JPH0225593A - 均一なクロム酸化膜を有するティンフリー鋼板の製造方法 - Google Patents
均一なクロム酸化膜を有するティンフリー鋼板の製造方法Info
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- JPH0225593A JPH0225593A JP17547988A JP17547988A JPH0225593A JP H0225593 A JPH0225593 A JP H0225593A JP 17547988 A JP17547988 A JP 17547988A JP 17547988 A JP17547988 A JP 17547988A JP H0225593 A JPH0225593 A JP H0225593A
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- chromium
- steel sheet
- treatment
- oxidative film
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
くａ業上の利用分野〉
本発明は、鋼板表面にクロム酸化膜を形成させる方法に
関し、均一なクロム酸化膜を有するティンフリー鋼板の
製造方法に関する。
関し、均一なクロム酸化膜を有するティンフリー鋼板の
製造方法に関する。
〈従来の技術〉
電解クロメート処理鋼板は、ティンフリースチールクロ
ムタイプ（以下ＴＦＳという）と称され、ぶりきに代る
缶用材料としての特性が認められ、近年、その使用量が
増大している。
ムタイプ（以下ＴＦＳという）と称され、ぶりきに代る
缶用材料としての特性が認められ、近年、その使用量が
増大している。
最近ではＴＦＳが以前から使用されている炭酸飲料やビ
ールなど、内容物の充填が低温状態でなされるコールド
パック用のみならず、果汁およびコーヒなどのように、
内容物を高温殺菌して充填するホットバック用またはバ
ック後、高温で殺菌処理を行うレトルトパック用にまで
使用されるようになった。
ールなど、内容物の充填が低温状態でなされるコールド
パック用のみならず、果汁およびコーヒなどのように、
内容物を高温殺菌して充填するホットバック用またはバ
ック後、高温で殺菌処理を行うレトルトパック用にまで
使用されるようになった。
ＴＦＳは表面に金属クロムとクロム酸化膜を有するため
、十分な溶接性能を持たず、その製缶にあたっては、缶
胴はエポキシフェノール系樹脂を塗装後、ポリアミド系
接着剤で接合されている。 そのため、特にホットバッ
ク用、レトルトバック用のＴＦＳ缶では、缶胴が破れる
という問題が生じる場合がある。
、十分な溶接性能を持たず、その製缶にあたっては、缶
胴はエポキシフェノール系樹脂を塗装後、ポリアミド系
接着剤で接合されている。 そのため、特にホットバッ
ク用、レトルトバック用のＴＦＳ缶では、缶胴が破れる
という問題が生じる場合がある。
この缶胴の破れは、ＴＦＳ表面のクロム酸化膜が不均一
なために、塗膜とＴＦＳとの界面の密着が一部劣化して
、剥離することが、その原因のひとつとして考えられて
いる。
なために、塗膜とＴＦＳとの界面の密着が一部劣化して
、剥離することが、その原因のひとつとして考えられて
いる。
このクロム酸化膜を均一にする手法は、種々考えられて
いる。
いる。
特開昭５５−２８３１３号にて開示されている、ライン
速度の変動に伴うクロム酸化膜のマクロ的不均一化を解
決するための電流バランスについての発明では、クロム
酸化膜のミクロ的不均一化には不十分であった。
速度の変動に伴うクロム酸化膜のマクロ的不均一化を解
決するための電流バランスについての発明では、クロム
酸化膜のミクロ的不均一化には不十分であった。
〈発明が解決しようとする課題〉
ＴＦＳは鋼素地上に金属クロム層、その上層にクロム酸
化膜層を有する。 前述したように、このクロム酸化膜
の厚みは不均一であり、いわゆる厚みムラを形成しやす
い。 この厚みムラがレトルト処理によるＴＦＳ接着界
面の剥離の要因のひとつとして考えられている。
化膜層を有する。 前述したように、このクロム酸化膜
の厚みは不均一であり、いわゆる厚みムラを形成しやす
い。 この厚みムラがレトルト処理によるＴＦＳ接着界
面の剥離の要因のひとつとして考えられている。
そこで、本発明は、ＴＦＳ表面のクロム酸化膜のミクロ
的均一性を向上させることを目的とし、厚みムラを軽減
させる方法について提供するものである。
的均一性を向上させることを目的とし、厚みムラを軽減
させる方法について提供するものである。
く課題を解決するための手段〉
クロム酸化膜の厚みムラを軽減させ、均一なクロム酸化
膜を得るために、従来から行われているＴＦＳ製造方法
を用い、クロム酸化膜形成のための電解クロム酸処理時
に低電流処理と主電解とに分けて行うことが有効である
ことを見出し、本発明に至った。
膜を得るために、従来から行われているＴＦＳ製造方法
を用い、クロム酸化膜形成のための電解クロム酸処理時
に低電流処理と主電解とに分けて行うことが有効である
ことを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明は、鋼板表面にクロムめつき層と、ク
ロム酸化膜層とを有するティンフリー鋼板を製造するに
際し、前記クロム酸化膜層の形成のための陰極処理を初
期低電流処理および主電解にわけて行うことを特徴とす
る均一なクロム酸化膜を有するティンフリー鋼板の製造
方法を提供する。
ロム酸化膜層とを有するティンフリー鋼板を製造するに
際し、前記クロム酸化膜層の形成のための陰極処理を初
期低電流処理および主電解にわけて行うことを特徴とす
る均一なクロム酸化膜を有するティンフリー鋼板の製造
方法を提供する。
この際、前記、初期低電流処理の電流密度が０．１〜２
０ Ａ ／ ｄ ｍ ”の範囲で行うのが好ましい。
０ Ａ ／ ｄ ｍ ”の範囲で行うのが好ましい。
以下、本発明について、詳細に説明する。
本発明は、クロムを含有する水溶液中で、薄鋼板に陰極
処理を行い、金属クロムを主体とする電気めりきを行っ
た後、クロムを含有する水溶液中で電解クロム酸処理を
行うとき、低電流処理、次いで主電解処理を行うことに
よって、均一なクロム酸化膜を作成することができる。
処理を行い、金属クロムを主体とする電気めりきを行っ
た後、クロムを含有する水溶液中で電解クロム酸処理を
行うとき、低電流処理、次いで主電解処理を行うことに
よって、均一なクロム酸化膜を作成することができる。
本発明で、鋼板は特に制限されず、通常のぶつき、ティ
ンフリースチール用原板等が使用される。
ンフリースチール用原板等が使用される。
本発明において鋼板上に金属クロム層を施す方法は任意
であり、公知の電気めっき法、例えば無水クロム酸を主
成分として５０４’−Ｆ−を通量添加した水溶液中で陰
極電解する方法等を用いれば良い。
であり、公知の電気めっき法、例えば無水クロム酸を主
成分として５０４’−Ｆ−を通量添加した水溶液中で陰
極電解する方法等を用いれば良い。
また、金属クロム層は、薄鋼板に５０〜２００ｍｇ／ｍ
２めフきすればよい。 金属クロム層は、５０ ｍ ｇ
／ ｍ ”未満では耐食性が劣り、２００ ｍ ｇ
／ ｍ ’を越えても耐食性の向上は望めない。 そこ
で、通常のＴＦＳは５０〜２００ ｍ ｇ ／ ｍ ２
の金属クロムを有している。
２めフきすればよい。 金属クロム層は、５０ ｍ ｇ
／ ｍ ”未満では耐食性が劣り、２００ ｍ ｇ
／ ｍ ’を越えても耐食性の向上は望めない。 そこ
で、通常のＴＦＳは５０〜２００ ｍ ｇ ／ ｍ ２
の金属クロムを有している。
電解クロム酸処理は、始めに低電流処理を、次に主電解
処理を行う。
処理を行う。
電解クロム酸処理法は、公知の浴組成、例えば酸化クロ
ムが１０〜１００ ｇ／ｆＬ程度の低濃度クロム酸浴で
、Ｆ−ＳｉＦｇ’−等を適ｉ添加した水溶液を用い、浴
温は３０〜５０℃で電解処理を行えばよい。
ムが１０〜１００ ｇ／ｆＬ程度の低濃度クロム酸浴で
、Ｆ−ＳｉＦｇ’−等を適ｉ添加した水溶液を用い、浴
温は３０〜５０℃で電解処理を行えばよい。
前記クロム層の上層にクロム酸化膜は５〜３０ ｍ ｇ
／ ｍ ”形成させればよい。 クロム酸化膜が５
ｍ ｇ ／ ｍ ２未満では、所望の塗料密着性が得ら
れず、また３０ｍｇ／ｍ”を越えると外観が悪くなり、
あまり好ましくない。
／ ｍ ”形成させればよい。 クロム酸化膜が５
ｍ ｇ ／ ｍ ２未満では、所望の塗料密着性が得ら
れず、また３０ｍｇ／ｍ”を越えると外観が悪くなり、
あまり好ましくない。
このクロム酸化膜を確保する際、ライン速度に応じた電
流を通電する。 本発明に於いて、初期通電では、低電
流密度０．１〜２０Ａ ／ ｄ ｍ ”が適している。
流を通電する。 本発明に於いて、初期通電では、低電
流密度０．１〜２０Ａ ／ ｄ ｍ ”が適している。
この低電流は、酸化膜の均一化には不可欠であるが、
０．ＩＡ ／ ｄ ｍ ’未満、２０ Ａ ／ ｄ ｍ
”超ではその効果は乏しい。
０．ＩＡ ／ ｄ ｍ ’未満、２０ Ａ ／ ｄ ｍ
”超ではその効果は乏しい。
次に、主電解処、理を行う、 主電解処理は、公知の方
法で行えばよく、前記クロム酸化膜の低電流処理によっ
て形成された膜厚量と所望するクロム酸化膜量の差に応
じて通常の電解を行えばよい。
法で行えばよく、前記クロム酸化膜の低電流処理によっ
て形成された膜厚量と所望するクロム酸化膜量の差に応
じて通常の電解を行えばよい。
尚、より一層の耐レトルト処理性を保持させるためには
、上記金属クロムを主体とする電気めっきの後で、引き
続きその溶液中で逆電解処理（陽極処理）を施すことが
望ましい。
、上記金属クロムを主体とする電気めっきの後で、引き
続きその溶液中で逆電解処理（陽極処理）を施すことが
望ましい。
〈実施例〉
以下、実施例に基づいて、本発明を具体的に説明する。
（実施例１〜４および比較例！、２）
板厚０．２２ｍｍＸ巾９００ｍｍの冷延鋼板（Ｔ４−Ｃ
Ａ）に、前処理として、５％Ｎ ａＯＨ溶液で７０℃、
８ Ａ ／ ｄ ｍ ２の陰極処理を行い、水洗後３％
のＨ２ＳＯ４浸漬ｆｉ埋を施し、水洗した後、該鋼板に
対して、下記の処理をラインスピード２５０ ｍｐｍ相
当で施した。
Ａ）に、前処理として、５％Ｎ ａＯＨ溶液で７０℃、
８ Ａ ／ ｄ ｍ ２の陰極処理を行い、水洗後３％
のＨ２ＳＯ４浸漬ｆｉ埋を施し、水洗した後、該鋼板に
対して、下記の処理をラインスピード２５０ ｍｐｍ相
当で施した。
（１）クロムめっき処理
浴組成
Ｃｒ Ｏｓ １ ８ ０ ｇ ／
Ｊ！）ｉ、 ５０４ ０． ７５ｇ／ｌＮａ２Ｓ
ｉＦ６ ８ ｇ ／ １１浴
温 ５０℃ 電解処理 電流密度 ８０ Ａ ／ ｄ ｍ ’ （２）逆電解処理 鋼板を陽極として、 電流密度 ３．５Ａ／ｄｍ” （３）電解クロム酸処理 浴組成 Ｃｒ Ｏｓ ６０ ｇ ／ １１
ＮａｚＳｉＦａ ０ 、 １５ ｇ ／ １浴
温 ４０℃電解処
理 初期電流密度 ０．ＩＡ／ｄｍ’〜 ２０Ａ／ｄｍ’ 主Ｔｉ、流密度 約２５ Ａ ／ ｄ ｍ ２
ここで、電解クロム酸処理の１バスは浸漬、２バスめは
低電流処理、３バス、４バスにて主電解処理を行った。
Ｊ！）ｉ、 ５０４ ０． ７５ｇ／ｌＮａ２Ｓ
ｉＦ６ ８ ｇ ／ １１浴
温 ５０℃ 電解処理 電流密度 ８０ Ａ ／ ｄ ｍ ’ （２）逆電解処理 鋼板を陽極として、 電流密度 ３．５Ａ／ｄｍ” （３）電解クロム酸処理 浴組成 Ｃｒ Ｏｓ ６０ ｇ ／ １１
ＮａｚＳｉＦａ ０ 、 １５ ｇ ／ １浴
温 ４０℃電解処
理 初期電流密度 ０．ＩＡ／ｄｍ’〜 ２０Ａ／ｄｍ’ 主Ｔｉ、流密度 約２５ Ａ ／ ｄ ｍ ２
ここで、電解クロム酸処理の１バスは浸漬、２バスめは
低電流処理、３バス、４バスにて主電解処理を行った。
上記（１）〜（３）の工程を経たＴＦＳにおいて、初期
電流密度を種々変えたもののクロム酸化膜厚みムラを光
学顕＠鏡で観察し、その評点を第１表に示す。
電流密度を種々変えたもののクロム酸化膜厚みムラを光
学顕＠鏡で観察し、その評点を第１表に示す。
また、各々についての実缶試験による２次密着性評価に
ついても付記する。
ついても付記する。
′ｓ１
表
第１表より明らか−なように、初期低電流処理実施例１
〜４については、クロム酸化膜の厚みムラがほとんど認
められず、均一なクロム酸化膜を有するＴＦＳが得られ
た。 また、２次密着性についても向上した。
〜４については、クロム酸化膜の厚みムラがほとんど認
められず、均一なクロム酸化膜を有するＴＦＳが得られ
た。 また、２次密着性についても向上した。
〈発明の効果〉
本発明によれば、クロム酸化膜の厚みムラを激減し、均
一なクロム酸化膜を有しかつ２次密着性に優れたＴＦＳ
を製造することができる。
一なクロム酸化膜を有しかつ２次密着性に優れたＴＦＳ
を製造することができる。
同
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）鋼板表面にクロムめっき層と、クロム酸化膜層と
を有するティンフリー鋼板を製造するに際し、前記クロ
ム酸化膜層の形成のための陰極処理を初期低電流処理お
よび主電解にわけて行うことを特徴とする均一なクロム
酸化膜を有するティンフリー鋼板の製造方法。 （２）前記、初期低電流処理の電流密度が ０．１〜２０Ａ／ｄｍ＾２の範囲で行う、請求項１記載
の均一なクロム酸化膜を有するティンフリー鋼板の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17547988A JPH0225593A (ja) | 1988-07-14 | 1988-07-14 | 均一なクロム酸化膜を有するティンフリー鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17547988A JPH0225593A (ja) | 1988-07-14 | 1988-07-14 | 均一なクロム酸化膜を有するティンフリー鋼板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0225593A true JPH0225593A (ja) | 1990-01-29 |
Family
ID=15996764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17547988A Pending JPH0225593A (ja) | 1988-07-14 | 1988-07-14 | 均一なクロム酸化膜を有するティンフリー鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0225593A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7563659B1 (ja) * | 2023-06-12 | 2024-10-08 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 缶用鋼板 |
| JP7563660B1 (ja) * | 2023-06-12 | 2024-10-08 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 缶用鋼板 |
| WO2024257413A1 (ja) * | 2023-06-12 | 2024-12-19 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 缶用鋼板 |
| WO2024257414A1 (ja) * | 2023-06-12 | 2024-12-19 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 缶用鋼板 |
-
1988
- 1988-07-14 JP JP17547988A patent/JPH0225593A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7563659B1 (ja) * | 2023-06-12 | 2024-10-08 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 缶用鋼板 |
| JP7563660B1 (ja) * | 2023-06-12 | 2024-10-08 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 缶用鋼板 |
| WO2024257413A1 (ja) * | 2023-06-12 | 2024-12-19 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 缶用鋼板 |
| WO2024257414A1 (ja) * | 2023-06-12 | 2024-12-19 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 缶用鋼板 |
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