JPH02279693A - 2―アミノオキセタノシンaの製造法及び中間体 - Google Patents

2―アミノオキセタノシンaの製造法及び中間体

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JPH02279693A
JPH02279693A JP9890789A JP9890789A JPH02279693A JP H02279693 A JPH02279693 A JP H02279693A JP 9890789 A JP9890789 A JP 9890789A JP 9890789 A JP9890789 A JP 9890789A JP H02279693 A JPH02279693 A JP H02279693A
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JP
Japan
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compound
formula
oxt
aminooxetanosine
formulas
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JP9890789A
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Seiichi Saito
清一 斎藤
Shigeru Hasegawa
茂 長谷川
Masayuki Kitagawa
正行 北川
Nobuyoshi Shimada
嶋田 信義
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Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は2−アミノオキセタノシンA及びその塩の製造
法に関する。
〔従来の技術〕
2−アミノ0XT−Aの製造法はEP−291917−
んにより公知である。
(式中R1は低級アルキル基を示す。)で示されるアル
コキシ化2−アミノオキセタノシンAを加水素分解し、
アルコキシ基を除去し必要に応じ、酸との塩を形成させ
ることを特徴とする2−アミノオキセタノシンA(以下
2アミノ−0XT−Aという)もしくはその塩の製造法
及び一般式(I)のアルコキシ化2−アミノ0XT−A
の合成用の中間体として使用される下記一般式l 〔式中Yは (R1は低級アルキル基を示す。)で表わされる基を示
す。〕 で表わされるオキセタノシン誘導体に関するものである
。
一般式(I)の化合物の加水素分解は溶媒中で接触還元
により行うことができる。
溶媒としては反応を阻害しないものであればよいが通常
極性有機溶媒又は水と極性有機溶媒との混合溶媒が使用
され、極性溶媒としてはメタノール、エタノールなどの
低級アルコールなどが好ましい。
触媒としては通常の接触還元に使用される触媒、例えば
白金系触媒、パラジウム系触媒、ニッケル系触媒、コバ
ルト系触媒などが使用できるが、通常パラジウム系触媒
例えばPd−Cなどが使用される。
反応は通常、常圧ないし加圧下、例えば約1気圧〜゛約
20気圧程度で、通常約0℃以上で、約150℃以下程
度で行われる。
反応時間は触媒や反応温度により変るので、−概にはい
えないが、約1時間〜約10時間程度で十分である。
また2−アミノ0XT−Aの塩を形成するには例えば次
のようにすればよい。
2−アミノ0XT−A塩の製造法 2−アミノオキセタノシンAを水に懸濁1.、酸を加え
溶解後、適当な溶媒を加え結晶化する。
塩を形成する為の酸と1−ては、薬理学上許容さる酸で
あればよく、例えば、塩酸、硫酸、リン酸などが好まし
い。
なお一般式(I)又は一般式印における低級アルキル基
としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンタチル基およびヘキシル基などのC1〜C6のアル
キル基があげられる。
本発明で原料化合物として使用する一般式(I)のアル
コキシ化2−アミノ0XT−Aは、次の工程によって製
造される。
(I+  アルコキシ化2−アミノ0XT−Aの製造方
法 OXT−A ■ ■ ■ ■ ■ 即ちオキ七タノシン(OXT −A ) ヲN−オキシ
ド化した後、オキサジアゾール環を介して、アミン基に
シアン基を導入する。得られた化合物のN−オキシドを
アルキル化後、開環、転位、閉環反応を行ない、化合物
■を得ることができる。以下、各工程を説明する。
第一工程:オキセタノシン(OXT−A)を、適当な酸
化剤にてN−オキシド化する。酸化剤としては、メタク
ロロ過安息香酸、過酢酸、過酸化水素などが挙げられる
。
上記の反応は、通常、適当な溶媒中で行われ、反応溶媒
としては、含水してもよい酢酸、アセトン、ジオキサン
、メタノール、エタノールなどの極性有機溶媒が挙げら
れる。化合物■は、酢酸エチル抽出にて試薬を除去後、
カラムクロマトグラフィーにより、精製することができ
る。
第二工程:本工程は、化合物[F]にハロゲン化シアン
を作用させ、オキサジアゾール環を形成する工程である
。ハロゲン化シアンとしては、臭化シアン、ヨウ化シア
ンなどが挙げられる。
第三工程:化合物■のハロゲン化水素塩を、アンモニア
飽和アルコールにより、脱ハロゲン化水素を行う工程で
ある。溶媒としては、メタノール、エタノールなどの有
機溶媒が好ましい。
第四工程:化合物■のN−オキシドを、適当な溶媒、塩
基中で、約り℃〜溶媒の沸点(約15℃)の温度で、ア
ルキル化する。通常、常圧下に反応を行うが加圧でも行
うことができる。
溶媒としては、N、N−ジメチルホルムアミド、アセト
ン、ピリジン等の極性有機溶媒が好ましい。塩基として
は、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンな
どが挙げられる。アルキル化試薬としては、ヨウ化メチ
ル、ヨウ化エチル等のアルキルハロゲニドを用いること
ができる。
第五工程:化合物■の塩基部を塩基にて開環、転位、加
温する事により閉環する工程である。
塩基としては水酸化アルカリ金属、例えば水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化アルカリ土類金属などの
他に、トリエチルアミン等の有機塩基などが挙げられる
。溶媒としては、含水メタノール、含水エタノール等の
アルコール系溶媒が好ましい。加温は約30°C〜約1
5’0℃程度の範囲で行うことができるが、通常約50
°C〜80℃程度である。
実施例1゜ (1)2−アミノ0XT−Aの合成 化合物■(R1=エチル基)53.8gを溶解した50
%含水エタノール溶液に10%Pd−Cを16gを加え
95〜105℃、12〜14気圧の条件で4時間加水素
分解を行う。触媒を濾過し、溶媒を濃縮し残渣を熱水5
00+++4’より結晶化を行い粗2−アミノOXT 
−A 34.4 gを得る。
このものを熱水15Q+nlにて洗滌することにょリ2
−アミノ0XT−A・1/2 H2032,7gを得る
。
2−アミノ0XT−A ・1/2H20: FD MS
m/z ;266(M)+ UV ; λF■2”nm ; 256.278aX NMR(200MHz、 DMSO−as、 TMS 
)ppm ;  8.30(IH,s、  8−H)、
  6.80 (2H,bs、 IH2)。
6.23 (IH,d、 J=5.84Hz、 1’−
H)、 5.88(2H,bs、 IH2)、  5.
39 (IH,t、 OH)。
5.0 (IH,t、 OH)、  4.48 (IH
,m、 3’−H)。
3.50〜3.80 (3H,m ) 元素分析 実測値 C: 43.94%、 H: 5.49%、 
N : 30.90%計算値 C: 43.63%、 
H: 5.30%、 N 、: 3.0.53%(2)
2−アミノ0XT−Aの塩(塩酸塩)の合成2−7 ミ
/ OXT −A−1/28205. Ogを水33m
1に懸濁し、これに塩酸(塩化水素=20%)を3.4
2m1加え溶解しエタノール33m1を加え5℃にて2
0時間静置する。析出する結晶を濾過し、少量の50%
含水エタノール続いて少量のエタノールで洗滌し減圧下
乾燥を行い2−amino 0XT−H(J 2.93
 gを得る。
2− amino 0XT−HCL:分子式 CIOI
H4N603 HCL元素分析 実測値C: 40.04%、 H: 5.02%、 N
 828.48%。
C1: 10.31% 計算値C:39.68%、 H: 5.00%、N:2
7.76%。
C/、 : 11.71% NMR(200MHz、D20)ppm:  8.30
(1B(、SF8−H)、 6.29 (I H,d、
 J=4.8Hz、 1’−H)t4.65  (IH
,m、   3’ −H)、   3.60〜3.95
  (51(。
m) なお原料に使用した2−アミノOX T −Aは次のよ
うにして合成された。
OX’r−Aからの化合物■の合成 (a)  化合物■の合成 オキセタノシンA (OXT −A ) 150 gを
一ル溶液0.75−eを加え遮光下、室温にて18時間
撹拌後、さらにm−クロロ過安息香酸28gのメタノー
ル溶液0.154を加え5時間撹拌する。
不溶物を濾過し、涙液を2.02まで濃縮し酢酸エチル
1.52にて2回抽出する。この水層を1.5−eまで
濃縮した後、水0.52を加える。
■ コノものをMCI GEL HP−202,0,eに通
塔1−通過液及び水洗液8.2−eを集め濃縮乾固させ
ると化合物■146.4g(収率91.7%)が得られ
る。
化合物■:  FAB−MS  m/z :  268
 (M+H)”NMR(60MHz、D20)ppm;
  8.87 (LH,s)。
8.73(IH,S)、6.71(IH,cl)、4.
70(IH,m)、 3.9 ’J−4,30(5H,
m)。
4.66 (I H,m、 3’−H)(b)  化合
物■の合成 化合物の129.3gをメタノール5.72に溶かし、
これに臭化シアン55.5gのメタノール溶液0.45
4を加え室温にて2時間撹拌する。
化合物■が析出するが、さらに析出させる為酢酸エチル
を3.0−e加え20分間撹拌する。
析出する結晶を濾過し、酢酸エチルで洗浄した後、減圧
の下に乾燥すると化合物■の無色結晶146.48g(
収率81.1%)が得られる。又、母液を濃縮し、メタ
ノール1.#−酢酸エチル12より結晶化を行い同操作
を行うことにより化合物■の無色結晶13.26g(収
率7.3%)が得られる。
化合物■: FD−MS m/z ’、  294 (
M−f−H−Br)。
IR(KBr );1720 cm (C=N)■)N
MR(200MI−Iz、 DMSO−d67MS )
ppm ;10.70(IH,bs、NH)、10.1
3(IH。
s、 8−H)、 9.35(LH,s、 2−H)。
6.61 (IH,d、 J =4.84Hz、 1’
−H)。
2.50(3H,m) UVλH2Onm: 223,283 ax (C)  化合物■の合成 化合物■159.6gをメタノール6ノに懸濁し、この
ものにアンモニア飽和メタノール1.6を加え(化合物
■は溶解)室温にて1.5時間撹拌する。反応液を半量
まで濃縮し析出する無色結晶を濾過し、少量のメタノー
ルで洗滌後、減圧の下に乾燥すると化合物■xzs、1
g(収率94.6%)が得られる。
化合物■: FD−MS mlz ; 293 (M+
H) 。
IR(KBr ) ; 2170 am (N−C=i
N)、 1220cm(N−0) UVλF■20nm; 247.293ax NMR(200MHz、 DzO)ppm : 8.5
5 (IH,s。
8−H)、 8.42(IH,s、 2−H)、 6.
46(IH,d、 J=5.49Hz、 1’−H)、
 4.70(IH,rn、 3’−H)、 3.72〜
4.00 (5H,m)(d)  化合物■の合成 化合物■109.06gをジメチルホルムアミド1.1
1に懸濁し、これにトリエチルアミン85.2ml、ヨ
ウ化エチル60.6 mlを加え、室温にて2時間撹拌
する。溶媒を減圧濃縮し残直な熱水1.41にて溶解後
、室温にて放置し、析出するゲル状の沈澱を濾過し粗化
合物■118.47g(収率99.2%)を得る。
化合物■: FD−MS mlz ; 320 (M)
”IR(KBr ) ; 2180 cm−’ (C=
N)TJV AMeOHnm : 220.285aX NMR(200MH2,CD30D、 TMS)ppm
 : 8.84(IH,s、  8−H)、  8.6
8(1)i、  s、  2−H)。
6.52 (I H,d、 J=5.78Hz、  1
’−1−I )。
4.69 (IH,m、 3’−H)、 4.43 (
2Ht QpJ=7.0IHz、−Ω旦2−CHI )
、 3.65〜3.97(3H,m)、  L44 (
3H,t、  J=7.Q IHz。
−CH2CH3) (e)  化合物■の合成 化合物■107.6 gを水2.31に懸濁し、これに
5規定力セイソーダ86m1を加え室温にて2.5時間
撹拌する。反応液をl)owex 50(H+)にてp
Hを743に調製し、樹脂を濾過する。
F液にエタノール2,3フを加え30分間加熱還流を行
い反応液をそのまま次の工程に用いる。
化合物■: FD−MS mlz ; 310 (M)
”UVλH2Onm;、280 aX NMR(200MHz、 DMSO−ds、 TMS)
ppm : 9.70(LH,bs、NH)、8.07
 (IH,S、8−H)。
6.60 (2Hs  bst  IH2)l  6.
l l (I L  d。
J =5.95Hz、 1’−H)、  5.20 (
I H,t、 OH)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R_1は低級アルキル基を示す。) で示されるアルコキシ化2−アミノオキセタノシンAを
    加水素分解し、アルコキシ基を除去し、必要に応じ、酸
    との塩を形成させることを特徴とする2−アミノオキセ
    タノシンAもしくはその塩の製造法。 2、特許請求の範囲第1項において、一般式( I )の
    アルコキシ化2−アミノオキセタノシンAとして、下記
    式(3) ▲数式、化学式、表等があります▼ で示されをシアン化N−オキシドオキセタノシンAをア
    ルキル化し、下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1は低級アルキル基を示す。) で示されるシアン化N−アルコキシオキセタノシンAを
    得、次いで、該化合物をアルカリ処理し、中和後、加熱
    することにより、得られた一般式( I )のアルコキシ
    化2−アミノオキセタノシンAを用いることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項の2−アミノオキセタノシンA
    もしくはその塩の製造法。 3、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Yは ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼または▲数式、化学式、表等がありま
    す▼ (R_1は低級アルキル基を示す。)で表わされる基を
    示す。〕 で表わされるオキセタノシン誘導体
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EP19900107311 EP0393611A3 (en) 1989-04-20 1990-04-18 Novel process for producing oxetanocin g
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CN90102270A CN1047082A (zh) 1989-04-20 1990-04-20 生产奥塔诺新g(oxetanocin g)的新方法
KR1019900005566A KR900016213A (ko) 1989-04-20 1990-04-20 옥세타노신 유도체 및 그 제조 방법
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