JPH02242581A - 調理器具 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、たとえばいくつかの調理ポイントを含む連
続的な調理表面を備えた全面器具としての調理器具、あ
るいはオーブンまたは暖炉に入れようとする個々のホッ
トプレートを備える調理器具に関する。

この発明の課題は、そのようなホットプレートおよび／
またはそのホットプレー　トの加熱手段を改良すること
にある。

この発明は後述のこの発明の特徴の１つまたはそれ以上
を有するホットプレートを提供する。この発明はこの発
明の実現のために、単独または任意のサブコンビネーシ
ョンにずることかできる。

ホットプレート支持体は金属、特に金属薄板、好ましく
はクロム鋼で作ることができる。

クロム鋼タイプ１．４７４２と１．４０１６は特に有用
であることが証明されている。しかし、ホットプレート
支持体はたとえば石英ガラスのようなガラス、あるいは
たとえばチタン酸アルミニウム、窒化アルミニウムある
いは窒化ケイ素を基本とするセラミックや、同様にガラ
スセラミックから作ることもできる。石英ガラスの代わ
りに石英ガラスとは異なる光学特性の石英材料を使うこ
ともできる。

しかしこのことはこの発明の場合にはあまり重要ではな
い。複合材料、たとえばホットプレート支持体の底部に
適用された誘電絶縁層を有する金属および／または上面
にエナメル加工されている金属を使うこともできる。特
にクロム鋼の支持プレートの場合に、暗い色の耐熱エナ
メルをホットプレー１−表面に設けるのが好ましい。こ
れは、クロム鋼が発生温度で変色してしまうからで、、
このことは視覚的観点から見すごせないからである。

しかし上述のように、これらの支持プレートは個別のホ
ットプレートとしであるいはホットプレートの下に帯状
に取イ」けられた加熱手段を有する全プレートとして使
用できる。

クロム鋼プレートの場合、反りを防ぐために単一のプレ
ートとするのが好ましい。

厚膜抵抗を介して加熱をするのが有利である。厚膜抵抗
は、絶縁支持体の場合には支持体の下側に直接適用され
る。これに対して、導体または導体となるようなものの
場合には、厚膜抵抗は対応の中間層に対して加熱系で非
適合の材料を用いて適用される。厚膜抵抗はスクリーン
処理印刷、スクレーピング、あるいはインクジェットの
応用により前記支持体に対して適用できる。これらの厚
膜抵抗は非常に薄い膜で、任意に曲りくねった形に配置
して必要な抵抗を得るようにする。そして厚膜抵抗は、
たとえは銀、銅、ニッケルあるいはアルミニウムを基本
とする良導金属を備える。あるいは厚膜抵抗は真抵抗膜
状に使うことができる。この良導金属を介して電流が広
い領域に流れしかもルテニウムを基本としている。良導
の構成要素は溶融ガラスまたは他の粉末状もしくはペー
スト状の媒体内に設けられる。溶融ガラスまたは媒体は
バインダとして酸化物を含めることもでき、酸化物は上
述の処理により適用され最終的に溶融または加熱乾燥さ
れる。誘電コーティングは複合または中間コーティング
として支持体上に任意に設ける。この誘電コーティング
はペースト状に適用された薄いガラス膜と同じ処理の仕
方で設けることができる。

ピンの上にろう付けした拡大接触プレートにより接続部
あるいは端子部が有効的に設けられる。硬ろうは金属充
填ガラスペーストから成る。硬ろうは好ましくはスクリ
ーン処理印刷により接触ポイントに適用される。この結
果、たとえば目的とする接触表面にあるニッケルボルト
は高温に耐えうるろう付は処理を用いて直接ろう付けで
きる。素線は通常の溶接処理により接続ボルトに対して
固定できる。

温度制限または制御は機械的あるいは電気的に有効に行
える。センサとしての薄膜温度センサは支持体に対して
たとえば正または負の熱抵抗特性（ＰＴＣまたはＮＴＣ
センサ）を有するセンサ層の形で取付けることができる
。支持体の異なる位置においていくつかのセンサを有効
に取付けたり、るいは広い範囲での温度を決定する１ま
たはそれより多いセンサを有効に取付けることにより、
支持体内における温度差を検出することもできる。この
ことにより自動調理システムはシチューなべを検出する
ことができる。シチューなべがたとえば平らでない底部
または少い充填量のためにわずかな出力をうばうかどう
か考慮する。

前記好ましい印刷されたセンサによる温度制限は次のよ
うにして行う。つまり、支持体の反りがなくあるいは熱
的なオーバーロードのないようにするのである。金属支
持体の場合に、特にもし金属支持体が比較的薄いと、反
りが問題の中心となる。しかしこの反りの問題は低膨張
係数の材料を選ぶことにより克服できる。好ましい温度
の限度は３５０〜５００℃であり、好ましくは４００〜
４５０°Ｃの間である。これらの温度では全調理処理や
ロースト処理を行うことができる。しかも反りは制限さ
れる。このため特にホットプレートに適する。ホットプ
レートは好ましくは直接熱を伝える。一方ラジアント加
熱ホットプレートの下側が一部高温にさらされていて、
ガラスセラミックでは６０００重以上の許容温度限度ま
で達する。しかし温度はここで再び確実に検出され、印
刷センサにより制限できる。

通常のホットプレートは、たとえば円形状あるいは長い
楕円や多角形のような他の適切な形にすることができる
。２重円構造、たとえば２重の円心状で独立して切換可
能な調理ポイントにすることもできる。調理ポイントは
中心の円形調理領域を有する形だけでなく種々のシチュ
ーなべの寸法に合せることができる。円形調理領域を伸
ばした形になるように、円形調理領域の片側または両側
において切換加熱ポイントが延びている。

異なるベース温度設定または異なった設定ができるよう
に支持体を複数の領域に分割することもできる。これら
の温度設定は、たとえばロースト、調理およびあたため
たりするのに用いる。また個別のホットプレートの場合
、はとんど平坦な構造にすることができる。

つまり、各プレートを囲んでいる設定または整形プレー
トはほぼ同じ高さのところにはめ込まれるのである。

各ホットプレートと暖炉または設定プレートの間のシー
リングは、シリコンシールまたは溶融ガラスを用いて特
に金属エツジまたはフレームと結合して行う。プレート
自体はたとえばガラスまたはセラミックで作られ、プレ
ートを囲んだリングとともに低融点ガラスにより溶合あ
るいは結合されるので、完全に空気が通らないようにし
ているのである。匹敵するかあるいは同一の膨張係数を
有する材料を使用し、各ポイントにおける温度を考慮す
ることは、リム、プレートおよび任意の溶融ガラスには
好ましいことである。

実質的に透明または半透明支持プレートを使用するとき
に、支持プレートの下に位置された厚膜導体および／ま
たは着色層、たとえば背部絶縁層は装飾することができ
る。このことから特定の調理ポイントを十二分に任意に
表示することができる。

加熱伝導性および良好な熱伝導性に関係する構成部品を
、低容積にしかも熱的不慣性を低くすることにより（ク
ロム鋼金属熱伝導の場合およびガラス高放射割合の場合
）、特に高効率が得られる。通常の加熱手段と比べて５
０％以上の効率改善が達成されている。

底部に対する熱絶縁を熱絶縁マットまたは絶縁材モール
ドを介して有効に行うことで、厚膜抵抗とマットの間が
数ｍｎ’Ｂ好ましくけはぼ２　ｍｍの間隔とするのが好
ましく、その中は空気を滞留しまたは真空状態にできる
。支持プレートからはなれた側すなわち加熱導体の下に
ある装飾コーティングは、同時に加熱導体の保護の役目
も果たす。

実施例の概要 第３図を参照する。電気調理器具は薄鋼板、ガラス、セ
ラミックまたはガラスセラミック製の支持プレート１５
を有する。この支持プレート１５の下側には電気加熱用
の厚膜抵抗１６が設定されている。支持プレートはいく
つかの調理ポイントを備える大きい面積のプレートある
いは個別プレートとして構成でき、支持プレートは取付
リム２６で受けている。

温度制限兼調整センサ２２は、支持プレートの下側に対
して膜抵抗状に適用されている。

実　　施　　例 第１図は調理器具１１の平面図である。この調理器具１
１は取付プレートまたは組込プレートあるいは整形プレ
ート１５を備えている。プレート１５は、作業プレート
１２、たとえば台所調度品の」二部カバープレートには
め合されている。この取付プレート１５の下側はガラス
セラミックとなっており、ガラスセラミックには任意に
ガラス絶縁層が介在されている。取付プレート１５は４
つの加熱ポイント１３を備え、いずれの加熱ポイントも
、厚膜抵抗状の２つの同心状加熱抵抗を備えている。図
面はホットプレート表面の装飾を示し、いずれの加熱ポ
イントにおいても２つの円心状の別々の作動可能な領域
を備えている。

第２図は個別の調理ポイント１４の断面を示している。

調理ポイント１４は上部の石英ガラスの支持プレート１
５を備えている。この支持プレート１５の下側に厚膜抵
抗１６がコーティングすることにより設定されている。

支持プレート１５は支持シェル１７のリムに配置されて
いる。支持シェル１．７は、延長リム４．８により取付
プレート１．９の開口端に設定されている。そしで支持
シェル１７はスプリング要素２０により下側が支持され
ている。

支持プレートはたとえば硬化ガラスにすることができる
が、エナメル加工の薄鋼板またはＶ２Ａ鋼にすることも
できる。熱絶縁体２１は、加熱手段１６の下側からある
距離はなれた平坦な支持シェルに配置されている。

第３図も石英ガラス製の支持プレート１５を示している
。この支持プレート１５の下側に対しては、いくつかの
領域に、たとえば２つの回路を設けるために厚膜抵抗１
６が直接適用されている。温度調整および／または制限
用のセンサ２２は下側に同様にして取付けられている。

背面全体は着色した保護層２３によりカバーされている
。保護層２３は石英ガラスプレートを通してかすかに光
らせることもできる。支持プレート１５のエツジまたは
リムがステンレス鋼薄板のリムに受けられている。ステ
ンレス鋼薄板のリムは、内側に下向きに延長されたたれ
受はリム２４、支持プレートのエツジ側受は角部または
曲り部２５および下向きに延びたフランジ２６を有して
いる。ステンレス鋼薄板のリムは当初は実質的に水平で
それからある角度で下に傾きそして設定プレート１９の
肩にのる。ステンレス鋼薄板のリムは成形金属薄板加工
により作られている。肩２７の内側には下向きの縁部２
８がつながっていて、肩２７の外側に対してはくぼみ２
９がつづいている。受は角部２５の付近では、支持プレ
ート１５のリムがガラスペーストから作られた易融ガラ
スを用いて溶融または融解により固定されている。

第４図では、支持プレート１５のリムが下向きに同心状
に広げられしかも支持シェル１７の周辺域３０によりと
り囲まれ、シリコンシールが介在されている構造を示し
ている。

取付プレート１９は、再び硬化ガラス製にし、シリコン
シールによりかみ合されている。支持シェル１７は弾性
舌部３１により取付プレーｌ−１９の開口に固定されて
いる。弾性舌部３１は設定開口内にユニットを押圧する
際に開口リムの後側においてカチッとしまる。

第５図は対応構造を示している。取イ」プレート１９の
表面に対する調理表面３３の取付は高さを小さくするた
めに、取付プレート１９は、上部の全周にわたるくぼみ
３４を備えた開口域に設けられている。このくぼみ３４
には受は角部２５が挿入できる。支持シェルの水平に延
びた上部外側のフランジ３５は設定プレート表面にのっ
ており、エナメル加工の薄鋼板を含むことができる。加
熱支持プレート１５の受は角部２５は、第３図と同じや
り方で十分受けとめることができるが、前記受は角部は
、支持プレートの厚みほど深くない。このため、支持プ
レート周辺域は斜めに成形しである。

第６図は第５図に対応した構造を示している。構造全体
において同じ部分には同じ符号が付けてあり、別に説明
することはない。周辺フランジ３５は設定プレート１９
に埋込まれている。

第７図の構造では、支持プレート１５は、受は角部２５
に介在されている部分が取付プレート１９にのっている
。これは取付プレートの直径が取付開口の直径より太き
いからである。支持シェル１７の外側リム３６は下向き
に傾き取付プレートの表面にのっている。

第８図は、好ましいニッケルの接続ボルト４０を大幅に
拡大して示している。接続ボルフ ト４０は厚膜抵抗加熱手段１６に属する接触表面４３に
対して、プレート状の固定部４２を用いてはんだ層４１
によりはんだ接合されている。ガラス状の絶縁層４４に
介在させて加熱手段１６がたとえばクロム鋼支持体また
は調理プレート１５に対して適用されている。

個々の層は前に述べた構成であり、高品位金属が充填さ
れたガラスペーストに硬ろうを付与し、溶融ガラス中の
ルテニウムを基本とする層に抵抗層１６を付与し、ガラ
ス層に対して絶縁層４４を付与するのが好ましい。これ
らはすべて溶融または加熱乾燥によりうまく行え、スク
リーン印刷処理あるいは他の適用処理により次の用途に
用いられる。接続ワイヤ４６は、プレート状接触表面か
らのびているボルトの比較的細い接続ピン４５に溶接さ
れている。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の調理器具の平面図、第２図〜第７図
は取付板内にはめ合された個々のホットプレートの部分
断面図、第８図はポットプレート接続部の詳細を示す図
である。 １１・・・・・・・・・調理器具 １．４・・・・・・・・・調理ポイント１５・・・・・
・・・・取付プレート １−６・・・・・・・・・厚膜抵抗 １７・・・・・・・・・支持シェル １９・・・・・・・・・取付プレート ２１・・・・・・・・・熱絶縁体 ２２・・・・・・・・・センサ ２３・・・・・・・・・保護層 ２５・・・・・・・・・受は角部 ２７・・・・・・・・・肩 ２９・・・・・・・・・くぼみ ３１、・・・・・・・・・弾性舌部 寸 ■）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、支持プレート（１５）と電気加熱手段 （１６）を備えた調理器具において、加熱手段（１６）
   は膜抵抗状に支持プレート（１５）の下側に適用されて
   いることを特徴とする調理器具。 ２、支持プレート（１５）は金属で作られ、特にクロム
   鋼薄板のような高品位な薄鋼板により作られていること
   を特徴とする請求項１に記載の調理器具。 ３、絶縁中間層（４４）は支持プレート （１５）の下側に適用され、好ましくは抵抗層（１６）
   と任意に設けられた絶縁層（４４）がガラス溶融物を含
   んでいることを特徴とする請求項１または２に記載の調
   理器具。 ４、接続部は、金属ボルト状に適用され、 この接続部は好ましくは膜抵抗（１６）の接触域（４３
   ）に対して、金属充填ガラス−硬ろう（４１）を用いて
   、拡大された耐表面により好ましくは適用されているこ
   とを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の調
   理器具。 ５、支持プレート（１５）は、ガラス、セ ラミックまたはガラスセラミックで作られ、しかも個別
   のホットプレートあるいはいくつかの調理領域を包含す
   る全プレートとして構成されていて、ホットプレートま
   たは調理領域はいくつかの独立して操作可能な加熱手段
   を含むことができ、これらの加熱手段は並べられるか互
   いに囲んでいる領域を形成していることを特徴とする請
   求項１〜４のいずれか１つに記載の調理器具。 ６、金属支持プレートおよび／またはこの 支持プレートを囲んでいる取付リングはエナメル加工さ
   れていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つ
   に記載の調理器具。 ７、溶融ガラスは支持プレート（１５）と 取付リング（２４、２５、２６）を接続している請求項
   １〜６のいずれか１つに記載の調理器具。 ８、装飾層（２３）は、支持プレート（１ ５）から離れた加熱手段（１６）の側に設けられると同
   時に加熱導体を保護ししかも加熱手段（１６）の部分を
   都合よくおおっていることを特徴とする請求項１〜７の
   いずれか１つに記載の調理器具。 ９、膜抵抗状の温度センサ（２２）は、温 度調整および温度制限のために支持プレート（１５）の
   下側に適用され、好ましくはいくつかのセンサがホット
   プレートの異るポイントに設けられおよび／またはセン
   サはホットプレートのいくつかの部分を広領域で検知す
   る請求項１〜８のいずれか１つに記載の調理器具。