JPH02235856A - ビス―(4―クロルフエニル)―スルホンの製法 - Google Patents
ビス―(4―クロルフエニル)―スルホンの製法Info
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- JPH02235856A JPH02235856A JP2020547A JP2054790A JPH02235856A JP H02235856 A JPH02235856 A JP H02235856A JP 2020547 A JP2020547 A JP 2020547A JP 2054790 A JP2054790 A JP 2054790A JP H02235856 A JPH02235856 A JP H02235856A
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- GPAPPPVRLPGFEQ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dichlorodiphenyl sulfone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 GPAPPPVRLPGFEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 10
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 3
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N sulfur trioxide Chemical compound O=S(=O)=O AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OC VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 23
- 238000012856 packing Methods 0.000 abstract description 9
- 241000193830 Bacillus <bacterium> Species 0.000 abstract 1
- 201000010099 disease Diseases 0.000 abstract 1
- 208000037265 diseases, disorders, signs and symptoms Diseases 0.000 abstract 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 abstract 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 abstract 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000006277 sulfonation reaction Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- QXJJQWWVWRCVQT-UHFFFAOYSA-K calcium;sodium;phosphate Chemical compound [Na+].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O QXJJQWWVWRCVQT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010024229 Leprosy Diseases 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- -1 chlorphenyl Chemical group 0.000 description 1
- UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N cyclohexatrienamine Chemical group NC1=CC=C=C[CH]1 UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- XZEDHYFALYMVBH-UHFFFAOYSA-N ethoxysulfonyl ethyl sulfate Chemical compound CCOS(=O)(=O)OS(=O)(=O)OCC XZEDHYFALYMVBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- HTIBHCNKRMYWAG-UHFFFAOYSA-N methoxysulfonyl methyl sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OS(=O)(=O)OC HTIBHCNKRMYWAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C315/00—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明ハ、ヒス−(4−クロルフエニル)スルホン1r
製造するための改良された方法に関する。
製造するための改良された方法に関する。
ピスー(4−クロルフエニル)−スルホンは、主に芳香
族ボリスルホンを表造するためK1ならびにハンセン氏
病の治療およびエボキシド樹脂の硬化に必要なビス−(
4−アミノフエニル)−スルホンを合成するために使用
される重要な中間物質である。これらの使用分野での前
提条件ハ、ビスー(4−/口ルフエニル)−スルホンの
純度が高いことにある。
族ボリスルホンを表造するためK1ならびにハンセン氏
病の治療およびエボキシド樹脂の硬化に必要なビス−(
4−アミノフエニル)−スルホンを合成するために使用
される重要な中間物質である。これらの使用分野での前
提条件ハ、ビスー(4−/口ルフエニル)−スルホンの
純度が高いことにある。
ビスー(4−クロルフエニル)−スルホンを表造するた
めの公知方法では、クロルベンゼンを通常スルホン化反
応に投じる。クロルペンビンは、スルホン化反応に対し
相対的に不活性な成分であるので、良好な反応には反応
性の大きいスルホン化剤かlたけ激しい反応条件が必賛
となる。
めの公知方法では、クロルベンゼンを通常スルホン化反
応に投じる。クロルペンビンは、スルホン化反応に対し
相対的に不活性な成分であるので、良好な反応には反応
性の大きいスルホン化剤かlたけ激しい反応条件が必賛
となる。
西ドイツ国特許出顧公開第10 87 592号明
細書から、クロルベンゼンと、三酸化イオウおよびビロ
硫酸ジメチルまたはピロ硫酸ジエチルの混合物との反応
Kよってビスー(4−クロルフエニル)−スルホンを製
造する方法ハ、公知である。その後、lず別の反応で硫
酸ジメチルおよび三酸化イオウからビcI硫酸ジメチル
を生成し、かつ姑らに三酸化イオウを添加することによ
って本来反応性のスルホン化錯体を生成する。これを次
に付加的な反応容器中での後続反応でクロルベンゼンと
反応させる。
細書から、クロルベンゼンと、三酸化イオウおよびビロ
硫酸ジメチルまたはピロ硫酸ジエチルの混合物との反応
Kよってビスー(4−クロルフエニル)−スルホンを製
造する方法ハ、公知である。その後、lず別の反応で硫
酸ジメチルおよび三酸化イオウからビcI硫酸ジメチル
を生成し、かつ姑らに三酸化イオウを添加することによ
って本来反応性のスルホン化錯体を生成する。これを次
に付加的な反応容器中での後続反応でクロルベンゼンと
反応させる。
これについては、二段階の方法が欠点となる。
従って本発明は、クロルベンゼンと反応注の大きいスル
ホン化剤の反応によってビスー(4−クロルフエニル)
−スルホンヲ裂造するための、前記の欠点を解消し、改
良された簡単な方法を見い出そうとするa!題に基つく
。
ホン化剤の反応によってビスー(4−クロルフエニル)
−スルホンヲ裂造するための、前記の欠点を解消し、改
良された簡単な方法を見い出そうとするa!題に基つく
。
それに応じて、50〜100℃で三酸化イオウ、4il
c@ジメチルおよびクロルベンゼンを一緒に反応させる
ことを特徴とするピスー(4−クロルフエニル)−スル
ホンの製法が見い出された。
c@ジメチルおよびクロルベンゼンを一緒に反応させる
ことを特徴とするピスー(4−クロルフエニル)−スル
ホンの製法が見い出された。
本発明による方法は以下のようK実施することができる
: 本発明による方法は、攪拌釜中において不連続運転で、
あるいは有利に連続的に、例えば管状反応器中で実施す
ることができる。反応器中での反応溶液の滞留時間は、
特に管状反応器に充填体を装入することによって調整す
ることができ、すなわち充填体の形状寸法、粒径および
充填密度の相違によって反応器中での反応浴液のWI笛
時間を長く1たは短くすることができる。
: 本発明による方法は、攪拌釜中において不連続運転で、
あるいは有利に連続的に、例えば管状反応器中で実施す
ることができる。反応器中での反応溶液の滞留時間は、
特に管状反応器に充填体を装入することによって調整す
ることができ、すなわち充填体の形状寸法、粒径および
充填密度の相違によって反応器中での反応浴液のWI笛
時間を長く1たは短くすることができる。
この際)例えば混合物を蒸留により分離するための允槙
塔でも使用ぢれている球状の充填体、例としてガラス球
または反応混合物に対し不活性のスチール製の球の使用
が有利である。これらの球の直径は一般に0.4〜10
u+s!利に1〜5趨でする。一定の大きさの球を使用
するのが好゜よしい。
塔でも使用ぢれている球状の充填体、例としてガラス球
または反応混合物に対し不活性のスチール製の球の使用
が有利である。これらの球の直径は一般に0.4〜10
u+s!利に1〜5趨でする。一定の大きさの球を使用
するのが好゜よしい。
スルホン生成について触媒作用し、ひいてはスルホン化
触媒として作用する物質から成る充填体を反応管に装入
するのが有利である。例えば焼結ホウ酸球1たは酸、例
としてリン酸、硫酸1たはホウ酸で負荷葛れたシリカr
ルを充填体として使用する場合、反応の収率および選択
性を改良することができる。このように改質ざれたシリ
カゲルは好1しくけシリカゲルを相応する酸の有利には
水溶液に含浸し、続いて乾燥することによって製造され
る。ホウ酸琢は一般に150〜200”Cの温度で焼結
される。
触媒として作用する物質から成る充填体を反応管に装入
するのが有利である。例えば焼結ホウ酸球1たは酸、例
としてリン酸、硫酸1たはホウ酸で負荷葛れたシリカr
ルを充填体として使用する場合、反応の収率および選択
性を改良することができる。このように改質ざれたシリ
カゲルは好1しくけシリカゲルを相応する酸の有利には
水溶液に含浸し、続いて乾燥することによって製造され
る。ホウ酸琢は一般に150〜200”Cの温度で焼結
される。
直径4 .11mのガラス球を使用した際には、初期滞
留時間は約1分であった。何度もポンプで汲み上げるほ
ど、かつ反応率が上昇すればするほど、反応溶液はよク
粘性になりかつ平均滞留時間は6分に上昇した。
留時間は約1分であった。何度もポンプで汲み上げるほ
ど、かつ反応率が上昇すればするほど、反応溶液はよク
粘性になりかつ平均滞留時間は6分に上昇した。
反応温度は通常50〜1[7(]℃、有利に70〜90
℃である。50℃よク低い温度も確かに可能ではあるが
、反応時間および反応率を考慮すると提供できるもので
はない。反応温度は有利に60℃よク高いのが望Iしい
。温度を100°Cよク高く調節する場合には、充填体
の相応する選択1たはボングでの汲み上げによって、反
応器中で著しく長いffI留時間が起こらないように配
慮しなければならない。80℃を上回る反応温度では、
異性体のジクロルジフェニルスルホンの量、殊に3.4
7−ビス(クロルフエニル)−スルホンの量がかなク増
加することが確認された。従って、90℃では不所望の
6,4′−イソマーの10%以上が生じた。
℃である。50℃よク低い温度も確かに可能ではあるが
、反応時間および反応率を考慮すると提供できるもので
はない。反応温度は有利に60℃よク高いのが望Iしい
。温度を100°Cよク高く調節する場合には、充填体
の相応する選択1たはボングでの汲み上げによって、反
応器中で著しく長いffI留時間が起こらないように配
慮しなければならない。80℃を上回る反応温度では、
異性体のジクロルジフェニルスルホンの量、殊に3.4
7−ビス(クロルフエニル)−スルホンの量がかなク増
加することが確認された。従って、90℃では不所望の
6,4′−イソマーの10%以上が生じた。
三酸化イオウ、Wt酸ジメチル、クロルベンゼンのモル
比は、大抵の場合、o.oi :o.oos:1および
2:1 :1の間にあり、有利に0.1: 0.0 5
: 1および1.5 : 0.8 : 1の間にらク
殊に有利には0.5 : 0.2 5 : 1および1
.1=0.6 : 1の間にあク、ならびに標準組成1
:0.5 : 1の変動に関して著しく過敏ではない。
比は、大抵の場合、o.oi :o.oos:1および
2:1 :1の間にあり、有利に0.1: 0.0 5
: 1および1.5 : 0.8 : 1の間にらク
殊に有利には0.5 : 0.2 5 : 1および1
.1=0.6 : 1の間にあク、ならびに標準組成1
:0.5 : 1の変動に関して著しく過敏ではない。
成分が反応器を1回循環しかつ1〜6分の滞留時間で、
全反応57チが達成嘔れた。反応器の端から流れ出る反
応混合物をポンプで汲み上げ、連続的に管状反応器の固
定床に戻した場合、全変換率は91%に上昇しうる。こ
の方法での平均滞留時間は約15分でめった。三酸化イ
オウをクコルベン・ビンと反応させる前に、まず硫酸ジ
メチルと反応させて反応性の大きいピロ硫酸ジメチルに
変えた場合には、何も利点をもたらされないことが判明
した。硫酸水溶液でなくクロルベンゼンで沈澱させるト
、ヒスー(4一クロルフエニル)−スルホンカHK>
9 9.5 %で得られる。
全反応57チが達成嘔れた。反応器の端から流れ出る反
応混合物をポンプで汲み上げ、連続的に管状反応器の固
定床に戻した場合、全変換率は91%に上昇しうる。こ
の方法での平均滞留時間は約15分でめった。三酸化イ
オウをクコルベン・ビンと反応させる前に、まず硫酸ジ
メチルと反応させて反応性の大きいピロ硫酸ジメチルに
変えた場合には、何も利点をもたらされないことが判明
した。硫酸水溶液でなくクロルベンゼンで沈澱させるト
、ヒスー(4一クロルフエニル)−スルホンカHK>
9 9.5 %で得られる。
本発明を以下の例につき詳述する。
例 1
70℃に加熱して放置しかつガラス球を充填したガラス
管(*さ=9Dayt,直径=4a)に、クロルベンゼ
ン22!M(2.0モル)、{pftffiシメチル1
26fI(1.0モル)および三酸化イオウ1 6 0
!I( 2.0モル)を同時に30分以内にほぼ同じ
速度で滴加した。固定床塔中での反応混合物の滞留時間
は1〜3分でめった。反応混合物を反応容器からの流出
の際すぐに5チ硫酸1l中で沈#させ念。未反応のクa
ルベンゼンを除去するためにクロルベンゼンを共沸混合
物としての水と共に留去し、懸濁液を室温に冷却し、ろ
別し、各々水5 0 Q+jで2回洗浄し、かつ乾燥さ
せた。乾燥後、ビス−(4−クロルフエニル)−スルホ
ン164,9(57%)が97チの純度で得られた。
管(*さ=9Dayt,直径=4a)に、クロルベンゼ
ン22!M(2.0モル)、{pftffiシメチル1
26fI(1.0モル)および三酸化イオウ1 6 0
!I( 2.0モル)を同時に30分以内にほぼ同じ
速度で滴加した。固定床塔中での反応混合物の滞留時間
は1〜3分でめった。反応混合物を反応容器からの流出
の際すぐに5チ硫酸1l中で沈#させ念。未反応のクa
ルベンゼンを除去するためにクロルベンゼンを共沸混合
物としての水と共に留去し、懸濁液を室温に冷却し、ろ
別し、各々水5 0 Q+jで2回洗浄し、かつ乾燥さ
せた。乾燥後、ビス−(4−クロルフエニル)−スルホ
ン164,9(57%)が97チの純度で得られた。
例 2
70℃に加熱して放置しかつガラス球を充填した管(長
さ=90crIL1直径= J an )に、クロルベ
ンゼン2 2 5 .9 ( 2.0モル) 、硫fl
Lシメチル126.51(1.0モル)および三酸化イ
オウ1 6.0 .!9 ( 2.0モル)を30分以
内にはほ等速度で同時にffifJ加した。例1とは異
なり、流出した反応混合物をすぐ希硫酸で沈澱石せるの
ではなく、連続的に再度固定床塔rcボンプで送る(ポ
ンプ効率:2l/h)。出発成分の滴加終了後、反応混
合物をさらに60分間同じポンプ効率で循環させ、かつ
流出した反応混合物を引き続き5%硫IR1ノで沈澱δ
せた。例1に記載ノ後処理後、ビス−(4−クロル7エ
ニル)−スルホン261191%)が純度97%で得ら
れた。
さ=90crIL1直径= J an )に、クロルベ
ンゼン2 2 5 .9 ( 2.0モル) 、硫fl
Lシメチル126.51(1.0モル)および三酸化イ
オウ1 6.0 .!9 ( 2.0モル)を30分以
内にはほ等速度で同時にffifJ加した。例1とは異
なり、流出した反応混合物をすぐ希硫酸で沈澱石せるの
ではなく、連続的に再度固定床塔rcボンプで送る(ポ
ンプ効率:2l/h)。出発成分の滴加終了後、反応混
合物をさらに60分間同じポンプ効率で循環させ、かつ
流出した反応混合物を引き続き5%硫IR1ノで沈澱δ
せた。例1に記載ノ後処理後、ビス−(4−クロル7エ
ニル)−スルホン261191%)が純度97%で得ら
れた。
例 6
例2に記載のように実施するが、反応混合物ヲ希硫酸で
はなくクロルベンゼン500dで沈澱させた。沈澱媒体
を室温に冷却し、ろ過しかつそれぞれメタノール200
mで2回洗浄した。
はなくクロルベンゼン500dで沈澱させた。沈澱媒体
を室温に冷却し、ろ過しかつそれぞれメタノール200
mで2回洗浄した。
ts後、ビス−(4−クロルフェニル)−スルホン2
3 5.3 .9 ( 8ν1が純度> 9 9.5%
で得られた。
3 5.3 .9 ( 8ν1が純度> 9 9.5%
で得られた。
例 4
固定床反応器(例1に記載)に硫酸ジメチル1261(
1.0モル)および三酸化イオウ160,9 ( 2.
0モル)を30分以内には#′L′等速度で入れる。流
出した反応混合物金すぐクロルベンゼン2 2 5 J
( 2.0モル)と一緒に同時に第2の同じ答量の、
かつ70℃に加熱しfc固定床反応器に30分以内に入
れる。流れ出た混合物を再度連続的に第2の反応器に送
る。30分間の後反応時間後、流出した混合物を5%硫
酸500dで沈澱δせ、ろ別し、水500aで2回洗浄
しかつ乾燥させた。乾燥後、ビス−(4−クロルフエニ
ル)−スルホン2 2 3.9 .9 ( 7 8俤)
が純度97%で得られた。
1.0モル)および三酸化イオウ160,9 ( 2.
0モル)を30分以内には#′L′等速度で入れる。流
出した反応混合物金すぐクロルベンゼン2 2 5 J
( 2.0モル)と一緒に同時に第2の同じ答量の、
かつ70℃に加熱しfc固定床反応器に30分以内に入
れる。流れ出た混合物を再度連続的に第2の反応器に送
る。30分間の後反応時間後、流出した混合物を5%硫
酸500dで沈澱δせ、ろ別し、水500aで2回洗浄
しかつ乾燥させた。乾燥後、ビス−(4−クロルフエニ
ル)−スルホン2 2 3.9 .9 ( 7 8俤)
が純度97%で得られた。
例 5
例1に記載のよう・に実施するが、充填物としてガラス
球の代わクに焼結ホウ酸球(直径:4m)を使用した。
球の代わクに焼結ホウ酸球(直径:4m)を使用した。
通常の後処理および乾燥後ビス−(4−/ロルフェニル
)−スルホン187I(65幅)が純度99チで得られ
た。
)−スルホン187I(65幅)が純度99チで得られ
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ビス−(4−クロルフエニル)−スルホンの製法に
おいて、 三酸化イオウ、硫酸ジメチルおよびクロルベンゼンを5
0〜100℃で一緒に反応させることを特徴とするビス
−(4−クロルフェニル)−スルホンの製法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3902890.9 | 1989-02-01 | ||
| DE3902890A DE3902890A1 (de) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | Verfahren zur herstellung von bis-(4-chlorphenyl)-sulfon |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02235856A true JPH02235856A (ja) | 1990-09-18 |
Family
ID=6373180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020547A Pending JPH02235856A (ja) | 1989-02-01 | 1990-02-01 | ビス―(4―クロルフエニル)―スルホンの製法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5082973A (ja) |
| EP (1) | EP0381049B1 (ja) |
| JP (1) | JPH02235856A (ja) |
| DE (2) | DE3902890A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011067649A2 (en) | 2009-12-01 | 2011-06-09 | Hemant Ratanakar Bandodkar | Process for the production of a sulfone monomer |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8853444B2 (en) * | 2010-03-05 | 2014-10-07 | Basf Se | Processes for preparing 4-chlorobenzenesulfonic acid and 4,4′-dichlorodiphenyl sulfone |
| EP2383257A1 (de) * | 2010-04-22 | 2011-11-02 | Basf Se | Verfahren zur Herstellung von 4,4'-Dichlordiphenylsulfon |
| EP2383256A1 (de) * | 2010-04-22 | 2011-11-02 | Basf Se | Verfahren zur Herstellung von 4,4'-Dichlordiphenylsulfon |
| EP3805202A1 (en) | 2015-06-09 | 2021-04-14 | Vertellus Holdings LLC | Improved process for making diaryl sulfones |
| CN105566180B (zh) * | 2015-12-14 | 2017-11-21 | 河北旭隆化工有限公司 | 一种4,4‑二氯二苯砜的制备方法 |
| US20220388949A1 (en) | 2019-11-13 | 2022-12-08 | Basf Se | A process for working up water containing 4,4'-dichlorodiphenyl sulfoxide and/or 4,4'-dichlorodiphenyl sulfone as impurities |
| CN115650888A (zh) * | 2022-10-18 | 2023-01-31 | 山东东方宏业化工有限公司 | 一种高纯度4,4-二氯二苯砜的制备方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR699725A (fr) * | 1930-07-29 | 1931-02-19 | Procédé et appareil pour la fabrication de l'acide sulfurique ainsi que pour l'absorption des gaz et la régénération des liquides | |
| US2971985A (en) * | 1958-07-05 | 1961-02-14 | Roussel Uclaf | Process for the preparation of 4, 4'-dichlorodiphenylsulfone |
| DE1087592B (de) * | 1958-07-05 | 1960-08-25 | Roussel Uclaf | Verfahren zur Herstellung von 4, 4'-Dichlordiphenylsulfon |
| US3355497A (en) * | 1965-02-01 | 1967-11-28 | Plains Chemical Dev Co | Manufacture of 4, 4'-dichlorodiphenyl sulfone |
| US3415887A (en) * | 1966-06-10 | 1968-12-10 | Union Carbide Corp | Process for the preparation of 4,4'-dichlorodiphenyl sulfone |
| DE3704932A1 (de) * | 1987-02-17 | 1988-09-01 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von 4,4'-dichlordiphenylsulfon |
-
1989
- 1989-02-01 DE DE3902890A patent/DE3902890A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-01-12 US US07/464,208 patent/US5082973A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-01-25 EP EP90101467A patent/EP0381049B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-01-25 DE DE9090101467T patent/DE59001632D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-02-01 JP JP2020547A patent/JPH02235856A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011067649A2 (en) | 2009-12-01 | 2011-06-09 | Hemant Ratanakar Bandodkar | Process for the production of a sulfone monomer |
| DE112010004627T5 (de) | 2009-12-01 | 2013-01-17 | Ratanakar Hemant Bandodkar | Verfahren zur Herstellung eines Sulfonmonomers |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0381049A1 (de) | 1990-08-08 |
| EP0381049B1 (de) | 1993-06-09 |
| DE59001632D1 (de) | 1993-07-15 |
| DE3902890A1 (de) | 1990-08-02 |
| US5082973A (en) | 1992-01-21 |
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