JPH02237680A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
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- JPH02237680A JPH02237680A JP5824589A JP5824589A JPH02237680A JP H02237680 A JPH02237680 A JP H02237680A JP 5824589 A JP5824589 A JP 5824589A JP 5824589 A JP5824589 A JP 5824589A JP H02237680 A JPH02237680 A JP H02237680A
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Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、特に陰極線管バルブのファンネル部に外装導
電膜等を自動塗布する際に好通な塗布方法に関するもの
である. 〔従来の技術〕 陰極線管を製造する際、バルブのファンネル部内表面に
黒鉛の内装導電膜を塗布したり、或は電子銃封入後のバ
ルブのファンネル部外表面に黒鉛の外装導電膜を塗布し
、内装導電膜とでアノード電圧の平滑コンデンサを形成
する工程がある.上記内装導電膜を塗布するに際しては
、バルブを治具に保持しておき、作業者が刷毛により手
作業で塗布する。又、外装導電膜を塗布する装置の一具
体例を第6図を参照して次に示す.図において(1)は
陰極線管バルブ(以下、単にバルブと称す.)、(2
)は塗布マスク、(3)は回転台、(4)はスプレーノ
ズル、(5)は防嶌カバ− (6)は排気ダクトである
.上記バルプ(1)は電子銃封入後で最終検査前にあり
、パネル側を下向きにして回転台(3)上に装着する。
電膜等を自動塗布する際に好通な塗布方法に関するもの
である. 〔従来の技術〕 陰極線管を製造する際、バルブのファンネル部内表面に
黒鉛の内装導電膜を塗布したり、或は電子銃封入後のバ
ルブのファンネル部外表面に黒鉛の外装導電膜を塗布し
、内装導電膜とでアノード電圧の平滑コンデンサを形成
する工程がある.上記内装導電膜を塗布するに際しては
、バルブを治具に保持しておき、作業者が刷毛により手
作業で塗布する。又、外装導電膜を塗布する装置の一具
体例を第6図を参照して次に示す.図において(1)は
陰極線管バルブ(以下、単にバルブと称す.)、(2
)は塗布マスク、(3)は回転台、(4)はスプレーノ
ズル、(5)は防嶌カバ− (6)は排気ダクトである
.上記バルプ(1)は電子銃封入後で最終検査前にあり
、パネル側を下向きにして回転台(3)上に装着する。
塗布マスク(2)は、第7図の平面図に示すように、バ
ルブ(1)のファンネル部(1a)外表面に塗布する外
装導電膜のパターンに等しい開口面(2a)を有し、ネ
ック部(lb)及びアノードボタン(lc)を含む他の
バルブ外表面をカバーする。スプレーノズル(4)は塗
布マスク(2)を介して水とバインダと黒鉛の懸濁液を
ファンネル部(1a)の外表面に吹き付けて黒鉛の外装
導電膜を塗布する.防塵カバー(5)は回転台(3》に
載置したバルプ(1)を上下及び3側面より囲むと共に
、開口側面(5a)にスプレーノズル(4)を配置し、
吹付け時における黒鉛懸濁液の飛散を防止する.排気ダ
クト(4)は防塵カバー(5)の上方を覆い飛散した黒
鉛懸濁液を排気する。
ルブ(1)のファンネル部(1a)外表面に塗布する外
装導電膜のパターンに等しい開口面(2a)を有し、ネ
ック部(lb)及びアノードボタン(lc)を含む他の
バルブ外表面をカバーする。スプレーノズル(4)は塗
布マスク(2)を介して水とバインダと黒鉛の懸濁液を
ファンネル部(1a)の外表面に吹き付けて黒鉛の外装
導電膜を塗布する.防塵カバー(5)は回転台(3》に
載置したバルプ(1)を上下及び3側面より囲むと共に
、開口側面(5a)にスプレーノズル(4)を配置し、
吹付け時における黒鉛懸濁液の飛散を防止する.排気ダ
クト(4)は防塵カバー(5)の上方を覆い飛散した黒
鉛懸濁液を排気する。
上記構成においてバルブ(1)に塗布マスク(2)を被
せて回転台(3)に載せ、バルプ(1)を回転させなが
ら作業者がスプレーノズル(4)にてファンネル部(1
a)に黒鉛懸濁液を吹付けて塗布する。
せて回転台(3)に載せ、バルプ(1)を回転させなが
ら作業者がスプレーノズル(4)にてファンネル部(1
a)に黒鉛懸濁液を吹付けて塗布する。
又、バルブ(1)のファンネル部(1a)の外表面には
上記外装導電膜の他、第7図に示すように、アノードボ
タン(IC)の周囲に一定の領域に亘ってアノードシリ
コン(7)を外装導電膜塗布後に塗布する。この場合も
外装導電膜と同様、回転台(3)上にバルブ(1)を載
置した状態で、第8図に示すように、ドーナツ状の開口
面(8a)を有する塗布マスク(8)を、アノードボタ
ン(1c)を含むファンネル部(1a)に被せ、キシレ
ンで希釈したシリコン溶液を作業者が塗布マスク(8)
を介してスプレーノズル(4)にてファンネル部(la
)に吹き付け、アノードシリコンを塗布する. 〔発明が解決しようとする課題〕 ところで、上述したように、バルプファンネル部に内装
及び外装導電膜、アノードシリコンを塗布する際、従来
、刷毛やスプレーノズルにより作業者が手作業で実施し
ていたが、近年、産業用ロボットを用いてその先端に刷
毛やスポンジローラを取付け、塗布作業を自動化するこ
とが行われてきている。ところが、この時、バルブを連
続的に送って所定位置で各バルブ毎に繰り返し塗布する
際、刷毛やスポンジローラに前回に使用した塗布液が残
っていき、毎回、定量の塗布液を刷毛やスポンジローラ
に含ませることが出来ず、液量規制が困難となって液が
タレたり、カスレが生じ、自動化が困難であった。
上記外装導電膜の他、第7図に示すように、アノードボ
タン(IC)の周囲に一定の領域に亘ってアノードシリ
コン(7)を外装導電膜塗布後に塗布する。この場合も
外装導電膜と同様、回転台(3)上にバルブ(1)を載
置した状態で、第8図に示すように、ドーナツ状の開口
面(8a)を有する塗布マスク(8)を、アノードボタ
ン(1c)を含むファンネル部(1a)に被せ、キシレ
ンで希釈したシリコン溶液を作業者が塗布マスク(8)
を介してスプレーノズル(4)にてファンネル部(la
)に吹き付け、アノードシリコンを塗布する. 〔発明が解決しようとする課題〕 ところで、上述したように、バルプファンネル部に内装
及び外装導電膜、アノードシリコンを塗布する際、従来
、刷毛やスプレーノズルにより作業者が手作業で実施し
ていたが、近年、産業用ロボットを用いてその先端に刷
毛やスポンジローラを取付け、塗布作業を自動化するこ
とが行われてきている。ところが、この時、バルブを連
続的に送って所定位置で各バルブ毎に繰り返し塗布する
際、刷毛やスポンジローラに前回に使用した塗布液が残
っていき、毎回、定量の塗布液を刷毛やスポンジローラ
に含ませることが出来ず、液量規制が困難となって液が
タレたり、カスレが生じ、自動化が困難であった。
本発明は、塗布手段に塗布液を含浸させた後、塗布手段
を所定圧にて搾り、保有液量を規制して被塗布面に塗布
することを特徴とする。
を所定圧にて搾り、保有液量を規制して被塗布面に塗布
することを特徴とする。
上記技術的手段によれば、刷毛やスポンジローラ等の塗
布手段に塗布液を含浸させた後、塗布手段を所定圧にて
搾り、液量を規制して被塗布面に自動塗布する. 〔実施例〕 本発明に係る塗布方法の実施例を第1図乃至第5図を参
照して以下に説明する.まず、第1において、(9)は
塗布手段、例えばスポンジローラ、(10)は搾り機構
である.上記スポンジローラ(9)は、ロボットハンド
の先端に設けた保持具(l1)に保持され、かつ、黒鉛
の懸濁液等の塗布液を含浸させている.搾り機構(10
)は筐体(10a)の上面開口を、多数の貫通孔(10
b!)・・・を穿設した蓋体(lob)で塞いでなり、
塗布液の貯留槽の近傍に配される.本発明の特徴は、塗
布液を含浸させたスポンジローラ(9)を塗布前に搾り
機構(10)により搾り、含浸液量を規制した後、塗布
に移るようにしたことである。上記搾りはスポンジロー
ラ(9)を所定圧にて蓋体(10 b )の表面に押し
付けつつ、矢印(A)方向に移走させて行われる. そこで、上記搾り機構(10)を用いた外装導電膜塗布
装置の一具体例を第2図及び第3図を参照して次に示す
.図において、(1)はバルブ、(12)はロボットハ
ンド、(9)は塗布手段、(l4)は塗布液、(15)
は貯留槽である.上記バルブ(1)は電子銃封入後で最
終検査前にあり、第3図に示すように、パネル側を下向
きにして一対の搬送用コンベア(16)上に載せられ、
一定の方向に送られて《.この時、塗布位置においてバ
ルブ(1)のパネル4辺を位置決めする各一対の位置決
めビン(17a)− (17b)(17e)(17d)
があり、その内、互いに対向する位置決めピン(17a
)(17b)は位置決め位置より外方に水平に往復動ず
る.又、搬送コンベア(16)上にあって互いに対向す
る位置決めビン(17c)(17d)は搬送コンベア(
l6)に直交する平面内で往復に円弧動し、搬送コンベ
ア(l6)外よりバルプ<1)の搬送を妨げることなく
バルプ (1)を位置決めする。ロボットハンド(12
)は多関節、例えば6軸(但し、図では4軸のみ図示)
で、その先端に取付けた保持具(11)に塗布手段(9
)としてのスポンジローラが軸支され、第3図に示すよ
うに、例えばバルプ (1)のファンネル部(1a)に
凹面形状の黒鉛の外装導電F!! (13)を上記塗布
位置において塗布する.この時、ロボットハンド(12
)を3台、連続的に設けておき、凹面形状を3つの直線
部(13a ) (13b) (13c)に分割し
て各直線部(13a)(L3b)(13c)を順次、3
つの塗布位置で相異なる3台のロボットハンド(12)
にて塗布していく.又、ロボットハンド(l2)の描《
パターンはコンピュータによって制御され、そのプログ
ラム入力を変えることによりWi画パターンを任意に設
定できる.塗布液(14)は外装導電膜(13)の材料
で、水とアクリル系バインダと黒鉛とを混ぜた懸濁液で
ある.貯留槽(15)はロボットハンド(12)の近傍
にあって槽内に塗布液(14)が溜まっており、その表
面付近に、塗布液(14)内に部分的に浸漬している転
写ドラム(l8)が水平に回転自在に軸支され、かつ、
第1図に示す搾り機構(10)を近接配置する.転写ド
ラム(18)はその両周端に一対の攪拌用羽根(18a
)(18b)が周面に沿って一定のピッチで配設され、
各一対の羽根(18a)(18b)の間隔(l)は、ス
ポンジローラ(9)の@(W)に等しい。
布手段に塗布液を含浸させた後、塗布手段を所定圧にて
搾り、液量を規制して被塗布面に自動塗布する. 〔実施例〕 本発明に係る塗布方法の実施例を第1図乃至第5図を参
照して以下に説明する.まず、第1において、(9)は
塗布手段、例えばスポンジローラ、(10)は搾り機構
である.上記スポンジローラ(9)は、ロボットハンド
の先端に設けた保持具(l1)に保持され、かつ、黒鉛
の懸濁液等の塗布液を含浸させている.搾り機構(10
)は筐体(10a)の上面開口を、多数の貫通孔(10
b!)・・・を穿設した蓋体(lob)で塞いでなり、
塗布液の貯留槽の近傍に配される.本発明の特徴は、塗
布液を含浸させたスポンジローラ(9)を塗布前に搾り
機構(10)により搾り、含浸液量を規制した後、塗布
に移るようにしたことである。上記搾りはスポンジロー
ラ(9)を所定圧にて蓋体(10 b )の表面に押し
付けつつ、矢印(A)方向に移走させて行われる. そこで、上記搾り機構(10)を用いた外装導電膜塗布
装置の一具体例を第2図及び第3図を参照して次に示す
.図において、(1)はバルブ、(12)はロボットハ
ンド、(9)は塗布手段、(l4)は塗布液、(15)
は貯留槽である.上記バルブ(1)は電子銃封入後で最
終検査前にあり、第3図に示すように、パネル側を下向
きにして一対の搬送用コンベア(16)上に載せられ、
一定の方向に送られて《.この時、塗布位置においてバ
ルブ(1)のパネル4辺を位置決めする各一対の位置決
めビン(17a)− (17b)(17e)(17d)
があり、その内、互いに対向する位置決めピン(17a
)(17b)は位置決め位置より外方に水平に往復動ず
る.又、搬送コンベア(16)上にあって互いに対向す
る位置決めビン(17c)(17d)は搬送コンベア(
l6)に直交する平面内で往復に円弧動し、搬送コンベ
ア(l6)外よりバルプ<1)の搬送を妨げることなく
バルプ (1)を位置決めする。ロボットハンド(12
)は多関節、例えば6軸(但し、図では4軸のみ図示)
で、その先端に取付けた保持具(11)に塗布手段(9
)としてのスポンジローラが軸支され、第3図に示すよ
うに、例えばバルプ (1)のファンネル部(1a)に
凹面形状の黒鉛の外装導電F!! (13)を上記塗布
位置において塗布する.この時、ロボットハンド(12
)を3台、連続的に設けておき、凹面形状を3つの直線
部(13a ) (13b) (13c)に分割し
て各直線部(13a)(L3b)(13c)を順次、3
つの塗布位置で相異なる3台のロボットハンド(12)
にて塗布していく.又、ロボットハンド(l2)の描《
パターンはコンピュータによって制御され、そのプログ
ラム入力を変えることによりWi画パターンを任意に設
定できる.塗布液(14)は外装導電膜(13)の材料
で、水とアクリル系バインダと黒鉛とを混ぜた懸濁液で
ある.貯留槽(15)はロボットハンド(12)の近傍
にあって槽内に塗布液(14)が溜まっており、その表
面付近に、塗布液(14)内に部分的に浸漬している転
写ドラム(l8)が水平に回転自在に軸支され、かつ、
第1図に示す搾り機構(10)を近接配置する.転写ド
ラム(18)はその両周端に一対の攪拌用羽根(18a
)(18b)が周面に沿って一定のピッチで配設され、
各一対の羽根(18a)(18b)の間隔(l)は、ス
ポンジローラ(9)の@(W)に等しい。
上記構成に基づきその動作を次に示す。まず位置決めピ
ン(17a)(17b)(17c)(17d)を左右、
かつ、上方に開いておき、その位置までバルブ(1)が
搬送されると、位置決めビン(17a)(17b)(1
7c) (17d)を左右、かつ、下方に移動させて
バルブ(1)を四辺より位置規制する。間時に、ロボッ
トハンド(12)が貯留槽(l5)側に移動して、その
先端のスポンジローラ(9)が転写ドラム(18)の羽
根(18a)(18b)間に入り込み、周面に接触して
黒鉛の懸濁液を転写・含浸させる。そうすると、貯留槽
(15)の近傍に配した搾り機構(10)にスポンジロ
ーラ(10)を移動し、上記懸濁液を所定圧にて搾って
保有液量を規制しておく.そこで、最初のロボットハン
ド(12)により凹面形状外装導電膜(13)の3つの
直線部(13a)(13b)(13c)の内の一つに上
記懸濁液を塗布する.更に、他の2つの塗布位置におい
て上記同様にして、それぞれの位置におけるロボットハ
ンドにより凹面形状外装導電膜(13)の3つの直線部
(13a)(13b)(13c)の内の他の2.つに上
記懸濁液を塗布し、外装導電III! (13)を形成
する。この時、貯留槽(15)は各塗布位置毎に設置し
てもよく、又は、1個の貯留槽(15)を3つのロボッ
トハンド(12)にて共用してもよく、逐次、新たな懸
濁液を槽内に補給していく。
ン(17a)(17b)(17c)(17d)を左右、
かつ、上方に開いておき、その位置までバルブ(1)が
搬送されると、位置決めビン(17a)(17b)(1
7c) (17d)を左右、かつ、下方に移動させて
バルブ(1)を四辺より位置規制する。間時に、ロボッ
トハンド(12)が貯留槽(l5)側に移動して、その
先端のスポンジローラ(9)が転写ドラム(18)の羽
根(18a)(18b)間に入り込み、周面に接触して
黒鉛の懸濁液を転写・含浸させる。そうすると、貯留槽
(15)の近傍に配した搾り機構(10)にスポンジロ
ーラ(10)を移動し、上記懸濁液を所定圧にて搾って
保有液量を規制しておく.そこで、最初のロボットハン
ド(12)により凹面形状外装導電膜(13)の3つの
直線部(13a)(13b)(13c)の内の一つに上
記懸濁液を塗布する.更に、他の2つの塗布位置におい
て上記同様にして、それぞれの位置におけるロボットハ
ンドにより凹面形状外装導電膜(13)の3つの直線部
(13a)(13b)(13c)の内の他の2.つに上
記懸濁液を塗布し、外装導電III! (13)を形成
する。この時、貯留槽(15)は各塗布位置毎に設置し
てもよく、又は、1個の貯留槽(15)を3つのロボッ
トハンド(12)にて共用してもよく、逐次、新たな懸
濁液を槽内に補給していく。
次に、外装導電膜(13)の他、アノードシリコンの塗
布装置を第4図を参照して示す。図において(1)はバ
ルブ、(19)はロボットハンド、(20)は塗布手段
、(21)は塗布液、(23)は貯留槽である.上記バ
ルプ(1)は外装導電Km (13)の塗布直後で、第
4図に示すように、パネル側を下向きにして一対の搬送
コンベア(16)上に載せられ、一定の方向に送られて
いく。この時、塗布位1において、バルプ(1)のパネ
ル4辺を各一対の位置決めピン(23 a )(23b
)(23c)(23d)で位置決めする.ロボットハン
ド(19)も同様に多関節、例えば6軸(但し、図では
3軸のみ図示)で、その先端に取付けたモータ(24)
の回転軸に塗布手段(20)としての刷毛を連結し、刷
毛(20)を回転させることによりバルブ(1)のファ
ンネル部(1a)にドーナツ状のアノードシリコンを上
記塗布位置において塗布する.塗布液(21)はアノー
ドシリコンの材料で、キシレンで希釈したシリコン溶液
である。貯留槽(22)はロボットハンド(l9)の近
傍にあって槽内に塗布液(21)が溜まっており、その
表面付近に刷毛(20)の搾りfitj! (25)が
配設されている。上記搾り機構(25)は刷毛(20)
を左右より所定圧にて押圧し、貯留槽(22) ’内に
一定時間、浸漬してシリコン溶液を含ませた刷毛(20
)を搾って保有液量を規制する。
布装置を第4図を参照して示す。図において(1)はバ
ルブ、(19)はロボットハンド、(20)は塗布手段
、(21)は塗布液、(23)は貯留槽である.上記バ
ルプ(1)は外装導電Km (13)の塗布直後で、第
4図に示すように、パネル側を下向きにして一対の搬送
コンベア(16)上に載せられ、一定の方向に送られて
いく。この時、塗布位1において、バルプ(1)のパネ
ル4辺を各一対の位置決めピン(23 a )(23b
)(23c)(23d)で位置決めする.ロボットハン
ド(19)も同様に多関節、例えば6軸(但し、図では
3軸のみ図示)で、その先端に取付けたモータ(24)
の回転軸に塗布手段(20)としての刷毛を連結し、刷
毛(20)を回転させることによりバルブ(1)のファ
ンネル部(1a)にドーナツ状のアノードシリコンを上
記塗布位置において塗布する.塗布液(21)はアノー
ドシリコンの材料で、キシレンで希釈したシリコン溶液
である。貯留槽(22)はロボットハンド(l9)の近
傍にあって槽内に塗布液(21)が溜まっており、その
表面付近に刷毛(20)の搾りfitj! (25)が
配設されている。上記搾り機構(25)は刷毛(20)
を左右より所定圧にて押圧し、貯留槽(22) ’内に
一定時間、浸漬してシリコン溶液を含ませた刷毛(20
)を搾って保有液量を規制する。
上記構成に基づきその動作を次に示す.まず位置決めビ
ン(23a)(23b)(23c)(23d)を左右、
かつ、上方に開いておき、外装導電膜(13)の塗布直
後にその位置までバルブ(1)が搬送されると、位置決
めビン(23a)(23b)(23c)(23d)にて
バルブ(1)を四辺より位置規制する.同時に、ロボッ
トハンド(19)が貯留槽(22)側に移動して、その
先端の刷毛(20)をシリコン熔液(21)内に一定時
間、浸漬して持ち上げ、所定位置に止めて搾り機構(2
5)により刷毛(20)を所定圧にて搾って保有液量を
規制しておく。そこで、ロボットハンド(19)により
ファンネル部(1a)上で刷毛(20)を数回転させて
、アノードボタンの周囲にドーナツ状のアノードシリコ
ンを塗布する。
ン(23a)(23b)(23c)(23d)を左右、
かつ、上方に開いておき、外装導電膜(13)の塗布直
後にその位置までバルブ(1)が搬送されると、位置決
めビン(23a)(23b)(23c)(23d)にて
バルブ(1)を四辺より位置規制する.同時に、ロボッ
トハンド(19)が貯留槽(22)側に移動して、その
先端の刷毛(20)をシリコン熔液(21)内に一定時
間、浸漬して持ち上げ、所定位置に止めて搾り機構(2
5)により刷毛(20)を所定圧にて搾って保有液量を
規制しておく。そこで、ロボットハンド(19)により
ファンネル部(1a)上で刷毛(20)を数回転させて
、アノードボタンの周囲にドーナツ状のアノードシリコ
ンを塗布する。
この時、貯留槽(22)内に逐次、シリコン溶液を補給
する. 更に、内装導電膜塗布装置の搾り機構を第5図を参照し
て次に示す。図において(26)は塗布手段、例えばス
ポンジローラ、(27)はロボットハンドの先端を取付
けたスポンジローラ(26)の保持臭、<28a)(2
8b)は水平、かつ、回転可能に平行・配置した一対の
搾り用九棒で、その間隔(a)をスポンジローラ(26
)の直径(d)より狭くし、かつ、$2図に示す塗布装
置と同じく、黒鉛懸濁液からなる塗布液の貯留槽近傍に
配しておく。
する. 更に、内装導電膜塗布装置の搾り機構を第5図を参照し
て次に示す。図において(26)は塗布手段、例えばス
ポンジローラ、(27)はロボットハンドの先端を取付
けたスポンジローラ(26)の保持臭、<28a)(2
8b)は水平、かつ、回転可能に平行・配置した一対の
搾り用九棒で、その間隔(a)をスポンジローラ(26
)の直径(d)より狭くし、かつ、$2図に示す塗布装
置と同じく、黒鉛懸濁液からなる塗布液の貯留槽近傍に
配しておく。
上記機構において、まず塗布液をスポンジローラ(26
)に転写・含浸させる前にスポンジローラ(26)を九
m (28a)(28b)間に押し付けて、一回転する
までその間を通過させる.そうすると、前回使用によっ
てスポンジローラ(26)に残っていた塗布液が大部分
、搾り切られ、残液を除いておく。次に、第2図と同じ
く、上記貯留槽に軸支した転写ドラムによりスポンジロ
ーラ(26)に塗布液を転写・含浸させた後、再びスポ
ンジローラ(26)を丸棒(28a)(28 b )間
に所定圧にて押し付けて緩く搾り、保有液量を規制する
.そして、スポンジローラ(26)の下面に塗布液のし
ずくが残っていると、更にその下面にのみ丸棒(28a
)(28b)に押し付けてしずくを除去し、適量に規制
しておく.その後、所定位置にあって外装導電膜塗布前
のバルブファンネル部内表面にロボットハンドにより内
装導電膜を自動塗布する。そして、塗布後、残液除去搾
りより始めて上記同様の動作を繰り返す. 〔発明の効果〕 本発明によれば、塗布手段に塗布液を含浸させた後、塗
布手段を所定圧にて搾り、保有液量を規制して被塗布面
に塗布するようにしたから、塗布手段の保有液量が安定
し、塗布作業の安定化を図ることができる。
)に転写・含浸させる前にスポンジローラ(26)を九
m (28a)(28b)間に押し付けて、一回転する
までその間を通過させる.そうすると、前回使用によっ
てスポンジローラ(26)に残っていた塗布液が大部分
、搾り切られ、残液を除いておく。次に、第2図と同じ
く、上記貯留槽に軸支した転写ドラムによりスポンジロ
ーラ(26)に塗布液を転写・含浸させた後、再びスポ
ンジローラ(26)を丸棒(28a)(28 b )間
に所定圧にて押し付けて緩く搾り、保有液量を規制する
.そして、スポンジローラ(26)の下面に塗布液のし
ずくが残っていると、更にその下面にのみ丸棒(28a
)(28b)に押し付けてしずくを除去し、適量に規制
しておく.その後、所定位置にあって外装導電膜塗布前
のバルブファンネル部内表面にロボットハンドにより内
装導電膜を自動塗布する。そして、塗布後、残液除去搾
りより始めて上記同様の動作を繰り返す. 〔発明の効果〕 本発明によれば、塗布手段に塗布液を含浸させた後、塗
布手段を所定圧にて搾り、保有液量を規制して被塗布面
に塗布するようにしたから、塗布手段の保有液量が安定
し、塗布作業の安定化を図ることができる。
第1図は本発明に係る塗布方法の一実施例を示す搾り機
構の斜視図、第2図と第3図は第1図搾り機構を用いた
塗布装置9一具体例を示す側面図と部分平面図、第4図
は本発明に係る塗布方法の他の実施例を示す池の搾り機
構を用いた塗布装置の側面図、第5図は本発明に係る塗
布方法の更に別の実施例を示す搾り機構の斜視図、第6
図と第7図は陰極線管バルブの外装導電膜塗布装置の一
従来例の部分断面側面図と塗布マスクの平面図、第8図
は陰極線管バルブのアノードシリコン塗布装置の一従来
例を示す斜視図である。 (9) (20) (26)一・−・塗布手段、(
10) (25) (28 a ) (28 b
) 一=搾り機構、(14) (21)・一塗布液
。 特 許 出 願 人 関西日本電気株式会社代
理 人 江 原 省 吾l 図
構の斜視図、第2図と第3図は第1図搾り機構を用いた
塗布装置9一具体例を示す側面図と部分平面図、第4図
は本発明に係る塗布方法の他の実施例を示す池の搾り機
構を用いた塗布装置の側面図、第5図は本発明に係る塗
布方法の更に別の実施例を示す搾り機構の斜視図、第6
図と第7図は陰極線管バルブの外装導電膜塗布装置の一
従来例の部分断面側面図と塗布マスクの平面図、第8図
は陰極線管バルブのアノードシリコン塗布装置の一従来
例を示す斜視図である。 (9) (20) (26)一・−・塗布手段、(
10) (25) (28 a ) (28 b
) 一=搾り機構、(14) (21)・一塗布液
。 特 許 出 願 人 関西日本電気株式会社代
理 人 江 原 省 吾l 図
Claims (1)
- (1)塗布手段に塗布液を含浸させた後、塗布手段を所
定圧にて搾り、保有液量を規制して被塗布面に塗布する
ことを特徴とする塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1058245A JP2766499B2 (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1058245A JP2766499B2 (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02237680A true JPH02237680A (ja) | 1990-09-20 |
| JP2766499B2 JP2766499B2 (ja) | 1998-06-18 |
Family
ID=13078736
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1058245A Expired - Lifetime JP2766499B2 (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2766499B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6593252B1 (en) | 1998-10-29 | 2003-07-15 | Applied Materials, Inc. | Film deposition method and apparatus |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS574270A (en) * | 1980-06-10 | 1982-01-09 | Canon Inc | Coating method |
| JPS5936568A (ja) * | 1982-08-24 | 1984-02-28 | Dainippon Printing Co Ltd | ロ−ルコ−ト法 |
| JPS61183167U (ja) * | 1985-05-04 | 1986-11-15 | ||
| JPS633413U (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-11 | ||
| JPS6342764A (ja) * | 1986-08-11 | 1988-02-23 | Nikkei:Kk | 匣鉢アルミナ塗布装置及び方法 |
-
1989
- 1989-03-09 JP JP1058245A patent/JP2766499B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS574270A (en) * | 1980-06-10 | 1982-01-09 | Canon Inc | Coating method |
| JPS5936568A (ja) * | 1982-08-24 | 1984-02-28 | Dainippon Printing Co Ltd | ロ−ルコ−ト法 |
| JPS61183167U (ja) * | 1985-05-04 | 1986-11-15 | ||
| JPS633413U (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-11 | ||
| JPS6342764A (ja) * | 1986-08-11 | 1988-02-23 | Nikkei:Kk | 匣鉢アルミナ塗布装置及び方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6593252B1 (en) | 1998-10-29 | 2003-07-15 | Applied Materials, Inc. | Film deposition method and apparatus |
| WO2004084284A1 (ja) * | 1998-10-29 | 2004-09-30 | Yuichi Wada | 成膜方法及び装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2766499B2 (ja) | 1998-06-18 |
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