条件を調整し
て実施できるのは勿論である。４はプラズマ重合膜、ダ
イヤモンド薄膜、脂肪酸。
パーフルオロポリエーテル等公知の保護層から選びスペ
ーシング損失が大きくならない適量を付与形成した保護
層である。
ーシング損失が大きくならない適量を付与形成した保護
層である。
以下、更に具体的に本発明の実施例について比較例との
対比で詳しく説明する。
対比で詳しく説明する。
実施例−１
厚み１０μｍの表面粗さ２６人（最大粗さ６５人）ノポ
リエチレンテレフタレートフィルム上に、高周波スパッ
タリング法でＣｏ−０ｒ（Ｃｏニア９ｗｔ％）垂直磁化
膜を０．２μｍ形成し、注入径０．４μｍ ；平均密度
ｅ ｘ １ｏ’ ＋／ｃｄ 、突起高さ！ＯＡの窒素
注入突起を１５ＫＩＶ、６６μム／ｉで注入を行い形成
した。突起部は、ＣｏＮｘ換算でＸが０．４である。
リエチレンテレフタレートフィルム上に、高周波スパッ
タリング法でＣｏ−０ｒ（Ｃｏニア９ｗｔ％）垂直磁化
膜を０．２μｍ形成し、注入径０．４μｍ ；平均密度
ｅ ｘ １ｏ’ ＋／ｃｄ 、突起高さ！ＯＡの窒素
注入突起を１５ＫＩＶ、６６μム／ｉで注入を行い形成
した。突起部は、ＣｏＮｘ換算でＸが０．４である。
その上にテトラメチルシクロジ７ラザンのプラズマ重合
膜を６６人形成し８ミリ幅の磁気テープを試作した。
膜を６６人形成し８ミリ幅の磁気テープを試作した。
実施例−２
実施例−１のＧｏ−Ｏｒの代シにＣｏ−Ｔｉ（Ｇｏニア
９ ｗｔ％ ）を置き換えた以外は実施例−１と同じ
構成条件の８ミリ幅の磁気テープを試作した。
９ ｗｔ％ ）を置き換えた以外は実施例−１と同じ
構成条件の８ミリ幅の磁気テープを試作した。
実施例−３
実施例−１で窒素注入突起の条件を、２０にθＶ７１μ
ム／Ｃ膚、注入径０．６μｍ、突起高さ６０人。
ム／Ｃ膚、注入径０．６μｍ、突起高さ６０人。
平均密度４×１０６ケＡｄとした以外は同じ条件で８ミ
リ幅の磁気テープを試作した。
リ幅の磁気テープを試作した。
比較例−１
実施例−１の条件で、窒素イオンを酸素イオン置きかえ
て注入突起を形成した以外は同じ条件で８ミリ幅の磁気
テープを試作した。
て注入突起を形成した以外は同じ条件で８ミリ幅の磁気
テープを試作した。
比較例−２
実施例−１のフィルム上に直径１００人の５ｉ０２微粒
子を４Ｘ１０’ケ／ｉ配しその上にＣｏ−０ｒ垂直磁化
膜、プラズマ重合膜を配した８ミリ幅の磁気テープを試
作した。
子を４Ｘ１０’ケ／ｉ配しその上にＣｏ−０ｒ垂直磁化
膜、プラズマ重合膜を配した８ミリ幅の磁気テープを試
作した。
以上のテープを、改造した８ミリビデオによりスチル耐
久性と広帯域Ｃ／Ｎを比較した。用いたヘッドはギャッ
プ長０．１８μｍの積層アモルファスヘッドで、帯域は
９（ＭＨｚ）、記録波長は０．４６μｍとした。トラッ
ク幅は８μｍ と狭トラツク条件で比較し、その結果を
表にまとめて示した。
久性と広帯域Ｃ／Ｎを比較した。用いたヘッドはギャッ
プ長０．１８μｍの積層アモルファスヘッドで、帯域は
９（ＭＨｚ）、記録波長は０．４６μｍとした。トラッ
ク幅は８μｍ と狭トラツク条件で比較し、その結果を
表にまとめて示した。
（以下余白）
特にＣ／Ｎはヘッドによる差があシ、摺動ノイズの発生
する構成のヘッドでは実施例の有価値性が薄まってしま
うことがあるので注意が必要である。
する構成のヘッドでは実施例の有価値性が薄まってしま
うことがあるので注意が必要である。
発明の効果
以上のように本発明によれば、垂直磁化膜の記録性能を
損うことなく耐久性を付与できるといったすぐれた効果
がある。
損うことなく耐久性を付与できるといったすぐれた効果
がある。
図は本発明の一実施例に係る磁気記録媒体の拡大断面図
である。 １・・・・・・高分子フィルム、２・・・・・・Ｃｏ系
合金垂直磁化膜、３・・・・・・窒素イオン注入突起。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名１−
一一畠少）７４ルム ７−−−Ｃｃｔ玉合會ｔｉ飽）ζ嗅 ３−窒組ｆｖ３ｔＮ突旭
である。 １・・・・・・高分子フィルム、２・・・・・・Ｃｏ系
合金垂直磁化膜、３・・・・・・窒素イオン注入突起。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名１−
一一畠少）７４ルム ７−−−Ｃｃｔ玉合會ｔｉ飽）ζ嗅 ３−窒組ｆｖ３ｔＮ突旭
Claims (1)
- 高分子フィルム上にＣｏ系合金垂直磁化膜を配し、その
表層部に部分的に窒素注入部から成る突起を形成した上
に保護層を配したことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63173315A JPH0223512A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63173315A JPH0223512A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0223512A true JPH0223512A (ja) | 1990-01-25 |
Family
ID=15958163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63173315A Pending JPH0223512A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0223512A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7604880B2 (en) | 2004-03-25 | 2009-10-20 | Tdk Corporation | Information recording medium |
| WO2010067830A1 (ja) * | 2008-12-09 | 2010-06-17 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 |
-
1988
- 1988-07-12 JP JP63173315A patent/JPH0223512A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7604880B2 (en) | 2004-03-25 | 2009-10-20 | Tdk Corporation | Information recording medium |
| WO2010067830A1 (ja) * | 2008-12-09 | 2010-06-17 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 |
| US8795790B2 (en) | 2008-12-09 | 2014-08-05 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. | Magnetic recording medium and magnetic recording medium manufacturing method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0223512A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3486795B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JP2583956B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01287819A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2553622B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2583957B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH02179917A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01176314A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2512005B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH02141921A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH02110829A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH01320640A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH01128225A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2646739B2 (ja) | 磁気記録再生方法 | |
| JPS63102027A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01140420A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01196716A (ja) | 磁気記録媒体及びテープカセット | |
| JPH01128224A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01166323A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01176315A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH04172615A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS63251916A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01128221A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01263920A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0414610A (ja) | 磁気記録媒体 |