JPH0225057A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はリードフレームを使用して組立てられる半導体
装置の製造方法に関するものである。
装置の製造方法に関するものである。
第4図は従来のこの種半導体装置の製造方法を示すフロ
ーチャート、第5図は従来の製造方法によって組立てら
れた半導体装置を示す斜視図、第6図は従来の製造方法
を説明するための図で、同図(al)は半導体ウェハを
示す平面図、同図伽)はダイシング工程における半導体
ウェハの拡大断面図、同図(C)はダイポンド工程にお
けるリードフレームの断面図、同図(ωはワイヤボンデ
ィング工程におけるリードフレームの断面図、同図(e
)は樹脂封止工程におけるリードフレームの側面図、同
図(f)は外装めっき工程におけるリードフレームの側
面図、同図億)はリード7オーミングエ程におケル半導
体装置を示す斜視図、同図(転)は半導体装置が性能検
査されている状態を示す概略構成図である。これらの図
において1は半導体ウェハで、この半導体ウェハ1には
半導体チップ2が複数形成されている。3はダイシング
工程において前記半導体ウェハ1の裏面に貼着されるシ
ート、4はリードフレーム、5はこのリードフレーム4
上に前記半導体チップ2を接着する接着剤、6は半導体
チップ2とリードフレーム4の内部リード部4aとを接
続するための金属細線である。7は前記半導体チップ2
、金属細線6等を封止するためのプラスチックパッケー
ジ、8はリードフレームに施された外装めっき、9は半
導体装置用テスト装置たるコンピュータで、半導体装置
のリード4と接続される接触子9aを備えている。
ーチャート、第5図は従来の製造方法によって組立てら
れた半導体装置を示す斜視図、第6図は従来の製造方法
を説明するための図で、同図(al)は半導体ウェハを
示す平面図、同図伽)はダイシング工程における半導体
ウェハの拡大断面図、同図(C)はダイポンド工程にお
けるリードフレームの断面図、同図(ωはワイヤボンデ
ィング工程におけるリードフレームの断面図、同図(e
)は樹脂封止工程におけるリードフレームの側面図、同
図(f)は外装めっき工程におけるリードフレームの側
面図、同図億)はリード7オーミングエ程におケル半導
体装置を示す斜視図、同図(転)は半導体装置が性能検
査されている状態を示す概略構成図である。これらの図
において1は半導体ウェハで、この半導体ウェハ1には
半導体チップ2が複数形成されている。3はダイシング
工程において前記半導体ウェハ1の裏面に貼着されるシ
ート、4はリードフレーム、5はこのリードフレーム4
上に前記半導体チップ2を接着する接着剤、6は半導体
チップ2とリードフレーム4の内部リード部4aとを接
続するための金属細線である。7は前記半導体チップ2
、金属細線6等を封止するためのプラスチックパッケー
ジ、8はリードフレームに施された外装めっき、9は半
導体装置用テスト装置たるコンピュータで、半導体装置
のリード4と接続される接触子9aを備えている。
次に従来の半導体装置の製造方法を説明する。
先ず、第6図伽)に示すよりに半導体ウェハ1の裏面に
シート3を貼付け、半導体チップ2を個々に分断するた
めにダイシング装置(図示せず)によって半導体ウェハ
1に溝1a を形成させる。次に同図(C)に示すよう
にリードフレーム4上に接着剤5を介して半導体チップ
2を接着させる。この際、ダイボンド装置(図示せず)
Kよシ半導体チップ2とリードフレーム4との位置決め
、接着等が行なわれる。そして同図(d)に示すように
、ワイヤボンディング装置(図示せず)Kよシ半導体チ
ップ2の電極(図示せず)とリードフレーム4の内部リ
ード部4aとを金属細線6によって接続させ、パッケー
ジング装置(図示せず)により同図(e)に示すように
ワイヤボンディング後のリードフレーム4を樹脂によシ
封止する。この樹脂によシブラスチックパッケージTが
形成される。次いで同図(f) K示すようKめつき装
置(図示せず)により IJ−ドフレーム4の外部リー
ド部4b に外装めつき8を施し、同図Q)に示すよう
に1 リードフレーム4に複数形成された半導体装置を
グラスチックパッケージ7毎にリードフレーム4から分
断させ、外部リード部4b を成形させる。このように
して第5図に示すような半導体装置が組立てられること
になる。しかる後、組立ての終了した半導体装置を同図
へ)に示すようにテスト装置に接続させ、性能検査が実
施される。
シート3を貼付け、半導体チップ2を個々に分断するた
めにダイシング装置(図示せず)によって半導体ウェハ
1に溝1a を形成させる。次に同図(C)に示すよう
にリードフレーム4上に接着剤5を介して半導体チップ
2を接着させる。この際、ダイボンド装置(図示せず)
Kよシ半導体チップ2とリードフレーム4との位置決め
、接着等が行なわれる。そして同図(d)に示すように
、ワイヤボンディング装置(図示せず)Kよシ半導体チ
ップ2の電極(図示せず)とリードフレーム4の内部リ
ード部4aとを金属細線6によって接続させ、パッケー
ジング装置(図示せず)により同図(e)に示すように
ワイヤボンディング後のリードフレーム4を樹脂によシ
封止する。この樹脂によシブラスチックパッケージTが
形成される。次いで同図(f) K示すようKめつき装
置(図示せず)により IJ−ドフレーム4の外部リー
ド部4b に外装めつき8を施し、同図Q)に示すよう
に1 リードフレーム4に複数形成された半導体装置を
グラスチックパッケージ7毎にリードフレーム4から分
断させ、外部リード部4b を成形させる。このように
して第5図に示すような半導体装置が組立てられること
になる。しかる後、組立ての終了した半導体装置を同図
へ)に示すようにテスト装置に接続させ、性能検査が実
施される。
しかるに、このような従来の半導体装置の製造方法では
、各工程間の物流が複雑で、しかも各工程の装置の信頼
性および品質によシ半導体装置の性能が左右されるため
製造装置の台数が多ければ多いほど信頼性の高い半導体
装置が得K<<歩留シが低下されやすい。また、工程数
が多いため仕掛シ品が工程間に多く存在されておシ、さ
らに、ダイボンド工程以降は各製造工程順に順次製造し
なければならないため工期が長くかかるという問題があ
った。
、各工程間の物流が複雑で、しかも各工程の装置の信頼
性および品質によシ半導体装置の性能が左右されるため
製造装置の台数が多ければ多いほど信頼性の高い半導体
装置が得K<<歩留シが低下されやすい。また、工程数
が多いため仕掛シ品が工程間に多く存在されておシ、さ
らに、ダイボンド工程以降は各製造工程順に順次製造し
なければならないため工期が長くかかるという問題があ
った。
本発明に係る半導体装置の製造方法は、上部が開口され
た樹脂ケースを、内側底部に内部リード部を配置させて
リードフレームにモールド成形口、この樹脂ケースをリ
ードフレームから分断させて外部リード部を成形した後
、内部リード部と半導体チップとを接続させ、しかる後
前記樹脂ケースに半導体チップ封止用蓋体を接着するも
のである。
た樹脂ケースを、内側底部に内部リード部を配置させて
リードフレームにモールド成形口、この樹脂ケースをリ
ードフレームから分断させて外部リード部を成形した後
、内部リード部と半導体チップとを接続させ、しかる後
前記樹脂ケースに半導体チップ封止用蓋体を接着するも
のである。
半導体チップが製造されるまでに予め樹脂ケースおよび
蓋体を製造するととができ、リードも所定形状に成形さ
せておくととができるため工期が短縮される。
蓋体を製造するととができ、リードも所定形状に成形さ
せておくととができるため工期が短縮される。
以下、本発明を図に示す実施例によ)詳細に説明する。
第1図は本発明の半導体装置の製造方法を示すフローチ
ャート、第2図は本発明の製造方法を説明するための図
で同図(、)はダイシング工程における半導体ウェハの
拡大断面図、同図(b)はモールド工程におけるリード
フレームを示す側断面図、同図(c)は前記モールド工
程でケースと同時に形成された蓋体を示す側断面図、同
図((至)けり−ドフォーミング工程におけるケースを
示す側断面図、同図(e)は外装めっき工程におけるケ
ースを示す側断面図、同図(f)は半導体チップボンデ
ィング工程におけるケースの側断面図、同図営)は対土
工程に訃けるケースの側断面図、同図1h)は半導体装
置が性能検査されている状態を示す概略構成図、同図(
1)は本発明の製造方法によって組立てられた半導体装
置を示す斜視図である。これらの図において第4図ない
し第6図で説明したものと同一もしくは同等部材につい
ては同一符号を付し、とζにおいて詳細な説明は省略す
る。これらの図において、11はケースで、このケース
11は後述するモールド金型12によシリードフレーム
4と一体的に成形されている。また、このケース11に
は上方に開口されリードフレーム4の内部リード部4a
が底部に臨む開口部11aが形成されている。12はモ
ールド金型で、このモールド金型12は上金型12aと
下金型13bとからなシ、上金型123には内部リード
部4aの三方を囲みかつケース11の枠部11bを成形
するためのキャビティ12cが形成され、また下金型1
2bにはケース11の底部11cを成形するためのキャ
ビティ12dが形成されている。13は前記ケース11
の開口部11a を閉塞するための蓋体で、この蓋体1
3を、ケース11内に半導体チップ1が搭載された後接
着剤14によυケース11の枠部11bに接着すること
によって半導体チップ1等が封止されることになる。
ャート、第2図は本発明の製造方法を説明するための図
で同図(、)はダイシング工程における半導体ウェハの
拡大断面図、同図(b)はモールド工程におけるリード
フレームを示す側断面図、同図(c)は前記モールド工
程でケースと同時に形成された蓋体を示す側断面図、同
図((至)けり−ドフォーミング工程におけるケースを
示す側断面図、同図(e)は外装めっき工程におけるケ
ースを示す側断面図、同図(f)は半導体チップボンデ
ィング工程におけるケースの側断面図、同図営)は対土
工程に訃けるケースの側断面図、同図1h)は半導体装
置が性能検査されている状態を示す概略構成図、同図(
1)は本発明の製造方法によって組立てられた半導体装
置を示す斜視図である。これらの図において第4図ない
し第6図で説明したものと同一もしくは同等部材につい
ては同一符号を付し、とζにおいて詳細な説明は省略す
る。これらの図において、11はケースで、このケース
11は後述するモールド金型12によシリードフレーム
4と一体的に成形されている。また、このケース11に
は上方に開口されリードフレーム4の内部リード部4a
が底部に臨む開口部11aが形成されている。12はモ
ールド金型で、このモールド金型12は上金型12aと
下金型13bとからなシ、上金型123には内部リード
部4aの三方を囲みかつケース11の枠部11bを成形
するためのキャビティ12cが形成され、また下金型1
2bにはケース11の底部11cを成形するためのキャ
ビティ12dが形成されている。13は前記ケース11
の開口部11a を閉塞するための蓋体で、この蓋体1
3を、ケース11内に半導体チップ1が搭載された後接
着剤14によυケース11の枠部11bに接着すること
によって半導体チップ1等が封止されることになる。
次に本発明の半導体装置の製造方法について説明する。
本発明においては第1図に示すように半導体チップの製
造工程とケースの製造工程とが同時に行なわれる。すな
わち、半導体ワエハ1をダイシング装置によって第2図
(1)に示すように1個別の半導体チップ2毎に分断さ
れる状態に形成し、別工程で組立てられたケース11の
開口部11i内に圧着接合によるチップボンディングを
施す。そして、ごのケース11に蓋体13を接着すれば
半導体装置が完成されることになる。しかる後、テスト
工程を経て製品化される。このケース11の製造方法を
第2図によって詳述すると、先ず同図(b)に示すよう
にリードフレーム4をモールド金型12内に型締めし、
キャビティ12C、12d内に封止樹脂15を注入する
。このリードフレーム4は半導体チップ搭載部分が10
〜14個所一体的に形成されたものや7一プ式のものを
使用し、連続してリード成形まで行なえるものを使用す
る。しかる後封止樹脂15が硬化され、リードフレーム
4を離型させた後、リードフレーム4の外部リード部4
bを成形し、同図(ωに示すようにリードフレーム4か
らケース11を外部リード部4b ごと分断させる。
造工程とケースの製造工程とが同時に行なわれる。すな
わち、半導体ワエハ1をダイシング装置によって第2図
(1)に示すように1個別の半導体チップ2毎に分断さ
れる状態に形成し、別工程で組立てられたケース11の
開口部11i内に圧着接合によるチップボンディングを
施す。そして、ごのケース11に蓋体13を接着すれば
半導体装置が完成されることになる。しかる後、テスト
工程を経て製品化される。このケース11の製造方法を
第2図によって詳述すると、先ず同図(b)に示すよう
にリードフレーム4をモールド金型12内に型締めし、
キャビティ12C、12d内に封止樹脂15を注入する
。このリードフレーム4は半導体チップ搭載部分が10
〜14個所一体的に形成されたものや7一プ式のものを
使用し、連続してリード成形まで行なえるものを使用す
る。しかる後封止樹脂15が硬化され、リードフレーム
4を離型させた後、リードフレーム4の外部リード部4
bを成形し、同図(ωに示すようにリードフレーム4か
らケース11を外部リード部4b ごと分断させる。
なお、ケース11のモールド工程においてはケース11
と蓋体13とを成形するケース・蓋モールディング装置
(図示せず)が使用され、外部リード部4b成形工程に
おいてはケースフォーミング装置(図示せず)が使用さ
れる。最後に、外部リード部4b Kめつき装置(図示
せず)によって同図(e)に示すよう外装めつき8を施
すことによってケース11の組立てが終了する。
と蓋体13とを成形するケース・蓋モールディング装置
(図示せず)が使用され、外部リード部4b成形工程に
おいてはケースフォーミング装置(図示せず)が使用さ
れる。最後に、外部リード部4b Kめつき装置(図示
せず)によって同図(e)に示すよう外装めつき8を施
すことによってケース11の組立てが終了する。
このようにして組立てられたケース11の開口部Ha内
に第2図(f)K示すように、チップボンディング装置
(図示せず)によシ圧着接合によるチップボンディング
を行なう。そして、前記蓋体13をケース11に蓋付は
装置(図示せず)Kよって接着させ、同図色)に示すよ
うに性能検査を行々つた後、同図(1)に示すように半
導体装置が完成されることに々る。
に第2図(f)K示すように、チップボンディング装置
(図示せず)によシ圧着接合によるチップボンディング
を行なう。そして、前記蓋体13をケース11に蓋付は
装置(図示せず)Kよって接着させ、同図色)に示すよ
うに性能検査を行々つた後、同図(1)に示すように半
導体装置が完成されることに々る。
したがって、本発明によれば半導体チップ2が製造され
るまでに予めケース11および蓋体13を製造すること
ができ、半導体デツプ2が製造された後はチップボンデ
ィング、蓋体接着工程を残すのみであるため、工期を短
縮することができる。
るまでに予めケース11および蓋体13を製造すること
ができ、半導体デツプ2が製造された後はチップボンデ
ィング、蓋体接着工程を残すのみであるため、工期を短
縮することができる。
第3図は本発明の製造方法によって組立てられる半導体
装置の他の実施例を示す側断面図で、同図において第2
図で説明したものと同一もしくは同等部材については同
一符号を付し、詳細な説明は省略する。同図に示す半導
体装置においては内部リード部4aに半導体チップ2側
に突出する突起21が形成され、との突起21と半導体
チップ2のパッド22とが接合されている。23はこの
パッド22と前記突起21とが離間されないよう半導体
チップ2を押付ける九めの圧縮ばねで、蓋体13を接着
する際に同時に弾装されている。
装置の他の実施例を示す側断面図で、同図において第2
図で説明したものと同一もしくは同等部材については同
一符号を付し、詳細な説明は省略する。同図に示す半導
体装置においては内部リード部4aに半導体チップ2側
に突出する突起21が形成され、との突起21と半導体
チップ2のパッド22とが接合されている。23はこの
パッド22と前記突起21とが離間されないよう半導体
チップ2を押付ける九めの圧縮ばねで、蓋体13を接着
する際に同時に弾装されている。
々お、本実施例では半導体チップ2を内部y−ド部4a
K直接ボンディングさせた例を示したが、本発明はこ
のような限定にとられれることなく、従来と同様に金属
細線を使用してワイヤボンディングしてもよい。
K直接ボンディングさせた例を示したが、本発明はこ
のような限定にとられれることなく、従来と同様に金属
細線を使用してワイヤボンディングしてもよい。
以上説明したように本発明によれば、上部が開口された
樹脂ケースを、内側底部に内部リード部を配置させてリ
ードフレームにモールド成形し、この樹脂ケースをリー
ドフレームから分断させて外部リード部を成形した後、
内部リード部と半導体チップとを接続させ、しかる後前
記樹脂ケースに半導体チップ封止用蓋体を接着するため
、半導体チップが製造されるまでに予め樹脂ケースおよ
び蓋体を製造することができ、リードも所定形状に成形
させておくことができる九め工期が短縮されることにな
る。したがって、半導体装置の信頼性および歩留りを向
上させることができる。
樹脂ケースを、内側底部に内部リード部を配置させてリ
ードフレームにモールド成形し、この樹脂ケースをリー
ドフレームから分断させて外部リード部を成形した後、
内部リード部と半導体チップとを接続させ、しかる後前
記樹脂ケースに半導体チップ封止用蓋体を接着するため
、半導体チップが製造されるまでに予め樹脂ケースおよ
び蓋体を製造することができ、リードも所定形状に成形
させておくことができる九め工期が短縮されることにな
る。したがって、半導体装置の信頼性および歩留りを向
上させることができる。
また、封止樹脂が半導体チップに沿って流されずに半導
体チップの封止を行々うととができるため信頼性が向上
し検査工程を簡略化させることができるという効果もあ
る。
体チップの封止を行々うととができるため信頼性が向上
し検査工程を簡略化させることができるという効果もあ
る。
第1図は本発明の半導体装置の製造方法を示すフローチ
ャート、第2図は本発明の製造方法を説明するための図
で、同図(a)はダイシング工程における半導体ウェハ
の拡大断面図、同図色)拡モールド工程におけるリード
フレームを示す側断面図、同図(c)は前記モールド工
程でケースと同時に形成された蓋体を示す側断面図、同
図(イ)はリードフレーミングエSKおけるケースを示
す側断面図、同図(、e)は外装めっき工程におけるケ
ースを示す側断面図、同図(f)は半導体チップボンデ
ィング工程におけるケースの側断面図、同図□□□)は
封止工程におけるケースの側断面図、同図(h)は半導
体装置が性能検査されている状態を示す概略構成図、同
図(1)は本発明の製造方法によって組立てられた半導
体装置を示す斜視図である。第3図は本発明の製造方法
によって組立てられる半導体装置の他の実施例を示す側
断面図、第4図は従来の半導体装置の製造方法を示すフ
ローチャート、第5図は従来の製造方法によって組立て
られた半導体装置を示す斜視図、第6図は従来の製造方
法を説明するための図で、同図(a)は半導体ウェハを
示す平面図、同図(b)はダイシング工程における半導
体ウェハの拡大断面図、同図(c)はグイボンド工程に
おけるリードフレームの断面図、同図(ωはワイヤボン
ディング工程におけるリードフレームの断面図、同図(
e)は樹脂対土工程におけるリードフレームの側面図、
同図(f)は外装めっき工程におけるリードフレームの
側面図、同図Q)はリードフォーミング工程における半
導体装置を示す斜視図、同図卸は半導体装置が性能検査
されている状態を示す概略構成図である。 2拳・・ψ半導体チップ、4・・・・リードフレーA、
4@ ・・・・内部リード部、4b ・・−・外部リ
ード部、11・・・・ケース、11aφφ・開口部、1
2mm6%モールド金型、13・・・争蓋体。 第1図
ャート、第2図は本発明の製造方法を説明するための図
で、同図(a)はダイシング工程における半導体ウェハ
の拡大断面図、同図色)拡モールド工程におけるリード
フレームを示す側断面図、同図(c)は前記モールド工
程でケースと同時に形成された蓋体を示す側断面図、同
図(イ)はリードフレーミングエSKおけるケースを示
す側断面図、同図(、e)は外装めっき工程におけるケ
ースを示す側断面図、同図(f)は半導体チップボンデ
ィング工程におけるケースの側断面図、同図□□□)は
封止工程におけるケースの側断面図、同図(h)は半導
体装置が性能検査されている状態を示す概略構成図、同
図(1)は本発明の製造方法によって組立てられた半導
体装置を示す斜視図である。第3図は本発明の製造方法
によって組立てられる半導体装置の他の実施例を示す側
断面図、第4図は従来の半導体装置の製造方法を示すフ
ローチャート、第5図は従来の製造方法によって組立て
られた半導体装置を示す斜視図、第6図は従来の製造方
法を説明するための図で、同図(a)は半導体ウェハを
示す平面図、同図(b)はダイシング工程における半導
体ウェハの拡大断面図、同図(c)はグイボンド工程に
おけるリードフレームの断面図、同図(ωはワイヤボン
ディング工程におけるリードフレームの断面図、同図(
e)は樹脂対土工程におけるリードフレームの側面図、
同図(f)は外装めっき工程におけるリードフレームの
側面図、同図Q)はリードフォーミング工程における半
導体装置を示す斜視図、同図卸は半導体装置が性能検査
されている状態を示す概略構成図である。 2拳・・ψ半導体チップ、4・・・・リードフレーA、
4@ ・・・・内部リード部、4b ・・−・外部リ
ード部、11・・・・ケース、11aφφ・開口部、1
2mm6%モールド金型、13・・・争蓋体。 第1図
Claims (1)
- 上部が開口された樹脂ケースを、内側底部に内部リード
部を配置させてリードフレームにモールド成形し、この
樹脂ケースをリードフレームから分断させて外部リード
部を成形した後、内部リード部と半導体チップとを接続
させ、しかる後前記樹脂ケースに半導体チップ封止用蓋
体を接着することを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (2)
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|---|---|---|---|
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| JP63175526A JPH0225057A (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | 半導体装置の製造方法 |
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