JPH02250253A - 薄膜試料用荷電粒子描画装置及び薄膜試料固定治具 - Google Patents

薄膜試料用荷電粒子描画装置及び薄膜試料固定治具

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Publication number
JPH02250253A
JPH02250253A JP1072119A JP7211989A JPH02250253A JP H02250253 A JPH02250253 A JP H02250253A JP 1072119 A JP1072119 A JP 1072119A JP 7211989 A JP7211989 A JP 7211989A JP H02250253 A JPH02250253 A JP H02250253A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
sample
fixing jig
charged particle
chamber
Prior art date
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Pending
Application number
JP1072119A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuo Iida
康夫 飯田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPH02250253A publication Critical patent/JPH02250253A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はX線マスク及び半導体薄膜デバイス等の薄膜試
料にパターンを描画する装置及びこの装置に用いる薄膜
試料固定治具に関する。
【従来の技術〕
従来、試料にパターンを描画するときには厚膜状態でパ
ターン描画し、該工程後、真空系外に試料を取り出し、
別工程としてこれを薄膜化するか、真空排気に充分耐え
る強度の薄膜試料を用いており、特に予備排気時におけ
る薄膜破損の有無の確認は行っていなかった。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来のパターン描画に用いる荷電粒子描画装置
及び試料固定治具には薄膜試料描画について特段の考慮
はなされておらず、また、描画装置の真空作業室前段の
予備排気室における真空排気時に薄膜が破損しても特に
これを検知する手段はなかった。そのため、破損した薄
膜が描画装置の真空作業室に入ると重大な被害を生じる
ことがあり、この危険の可能性のため前述の荷電粒子描
画装置は事実上薄膜試料の描画には用いられていなかっ
た。
本発明の目的は上記課題を解消して薄膜試料の描画を実
現した荷電粒子描画装置及び試料固定治具を提供するこ
とにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するため1本発明による薄膜試料用荷電
粒子描画装置は、試料を収容する真空作業室と、試料上
に荷電粒子ビームを照射する荷電粒子描画鏡筒と、真空
作業室内への試料の搬入に先立って試料を待機させる予
備排気室とを有する荷電粒子描画装置において、前記予
備排気室内に。
薄膜試料の薄膜の有無を無接触で確認検知する試料検知
装置を装備したものである。
また、前記荷電粒子の描画装置の薄膜試料固定治具にお
いては、前記予備排気室内に設置された試料検知装置か
ら発した光線を通過させる透過孔を、前記薄膜試料に対
向する固定用治具の基板面に開口したものである。
〔実施例〕
以下に本発明の実施例を図によって説明する。
第1図において、1は電子銃、電磁光学系、ビーム偏向
器などを備えた公知の荷電粒子描画鏡筒である。該鏡筒
1内に生じさせた荷電ビームはその直下の真空作業室2
内に出射し、X、Yテーブル3上に搬入された試料4上
に荷電ビームによるパターンの描写が行われる。真空作
業室2の前段には予備排気室5を有している。
試料4は固定治具6に搭載され、予備排気室5内に搬入
後、該室5内は脱気される。第1図中、7は真空作業室
2と予備排気室5間を隔離するシャッターである。以上
の構成は従来の荷電粒子描画装置と同じである。本発明
は前記予備排気室5内に、搬入された試料4の有無を確
認検知する手段を装備したものである。
実施例は光学的に検知確認する試料検知装置8を用いた
例を示す。第1図において、9は光源、1.0は光検出
器である。光源9と光検出器10とは固定治具6の搬入
位置の上方で、垂直軸に対し、定角度をなして対称位置
に設置されている。したがって、予備排気室5内に搬入
された固定治具6に薄膜試料4がセットされていれば、
光源9よす発した光は薄膜試料4の面上で反射し、その
反射光が光検出器1.0に受光され、光検出器10から
の出力の有無を検知することによって薄膜試料4の有無
を確認検知することができる。
第2図に試料検知装置の他の実施例を示す1本実施例は
試料の透過光を検知する方式の検知装置を用いた例であ
る。第2図において、予備排気室5内の上部には固定治
具6の搬入位置に対応して複数の光源9が設置され、各
光源9に向き合せて下部に光検出器10をそれぞれ設置
したものである。
また、固定治具6の底面の基板6aには、各光源9と光
検出[110間の光軸に対応して透過孔11が開口され
ている。なお、予備排気室5には、その底部の両端及び
固定治具6を搬入する中央部位に真空排気ロ又′−1±
大気流入口12が開口されており、前記透過孔11は固
定治具6内を通しての排気及び流入空気の通過孔にもな
っている。
本実施例によれば、予備排気室5内に搬入された固定治
具6上に薄膜試料4が搭載されていれば。
光源9から出射した光は薄膜試料4のWIIXKを通し
て光検出器10に受光され、薄膜試料4を通過した光の
強度が減するため、光検出器lOに受光した光の強度を
測定することによって薄膜試料4の有無を検知できる。
以上いずれの実施例においても試料の有無を無接触で光
学的に検知するため、試料を傷付けることがなく、また
、試料薄膜の厚味に無関係に検出できる。なお、試料検
知装置は無接触で検知できるものであれば必ずしも光学
的に検知する場合に限らない。
〔発明の効果〕 以上のように本発明によるときには予備排気室内で真空
作業室への搬入に先立って固定治具上の試料の有無、ひ
いては薄膜試料の薄膜敲損の有無の確認、検知が可能と
なり、描画装置の真空作業室内への破損した試料の持ち
込みを防止して真空作業室内の汚染、事故発生を未然に
阻止することができる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す断面略示図。 第2図は固定用治具の他の実施例を示す要部拡大断面図
である。 1・・・荷電粒子描画鏡筒  2・・・真空作業室4・
・・薄膜試料      5・・・予備排気室6・・・
固定治具      8・・・試料検知装置911.光
源        10・・・光検出器11・・・透過

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)試料を収容する真空作業室と、試料上に荷電粒子
    ビームを照射する荷電粒子描画鏡筒と、真空作業室内へ
    の試料の搬入に先立って試料を待機させる予備排気室と
    を有する荷電粒子描画装置において、前記予備排気室内
    に、薄膜試料の薄膜の有無を無接触で確認検知する試料
    検知装置を装備したことを特徴とする薄膜試料用荷電粒
    子描画装置。
  2. (2)前記薄膜試料を搭載する固定用治具において、前
    記予備排気室内に設置された試料検知装置から発した光
    線を通過させる透過孔を、前記薄膜試料に対向する固定
    用治具の基板面に開口したことを特徴とする請求項(1
    )に記載の薄膜試料用荷電粒子描画装置の薄膜試料固定
    治具。
JP1072119A 1989-03-23 1989-03-23 薄膜試料用荷電粒子描画装置及び薄膜試料固定治具 Pending JPH02250253A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009025316A (ja) * 2008-09-30 2009-02-05 Terumo Corp 成分測定装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57136320A (en) * 1981-02-17 1982-08-23 Toshiba Corp Exchanger for sample in electron-ray drawing device

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