JPH02278608A - 極細エナメル線 - Google Patents
極細エナメル線Info
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- JPH02278608A JPH02278608A JP10130689A JP10130689A JPH02278608A JP H02278608 A JPH02278608 A JP H02278608A JP 10130689 A JP10130689 A JP 10130689A JP 10130689 A JP10130689 A JP 10130689A JP H02278608 A JPH02278608 A JP H02278608A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、導体径か40μm程度以下の極細エナメル
線に関し、特にフロノピーティスク装置、ハードティス
フ装置等の磁気ティスフ装置の磁気ヘッド用コイルとし
て好適な極細エナメル線に関する。
線に関し、特にフロノピーティスク装置、ハードティス
フ装置等の磁気ティスフ装置の磁気ヘッド用コイルとし
て好適な極細エナメル線に関する。
磁気ディスク装置の磁気ヘット用コイルに用いられるエ
ナメル線としては、従来タフピッチ銅からなる導体径5
0〜55 it mの導体に厚さ3〜5μmのポリウレ
タンなどからなる絶縁層を設けたものか用いられている
。
ナメル線としては、従来タフピッチ銅からなる導体径5
0〜55 it mの導体に厚さ3〜5μmのポリウレ
タンなどからなる絶縁層を設けたものか用いられている
。
しかしなから、近時磁気ティスフ装置の小9−1j化が
要求され、磁気ヘット自体も小!−t、’!化する必要
か生し、コイル用エナメル線も導体径を30〜4011
mとさらに極細化することか要求されている。
要求され、磁気ヘット自体も小!−t、’!化する必要
か生し、コイル用エナメル線も導体径を30〜4011
mとさらに極細化することか要求されている。
一方、磁気ヘットへのエナメル線の巻線加−L方法も、
従来の顕微鏡下での低速手巻き加工から高速自動巻線機
による加圧へと転換されつつある。
従来の顕微鏡下での低速手巻き加工から高速自動巻線機
による加圧へと転換されつつある。
このため、導体径か30〜40 tt mの極細エナメ
ル線を用いると、高速自動巻線機による巻線加工の際に
エナメル線が異常に伸びて導体抵抗か増加したり、ある
いは断線する不都合か生しる。また、導体径か細いため
に、磁気ヘットのアセンブリ加工時にエナメル線端末を
引き回して半田イ」けする過程で断線する欠点もある。
ル線を用いると、高速自動巻線機による巻線加工の際に
エナメル線が異常に伸びて導体抵抗か増加したり、ある
いは断線する不都合か生しる。また、導体径か細いため
に、磁気ヘットのアセンブリ加工時にエナメル線端末を
引き回して半田イ」けする過程で断線する欠点もある。
これらは、導体径か30〜40 it m程度となると
、導体自体の引張強度か極めて低くなるために生じるも
のであって、例えば導体径50μmのポリウレタン線で
は引張強度か56g、伸びか23%であるのに対し、導
体径4011mのポリウレタン線では引張強度か35g
、伸ひか21%、導体径30μmでは引張強度か21g
、伸びか20%となる。
、導体自体の引張強度か極めて低くなるために生じるも
のであって、例えば導体径50μmのポリウレタン線で
は引張強度か56g、伸びか23%であるのに対し、導
体径4011mのポリウレタン線では引張強度か35g
、伸ひか21%、導体径30μmでは引張強度か21g
、伸びか20%となる。
よって、この発明は、導体径を30〜40μm程度とし
ても引張強度か高く、かつ導体抵抗の増加かない極細エ
ナメル線を提供することを目的とする。
ても引張強度か高く、かつ導体抵抗の増加かない極細エ
ナメル線を提供することを目的とする。
この発明では、導体として0.03〜0.5重量%の銀
(Ag)を含有する無酸素銅からなり、伸びか7%以上
のものを用いることにより」―記課題を解決するように
した。
(Ag)を含有する無酸素銅からなり、伸びか7%以上
のものを用いることにより」―記課題を解決するように
した。
以下、この発明の詳細な説明する。
この発明の極細エナメル線における導体は、OO3〜0
.5重量%の銀(Ag)を含有する)j!(酸素鋼から
作られている。この導体は、純度9999%以」二の無
酸素銅に−1−記規定II(となる銀を添加して得られ
た銅合金から作られる。ここで、無酸素銅の純度か99
.99%未満ては導体抵抗か大きくなったり、軟化温度
か高くなるなとの問題かある。銀は導体の引張強度を高
めるためのもので、銀の含有率が0.03重量%未満て
は、引張強度増加効果か得られず、また0 5重量%を
越えると導体抵抗か大きくなるとともにコスI・か高く
なって不都合となる。また、ここでの無酸素銅の酸素含
有率は重量比で30 ppm以下とされ、30 ppm
を越えると酸化物からなる非金属介在物量か増大し、伸
線時に断線しやすい問題がある。さらに、この発明での
無酸素銅においては不可避の不純物か含まれていてもよ
いが、これら不可避不純物の総量は0.009重量%以
下とすることか好ましい。
.5重量%の銀(Ag)を含有する)j!(酸素鋼から
作られている。この導体は、純度9999%以」二の無
酸素銅に−1−記規定II(となる銀を添加して得られ
た銅合金から作られる。ここで、無酸素銅の純度か99
.99%未満ては導体抵抗か大きくなったり、軟化温度
か高くなるなとの問題かある。銀は導体の引張強度を高
めるためのもので、銀の含有率が0.03重量%未満て
は、引張強度増加効果か得られず、また0 5重量%を
越えると導体抵抗か大きくなるとともにコスI・か高く
なって不都合となる。また、ここでの無酸素銅の酸素含
有率は重量比で30 ppm以下とされ、30 ppm
を越えると酸化物からなる非金属介在物量か増大し、伸
線時に断線しやすい問題がある。さらに、この発明での
無酸素銅においては不可避の不純物か含まれていてもよ
いが、これら不可避不純物の総量は0.009重量%以
下とすることか好ましい。
この組成の無酸素銅からの導体の製造は、通常の線引方
法で行われる。また、導体の径は特に限定されることは
ないが、50μm以下、好ましくは40μm以下とする
ことか発明の目的からして望ましい。
法で行われる。また、導体の径は特に限定されることは
ないが、50μm以下、好ましくは40μm以下とする
ことか発明の目的からして望ましい。
このような無酸素銅からなる導体」二には絶縁層が設け
られて極細エナメル線とされる。絶縁層はポリエステル
、ポリウレタン、ポリエステルイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリアミド、ボリヒタン!・イン、ポリイミド、ポ
リビニルポルマール、ボJビニルブチラール、エボキン
、シリコーンなとの絶縁塗料を常θ、によって塗布、焼
付して形成することかできるが、半El’l (”Iけ
性の点からはポリウレタンか最も好ましい。この絶縁層
の厚さは、特に限定されないが、本発明の目的から薄い
方か好ましく、通常] Q μm以下、好ましくは5μ
m以下とされる。
られて極細エナメル線とされる。絶縁層はポリエステル
、ポリウレタン、ポリエステルイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリアミド、ボリヒタン!・イン、ポリイミド、ポ
リビニルポルマール、ボJビニルブチラール、エボキン
、シリコーンなとの絶縁塗料を常θ、によって塗布、焼
付して形成することかできるが、半El’l (”Iけ
性の点からはポリウレタンか最も好ましい。この絶縁層
の厚さは、特に限定されないが、本発明の目的から薄い
方か好ましく、通常] Q μm以下、好ましくは5μ
m以下とされる。
また、この絶縁層」−には、必要に応してナイロンなと
からなる自己潤滑層やポリビニルブチラールなとからな
る自己接着層を設けることができる。
からなる自己潤滑層やポリビニルブチラールなとからな
る自己接着層を設けることができる。
さらに、自己潤滑層と自己接着層とを設けることもてき
、絶縁層を樹脂の種類を変えて2層以゛−1−とするこ
ともてきる。
、絶縁層を樹脂の種類を変えて2層以゛−1−とするこ
ともてきる。
このような極細エナメル線にあっては、導体径か細いに
もかかわらず、その引張強度が高く、自動巻線時やアセ
ンブリ加工時なとにおい−C断線することがない。また
、導体径が細いにもかかわらず、導体抵抗か増加かなく
、巻回数を増加しても直流抵抗の増加がない。さらに、
無酸素銅であることから、高周波特性か良好であり、]
OMIIz程度まての信号を低損失で伝送できる。
もかかわらず、その引張強度が高く、自動巻線時やアセ
ンブリ加工時なとにおい−C断線することがない。また
、導体径が細いにもかかわらず、導体抵抗か増加かなく
、巻回数を増加しても直流抵抗の増加がない。さらに、
無酸素銅であることから、高周波特性か良好であり、]
OMIIz程度まての信号を低損失で伝送できる。
以下、具体例を示してこの発明の作用効果を明確にする
。
。
〔試験例1〜14〕
酸素含有量8ppm、不可避不純物路ff1o、o。
6重量%の無酸素銅に銀を種々の割合で添加し、デイプ
ホーミング法によって荒引線としたのら、連続伸線機に
よって径30 it mおよび7′lOμrnの導体と
した。
ホーミング法によって荒引線としたのら、連続伸線機に
よって径30 it mおよび7′lOμrnの導体と
した。
これらの導体について、その導体抵抗、引張強j良およ
び(中ひを乙用定した。
び(中ひを乙用定した。
結果を第1表に示す。
〔試験例15〜22〕
酸素含有f、7t200ppm、純度9998%のタフ
ピッチ銅に銀を種々の割合て添!Il’l L、連続鋳
造圧延tにによって伸線し、径30μmおよび/IOμ
mの導体とした。
ピッチ銅に銀を種々の割合て添!Il’l L、連続鋳
造圧延tにによって伸線し、径30μmおよび/IOμ
mの導体とした。
これらの導体についてその導体抵抗、引張強度および伸
ひを測定した。
ひを測定した。
結果を第21くに示す。
第1表および第2表の結束から銀を0.03〜05重量
%含有する無酸素銅から得られた導体は、従来の−・般
用電気銅(タフピッチ銅)およびこれに銀を少ji1′
添加した銀入り銅に比へて電気抵抗か少なく、かっ引張
強度か高いことかわかる。
%含有する無酸素銅から得られた導体は、従来の−・般
用電気銅(タフピッチ銅)およびこれに銀を少ji1′
添加した銀入り銅に比へて電気抵抗か少なく、かっ引張
強度か高いことかわかる。
また、銀を含有しない無酸素銅に比較しても電気抵抗か
ほぼ同効で、かつ引張強度か高いこともわかる。
ほぼ同効で、かつ引張強度か高いこともわかる。
〔実施例1〜4〕
銀角イ■量01重量%、酸素含イf晴8ppm、不可避
不純物0006小11t%の11!℃酸素銅から導体径
30 ノl m、 35 ノt m、
4 0 μ m、 4 571 m の 導体
を得たのら、ポリウレタン塗料を塗布、焼イー・1して
厚さ/111mのポリウレタンの絶縁層を113成して
極rtn エナメル線どした。
不純物0006小11t%の11!℃酸素銅から導体径
30 ノl m、 35 ノt m、
4 0 μ m、 4 571 m の 導体
を得たのら、ポリウレタン塗料を塗布、焼イー・1して
厚さ/111mのポリウレタンの絶縁層を113成して
極rtn エナメル線どした。
これらの極細エナメル線について、絶縁層のピンポール
個数、絶縁破壊電圧、引張強度、沖ひ、’14 IT+
(τjけ性を4[す定した。ピノポール個数はIts
O−3003Kに準処してエナメル線5 m ”’)た
りの個数で表した。また、半1’lJイー・jけ性は1
111I〆11111−丸か380°Cて、2秒間て半
田てj’:h’れたものを良とした。
個数、絶縁破壊電圧、引張強度、沖ひ、’14 IT+
(τjけ性を4[す定した。ピノポール個数はIts
O−3003Kに準処してエナメル線5 m ”’)た
りの個数で表した。また、半1’lJイー・jけ性は1
111I〆11111−丸か380°Cて、2秒間て半
田てj’:h’れたものを良とした。
結果を第3表に示す。
〔比較例1〜3〕
酸素含有量200ppm、純度9998%のタフピッチ
銅から導体径30μm、40μrn、5Q71 mの導
体を得たのら、ポリウレタン塗料を塗イ1−J、焼イ・
1して厚さ4ノzmのポリウレタンの絶縁層を)lニ成
して極細エナメル線を得た。
銅から導体径30μm、40μrn、5Q71 mの導
体を得たのら、ポリウレタン塗料を塗イ1−J、焼イ・
1して厚さ4ノzmのポリウレタンの絶縁層を)lニ成
して極細エナメル線を得た。
これらについて、実施例と同様にしてピンポール個数、
絶縁G皮壊電圧、引張強度、伸ひ、半田付は性を111
1定し、第4表に示した。
絶縁G皮壊電圧、引張強度、伸ひ、半田付は性を111
1定し、第4表に示した。
〔実施例5〕
銀含有量01市h1%、酸素こ町有量8ppm、不可避
不純物0006重Iτt%の無酸素銅から径40μmの
導体を得たのち、厚さ35μmのポリウレタンの絶縁層
を設け、この上に厚さ05μmのナイロンの1′1己潤
謂層を設けて極細エナメル線を得た。このものについて
ピンポール個数、絶縁破壊電圧、引張強度、伸ひ、半田
(:Iけ性を求めた。
不純物0006重Iτt%の無酸素銅から径40μmの
導体を得たのち、厚さ35μmのポリウレタンの絶縁層
を設け、この上に厚さ05μmのナイロンの1′1己潤
謂層を設けて極細エナメル線を得た。このものについて
ピンポール個数、絶縁破壊電圧、引張強度、伸ひ、半田
(:Iけ性を求めた。
結果を第3表に(1: tjて示す。
〔実施例6〕
実施例5て用いた導体上に厚さ35μmのボッウレタン
の絶縁層を設け、この上に厚さ0571 mのリーイロ
ンの自己潤謂層を設け、さらにこの上に厚さ1μmのポ
リビニルフチラールの自己接着層を設けて極細エナメル
線を得た。このものについてピンポール個数、絶縁破壊
電圧、引張強度、仲ひ、半1’111(τjは性を求め
た。
の絶縁層を設け、この上に厚さ0571 mのリーイロ
ンの自己潤謂層を設け、さらにこの上に厚さ1μmのポ
リビニルフチラールの自己接着層を設けて極細エナメル
線を得た。このものについてピンポール個数、絶縁破壊
電圧、引張強度、仲ひ、半1’111(τjは性を求め
た。
結果を第3表に併=Uて示す。
以」二説明したように、この発明の極細エナメル線は0
03〜0.5重量%の銀(Δg)をfηイ1し、残部か
銅(Cu)である無酸素銅((l”j L、不「」避的
不純物を含む)からなり、かっ沖ひか7%以上の導体」
二に絶縁層を設けたちのであるので、導体抵抗を増加す
ることなくその引71N強度を大幅に向上させることか
でき、よって導体径/IOμm程度以下どしても高速[
1動巻線加り時やアセンフj−加工時なとに発生ずる断
線事故を皆無とすることかできる。また、引張強度か1
・分高いので、更に極細化か可能であり、例えば30μ
ffl以1′:の超極細エナメル線としても断線の恐れ
かなく、磁気ヘット等のコイルに適用可能となる。
03〜0.5重量%の銀(Δg)をfηイ1し、残部か
銅(Cu)である無酸素銅((l”j L、不「」避的
不純物を含む)からなり、かっ沖ひか7%以上の導体」
二に絶縁層を設けたちのであるので、導体抵抗を増加す
ることなくその引71N強度を大幅に向上させることか
でき、よって導体径/IOμm程度以下どしても高速[
1動巻線加り時やアセンフj−加工時なとに発生ずる断
線事故を皆無とすることかできる。また、引張強度か1
・分高いので、更に極細化か可能であり、例えば30μ
ffl以1′:の超極細エナメル線としても断線の恐れ
かなく、磁気ヘット等のコイルに適用可能となる。
Claims (3)
- (1)0.03〜0.5重量%の銀(Ag)を含有し、
残部か銅(Cu)である無酸素銅(但し、不可避的不純
物を含む)からなる伸び7%以上の導体上に絶縁層を設
けたことを特徴とする極細エナメル線。 - (2)導体が、純度99.99%以上の無酸素銅に銀を
添加して得られたものである請求項(1)記載の極細エ
ナメル線。 - (3)導体径が、40μm以下である請求項(1)記載
の極細エナメル線。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1101306A JP2602546B2 (ja) | 1989-04-20 | 1989-04-20 | 極細エナメル線 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1101306A JP2602546B2 (ja) | 1989-04-20 | 1989-04-20 | 極細エナメル線 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02278608A true JPH02278608A (ja) | 1990-11-14 |
| JP2602546B2 JP2602546B2 (ja) | 1997-04-23 |
Family
ID=14297128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1101306A Expired - Fee Related JP2602546B2 (ja) | 1989-04-20 | 1989-04-20 | 極細エナメル線 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2602546B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6627009B1 (en) * | 1999-11-19 | 2003-09-30 | Hitachi Cable Ltd. | Extrafine copper alloy wire, ultrafine copper alloy wire, and process for producing the same |
| US6674011B2 (en) * | 2001-05-25 | 2004-01-06 | Hitachi Cable Ltd. | Stranded conductor to be used for movable member and cable using same |
| JP2010218927A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Autonetworks Technologies Ltd | 自動車用電線導体および自動車用電線 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6062009A (ja) * | 1983-09-14 | 1985-04-10 | 日立電線株式会社 | Ag入り無酸素銅により安定化された複合超電導体 |
-
1989
- 1989-04-20 JP JP1101306A patent/JP2602546B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6062009A (ja) * | 1983-09-14 | 1985-04-10 | 日立電線株式会社 | Ag入り無酸素銅により安定化された複合超電導体 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6627009B1 (en) * | 1999-11-19 | 2003-09-30 | Hitachi Cable Ltd. | Extrafine copper alloy wire, ultrafine copper alloy wire, and process for producing the same |
| US6674011B2 (en) * | 2001-05-25 | 2004-01-06 | Hitachi Cable Ltd. | Stranded conductor to be used for movable member and cable using same |
| JP2010218927A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Autonetworks Technologies Ltd | 自動車用電線導体および自動車用電線 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2602546B2 (ja) | 1997-04-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |