JPH0223662A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
Semiconductor integrated circuitInfo
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- JPH0223662A JPH0223662A JP63173009A JP17300988A JPH0223662A JP H0223662 A JPH0223662 A JP H0223662A JP 63173009 A JP63173009 A JP 63173009A JP 17300988 A JP17300988 A JP 17300988A JP H0223662 A JPH0223662 A JP H0223662A
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
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- H10D89/10—Integrated device layouts
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- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Structure Of Receivers (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
(イ〉産業上の利用分野
本発明は、半導体集積回路に関し、特にFMフロントエ
ンドブロックとFM−I Fブロックを有した半導体集
積回路であり、更にはカスタムICの要求に答えられる
様に、機種展開の容易なパターン・レイアウトを有する
半導体集積回路に関するものである。Detailed Description of the Invention (A) Industrial Application Field The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and in particular to a semiconductor integrated circuit having an FM front-end block and an FM-IF block, and more particularly, to a semiconductor integrated circuit having an FM front-end block and an FM-IF block. This invention relates to a semiconductor integrated circuit having a pattern layout that allows easy model development.
(ロ)従来の技術
一般に、特開昭59−84542号公報(HOI L
21/76)の如く、複数個の回路ブロックを同一の半
導体基板上に形成する半導体集積回路技術は、第8図の
構成となっている。(b) Conventional technology in general is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-84542 (HOI L
21/76), a semiconductor integrated circuit technology in which a plurality of circuit blocks are formed on the same semiconductor substrate has the configuration shown in FIG.
第8図は、半導体チップ(101)の概略平面図であり
、a乃至fは回路ブロックを示す。これらの回路ブロッ
クは、夫々取り扱う周波数および信号レベルが異なり、
機能も夫々異なる。FIG. 8 is a schematic plan view of the semiconductor chip (101), and a to f indicate circuit blocks. These circuit blocks handle different frequencies and signal levels, and
The functions are also different.
この回路ブロックは、第9図の如くP−型の半導体基板
(102)上のN型の領域(103)に形成され、各回
路ブロックは、その周辺に隣接する高濃度のP+型の領
域(104)によって区画されている。ここではブロッ
クbとブロックCで示しである。This circuit block is formed in an N-type region (103) on a P- type semiconductor substrate (102) as shown in FIG. 9, and each circuit block is formed in a highly doped P+-type region ( 104). Here, block b and block C are shown.
この区画用のP+型の領域(104)は、その一端をP
−型の半導体基板(102)に接するとともに、他端は
半導体表面の酸化膜(105)を通してグランドライン
(106)にオーミンク接続される。The P+ type area (104) for this division has one end connected to P
It is in contact with a - type semiconductor substrate (102), and the other end is ohmink-connected to a ground line (106) through an oxide film (105) on the semiconductor surface.
グランドライン(106)は、各ブロックから集積回路
の中央部にまとめ、左端にあるグランドポンディングパ
ッドGNDに延在きれている。A ground line (106) is gathered from each block to the center of the integrated circuit and extends to the ground bonding pad GND at the left end.
次に各ブロック回路の電源ライン(Vcc)は、第8図
に示すように、集積回路の外周部にまとめ、夫々個別に
電源ポンディングパッドに接続される。Next, as shown in FIG. 8, the power lines (Vcc) of each block circuit are grouped around the outer periphery of the integrated circuit and individually connected to power supply bonding pads.
一方、回路ブロックa乃至fは、機能が異なるため、ブ
ロック内に存在する素子数が異なり、ブロック・サイズ
が夫々異なってしまう構成となっている。On the other hand, since the circuit blocks a to f have different functions, the number of elements present in each block is different, and the block sizes are different.
(ハ)発明が解決しようとする課題
前述の複数のブロックより成る半導体集積回路において
、AM/FMステレオチューナー用回路に金回路るFM
フロントエンドブロックとFM−IFブロックを集積化
すると、この2つのブロックの干渉によって誤動作を起
こし、1チツプ化が難しい問題を有していた。また回路
ブロックa乃至fのサイズが異なるので、この回路ブロ
ック全てを効率良く、半導体チップ(101)内に収め
るためには、各回路ブロックの大きさが相互的に働いて
しまい、同一チップ内への集積を難しくしている問題が
あった。(c) Problems to be Solved by the Invention In the semiconductor integrated circuit consisting of the plurality of blocks described above, the FM stereo tuner circuit has a gold circuit.
When the front-end block and the FM-IF block were integrated, malfunctions occurred due to interference between the two blocks, making it difficult to integrate them into a single chip. In addition, since the sizes of circuit blocks a to f are different, in order to efficiently fit all of these circuit blocks into the semiconductor chip (101), the sizes of each circuit block work together, and the size of each circuit block must work together to fit all the circuit blocks into the same chip. There was a problem that made it difficult to accumulate.
また回路ブロックaを削除し、例えば特性を改良した別
の回路ブロックa′を入れたり、第8図=4−
の回路ブロック構成に、更に別の機能を有する回路ブロ
ックgを追加しようとした場合、各ブロックの大きさが
異なるので全てのパターンを作り直す必要があった。Also, if you delete circuit block a and insert another circuit block a' with improved characteristics, or if you try to add circuit block g with another function to the circuit block configuration of Figure 8 = 4-. , since the size of each block was different, it was necessary to recreate all the patterns.
従って近年、製品の寿命が非常に短かくなって来ている
中で、ユーザの希望する独自回路を、あるチップ内に組
み込もうとすると、ユーザは短納期を希望するにもかか
わらず、回路パターンを作り直すために非常に長い納期
を必要としなければならない問題を有していた。Therefore, in recent years, the lifespan of products has become extremely short, and when a user tries to incorporate a unique circuit desired by a chip into a certain chip, even though the user wants a short delivery time, the circuit The problem was that it required a very long lead time to remake the pattern.
(二〉課題を解決するための手段
本発明は、斯る課題に鑑みてなきれ、FMフロントエン
ドブロック側に対応するFM−IFブロックの側辺に、
半導体基板のリーク電流を吸い取る吸出し電極を設ける
ことで解決し、また区画ライン(5)で、半導体チップ
(1)上面を実質的に同一のサイズの多数のマットに分
割し、複数の機能の異なる電子回路ブロックを1つ以上
の整数個のマット内に収容することにより、従来の問題
を解決するものである。(2) Means for Solving the Problems The present invention has been developed in view of the problems described above, and includes:
This problem was solved by providing a suction electrode that absorbs leakage current from the semiconductor substrate, and also by dividing the top surface of the semiconductor chip (1) into a large number of mats of substantially the same size at the partition line (5), which have multiple mats with different functions. The conventional problem is solved by housing electronic circuit blocks within one or more integral number of mats.
(ホ)作用
本発明に依れば、FMフロントエンドブロック側となる
FM−I Fブロックの側辺は、FMフロントエンドブ
ロックへ侵入するリーク電流の通路となるので、この側
辺に吸出し電極(43) 、 (79)を設け、集中的
にリーク電流を吸い出してFMフロントエンドブロック
への干渉を防止している。また区画ライン(5)で半導
体チップ(1)上面を実質的に同一サイズの多数のマッ
トに分割し、複数の機能の異なる電子回路ブロックを整
数個のマット内に収容することにより、電子回路ブロッ
ク毎の設計を行え且つ電子回路ブロックを一定の素子数
で分割しマット毎の設計が行える様になる。従って電子
回路ブロック毎に分割して並行設計が可能であり、設計
期間の大幅短縮を図れる。また回路変更も電子回路ブロ
ック毎に且つマット毎に行えるので、IC全体の設計変
更は不要となる。(E) Function According to the present invention, the side of the FM-IF block, which is the FM front end block side, becomes a path for the leakage current that enters the FM front end block. 43) and (79) are provided to intensively suck out the leakage current and prevent it from interfering with the FM front end block. In addition, by dividing the top surface of the semiconductor chip (1) into a large number of mats of substantially the same size along the partition line (5) and accommodating a plurality of electronic circuit blocks with different functions within an integral number of mats, the electronic circuit block In addition, by dividing the electronic circuit block into a fixed number of elements, it becomes possible to design each mat. Therefore, parallel design can be performed by dividing each electronic circuit block, and the design period can be significantly shortened. Furthermore, since circuit changes can be made for each electronic circuit block and for each mat, there is no need to change the design of the entire IC.
(へ)実施例
先ず第1図を参照して本発明の第1の実施例を詳述する
。ここでは説明の都合上、本発明の特徴の1つであるマ
ット分割の構成で説明してゆくので、先ずマット分割の
構成を述べてゆく。(F) Embodiment First, a first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. For convenience of explanation, the structure of mat division, which is one of the features of the present invention, will be explained here, so the structure of mat division will be described first.
半導体チップ(1)上面を二点鎖線で示す分割領域(2
)を用いて、実質的に同一形状で、第1および第2の領
域(3) 、 (4)に2等分し、夫々の領域(3)
、 (4)は、A−J、に−Tのマットに分割されてい
る。A−J、に−Tの各マット間には実線で示す電源ラ
インと一点鎖線で示すグランドラインを隣接して並列に
延在させた区画ライン(5)で区分されている。The upper surface of the semiconductor chip (1) is divided into divided regions (2) indicated by two-dot chain lines.
) is used to divide the area into first and second areas (3) and (4) with substantially the same shape, and separate each area (3) into two.
, (4) is divided into A-J, and -T mats. The mats A-J and -T are separated by partition lines (5) in which a power supply line indicated by a solid line and a ground line indicated by a dashed-dotted line extend adjacently and in parallel.
区画ライン(5)を形成する電源ラインおよびグランド
ラインの配列は、各マットA−J、に−Tの左側に実線
で示す電源ラインを設け、右側に一点鎖線で示すグラン
ドラインが設けられる。従って両端の区画ライン(5)
のみが電源ラインまたはグランドラインの一方で形成さ
れ、中間の区画ラインは両方で構成されている。各マッ
トA−J。Regarding the arrangement of the power supply lines and ground lines forming the partition line (5), a power supply line shown by a solid line is provided on the left side of -T in each mat AJ, and a ground line shown with a dashed line is provided on the right side. Therefore, the partition lines at both ends (5)
Only one line is formed as either the power supply line or the ground line, and the middle partition line consists of both. Each mat A-J.
K−Tに隣接する電源ラインおよびグランドラインは、
夫々のマットに集積され、回路ブロックへの電源供給を
行っている。The power line and ground line adjacent to K-T are
It is integrated into each mat and supplies power to the circuit blocks.
また各区画ライン(5)の電源ラインとグランドライン
は、三点鎖線で示す第3の電源ライン(6)と第2の電
源ライン(7)、第3のグランドライン(8)と第2の
グランドライン(9〉に夫々対向して櫛歯状に接続され
、この第3および第2の電源ライン(6)、(7)およ
び第3および第2のグランドライン(8) 、 (9)
は、ペレットの周辺に設けられたパッドの中の電源パッ
ド■。CI + VCCIおよびグランドバラ)?GN
D1 、 GND2に導かれている。In addition, the power line and ground line of each division line (5) are the third power line (6) and the second power line (7), the third ground line (8) and the second line shown by the three-dot chain line. The third and second power supply lines (6), (7) and the third and second ground lines (8), (9) are connected to the ground line (9) in a comb-teeth pattern, facing each other.
is the power pad ■ inside the pad provided around the pellet. CI + VCCI and Grandborough)? GN
D1, guided by GND2.
後で明らかとなるが、回路の都合上、マットに〜Mは、
これらのパッドとは別の、vccs l VCC4+G
ND3 、 GND4を使用し、また各電源ライン、グ
ランドライン、および第2および第3の電源ライン(7
) 、 (6)、第2および第3のグランドライン(9
)。As will become clear later, due to the circuit, ~M on the mat is
Apart from these pads, vccs l VCC4+G
ND3, GND4 are used, and each power line, ground line, and second and third power lines (7
), (6), second and third ground lines (9
).
(8)は、原則的には2層配線の内の1層配線で実現さ
れている。(8) is basically realized by one layer of two-layer wiring.
上述した区画ライン(5)で区分される各マットA−J
、に−Tは、実質的に同一の大きさの形状に形成され、
具体的には幅をNPNトランジスタ6個が並べられるよ
うに設定され、長さは、設計上容易な一定の素子数、例
えば約100素子がレイアウトできるように設定されて
いる。このマットの太ききについては、IC化する電子
回路ブロックにより、設計し易い素子数に応じて任意に
選択できる。Each mat A-J divided by the above-mentioned division line (5)
, to-T are formed into shapes of substantially the same size;
Specifically, the width is set so that six NPN transistors can be lined up, and the length is set so that a certain number of elements can be laid out, for example, about 100 elements, which is easy to design. The thickness of this mat can be arbitrarily selected depending on the number of elements that can be easily designed depending on the electronic circuit block to be integrated.
マット内に集積される回路素子は、トランジスタ、ダイ
オード、抵抗およびコンデンサにより構成され、通常の
PN分離によって分離きれ、各素子の結線は、2層配線
の1層目の電極層によって接続され、例外的に2層目の
電極でクロスオーバーされている。The circuit elements integrated within the mat are composed of transistors, diodes, resistors, and capacitors, and are separated by normal PN isolation, and the connections of each element are connected by the first electrode layer of the two-layer wiring. Generally, there is crossover at the second layer of electrodes.
次に第2図Aおよび第2図Bを参照して、マット内に集
積される回路素子と区画ライン(5)について具体的に
説明する。Next, with reference to FIGS. 2A and 2B, the circuit elements integrated within the mat and the partition lines (5) will be specifically described.
第2図AはマットB付近の拡大上面図である。FIG. 2A is an enlarged top view of the vicinity of mat B.
左の一点鎖線で示した区画ライン(6)は、マットAと
マットBの間に設けられる区画ライン(5)であり、右
の一点鎖線で示した区画ライン(7)は、マットBとマ
ットCの間に設けられる区画ラインには、点線で示した
トランジスタ(1o〉、ダイオード(11)、抵抗(1
2〉およびコンデンサ(13)が集積されている。図面
ではこれらの素子が粗になっているが、実際は高密度に
集積されている。またマット内の素子間の配線は、−点
鎖線で示す第1層目の電極層(14)で実質的に形成さ
れ、マットAとマットBおよびマットBとマットCのマ
ット間の配線、例えば信号ラインやフィードバックライ
ンが実線で示す第2層目の電極層(15)で形成されて
いる。そしてこれらの第1層目および第2層目の電極層
(14) 、 (15)はx印で示したコンタクト領域
で接続されている。The division line (6) indicated by the dashed line on the left is the division line (5) provided between mat A and mat B, and the division line (7) indicated by the dashed dot line on the right is the division line (5) provided between mat B and mat B. A transistor (1o), a diode (11), a resistor (1
2> and a capacitor (13) are integrated. Although these elements are shown sparsely in the drawing, they are actually densely integrated. Further, wiring between elements within a mat is substantially formed by the first electrode layer (14) shown by a dashed line, and wiring between mats A and B, and between mats B and C, e.g. A signal line and a feedback line are formed of a second electrode layer (15) shown by a solid line. These first and second electrode layers (14) and (15) are connected through contact regions indicated by x marks.
第2図Bは第2図AにおけるA−A’線の断面図である
。P型の半導体基板(16〉上にN型のエピタキシャル
層(17)が積層されており、このエピタキシャル層(
17)表面より前記半導体基板(16)に到達するP+
型の分離領域(18)が形成され、多数のアイランド領
域が形成されている。このアイランド領域(19)内に
はNPN トランジスタ(10)、ダイオード(11)
、抵抗(12)およびコンデンサ(13)等が作られて
おり、NPN トランジスタ(10)のコレクタ領域(
20)と前記半導体基板(16)との間にはN+型の埋
込み領域(21)が形成されている。前記エピタキシャ
ル層(17)の表面には例えばCVD法によりシリコン
酸化膜(22)が形成され、このシリコン酸化膜り22
)上には、第1層目の電極層(14)が形成されている
。またこの第1層目の電極層(14)を覆うように、例
えばPIX等の絶縁膜(23)が形成され、この絶縁膜
(23)上に第2層目の電極層(15)が形成されてい
る。また電源ライン(24〉およびグランドライン(2
5〉は、前記分離領域(18)上に設けられ、グランド
ライン(25)はこの分離領域(18)とオーミンクコ
ンタクトしており、基板電位の安定化をはかっている。FIG. 2B is a sectional view taken along line AA' in FIG. 2A. An N-type epitaxial layer (17) is laminated on a P-type semiconductor substrate (16), and this epitaxial layer (
17) P+ reaching the semiconductor substrate (16) from the surface
A mold isolation region (18) is formed and a number of island regions are formed. Inside this island region (19) are an NPN transistor (10) and a diode (11).
, a resistor (12), a capacitor (13), etc. are made, and the collector region of the NPN transistor (10) (
An N+ type buried region (21) is formed between the semiconductor substrate (16) and the semiconductor substrate (16). A silicon oxide film (22) is formed on the surface of the epitaxial layer (17) by, for example, a CVD method.
), a first electrode layer (14) is formed. Further, an insulating film (23) such as PIX is formed to cover this first electrode layer (14), and a second electrode layer (15) is formed on this insulating film (23). has been done. Also, the power line (24) and the ground line (24)
5> is provided on the isolation region (18), and the ground line (25) is in ohmink contact with this isolation region (18) to stabilize the substrate potential.
更に具体的には、第1図の如く第1の領域(3)にはA
−Jの10個のマットを形成し、第2の領域(4)には
に−Tの10個のマットを形成し、マットを約100素
子集積できる実質的に同一スペースにし、各マット間は
区画ライン(5)で区分している。More specifically, as shown in FIG.
10 mats of -J are formed, and 10 mats of -T are formed in the second region (4), so that the mats are in substantially the same space where about 100 elements can be integrated, and the space between each mat is It is divided by division lines (5).
斯上した20個のマット内には第3図に示すAM/FM
ステレオチューナー用1チップICが形成される。第3
図はこの電子ブロック回路を説明するブロック図であり
、FMフロントエンドブロック(26)、FM−I F
ブロック(27)、ノイズキャンセラーブロック(28
)、マルチプレックスデコーダーブロック(29)、A
Mチューナーブロック(30)の計5つの電子回路ブロ
ックから構成されている。各回路ブロックは周知のもの
であるが、その機能を簡単に説明する。The 20 mats listed above contain AM/FM as shown in Figure 3.
A 1-chip stereo tuner IC is formed. Third
The figure is a block diagram explaining this electronic block circuit, and includes an FM front end block (26), an FM-I F
block (27), noise canceller block (28)
), multiplex decoder block (29), A
It is composed of a total of five electronic circuit blocks including an M tuner block (30). Although each circuit block is well known, its function will be briefly explained.
先ずFMフロントエンドブロック(26〉はFM放送の
選局部分であり、数十MHz〜数百MHzのFM放送信
号を受信し、10.7M)lzの中間周波信号に周波数
変換するものであり、素子数としては約250個を有す
るのでに−Mのマットに集積されている。次にFM−I
Fブロック(27)は、この中間周波信号を増幅し、そ
の後検波しオーディオ信号を得るものであり、素子数と
しては約430個を有するのでE−Iのマットに集積さ
れている。続いてノイズキャンセラーブロック(28)
は、イブニラ−12=
ジョンノイズ等のパルスノイズを除去するもので、約2
70個の素子を有するのでNNPのマットに集積されて
いる。更にマルチプレックスデコーダーブロック(29
)は、ステレオ信号をステレオ復調するブロックであり
、約390個の素子を有するためQ−Tのマットに集積
されている。最後に、AMチューナーブロック(30)
は、AM放送の選局部分であり、アンテナ受信したAM
放送信号を中間周波数(450KHz>に変換し、検波
してオーディオ出力を得るものであり、約350個の素
子を有するのでA−Dのマットで集積される。First, the FM front end block (26>) is the FM broadcast channel selection part, which receives the FM broadcast signal of several tens of MHz to several hundred MHz and converts it into an intermediate frequency signal of 10.7 MHz. Since the number of elements is about 250, they are integrated into a -M mat. Next, FM-I
The F block (27) amplifies this intermediate frequency signal and then detects it to obtain an audio signal, and has about 430 elements, so it is integrated on the E-I mat. Next is the noise canceller block (28)
is a device that removes pulse noise such as Ibnira-12= John noise, and has a power of about 2
Since it has 70 elements, it is integrated into an NNP mat. Furthermore, the multiplex decoder block (29
) is a block for stereo demodulating stereo signals, and since it has approximately 390 elements, it is integrated into a QT mat. Finally, AM tuner block (30)
is the channel selection part of AM broadcasting, and is the AM broadcast received by the antenna.
It converts a broadcast signal to an intermediate frequency (450 KHz>) and detects it to obtain an audio output. It has about 350 elements and is integrated into A-D mats.
更には第4図A、第4図Bおよび第4図Cに、夫々AM
チューナーブロック(30)、フロントエンドブロック
(26)とFM−IFブロック(27〉およびマルチプ
レックスデコーダーブロック(29)を更にブロック化
した図を示す。Furthermore, in FIG. 4A, FIG. 4B, and FIG. 4C, AM
A diagram in which a tuner block (30), a front end block (26), an FM-IF block (27>), and a multiplex decoder block (29) are further divided into blocks is shown.
先ず第4図AのAMチューナーブロック(30)内の局
部発振回路(OS C) (31)がマツ)Aに、混合
回路(M I X ) (32)がマットBに、自動利
得制御回路(A G C) (33)、高周波増幅回路
(RF)(34)および中間周波増幅回路(I F’
) (35)がマットCに、検波回路(DET)(36
)がマットDに実質的に集積され、第1図の如く電源バ
ッドVCCIよりたこ足状に4本延在された三点鎖線で
示す第3の電源ライン(37) 、 (38> 、 (
39) 、 (40)を介し、A〜Dのマットの第1の
電源ライン(41)にV。0を供給している。またグラ
ンドバッドGND 1はマットMとマットNの間に設け
られたたこ足状の3本の電極(42〉を介して一端分割
領域(2)上の三点鎖線で示す第2のグランドライン(
43) 、 (44) 、 (45) 。First, the local oscillation circuit (OS C) (31) in the AM tuner block (30) in FIG. 4A is connected to Matsu) A, the mixing circuit (MI A G C) (33), high frequency amplification circuit (RF) (34) and intermediate frequency amplification circuit (I F'
) (35) is connected to mat C, and the detection circuit (DET) (36
) are substantially integrated in the mat D, and as shown in FIG. 1, the third power supply lines (37) , (38> , (
39), V to the first power supply line (41) of the mats A to D via (40). 0 is supplied. In addition, the ground pad GND 1 connects to the second ground line (shown by the three-dot chain line) on the one end divided region (2) via the three octopus-shaped electrodes (42) provided between the mat M and the mat N.
43), (44), (45).
(46)に接続きれ、夫々の第2のグランドライン(4
3) 、 (44) 、 (45) 、 (46)はA
−Dのマットの第1のグランドライン(47)に接続さ
れている。(46), and the respective second ground lines (4
3), (44), (45), (46) are A
- It is connected to the first ground line (47) of the mat of D.
次に第4図Bの高周波増幅回路(48)、混合回路(4
9)および局部発振回路(50)で構成されるフロント
エンドブロック(26〉は、数μVと極めて小さいレベ
ルの信号を扱うため、他の回路ブロック特にFM−I
Fブロック(27)からの干渉を嫌い、またこのブロッ
ク内にある局部発振回路(50)がそれ自身発振し、不
要輻射を発生させる。そのため特にFM−I Fブロッ
ク(27)と離間させ、OSCブロック(50)が一番
干渉を嫌うため別の電源V。cs。Next, the high frequency amplification circuit (48) and mixing circuit (48) in Figure 4B are shown.
9) and a local oscillation circuit (50), the front end block (26>), which is composed of a local oscillation circuit (50), handles signals at an extremely small level of several μV, so it
It dislikes interference from the F block (27), and the local oscillation circuit (50) in this block oscillates itself, generating unnecessary radiation. Therefore, the FM-IF block (27) and the OSC block (50) are separated from each other, and since the OSC block (50) hates interference the most, a separate power supply V is provided. cs.
V、c4. GND3 、 GND4を用いている。V, c4. GND3 and GND4 are used.
すなわちFM−I Fブロック(27)と対角線状にあ
るに−Mのマットに集積され、一番コーナとなるマット
Kに局部発振回路(5o)を集積し、その両側には別の
パッドVCC4およびGND4を通して第1の電源ライ
ン(51)およびゲランドラインク52)が設けである
。また他のり、Mのマットは、VCC8およびGND3
を通して、夫々の第1の電源ラインおよびグランドライ
ン(s3) 、 (54)が設けである。That is, the local oscillation circuit (5o) is integrated on the mat K located diagonally with the FM-IF block (27), and the local oscillation circuit (5o) is integrated on the mat K, which is the most corner. A first power supply line (51) and a gelland line (52) are provided through GND4. In addition, the mat of M is VCC8 and GND3.
Through these, respective first power supply lines and ground lines (S3), (54) are provided.
一方、中間周波増幅回路(55)、検波回路(56)お
よびSメータ(57)等で構成されるFM−I Fブロ
ック(27)は、E−Iのマットに集積され、検波回路
(56)がマットIに、Sメータ(57)等がマットG
に、更には中間周波増幅回路(55)中のリミッタ回路
およびミュート回路等が、E、FとGのマットニ実質的
に集積されている。On the other hand, the FM-IF block (27), which is composed of an intermediate frequency amplification circuit (55), a detection circuit (56), an S meter (57), etc., is integrated on the E-I mat, and the detection circuit (56) is on mat I, S meter (57) etc. is on mat G
Furthermore, a limiter circuit, a mute circuit, etc. in the intermediate frequency amplification circuit (55) are substantially integrated in the E, F, and G matte circuits.
ここでは利得が80〜100dBと極めて高いリミッタ
回路と信号レベルの大きい検波回路(56)、=15
前記リミッタ回路と信号レベルの大きいSメータ(57
〉は帰還による発振を生じ、検波回路(56)とSメー
タ(57)は相互干渉による特性悪化が生じるため、マ
ットE、F、Gの第1の電源ライン(58〉は、1本の
三点鎖線で示す第3の電源ライン(39〉に、マットH
,Iの第1の電源ライン(59)は、1木の第3の電源
ライン(38)に接続されている。またマットJはユー
ザからのオプション回路を集積されるものであり、この
第1の電源ライン(6o)も1本の第3の電源ライン(
37)に接続されている。Here, a limiter circuit with an extremely high gain of 80 to 100 dB and a detection circuit (56) with a high signal level, = 15, the limiter circuit and an S meter (57) with a high signal level.
> causes oscillation due to feedback, and the characteristics of the detection circuit (56) and S meter (57) deteriorate due to mutual interference, so the first power supply line (58) of mats E, F, and G is The mat H is connected to the third power line (39) shown by the dotted chain line
, I are connected to the third power line (38) of the tree. Mat J also integrates optional circuits provided by the user, and this first power line (6o) is also connected to one third power line (6o).
37).
またE−Jのマットにある一点鎖線で示す第1のグラン
ドライン(61)は、グランドパッドGNDIからたこ
足状に延在されて一端接続された第2のグランドライン
(43) 、 (44> 、 (45> 、 (46)
と、前述と同様に接続されている。Also, the first ground line (61) shown by the dashed line on the E-J mat extends from the ground pad GNDI in a kite-like shape and is connected at one end to the second ground line (43), (44> , (45> , (46)
and are connected in the same way as above.
続いて、第4図Cのマルチプレックスデコーダーブロッ
ク(29)の直流増幅回路(62)、デコーダ回路(6
3)、ランプドライバー回路(64)がマットQとマッ
トRに、また位相比較回路(65)、ローパスフィルタ
回路(66)、電圧制御発振器(67)および分G−
周回路(68〉等がマットSとマットTに実質的に集積
されている。また電源バッドvcczよりたこ足状に3
本延在された電極(69) 、 (70) 、 (71
)は、AMチューナーブロック(3o)とFM−I F
ブロック(27)との間を通り、分割領域(2)上の第
2の電源ライン(72> 、 (73) 、 (74)
へ一端接続される。そして1木がマットQとRへ、1本
がマットSとTへ、更に1本がノイズキルンセラーブロ
ック(28)となるNNPのマットへ伸びている。Next, the DC amplifier circuit (62) and decoder circuit (6) of the multiplex decoder block (29) in FIG.
3), the lamp driver circuit (64) is connected to mat Q and mat R, and the phase comparator circuit (65), low-pass filter circuit (66), voltage controlled oscillator (67), dividing circuit (68), etc. are connected to mat S and mat T are substantially integrated.Also, from the power supply pad vccz, 3
Main extended electrodes (69), (70), (71
) is AM tuner block (3o) and FM-IF
The second power supply lines (72>, (73), (74) on the divided area (2) pass between the block (27) and the divided area (2).
One end is connected to. Then, one tree extends to mats Q and R, one extends to mats S and T, and one tree extends to the NNP mat, which becomes the Noise Kiln Cellar block (28).
一方、グランドパッドGND2はたこ足状に3本の第3
のグランドライン(75) 、 (76) 、 (77
)に接続され、前述と同様に、N−Pのマット、Q、H
のマット、S、Tのマットへ伸びている。On the other hand, the ground pad GND2 has three third
The ground lines of (75), (76), (77
), and as before, N-P mat, Q, H
mat, S and T mats.
更にブロック間の相互干渉の防止を目的としてパッドV
cc+ * Vcc*、バッドGNDI 、 GND2
を夫々分は使用し、バッドV。CI + VCCIはリ
ードに接続され、バッドGND’l 、 GND2はリ
ードに接続されている。これは先ずパッドVCelの変
動を直接バッドV。C!に伝えることを防止し、しかも
金属細線を2本用いることで、この金属細線のインピー
ダンスを低下させている。そのためリードに入ったパル
スノイズ等を、前記インピーダンスを介して増幅させず
、電圧変動を防止できる。Furthermore, pad V is used to prevent mutual interference between blocks.
cc+ *Vcc*, Bad GNDI, GND2
I used it for a minute each and used Bad V. CI+VCCI is connected to the lead, and BAD GND'l, GND2 is connected to the lead. First, the fluctuation of pad VCel is directly converted to pad V. C! By using two thin metal wires, the impedance of the thin metal wires is lowered. Therefore, pulse noise or the like that enters the lead is not amplified through the impedance, and voltage fluctuations can be prevented.
以上説明した如く、第1の電源ラインと第1のグランド
ラインで構成される区画ライン(5)によってA−J、
に−Tのマットが区分されている。またこの第1の電源
ラインと第1のグランドラインが実質的に櫛歯状に形成
されているため、マット間のスペースや周辺のスペース
を有効に活用でき、チップ(1)周辺のバッドV、c1
. GNDI 、 GND2を最短距離でつなぐことが
できる。As explained above, A-J,
-T mats are divided. In addition, since the first power supply line and the first ground line are formed in a substantially comb-like shape, the space between the mats and the surrounding space can be effectively utilized, and the pad V around the chip (1), c1
.. GNDI and GND2 can be connected at the shortest distance.
次にFMフロントエンド(26)とFM−I Fブロッ
ク(27)の干渉対策について述べる。従来では個別I
Cを夫々使っていたためセット基板上の問題であったが
、今回は1チツプ化のために更にこの干渉が問題となっ
たが次の対策により解決している。Next, countermeasures against interference between the FM front end (26) and the FM-IF block (27) will be described. Previously, individual I
This was a problem with the set board because C was used for each, but this time, since it was made into one chip, this interference became an additional problem, but it was solved by the following measures.
先ず前述した如く、FMフロントエンドブロック(26
)は、数μVと極めて小さいレベルの信号を扱うため、
他の回路ブロック特にFM−IFブロック(27)から
の干渉を嫌い、またこのブロック内に構成される局部発
振回路(50)がそれ自身発振し、不要輻射を発生させ
るため、他のブロックと離間したり別の電源を設けたり
する必要がある。First, as mentioned above, the FM front end block (26
) handles extremely small level signals of several μV, so
Because it dislikes interference from other circuit blocks, especially the FM-IF block (27), and because the local oscillation circuit (50) configured within this block oscillates itself and generates unnecessary radiation, it must be separated from other blocks. or provide a separate power source.
これ等の理由により、先ずFMフロントエンドブロック
(26)とFM−IFブロック(27)を対角線上に設
け、またこのブロックの中の局部発振回路(50)をマ
ットKに集積許せ離間させた。次にAMチューナーブロ
ック(30)とFM−I Fブロック(27)、FMフ
ロントエンドブロック(26)とノイズキャンセラーブ
ロック(28〉との間、すなわちマットDとマットE1
マットMとマットNの区画ライン幅を広く取ることでF
Mフロントエンドブロック(26)を他のブロック特に
FM−I Fブロック(27)から遠ざけている。また
マットDとマットEおよびマットMとマットNとの間に
、電源パッド■。0.より第2の領域(2)へ延在され
る電極(69) 。For these reasons, first, the FM front-end block (26) and the FM-IF block (27) were provided diagonally, and the local oscillation circuit (50) in this block was spaced apart to allow integration on the mat K. Next, between the AM tuner block (30) and the FM-IF block (27), the FM front end block (26) and the noise canceller block (28), that is, the matte D and the matte E1.
By widening the partition line width of mat M and mat N, F
The M front end block (26) is kept away from other blocks, especially the FM-IF block (27). Also, between mat D and mat E, and between mat M and mat N, there is a power pad ■. 0. An electrode (69) extending further into the second region (2).
(70) 、 (71)とグランドパッドGNDIより
第1の領域(3)へ延在される電極(42)とを設け、
更に分割領域(2)上に第2の電源ライン(72) 、
(73) 、 (74)と第2のグランドライン(4
3) 、 (44) 、 (45) 、 (46)を設
けている。従ってFMフロントエンドブロックク26)
は、隣接するFM−I Fブロック(27)、AMチュ
ーナーブロック(30)およびノイズキャンセラーブロ
ック(28〉と分離され、特に電源ライン(69) 、
(70) 、 (71)は不要輻射を防止し、グラン
ドライン(43> 、 (44> 、 (45) 、
(46>の少なくとも1本は、分離領域(18)とコン
タクトしているので基板電流を吸い出すことができ干渉
を防止している。(70), (71) and an electrode (42) extending from the ground pad GNDI to the first region (3),
Furthermore, a second power supply line (72) is provided on the divided area (2),
(73), (74) and the second ground line (4
3), (44), (45), and (46) are provided. Therefore, FM front end block26)
is separated from the adjacent FM-IF block (27), AM tuner block (30) and noise canceler block (28), and in particular the power line (69),
(70), (71) prevent unnecessary radiation, and ground lines (43>, (44>, (45),
At least one of (46) is in contact with the isolation region (18), so it can suck out the substrate current and prevent interference.
第5図は、前述の如<FMフロントエンドブロック(2
6)とFM−IFブロック(27)の離間状態を具体的
に示した図である。−点鎖線の電極が1層目に形成され
る第1乃至第3の電源ラインおよび第1乃至第3のグラ
ンドラインであり、実線で示した電極が、2層目に形成
されるクロスオーバー用の電極である。FIG. 5 shows the FM front end block (2) as described above.
6) is a diagram specifically showing a separated state of the FM-IF block (27). - The electrodes shown by dotted lines are the first to third power supply lines and the first to third ground lines formed in the first layer, and the electrodes shown by solid lines are for crossover lines formed in the second layer. This is the electrode.
またこのFMフロントエンドブロック(26)の中の局
部発振回路(50)は、干渉を嫌うので、電源パッドV
。o4とグランドパッドGND4を別に設け、外の回路
は電源パッドV(osとグランドパッドGND3で2〇
−
供給されている。Also, since the local oscillation circuit (50) in this FM front end block (26) dislikes interference, the power supply pad V
. o4 and a ground pad GND4 are provided separately, and the external circuit is supplied with a power supply pad V (os) and a ground pad GND3.
更にはFM−IFブロック(27)は、FM信号のAM
部を除去するためのリミッタ回路を有し、この回路はマ
ットEとマツl−Fで集積されている。Furthermore, the FM-IF block (27)
This circuit is integrated with mat E and mat I-F.
このリミッタ回路に有るMOS型のコンデンサは夫々ア
イランド内に形成され、このアイランドが形成するPN
接合によるコンデンサに依り基板へリークを生じ、この
リーク電流がFMフロントエンドへ流れ誤動作を起こす
。そのため第6図にハツチングで示したダミーアイラン
ド(78)を設けている。このダミーアイランド(78
)は、グランド電位で与えられる半導体基板(16)と
接続したP”型の分離領域(18)で囲まれたN型のエ
ピタキシヤル層(17)より成るので、このPN接合に
よる障壁が形成される。従ってリーク電流がFMフロン
トエンドブロックへ侵入するのを防止できる。更にはコ
ンデンサをマットEに一括し、FMフロントエンドブロ
ックが形成される領域側に対応するFM−IFブロック
の側辺、具体的には第6図のX印でハツチングしたマッ
トEの左側辺と下辺に吸出し電極(43) 、 (79
)と分離領域のコンタクトを設け、集中的に吸い出して
いる。実際にはコンデンサをマットEに集積しているの
で、吸出し電極(43〉はマットEの下辺までしか延在
妨れていない。Each MOS type capacitor in this limiter circuit is formed within an island, and the PN
The junction capacitor causes leakage to the board, and this leakage current flows to the FM front end, causing malfunction. Therefore, a dummy island (78) shown by hatching in FIG. 6 is provided. This dummy island (78
) consists of an N-type epitaxial layer (17) surrounded by a P"-type isolation region (18) connected to a semiconductor substrate (16) given a ground potential, so a barrier is formed by this PN junction. Therefore, it is possible to prevent leakage current from entering the FM front end block.Furthermore, the capacitors are bundled in the mat E, and the side of the FM-IF block corresponding to the area where the FM front end block is formed is Specifically, there are suction electrodes (43) and (79) on the left side and bottom side of mat E, which are hatched with the
) and a contact in the separation area to intensively suck out the water. In reality, since the capacitors are integrated in the mat E, the suction electrode (43) extends only to the lower side of the mat E.
ただしコンデンサがマットE〜マットJに分散している
時は、第1図のマットE〜マットJの下辺に示す電極(
43)のように形成し、この電極の下層に形成された分
離領域(18〉と実質的に全面に渡りコンタクトをして
も良い。更にほこの吸出し電m(79)ハ、FM−I
Fプo ツ’) (27)、マルチプレックスデコーダ
ーブロック(29〉およびノイズキャンセラーブロック
(28)が形成きれる領域の外周辺に延在されて、これ
らから生じるリーク電流も吸い出している。同様にチッ
プ(1)の左半分の周辺にもグランドライン(80)を
設けている。また配線の都合上第3の電源ライン(37
) 、 (38) 、 (39) 、 <40)、分割
領域(2)上の第2の電源ライン(72) 、 (73
) 、 <74)および第2のグランドライン(43)
、 (44) 、 (45) 、 (46)等は、黒
丸で示したスル−ポール(第5図のX印と対応する。)
を介して、点線で示す2層目の電極層(第5図の実線と
対応する。)を介してクロスオーバーしている。特にA
Mチューナーブロック(30)は外のブロック回路と同
時に動作しないので、AMチューナーブロック(30)
とFM−IFブロック(27)を1つのパッドVcc+
を共用しており、このためクロスオーバーしている。ま
たグランドバッドGND1も同様である。However, when the capacitors are distributed among mats E to J, the electrodes shown at the bottom of mats E to J in Figure 1 (
43), and may be in contact with the isolation region (18) formed in the lower layer of this electrode over substantially the entire surface.Furthermore, the extraction electric current m(79)c, FM-I
(27), the multiplex decoder block (29) and the noise canceller block (28) are extended to the outer periphery of the area where they can be formed, and the leakage current generated from these is also absorbed.Similarly, the chip A ground line (80) is also provided around the left half of (1). Also, due to wiring reasons, a third power line (37
), (38), (39), <40), second power line (72), (73) on divided area (2)
) , <74) and the second ground line (43)
, (44), (45), (46), etc. are through poles indicated by black circles (corresponding to the X marks in Figure 5).
There is crossover via the second electrode layer shown by the dotted line (corresponding to the solid line in FIG. 5). Especially A
Since the M tuner block (30) does not operate at the same time as the outside block circuit, the AM tuner block (30)
and FM-IF block (27) to one pad Vcc+
They share the same name, which is why they cross over. The same applies to the ground bad GND1.
次にマットEの所を拡大した第7図A、第7図Bを用い
て更に詳述する。このマットEのコンデンサが形成され
る領域から生じるリーク電流を、マットEの両側に形成
した一点鎖線で示すグランドツイン(81) 、 (8
2)や、グランドライン(81〉と櫛歯状に配置された
吸出し電極(83〉で吸い出している。このマットEの
部分拡大図を第7図Aに示す。Next, the mat E will be explained in further detail using enlarged views of FIG. 7A and FIG. 7B. The ground twin (81), (8
2), a ground line (81) and a suction electrode (83) arranged in a comb-teeth pattern.A partially enlarged view of this mat E is shown in FIG. 7A.
一点鎖線で示した一番太い電極(81) 、 (82)
が、第1図のマットEの両側に形成したグランドライン
(79) 、 (43)である。この2本のグランドラ
イン(81) 、 (82)の間にはMOS型のコンデ
ンサ(84)が形成されており、点でハツチングした部
分がコン=23
デンサの上層電極(85〉に相当し、第1層目に形成さ
れている。またこの上層電極(85)は、右側のX印で
示したコンタクトを介して第2層目の電極(86〉とオ
ーミックコンタクトし、この電極(86)は右側へ延在
されて、本電子回路ブロックに含まれる回路素子と接続
されている。また前記上層電極(85〉の上下または左
右にX印で示したコンタクト(87)は、第7図Bに示
す上層電極(85)の下層に形成されたP型の拡散領域
(88)とコンデンサの下層電極に該当する電極(89
)とのコンタクト部分を示す。ここで前記電極(89)
は以下下層電極と呼ぶ。The thickest electrodes (81) and (82) shown with dashed lines
are the ground lines (79) and (43) formed on both sides of mat E in FIG. A MOS type capacitor (84) is formed between these two ground lines (81) and (82), and the hatched part corresponds to the upper electrode (85>) of the capacitor (23). This upper layer electrode (85) is in ohmic contact with the second layer electrode (86) via the contact indicated by the X mark on the right side. It extends to the right side and is connected to the circuit elements included in the present electronic circuit block.Contacts (87) indicated by X marks on the top and bottom or left and right sides of the upper layer electrode (85) are shown in FIG. 7B. A P-type diffusion region (88) formed in the lower layer of the upper layer electrode (85) shown and an electrode (89) corresponding to the lower layer electrode of the capacitor.
) shows the contact part. Here the electrode (89)
is hereinafter referred to as the lower layer electrode.
この下層電極(89)は、前記上層電極(85)と同様
に、コンタクト(90)を介して2層目の電極(91)
とコンタクトし、この2層目の電極(91)は、右側へ
延在されて、本電子回路ブロックに含まれる回路素子と
接続諮れている。Similar to the upper layer electrode (85), this lower layer electrode (89) is connected to the second layer electrode (91) via a contact (90).
This second layer electrode (91) is extended to the right and is connected to a circuit element included in the present electronic circuit block.
最後に本発明の特徴点を一例してみる。例えばAMチュ
ーナーブロック(30)が不要であれば、A〜Dのマッ
トに、マルチプレックスデコーダーブロック(29)と
なる4つのマットをそのまま集積化し、余ったマットQ
とマットRに例えばマットエとJを集積化する。従って
I、J、S、T(7)マットが余分となるので、このマ
ットを削除すればマットの配置が四角形のチップ内に整
然と収納することができる。ここではマット内の1層目
の配線はそのまま使い、マット間の配線およびブロック
間の配線のみを考えれば良い。Finally, let's take a look at an example of the features of the present invention. For example, if the AM tuner block (30) is not needed, the four mats that will become the multiplex decoder block (29) are directly integrated into the mats A to D, and the remaining mat Q
For example, matte and J are integrated in matte R and matte R. Therefore, since the I, J, S, T (7) mats are redundant, by deleting this mat, the mats can be arranged neatly in a rectangular chip. Here, the first layer wiring within the mat can be used as is, and only the wiring between mats and the wiring between blocks need be considered.
またFM−I Fブロック(27〉の一部改良の際は、
例えば改良部となるマットFのみを取り出して改良すれ
ば良く、他のマットE、G、Hはそのままイ吏うことが
できる。またユーザのオプションとなる別のブロックを
追加する時は、全部のマットはそのまま使い、このブロ
ックに必要な数だけマットを追加すれば良いし、またこ
こではマットJをこのオプション用マットとしている。In addition, when partially improving the FM-IF block (27),
For example, it is only necessary to take out and improve the mat F, which is the improved portion, and the other mats E, G, and H can be used as they are. Also, when adding another block that is an option for the user, all the mats can be used as is and only the required number of mats can be added to this block, and in this case mat J is used as the mat for this option.
つまり同一寸法のマットをマトリックス状に形成しであ
るため、入替え、追加、および削除が非常に容易となる
。In other words, since mats of the same size are formed in a matrix, replacement, addition, and deletion are very easy.
(ト)発明の効果
以上の説明からも明らかな如く、先ず第1に、FMフロ
ントエンドブロックが形成される領域側であるFM−I
Fブロックの側辺に、半導体基板のリーク電流を吸い
取る吸出し電極(79) 、 (43)を設けることで
、前記FM−IFブロックが形成される領域より生じる
リーク電流を吸い出すことが可能となる。従ってFM−
I FブロックとFMフロントエンドブロックを1チツ
プ化できる。(g) Effects of the invention As is clear from the above explanation, firstly, the FM-I which is the area side where the FM front end block is formed.
By providing suction electrodes (79) and (43) on the sides of the F block to suck up leakage current from the semiconductor substrate, it becomes possible to suck out leakage current generated from the region where the FM-IF block is formed. Therefore, FM-
The IF block and FM front end block can be integrated into one chip.
第2に、吸出し電極(79)を直接グランドパッドGN
D2に接続したり、吸出し電極(43)をグランドライ
ン(42)に接続すると、前記吸出し電極(79) 、
(43)で吸い出したリーク電流はGNDI 、 G
ND2を介して外部へ流すことが可能となる。Second, connect the extraction electrode (79) directly to the ground pad GN.
When connected to D2 or the suction electrode (43) is connected to the ground line (42), the suction electrode (79),
The leakage current sucked out in (43) is GNDI, G
It becomes possible to flow to the outside via ND2.
第3に、前記吸出し電極(79) 、 (43)を、こ
の電極の下層に設けられた分離領域と、実質的に全面に
渡りコンタクトすることで、リーク電流の吸出し口とな
る分離領域や吸出し電極(79) 、 (43)はFM
−I Fブロックの周囲を囲むことになる。Thirdly, by bringing the suction electrodes (79) and (43) into contact with the separation region provided in the lower layer of the electrode over substantially the entire surface, the separation region that serves as a leakage current suction port and the suction Electrodes (79) and (43) are FM
-It will surround the IF block.
そのため、コンデンサがマットEに集積されず、分散し
ていても有効に吸い出すことができる。Therefore, even if the capacitors are not integrated in the mat E but are dispersed, they can be effectively sucked out.
第4に、吸出し電極(79) 、 (80)を半導体チ
ップの周辺に延在し、分離領域を前記半導体チップ(1
)の周辺に設けることで、周辺に流れ出るリーク電流を
吸い出すことができる。Fourth, the suction electrodes (79) and (80) are extended around the semiconductor chip, and the isolation region is defined as the semiconductor chip (1).
), it is possible to suck out the leakage current flowing to the surrounding area.
第5に、前記FM−I Fブロックに含まれるコンデン
サを、このFM−IFブロックが形成される特定の領域
に集積し、この特定の領域に吸出し電極を設けることで
、リーク電流の発生源であるコンデンサの形成された領
域より集中的に吸い出すことができる。Fifth, by integrating the capacitors included in the FM-IF block in a specific area where this FM-IF block is formed and providing a suction electrode in this specific area, it is possible to eliminate the source of leakage current. It is possible to concentrate suction from the area where a certain capacitor is formed.
第6に、区画ライン(5)で半導体チップ(1)上面を
実質的に同一サイズの多数のマットに分割し、複数の機
能の異なる電子回路ブロックを整数個のマットに収容す
ると、電子回路ブロック毎に並行して設計ができ、設計
期間を大幅に短縮できる。Sixth, if the top surface of the semiconductor chip (1) is divided into a large number of mats of substantially the same size along the partition line (5), and a plurality of electronic circuit blocks with different functions are housed in an integral number of mats, the electronic circuit blocks Each project can be designed in parallel, significantly shortening the design period.
また電子回路ブロックを一定の素子数で分割し、マット
毎の設計が行えるので、マット毎の並行設計もできる。Furthermore, since the electronic circuit block can be divided into a fixed number of elements and designed for each mat, parallel design for each mat can be performed.
また削除、追加および修正等の回路変更も電子回路ブロ
ック毎またはブロック毎に設計できるので、ブロック毎
またはマット毎の変更=27−
のみで足り、IC全体の設計変更が不要となる。Further, since circuit changes such as deletion, addition, and modification can be designed for each electronic circuit block or each block, only the change for each block or mat = 27- is sufficient, and there is no need to change the design of the entire IC.
更にはマットを基本ブロックとしてセル化できるので、
一端設計を終了すれば、この後の回路変更の際、変更す
るマットのみの修正だけで、他のマットはそのまま使え
信頼性が非常に高くなる。Furthermore, mats can be made into cells as basic blocks, so
Once the design is complete, when changing the circuit afterwards, you only have to modify the mat to be changed, and the other mats can be used as they are, resulting in extremely high reliability.
しかもこの設計が容易となるマット分割の半導体集積回
路に於いて、FMフロントエンドブロックが形成される
領域に対応するFM−I Fブロックの側辺、ここでは
マットEの左側辺とマットE〜マットJの下辺に、吸出
し電極を設けることで、FMフロントエンドブロックが
形成されるマットに〜マット間へ流れるリーク電流が吸
い出される。従ってこのマット分割におけるICにおい
て、FM−IFブロックとFMフロントエンドブロック
の1チツプ化が可能となる。Moreover, in a mat-divided semiconductor integrated circuit that facilitates this design, the side of the FM-IF block corresponding to the area where the FM front end block is formed, here the left side of mat E and mat E to mat By providing a suction electrode on the lower side of J, leakage current flowing from the mat on which the FM front end block is formed to between the mats is sucked out. Therefore, in the IC in this mat division, it is possible to integrate the FM-IF block and the FM front-end block into one chip.
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の半導体集積回路の実施例を示す上面図
、第2図Aは本発明の半導体集積回路のマット領域を示
す上面図、第2図Bは第2図AにおけるA−A’線の断
面図、第3図は本発明の半導体集積回路に組み込まれる
電子回路ブロック図、第4図AはAMチューナーブロッ
クを説明する図、第4図BはFMフロントエンドブロッ
クとFM−I Fブロックを説明する図、第4図Cはマ
ルチプレックスデコーダーブロックを説明する図、第5
図は第1図の電極パターン図、第6図は第1図のダミー
アイランドパターン図、第7図AはマットEにコンデン
サを集積した時の上面図、第7図Bは第7図Aにおける
A−A’線の断面図、第8図は従来の半導体集積回路の
上面図、第9図は第8図におけるブロックbとブロック
Cの間の断面図である。
(1〉・・・半導体チップ、 (2)・・・分割領域、
(3)・・・第1の領域、 (4)・・・第2の領域
、 (5)・・・区画ライン、 (37> 、 (38
) 、 (39) 、 (40)・・・第3の電源ライ
ン、 (43) 、 (44) 、 (45) 、 (
46)・・・第2のグランドライン、 (72) 、
(73) 、 (74)・・・第2の電源ライン、
(75) 、 (76) 、 (77)・・・第3のグ
ランドライン。
第4図A
第
4図CBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a top view showing an embodiment of the semiconductor integrated circuit of the present invention, FIG. 2A is a top view showing a mat area of the semiconductor integrated circuit of the present invention, and FIG. 2A is a cross-sectional view taken along line AA' in FIG. 3A, FIG. 3 is a block diagram of an electronic circuit incorporated in the semiconductor integrated circuit of the present invention, FIG. 4A is a diagram illustrating an AM tuner block, and FIG. 4B is an FM tuner block diagram. Figure 4C is a diagram explaining the front end block and FM-IF block. Figure 4C is a diagram explaining the multiplex decoder block.
The figure is the electrode pattern diagram of Figure 1, Figure 6 is the dummy island pattern diagram of Figure 1, Figure 7A is a top view when capacitors are integrated on mat E, and Figure 7B is the same as Figure 7A. 8 is a top view of a conventional semiconductor integrated circuit, and FIG. 9 is a sectional view taken along line AA', and FIG. 9 is a sectional view taken between block b and block C in FIG. (1>...semiconductor chip, (2)...divided area,
(3)...first area, (4)...second area, (5)...division line, (37>, (38)
), (39), (40)...Third power line, (43), (44), (45), (
46)...Second ground line, (72),
(73), (74)...second power line,
(75), (76), (77)...Third ground line. Figure 4A Figure 4C
Claims (10)
ックとFM−IFブロックが形成される半導体集積回路
であって、このFMフロントエンドブロック側に対応す
るFM−IFブロックの側辺に、半導体基板のリーク電
流を吸い取る吸出し電極を設けることを特徴とした半導
体集積回路。(1) A semiconductor integrated circuit in which an FM front-end block and an FM-IF block are formed on one semiconductor chip, and a semiconductor substrate is provided on the side of the FM-IF block corresponding to the FM front-end block side. A semiconductor integrated circuit characterized by being provided with a suction electrode that absorbs leakage current.
パッドと接続される請求項第1項記載の半導体集積回路
。(2) The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the extraction electrode is connected to a ground line or a ground pad.
分離領域と、実質的に全面に渡りコンタクトする請求項
第2項記載の半導体集積回路。(3) The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein the suction electrode is in contact with a separation region provided under the electrode over substantially the entire surface.
れる請求項第3項記載の半導体集積回路。(4) The semiconductor integrated circuit according to claim 3, wherein the suction electrode extends around the periphery of the semiconductor chip.
、このFM−IFブロック形成される領域の特定領域に
集積し、この特定領域の周囲に吸出し電極を設ける請求
項第3項記載の半導体集積回路。(5) The semiconductor integrated circuit according to claim 3, wherein the capacitors included in the FM-IF block are integrated in a specific area of the area where the FM-IF block is formed, and a suction electrode is provided around the specific area. .
せて延在した区画ラインを、複数本同一方向に配列して
、半導体チップを実質的に同一サイズの複数個の領域に
分割して形成したマットと、整数個の前記マット領域に
組み込まれる複数の機能の異なる電子回路ブロックより
構成された電子回路とを備え、前記電子回路を構成する
第1および第2の電子回路ブロックは、FMフロントエ
ンドブロックおよびFM−IFブロックであり、この第
1の電子回路ブロック側に対応する第2の電子回路ブロ
ックの側辺に、半導体基板のリーク電流を吸い取る吸出
し電極を設けることを特徴とした半導体集積回路。(6) A semiconductor chip is formed by dividing a semiconductor chip into a plurality of regions of substantially the same size by arranging a plurality of division lines in the same direction, each of which is a set of power supply lines and ground lines extending adjacent to each other. A mat, and an electronic circuit constituted by a plurality of electronic circuit blocks having different functions that are incorporated in an integral number of the mat areas, and first and second electronic circuit blocks constituting the electronic circuit are configured as an FM front end. A semiconductor integrated circuit, which is a block and an FM-IF block, and is characterized in that a suction electrode is provided on the side of a second electronic circuit block corresponding to the first electronic circuit block side to absorb leakage current of the semiconductor substrate. .
ドパッドと接続される請求項第6項記載の半導体集積回
路。(7) The semiconductor integrated circuit according to claim 6, wherein the extraction electrode is connected to a ground line or a ground pad.
分離領域と、実質的に全面に渡りコンタクトする請求項
第7項記載の半導体集積回路。(8) The semiconductor integrated circuit according to claim 7, wherein the suction electrode is in contact with a separation region provided under the electrode over substantially the entire surface.
れる請求項第8項記載の半導体集積回路。(9) The semiconductor integrated circuit according to claim 8, wherein the suction electrode extends around the periphery of the semiconductor chip.
を、このFM−IFブロックを形成する特定のマットに
集積し、このマットの周囲に吸出し電極を設ける請求項
第8項記載の半導体集積回路。(10) The semiconductor integrated circuit according to claim 8, wherein the capacitors included in the FM-IF block are integrated on a specific mat forming the FM-IF block, and a suction electrode is provided around the mat.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63173009A JP2675338B2 (en) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | Semiconductor integrated circuit |
| EP89111233A EP0347853B1 (en) | 1988-06-21 | 1989-06-20 | Semiconductor integrated circuit |
| DE68929148T DE68929148T2 (en) | 1988-06-21 | 1989-06-20 | Integrated semiconductor circuit |
| US07/675,031 US5155570A (en) | 1988-06-21 | 1991-01-25 | Semiconductor integrated circuit having a pattern layout applicable to various custom ICs |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63173009A JP2675338B2 (en) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | Semiconductor integrated circuit |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0223662A true JPH0223662A (en) | 1990-01-25 |
| JP2675338B2 JP2675338B2 (en) | 1997-11-12 |
Family
ID=15952505
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP63173009A Expired - Lifetime JP2675338B2 (en) | 1988-06-21 | 1988-07-12 | Semiconductor integrated circuit |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2675338B2 (en) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS57138351U (en) * | 1981-02-23 | 1982-08-30 | ||
| JPS61292341A (en) * | 1985-06-20 | 1986-12-23 | Toshiba Corp | Semiconductor integrated circuit |
| JPS6212147A (en) * | 1985-07-10 | 1987-01-21 | Hitachi Ltd | Master slice type semiconductor device |
| JPS62293660A (en) * | 1986-06-13 | 1987-12-21 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
-
1988
- 1988-07-12 JP JP63173009A patent/JP2675338B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57138351U (en) * | 1981-02-23 | 1982-08-30 | ||
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| JPS62293660A (en) * | 1986-06-13 | 1987-12-21 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2675338B2 (en) | 1997-11-12 |
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