JPH02262646A - 可視レーザ用感光材料 - Google Patents
可視レーザ用感光材料Info
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- JPH02262646A JPH02262646A JP8429289A JP8429289A JPH02262646A JP H02262646 A JPH02262646 A JP H02262646A JP 8429289 A JP8429289 A JP 8429289A JP 8429289 A JP8429289 A JP 8429289A JP H02262646 A JPH02262646 A JP H02262646A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔目次〕
概要
産業上の利用分野
従来の技術
発明が解決しようとする課題
課題を解決するための手段
作用
実施例
発明の効果
〔概要〕
可視レーザ用感光材料に関し、
可視光に高感度をもつ感光材料を提供することを目的と
し、 下記(1)または(2)の一般式で表されるポリマと、
下記(3)または(4)の一般式で表される酸発生剤と
、下記(5)〜(9)の一般弐で表される増感剤との組
み合わせで可視レーザ用感光材料を構成する。
し、 下記(1)または(2)の一般式で表されるポリマと、
下記(3)または(4)の一般式で表される酸発生剤と
、下記(5)〜(9)の一般弐で表される増感剤との組
み合わせで可視レーザ用感光材料を構成する。
但し
R,、R2,R3は水素原子、アルキル基、アルケニル
基またはフェニル基、 R4はアルキレン基、 但し、 Aは縮合芳香族環、 X−はBF、−(六弗化硼素イオン)+ PF6− (
六弗化燐イオン) + AsF〆(六弗化砒素イオン)
、5bFb−(六弗化アンチモンイオン)、 LJ Ha−3I Rz こ\で、(5)〜(力はキサンチン系色素で(8)およ
び(9)はメロシアニン系色素である。
基またはフェニル基、 R4はアルキレン基、 但し、 Aは縮合芳香族環、 X−はBF、−(六弗化硼素イオン)+ PF6− (
六弗化燐イオン) + AsF〆(六弗化砒素イオン)
、5bFb−(六弗化アンチモンイオン)、 LJ Ha−3I Rz こ\で、(5)〜(力はキサンチン系色素で(8)およ
び(9)はメロシアニン系色素である。
なお、
R1は水素原子、アルキル基、フェニル基、カルボン酸
、カルボン酸塩、カルボン酸エステル、水酸基または酸
化塩、 R6は水素原子またはハロゲン原子、 R1は水素原子、アルキル基、フェニル基、カルボン酸
、カルボン酸塩、カルボン酸エステル、水酸基、酸化塩
またはハロゲン原子である。
、カルボン酸塩、カルボン酸エステル、水酸基または酸
化塩、 R6は水素原子またはハロゲン原子、 R1は水素原子、アルキル基、フェニル基、カルボン酸
、カルボン酸塩、カルボン酸エステル、水酸基、酸化塩
またはハロゲン原子である。
本発明は可視レーザ用感光材料に関する。
可視レーザはレーザ光を目視できるため、使い易い。
ニーで、可視レーザ記録用感光材料の必要条件は、
■ 高感度であること、
■ 高解像度をもつこと、
■ 保存安定性が優れていること、
であり、また作業性を良くし、経済性を向上するために
アルカリ現像が可能なことが望ましい。
アルカリ現像が可能なことが望ましい。
また、使用するレーザとしては安定して高い出力を得る
ことができると共にコヒーレント長に優れていることが
必要で、アルゴン(Ar)イオンレーザはこの目的に適
している。
ことができると共にコヒーレント長に優れていることが
必要で、アルゴン(Ar)イオンレーザはこの目的に適
している。
可視レーザ用感光材料は可視光に対して充分な感度をも
つことが必要であるが、単一のポリマーだけでは可視光
に対して感度をもっていない。
つことが必要であるが、単一のポリマーだけでは可視光
に対して感度をもっていない。
そこで、感度を増大させるために光重合開始剤を加える
ことが行われている。
ことが行われている。
この光重合開始剤としてはラジカル発生剤であるベンゾ
インおよびその誘導体や置換または非置換の多核牛ノン
類など多くの物質が既に知られている。
インおよびその誘導体や置換または非置換の多核牛ノン
類など多くの物質が既に知られている。
然し、可視光において充分な感度や解像性を示す光重合
開始剤は知られていない。
開始剤は知られていない。
この主な理由はラジカルを発生させて重合する重合系は
酸素の重合阻止作用を受は易いからである。
酸素の重合阻止作用を受は易いからである。
特に、レーザを短時間露光するような場合には酸素の重
合阻止作用が効いて光感度が著しく低下してしまう。
合阻止作用が効いて光感度が著しく低下してしまう。
そこで、感光材料の構成剤として酸素と反応して取り込
む薬品を加えて酸素を遮断するなどの対策が工夫されて
いる。(例えば特開昭60−11840号公報) 一方、酸発生剤を用いるイオン重合系では酸素の影響は
受けないもの−1多くの酸発生剤は紫外線を吸収して酸
を発生させるものであり、可視光線を吸収して酸を発生
する化合物でも光分解によりイオンやガスを発生するた
め、気泡やピンホールの発生を伴い、品質が低下すると
云う問題がある。
む薬品を加えて酸素を遮断するなどの対策が工夫されて
いる。(例えば特開昭60−11840号公報) 一方、酸発生剤を用いるイオン重合系では酸素の影響は
受けないもの−1多くの酸発生剤は紫外線を吸収して酸
を発生させるものであり、可視光線を吸収して酸を発生
する化合物でも光分解によりイオンやガスを発生するた
め、気泡やピンホールの発生を伴い、品質が低下すると
云う問題がある。
なお、色素類との併用によって長波長増感性を付与でき
ることが知られている。
ることが知られている。
〔発明が解決しようとする課B]
可視レーザに高感度であり、解像性に優れると共に保存
安定性がよく、且つアルカリ現像が可能な感光材料を実
用化することが課題である。
安定性がよく、且つアルカリ現像が可能な感光材料を実
用化することが課題である。
但し
R+、Rz、R:+は水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基またはフェニル基、 R4はアルキレン基、 [課題を解決するための手段] 上記の課題は下記(1)または(2)の一般式で表され
るポリマと、下記(3)または(4)の一般式で表され
る酸発生剤と、下記(5)〜(9)の一般式で表される
増感剤との組み合わせで可視レーザ用感光材料を構成す
ることにより解決することができる。
ル基またはフェニル基、 R4はアルキレン基、 [課題を解決するための手段] 上記の課題は下記(1)または(2)の一般式で表され
るポリマと、下記(3)または(4)の一般式で表され
る酸発生剤と、下記(5)〜(9)の一般式で表される
増感剤との組み合わせで可視レーザ用感光材料を構成す
ることにより解決することができる。
A、I” ・X−
・・・ (3)
Aff S” ・X−・・・ (4)
但し、
Aは縮合芳香族環、
X−はBF4− (六弗化硼素イオン)、 PF6−
(六弗化燐イオン)、ASF&−(六弗化砒素イオン)
、SbF、−(六弗化アンチモンイオン)、 LJ R4S+l FCz 二\で、(5)〜(7)はキサンチン系色素で(8)お
よび(9)はメロシアニン系色素である。
(六弗化燐イオン)、ASF&−(六弗化砒素イオン)
、SbF、−(六弗化アンチモンイオン)、 LJ R4S+l FCz 二\で、(5)〜(7)はキサンチン系色素で(8)お
よび(9)はメロシアニン系色素である。
なお、
R3は水素原子、アルキル基、フェニル基、カルボン酸
、カルボン酸塩、カルボン酸エステル、水酸基または酸
化塩、 R2は水素原子またはハロゲン原子、 R1は水素原子、アルキル基、フェニル基、カルボン酸
、カルボン酸塩、カルボン酸エステル、水酸基、酸化塩
またはハロゲン原子である。
、カルボン酸塩、カルボン酸エステル、水酸基または酸
化塩、 R2は水素原子またはハロゲン原子、 R1は水素原子、アルキル基、フェニル基、カルボン酸
、カルボン酸塩、カルボン酸エステル、水酸基、酸化塩
またはハロゲン原子である。
本発明は一般式(1)で表されるアルキレントリオルガ
ノシロキシスチレンまたは一般式(2)で表されるアル
キレントリオルガノアルコキシスチレンなどのポリマと
、一般式(3)で表されるヨードニウム塩や一般式(4
)で表されるスルホニウム塩などの酸発生剤と、−a式
(5)〜(7)で表されるキサンチン系色素または一般
式(8)と(9)で表されるメロシアニン系色素などの
増感剤の何れか一つずつの組み合わせからなる感光材料
を用いるものである。
ノシロキシスチレンまたは一般式(2)で表されるアル
キレントリオルガノアルコキシスチレンなどのポリマと
、一般式(3)で表されるヨードニウム塩や一般式(4
)で表されるスルホニウム塩などの酸発生剤と、−a式
(5)〜(7)で表されるキサンチン系色素または一般
式(8)と(9)で表されるメロシアニン系色素などの
増感剤の何れか一つずつの組み合わせからなる感光材料
を用いるものである。
ニーで、一般式(1)および(2)で表されるポリマは
ポリ(p−ヒドロキシスチレン)のOH基をアルキレン
トリオルガノシリル基によりブロックした形のポリマで
ある。
ポリ(p−ヒドロキシスチレン)のOH基をアルキレン
トリオルガノシリル基によりブロックした形のポリマで
ある。
また、一般式(3)および(4)で表される酸発生剤は
波長が250nm以下の紫外領域に吸収の極大もち、紫
外線を吸収して酸を発生するが、可視光には殆ど吸収は
ない。
波長が250nm以下の紫外領域に吸収の極大もち、紫
外線を吸収して酸を発生するが、可視光には殆ど吸収は
ない。
なお、一般式(3)および(4)でAで表した芳香族環
としてはベンゼン、ナフタレン、ナフタセン、とレン、
ナフタビレンなどを挙げることができる。
としてはベンゼン、ナフタレン、ナフタセン、とレン、
ナフタビレンなどを挙げることができる。
また、一般式(5)〜(9)で表される色素は可視光を
吸収して酸発生剤を増悪させる作用をしている。
吸収して酸発生剤を増悪させる作用をしている。
本発明は一般式(1)および(2)で示すようなポリマ
中にある特定の官能基(アルキレントリオルガノシリル
基)を保護しておき、これを可視レーザの照射によって
酸発生剤から発生した酸により外してアルカリ可溶性の
ポリ(p−ヒドロキシスチレン)とするものである。
中にある特定の官能基(アルキレントリオルガノシリル
基)を保護しておき、これを可視レーザの照射によって
酸発生剤から発生した酸により外してアルカリ可溶性の
ポリ(p−ヒドロキシスチレン)とするものである。
今、ポリマとして一般式(1)で表されるアルキレント
リオルガノシロキシスチレンを、酸発生剤として一般式
(3)で表されるヨードニウム塩および色素(D)を用
いて示すと次のようになる。
リオルガノシロキシスチレンを、酸発生剤として一般式
(3)で表されるヨードニウム塩および色素(D)を用
いて示すと次のようになる。
hv A
→ D*
→ D” A−
・・・ (10)
hv
このようにして生じたポリ(p−ヒドロキシスチレン)
はアルカリ現像によって溶解する。
はアルカリ現像によって溶解する。
本発明の特徴は一般式(1)または(2)で保護基とし
て用いるアルキレントリオルガノシリル基は酸を触媒と
する開裂速度が速いことで、これにより高感度およびア
ルカリ高解像性が実現している。
て用いるアルキレントリオルガノシリル基は酸を触媒と
する開裂速度が速いことで、これにより高感度およびア
ルカリ高解像性が実現している。
また、本発明に係るポリマ、酸発生剤および色素は何れ
もベンゼン環を共通の構成要素としてもっているので相
溶性が非常によい。
もベンゼン環を共通の構成要素としてもっているので相
溶性が非常によい。
また、保存安定性は暗反応を考慮しても半年以上確保す
ることができる。
ることができる。
実施例1:
ボリマ:ポリ(p−トリオルガノメチルシロキシスチレ
ン(一般式(1)) ・・・ 10 g酸発
生剤ニジフェニルヨードニウム塩 (一般式(3)) ・・・ 0.5g増増
感:エリトロシンB(一般式(6))・・・ 0.05
g溶剤:モノクロルベンゼン ・・・ 40
gメチルイソブチルケトン ・・・ 40 g
テトラヒドロフラン ・・・ 40 gから
なる感光液をシリコン(Si)基板上にスピンコードし
、乾燥後の膜厚が5μmの感光板を形成した。
ン(一般式(1)) ・・・ 10 g酸発
生剤ニジフェニルヨードニウム塩 (一般式(3)) ・・・ 0.5g増増
感:エリトロシンB(一般式(6))・・・ 0.05
g溶剤:モノクロルベンゼン ・・・ 40
gメチルイソブチルケトン ・・・ 40 g
テトラヒドロフラン ・・・ 40 gから
なる感光液をシリコン(Si)基板上にスピンコードし
、乾燥後の膜厚が5μmの感光板を形成した。
この感光板を用い、Arレーザを用い、フォトマスクを
通して露光し、現像液としてテトラメチルアンモニウム
ヒドロキシドを用いてポジ型のパターンを形成した。
通して露光し、現像液としてテトラメチルアンモニウム
ヒドロキシドを用いてポジ型のパターンを形成した。
その結果、感度10 mJ/cm”で10μmラインの
再現を確認することができた。
再現を確認することができた。
比較例1:
実施例1で増感剤を用いない以外は全く同様の組成で感
光液を作り、これをSi基板上にスピンコードし、乾燥
後の膜厚が5μmの感光板を形成した。
光液を作り、これをSi基板上にスピンコードし、乾燥
後の膜厚が5μmの感光板を形成した。
この感光板を用い、Arレーザを用い、フォトマスクを
通して露光し、現像液としてテトラメチルアンモニウム
ヒドロキシドを用いてポジ型のパタ−ンを形成した。
通して露光し、現像液としてテトラメチルアンモニウム
ヒドロキシドを用いてポジ型のパタ−ンを形成した。
その結果、感度2500 mJ/cm”で数10μmラ
インの再現を確認できなかった。
インの再現を確認できなかった。
実施例2:
ポリマ:ポリ(p−トリメチルシリルエトキシスチレン
(一般式(2)) ・・・ 12 g酸発生
剤ニトリフェニルスルホニウム塩(一般式(4))
・・・ 0.5g増感剤:多核メロシアニン
色素(a) ・・・ 0.05 g溶剤:モノクロル
ベンゼン ・・・ 40 gメチルイソブチ
ルケトン ・・・ 40 gテトラヒドロフラン
・・・ 40 gからなる感光液をシリコ
ン(Si)基板上にスピンコードし、乾燥後の膜厚が5
μmの感光板を形成した。
(一般式(2)) ・・・ 12 g酸発生
剤ニトリフェニルスルホニウム塩(一般式(4))
・・・ 0.5g増感剤:多核メロシアニン
色素(a) ・・・ 0.05 g溶剤:モノクロル
ベンゼン ・・・ 40 gメチルイソブチ
ルケトン ・・・ 40 gテトラヒドロフラン
・・・ 40 gからなる感光液をシリコ
ン(Si)基板上にスピンコードし、乾燥後の膜厚が5
μmの感光板を形成した。
この感光板を用い、Arレーザを用い、フォトマスクを
通して露光し、現像液としてテトラメチルアンモニウム
ヒドロキシドを用いてポジ型のパターンを形成した。
通して露光し、現像液としてテトラメチルアンモニウム
ヒドロキシドを用いてポジ型のパターンを形成した。
その結果、感度15 mJ/cm”で10μmラインの
再現を確認することができた。
再現を確認することができた。
比較例2:
実施例2で増感剤を用いない以外は全く同様の組成で感
光液を作り、これをSi基板上にスピンコードし、乾燥
後の膜厚が5μmの感光板を形成した。
光液を作り、これをSi基板上にスピンコードし、乾燥
後の膜厚が5μmの感光板を形成した。
この感光液を用い、Arレーザを用い、フォトマスクを
通して露光し、現像液としてテトラメチルアンモニウム
ヒドロキシドを用いてポジ型のパターンを形成した。
通して露光し、現像液としてテトラメチルアンモニウム
ヒドロキシドを用いてポジ型のパターンを形成した。
その結果、感度2000 mJ/am”で数10.cz
mラインの再現を確認できなかった。
mラインの再現を確認できなかった。
以上記したように本発明に係る可視光レーザ感光材料を
使用すれば、可視光領域において従来の感光材料よりも
著しく高い感度および解像度でパターンを形成すること
ができる。
使用すれば、可視光領域において従来の感光材料よりも
著しく高い感度および解像度でパターンを形成すること
ができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記(1)または(2)の一般式で表されるポリマと、
下記(3)または(4)の一般式で表される酸発生剤と
、下記(5)〜(9)の一般式で表される増感剤との組
み合わせからなることを特徴とする可視レーザ用感光材
料。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(1) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(2) 但し R_1、R_2、R_3は水素原子、アルキル基、アル
ケニル基またはフェニル基、 R_4はアルキレン基、 A_2I^+・X^−・・・(3) A_3S^+・X^−・・・(4) 但し、 Aは縮合芳香族環、 X^−はBF_6^−(六弗化硼素イオン)、PF_6
^−(六弗化燐イオン)、AsF_6^−(六弗化砒素
イオン)、SbF_6^−(六弗化アンチモンイオン)
、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(5) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(6) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(7) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(8) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(9) こゝで、(5)〜(7)はキサンテン系色素で(8)お
よび(9)はメロシアニン系色素である。 なお、 R_5は水素原子、アルキル基、フェニル基、カルボン
酸、カルボン酸塩、カルボン酸エステル、水酸基または
酸化塩、 R_6は水素原子またはハロゲン原子、 R_7は水素原子、アルキル基、フェニル基、カルボン
酸、カルボン酸塩、カルボン酸エステル、水酸基、酸化
塩またはハロゲン原子である。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8429289A JPH02262646A (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 可視レーザ用感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8429289A JPH02262646A (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 可視レーザ用感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02262646A true JPH02262646A (ja) | 1990-10-25 |
Family
ID=13826395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8429289A Pending JPH02262646A (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 可視レーザ用感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02262646A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003095582A1 (en) * | 2002-05-07 | 2003-11-20 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Photosensitizing composition |
-
1989
- 1989-04-03 JP JP8429289A patent/JPH02262646A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003095582A1 (en) * | 2002-05-07 | 2003-11-20 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Photosensitizing composition |
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