JPH02238581A - 図形描画における閉領域面塗り処理方式 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔目次〕 概要 産業上の利用分野 従来の技術（第１１図，第１２図） 発明が解決しようとする課題 課題を解決するための手段（第１図） 作用 実施例（第２図〜第１０図） 発明の効果 〔概要〕 図形描画における閉領域面塗り処理方式に関し，Ｘ座標
リストを用意することなく面塗シ制御可能とすることを
目的とし， ベクトル・ジェネレータを具備し，これにより図形描画
を行い，その閉領域に面塗りを行う図形描画方式におい
て，メモリ手段と，加算処理手段と，面塗処理手段を具
備し，ベクトルψジェネレータにより図形を描画すると
き，加算処理手段によりメモリ手段内に記入された描画
データと加算処理を行ってメモリ手段内に新描画データ
を記入し，面塗処理手段によυ面塗り制御を行うとき，
メモリ手段内を特定方向に走査してその描画データの特
定値の奇数部分か偶数部分かを判別し，奇数部分から偶
数部分に面塗り用データを描画制御するように構成する
。

〔産業上の利用分野〕

本発明は図形描画における閉領域面塗り処理方式に係シ
，特にメモリ使用量を小さくできる閉領域面塗り処理方
式に関する。

〔従来の技術〕

例えば第１１図（８）に示す如き図形を，同（Ｂ）に点
線で示す面塗り処理を行う場合（これらの図では理解し
易いように座標のドット・サイズを太きく示した），第
１２図（５）に示す如く，１次頂点リストを用意する。

次に第１２図（Ｂ）に示す如く，点ＡからＢに対するよ
うにその中間点のｙ座標が順次増加するＸ座標リスト（
増加グループ）と，点ＣからＤに対するように，その中
間点のｙ座椋が順次減少するＸ座標リスト（減少グルー
プ）を作る。

ただし後者の減少グループのＸ座標リストも，第１２図
（ｑに示す如＜，Ｄ−Ｃ方向に作成する。

それから，この２つのＸ座標リストのうち，同一ｙ座標
点を抽出してＸ座標の小さい方を開始座標とし，大きい
方を終了座標として線分描画を行い，第１１図（Ｂ）の
点線に示す如く面塗り処理を行う０ 前記処理を手順的に説明すると以下の如く遂行される。

（１）面塗シする描画の外周線の座標を格納した１次須
点リスト（例えば第１１図（Ａ）　）　’，ｒ：作成す
る。

この１次頂点リストには，開始座標，終了座標が描画を
行う順番に格納されている。

（２）１次頂点リストのｙ座標の変位を調べ，連続する
同じ変化のグループ毎にＤ　Ｄ　Ａ　（　Ｄｉｇｉｔａ
ｌＤｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ　Ａｎａｌｙｚｅｒ　）　
７＃ゴリズムを開いて開始座標，終了座標を結ぶ中間座
標を求める。求めた座標よりＸ座標のみをＸ座標リスト
に格納する。

（３）作成した各Ｘ座標リストに対し，同一ｙ座標上と
なるＸ座標を座標値の小さい順にソートし，その個数の
奇数位置を開始座標とし，偶数位置を終了座標として線
分描画を行う。すなわち，第１０図（Ｉ３）のｙ座標ｙ
１についてはＡｌとＤ１の２個のものが第１１図（Ｂ）
，（Ｑに示す如〈Ｘ座標リストに格納されるが，Ｘ座標
の小さい方から数えたとき，Ａ１が１つｔｂ奇数，Ｄｌ
が２つまり偶数となり，奇数一偶数の方向に線分を描画
する。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来の方式では，第１２図（Ｂ），（ｃＩに示す如く，
２つのＸ座標リストヲ必要とする。ところでこのＸ座標
リストは面塗りの密度が通常ドット・サイズとなるので
ｙ座標の項数が大きくなり，大型のものが必要となる。

したがってメモリ上にＸ座標リストの領域を相当量確保
しておくことが必要となる。

このため本発明の目的は，このようなＸ座標リストの領
域を不必要とした図形描画における閉領域面塗シ処理方
式を提供することである。

〔課題を解決するための手段〕

前記目的を達成するため，本発明では，第１図に示す如
く，ベクトル・ジェネレータ２によりフレーム・メモリ
１に描画するとき，そのときフレーム・メモリ１に記入
ずみのデータをよみ出して加算処理部３で加算しつつ行
う。

例えば，第１１図（５）に示す長方形ＡＢＣＤを面塗り
する場合，プロセッサ（以下ＣＰＵ）５は図示省略した
１次頂点リストよク，頂点データを送出し，ベクトル●
ジエネレータ２が第１１図囚の■の辺に１１」を出力す
る。このとき初め，フレーム・メモリ１はオール零の場
合であれば，加算処理部３でその各々の「０」と［１］
が加算された値の１１」が■の辺に記入される。次にベ
クトル・ジェネレータ２が，第１１図囚の辺■に「１」
を出力する。このとき同様の加算処理が，加算処理部３
により行われるので，頂点Ｂの部分では「１」が２回加
算されて「２」となる。このようなことが順次行われる
ので，結局，第１図（Ｂ）に示す如く，各項点Ａ，Ｂ，
Ｃ，Ｄの部分では「２」が，他の辺の部分では「１」が
記入される。

次に，ＣＰＵ５は面塗処理部４を動作させる。

面塗処理部４は同一ｙ座標毎に［１］の個数を計数し，
奇数か偶数かを識別する。すなわち，第１図（ｌ３）に
おいて＋Ｙａ　　座標の左から，つまりＸ座標の小さい
方から１１」をカウントする。ｙａ　　座標ではＡ点の
１２」の右隣シの「１」から計数するので，「２」の右
隣リが１つまり奇数，次の「１」が２つまり偶数，次の
「１」が３つまり奇数となる。またｙｂ　　座標では，
辺■の「１」が１つまり奇数，辺■の「１」で２とカウ
／トされるので偶数となる。このようにして，第１図（
Ｑに示す如きデータが得られる。ベクトル・ジェネレー
タ２は，この第１図０に示すデータにより，同一ｙ座標
上の奇数を開始座標とし，偶数を終了座標として線分を
描画する。線分終了座標のない奇数座標つまシ線分開始
座標は，その部分に点を描画する。例えばｙａ座標にお
いて，左から２番目の奇数はこれに対応する偶数がない
ため，第１図ＣＤ）の星印で示す如く，線分の開始座標
と終了座標が同一となり，点を描画することになる。こ
のようにして，第１図（至）に示す面塗りがベクトル・
ジエネレータ２により遂行される。長方形の如き図形の
場合には，このあと，もう一度頂点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ間に
外周線を再び描画することにより各頂点部分も面塗りさ
れることになる。

なお，これらの処理は，フレーム●メモリ１のマスク領
域が使用されるものである。

〔作用〕

従来のようにＸ座擦リストを用意する必要がなく，また
フレーム・メモリを使用することもできるので，メモリ
領域を節約することができる。

〔実施例〕

本発明の一実施例を第２図〜第１０図にもとづき，他図
を参照しながら説明する。

第２図は本発明の一実施例構成図，第３図は長方形のベ
クトル描画状態説明図，第４図は長方形に対する面塗シ
説明図，第５図はフレーム・メモリ説明図，第６図はフ
レーム・メモリ使用状態説明図，第７図は第２の図形に
対するベクトル描画状態説明図，第８図は基準バタン説
明図，第９図は基準バタン使用状態説明図，第１０図は
第２の図形に対する面塗シ説明図である。

第２図において，第１図と同一記号は同一部分を示し，
１はフレーム・メモリ，２はベクトル・ジェネレータ，
３は加算処理部，４は面塗処理部，５はＣＰＵ，６は基
準バタン保持部，７は比較部，８はカウンタ，１０は解
読部，１１はアドレス作成部である。

フレーム・メモリ１は，第５図に示す如く，それぞれ８
ビットのカラー領域Ｒ，Ｇ，Ｂの外に，同じく８ビット
のマスク領域を有しており，１画素あたり３２ビットの
領域を有する。

面塗処理部４はカウンタ８が設けられ，前記の如く，同
一ｙ座標における「１」を数え，その奇数，偶数をフレ
ーム・メモリ１に書込む処理等を行うものである。

ＣＰＵｓは，画像処理用の各種制御を総合的に制御する
ものであシ，例えば面塗処理を行う場合，そのコマンド
を解読し面塗処理用のプログラムを選択してフレーム・
メモリ１を使用するようにアドレスを作成したｐ，その
アドレスに書込むだめの，第６図（Ｂ），（Ｄ）に示す
フォーマットのデータを作成するものであり，コマンド
を解抗する解読部１０，フレーム・メモリ１に対するア
ドレスを作成するアドレス作成部１１等を具備する。

基準バタン保持部６は，例えば第８図（５）〜（（ｌに
示す如き基準パタンを有し，フレーム・メモリ１のデー
タが２となった頂点または交点について３×３のマトリ
クスを中心にかけ，フレーム・メモリ１のデータとのア
ンド論理をとる。このアンド論理は比較部７で行う。そ
して一致が得られたとキ，フレーム・メモリ１のデータ
２を０に変換する。

次に本発明の動作を，（１）第１１図に示す如き長方形
の描画及び（２）第７図（５）の図形の描画を例にして
説明する。

（１）長方形の描画 ■　ＣＰＵ５は，面塗処理コマンドが伝達されたとき，
これを解読部１０で解読して認識する。

そして作業領域としてフレーム・メモリ１のマスク領域
を使用すべくアドレス作成部１１が制御され，そのアド
レス情報がベクトル・ジェネレータ２に送出される。Ｃ
ＰＵ５は，さらに第１２図（５）に示す１次頂点リスト
より頂点Ａと頂点Ｂの座標データをベクトルージェネレ
ータ２に送出する。

これによりベクトル・ジェネレータ２は，第３図（５）
に示す描画データをフレーム・メモリ１に記入する。こ
のとき，マスク領域が使用されるので，第６図（Ｂ）に
示す如く，マスク領域部分を示すアドレスデータ［１　
（　１　６進表示）が記入されることになる。

■　次にＣＰＵ５は，頂点ＢとＣの座標データをベクト
ル・ジェネレータ２に送出し，−また加算処理部３を動
作させる。これにより今度はベクトル●ジェネレータ２
の出力は，すでにフレームｅメモリ１に記入された描画
データとの加算を行い，フレーム●メモリ１に記入され
る。したがって，頂点Ｂの部分には■で記入されていた
「１」に，Ｂ−Ｃの描画データ出力にともなう「１」が
加鏝一されて「２」となり，第３図（ｌ３）の如き描画
データが記入されることになる。それからＣ．Ｄの描画
データが記入されてフレーム・メモリ１は第３図（ｑの
状態となり，最後にＤ．Ａの描画データが記入されて第
１図（Ｂ）の状態になる。このときフレーム・メモリ１
のマスク領域を使用されるので，第６図（ｑの如く記入
されることになる。

■　それからＣＰＵ５は面塗処理部４を動作させ面塗処
理を行う。すなわち，面塗処理部４は，フレーム・メモ
リ１を水平方向すなわちＸ軸方向にスキャンして，各ス
キャンライン毎に数値１をカウンタ８でカウントし，そ
れが奇数番目か偶数番目かを判別する。これにより第１
図（Ｑに示す如きデータを得る。それから各スキャンラ
イン毎に，奇数点を線分開始座標とし，偶数点を線分終
了座標とし，ベクトル・ジェネレータ２により線分を描
画させる。これにより第１図ｐ）に示す如＜２ｙ座標Ｙ
ｃでは黒丸で示す線分開始座標から黒四角で示す線分終
了座標間に，黒三角で示す線分が描画される。またｙ座
標ｙｄでは線分開始座標と線分終了座標が隣接した部分
と，黒星印で示す線分の開始座標と終了座標が同一の部
分が存在し，あとの部分は点が描画されることになる。

そして最後に，ＣＰＵ５がベクトル・ジェネレータ２に
より，再度頂点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの外周線のみを，加算処
理部３による加算処理を行うことなく線分描画すること
により，第４図（Ｂ）で示す如き面塗り処理が行われる
。

■　このようにして前記■の線分描画を行う場合，その
値として１６進表示で，第６図ｐ）に示す如く，例えば
ｌ’−０００００２００Ｊを使用して閉領域面塗りを行
う場合，１０進表示すると，第６図（ト）に示す如く，
１０進数値の［ｓ　１　２ｊデータがこの閉領域に記入
される。

（２）第７図（５）の図形 ■　ＣＰＵ５は，前記（１）の場合と同様に，１次頂点
リストより頂点Ｅ，Ｆの座標データをベクトル●ジエネ
レータ２に送出する。これによりベクトル・ジェネレー
タ２は，第７図（５）の■で示す描画データをフレーム
・メモリ１に記入する。次にＣＰＵ５は頂点Ｆ，Ｈの座
標データをベクトル●ジェネレータ２に送出し，また加
算処理部３を動作させる。これにより，第７図（Ａ）の
■で示すＦ’　−Ｈの描画データが記入されるが，この
とき加算処理部３により，フレーム・メモリ１に記入さ
れたデータと，ベクトル・ジェネレータ２により新らた
に出力されたデータとの加算処理が行われて，フレーム
・メモリ１に記入されるので，頂点Ｆに「２」が記入さ
れることになる。このようにして次に第７図（５）の■
で示すＨ−．Ｇの描画データが加算処理されてフレーム
・メモリ１に記入され，それから第７図囚の■で示すＧ
．Ｅの描画データが加算処理されてフレーム・メモリ１
に記入されるので，結局，第７図（１３）の状態でフレ
ーム・メモリ１に描画データが記入される。

■　次にＣＰＵ５は比較部７を動作させて，フレーム●
メモリ１を３×３のサイズで切出し，これを基準バタン
保持部６で保持している，第８図（５）〜（ｑに示す如
き基準バタンと順次比較し，一致，不一致を検出する。

そして一致したとき，その「２」の領域ケ「０」に変換
処理する。これにより第９図（５）に示す如く，一致部
分が存在するので，とのＦ→Ｈ，Ｇ→Ｅのベクトルの交
点の部分が０になり，フレーム・メモリ１のデータは第
７図β）の通りになる。

■　ＣＰＵ５は面塗処理部４を動作させる。前記（１）
の■と同様に，面塗処理部４は，フレーム・メモリ１′
ｆ：Ｘ軸方向にスキャンし，数値「１」をカウンタ８に
よりカウントして奇数番目か偶数番目か判別して，第１
０図（Ａ）に示す如きデータを得る。奇数番目會開始座
標とし，偶数番目を終了座標として線分描画を行い，第
１０図（Ｂ）に示す如くデータを記入し，これに外周線
を描画し，第１０図（ｑに示す如く，面塗処理を行うこ
とができる。

なお，前記説明では，描画値として第６図（至），（３
）に示す如く，１６進表示で［０　０　０　０　２　０
　０ｊの値を使用した例について説明したが勿論これに
限るものではなく，マスクのサイズも３×３に限定され
るものではない。

そしてマスク領域を使用して作業を行う例について説明
したが，マスク領域は，マスクとして使用するとき１ピ
ントあればよく，通常は空き領域となっているので，こ
れを有効利用することにより，メモリ容量を節約するこ
とができることになるが，本発明は勿論これのみに限定
されるものではない。また面塗り対象図形も前記長方形
や第７図の図形等に限定されるものではない。

〔発明の効果〕

本発明によれば，Ｘ座標リストを用意することなく面塗
り処理を行うことができる。

また，マスク領域を使用する場合には，必要とする領域
はいつも固定してあシ，シかもその領域は閉領域面塗り
用に新規に確保しておく必要がない。実際に描画する座
標と同一であるため，座標値を持つ必要がない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の原理説明図， 第２図は本発明の一実施例構成図， 第３図は長方形に対するベクトル描画状態説明鱒， 第４図は長方形に対する面塗り説明図，第５図はフレー
ム・メモリ説明図， 第６図はフレーム・メモリ使用状態説明図，第７図は第
２の図形に対するベクトル描画状態説明図， 第８図は基準バタン説明図， 第９図は基準バタン使用状態説明図， 第１０図は第２の図形に対する面塗り説明図，第１１図
は従来例説明図， 第１２図は従来例のリスト説明図である。 １・・・フレーム●メモリ， ２・・・ベクトル・ジェネレータ ３・・・加算処理部， ４・・・面塗処理部， ５・・・フロセッサ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ベクトル・ジェネレータ（２）を具備し、これにより図
   形描画を行い、その閉領域に面塗りを行う図形描画方式
   において、 メモリ手段（１）と、 加算処理手段（３）と、 面塗処理手段（９）を具備し、 ベクトル・ジェネレータ（２）により図形を描画すると
   き、加算処理手段（３）によりメモリ手段（１）内に記
   入された描画データと加算処理を行ってメモリ手段（１
   ）内に新描画データを記入し、面塗処理手段（４）によ
   り面塗り制御を行うとき、メモリ手段（１）内を特定方
   向に走査してその描画データの特定値の奇数部分か偶数
   部分かを判別し、奇数部分から偶数部分に面塗り用デー
   タを描画するように制御したことを特徴とする図形描画
   における閉領域面塗り処理方式。