JPH0228661A - 感光体 - Google Patents

感光体

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JPH0228661A
JPH0228661A JP17852588A JP17852588A JPH0228661A JP H0228661 A JPH0228661 A JP H0228661A JP 17852588 A JP17852588 A JP 17852588A JP 17852588 A JP17852588 A JP 17852588A JP H0228661 A JPH0228661 A JP H0228661A
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Akira Hirano
明 平野
Yoshihiko Eto
嘉彦 江藤
Yoshiaki Takei
武居 良明
Osamu Sasaki
佐々木 収
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Konica Minolta Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は感光体、特に電子写真感光体に関するものであ
る。
口、従来技術 電子写真感光体用の感光材料とし2では従来、セレン、
酸化亜鉛、酸化チタン、硫化カドミウムなどの無機系光
導電性物質が主乙こ用いられており、その中で最近は゛
、−?モルファスミ/リコン等の研究・開発も盛んに行
われている、 他方、有機光導電性物質(OPC)を使用する感光材料
は、無機系光導電性物質に比べて一般に毒性が弱く、か
つ可撓性や軽量性、製膜性、コスト等において有利であ
ることから、最近注目されてきている、 いずれの電子写真感光体に於いても電荷の発生と輸送と
いう両機能を分離して各層7もだしめた機能分離型感光
体は、この各々の機能を独立して設定することが可能で
、感光体設計上、選択の幅が広がり有利である。
また、機能分離型感光体では、電子写真緒特性を向上さ
せることができ、感度、繰り返し特性、機械強度等の点
で優れる。
かかる電子写真感光体は、一般に電子写真複写機、プリ
ンター等に広(用いられているが、最近、電子写真複写
機、プリンターの高速化に伴い、複写プロセスに要する
時間が著シ、り短縮されると共に、複写回数も増大し、
感光体の高感度化、高耐久化が要求されてきている。
従来、電子写真感光体に使用されている高感度のキャリ
ア発生物質としては、多環キノン系化合物やアゾ系顔料
が代表的なものとして例示される。
しかし、通常、電子写真複写機においてはA光源や蛍光
灯等の白色光を使用しており、可視光全域に亘る波長を
有する光が同時に感光体に照射される。この点で、多環
キノン系化合物は、非常に優れた光キヤリア発生能を有
してはいるが、400〜570n11に分光感度を有し
ており、これより長波長の光に対しては感度を有さない
ため、高感度化にも限界があるといえる。一方、アゾ系
顔料、例えばジスアゾ系顔料を用いた感光体では、分光
感度が700no+付近まで延びている反面、短波長側
での光感度が低下しており、やはり高感度化に一定の限
界を有するといえる。
更に、重要な問題として、電子写真複写機はオフィス、
官公庁、事務所、公共機関等で必需品として用いられて
いることから、もとの原稿を忠実に再現することが必要
であり、特に各種書類中の朱印、アンダーライン(赤線
)の再現性が要求される。この為には、赤色画像を複写
再現すべく、600nm以上の波長域に感度がないか、
若し5くはこれらの波長域の感度が他の波長域の感度に
比−゛て低い分光感度特性を有するものでなくてはなら
ない。しかし、キャリア発生物質はそれぞれ固有の分光
感度特性を所有するものであり、電子写真特性を満足し
、かつ赤色原稿を複写時の目的に応じた程度にまで再現
しうるキャリア発生物質を見出すのは困難である。
赤色の再現性を向上させる目的で、白色光の光路に赤カ
ットフィルター(シアンフィルター)を設ける方法もあ
るが、例えば上記したジスアゾ系顔料を用いた場合、6
00nmよりも長波長側め光をカントすると、光感度が
大きく低下する。
以上のように、特に高速電子写真複写機や小型複写機に
対応するには、従来の感光体では光感度及び赤色再現性
の点で必ずしも充分ではなく、これらに対応しうる高感
度の感光体の出現が期待されている。
ハ、発明の目的 本発明の目的は、幅広い波長に亘って高度の分光感度特
性を有し、高感度であって繰り返し特性に優れていて、
複写プロセスの高速化に対応でき、かつ赤色画像の複写
再現性に優れた感光体を提供することである。
二6発明の構成及びその作用効果 本発明は、下記−設計(1)で表される化合物をキャリ
ア発生物質として含有する層を有し、かつ下記−設計(
III)で表される化合物と下記−設計(IV)で表さ
れる化合物との少なくとも一方をキャリア発生物質とし
て前記層に含有する感光体体に係るものである。
一般式N) (X’及びX2は、それぞれ、ハロゲン原子、置換若し
くは未置換のアルキル基、置換若しくは未置換のアルコ
キシ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基又は置換若
しくは未置換のアミノ基を表し、XI及びX2のうち少
なくとも1つはハロゲン原子である。
p及びqはそれぞれOll又は2の整数を表し、p及び
qは同時にOとなることはなく、且つ、pが2のときは
XI は互いに同一の又は異なる基であってよく、qが
2のときはX!は互いに同一の又は異なる基であってよ
い。
Aは下記−設計(II)で表わされる基を表す。
−設計 (式中、Arは少なくとも)、素化炭化水素基を有する
芳香族炭素環基又は芳香族複素環基を表す。
Zは置換若しくは未置換の芳香族炭素環又は置換若しく
は未置換の芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原
子群を表す。) m及びnはそれぞれ0.1又は2の整数を表す。
但し、m及びnが同時に0となることはない。〕一般設
計1) 一般式ぼり 〔Rは、置換若しくは未置換の炭化水素残基を表す。
Wl及びW2は、それぞれ、置換若しくは未置換のアリ
ーレン基を表す。
V、Tは、それぞれ置換基を表す。
rは0.1.2又は3を表す。
Sは0又は1を表す、〕 本発明の感光体は、−設計(I)で表される特定のアゾ
化合物と、−i式CIII)で表される化合物及び/又
は−設計(IV)で表される化合物(以下、−設計(1
)で表されるビスアゾ化合物と区別するため、上記ペリ
ノン系化合物と呼ぶことがある。)とを共にキャリア発
生物質として含有する層を有しており、この点に顕著な
特徴を有する。
即ち、上記ペリノン化合物は、例えば第1図に示すよう
な分光感度スペクトルを有しており (例示化合物ll
l−3)、その感光波長域は400〜580n@の領域
に及んでいる。
かかる上記ペリノン化合物は各種材料中でも良好な光感
度を有するものではあるが、前述したように、これのみ
では長波長側に感度がなく、光感度向上の点で限界を有
し、必ずしも高速複写機等Gこ対応しきれてはいなかっ
た。
この対策として、他のキャリア発生物質をも併用して長
波長側を増感することも考えられるが、問題は組み合わ
せるべきキャリア発生物質の選択であって、この選択に
よっては、かえって上記ペリノン化合物の短波長側の本
来の光感度が損なわれるおそれもある。また、かかる選
択については必ずしも一律的な選択手段があるというも
のでもなく、数多くの化合物の中から実験の積み重ねに
よって決定しているのが実情といえる。更に、600n
+++以上の長波長の光感度が大きくなりすぎると、赤
色再現性が充分でなくなることとなる。
ここにおいて、本発明者は、上記ペリノン化合物と一般
式(Telで表される化合物とを併用することにより、
満足できる結果の得られることを見出した。
即ち、−設計〔1〕で表される化合物は、例えば第1図
に示すような分光感度スペクトルを示すものであるが(
後述の例示アブ化合物m71) 、これと上記ペリノン
化合物l1t−5とを併用することにより、第1図に示
すように580n+++以上の長波長側を顕著に増感L
7つつ、上記ペリノン化合物本来の光感度も保持でき、
かつ赤色光の光感度を赤色画像再現に差し一二一かえな
い程度にまで抑制することが可能となった。これにより
、複写プロセスの高速化に充分対応でき、繰り返し特性
に優れ、かつ赤色画像も再現できる実用的な感光体が実
現できたのである。
なお、実施例の項で述べる比較アゾ化合物と、例示化合
物lll−3とを併用した例を第1図に示すが、相当に
感度が低下していることが解る。
また、本発明においては、比較的厚い[上記ペリノン系
化合物等をキャリア発生物質として含有する層を形成し
ても、感光体としての特性が良好であり、従って段ムラ
、液ダレ、凝集などの製造時の塗布欠陥の発生が少なく
生産上有利である。
以下、具体的な構成について述べる。
上記ペリノン系化合物と一般式(I)で表される化合物
との府中の含有量比は、重量比(上記ペリノン系化合物
ニー設計(1)で表される化合物)で、(100:10
0以下)の範囲内であるのが好ましく、(100: 1
)〜(100:20)の範囲内であるのが更に好ましい
。この範囲とすると、更に赤色再現性が良く、光感度も
高くできる。
波長λ≦600nm以下での分光感度の最大値をQ e
a a X(λ≦600nm )とし、波長λ≧600
nm以上での分光感度の最大値をQ、、、(λ≧600
nm )としたとき、両者の割合は、Qo、(λ≦60
Qna+ ) / Q、、。
(λ≧600n湧) =100150以下が赤色再現性
の点では更に好ましい。
次に、−i式([)で表される化合物について述べる。
一般式(1)のXI及びX2により表わされるハロゲン
原子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、沃素
原子を挙げることができる。
本発明のビスアゾ化合物はXl及びX2のうち、少なく
とも一方がハロゲン原子を有している。
Xl及びx2で表されるアルキル基としては炭素原子数
1ないし4個の置換若しくは未置換のアルキル基が好ま
しく、このようなアルキル基の例としては、例えばメチ
ル基、エチル基、β〜シアノエチル基、jso−プロピ
ル基、トリフルオロメチル基、t−ブチル基等が挙げら
れる。
またXI及びX2で表わされるアルコキシ基は、炭素原
子数が1ないし4個の置換若しくは未置換のアルコキシ
基が好ましく、このようなアルコキシ基の例としては、
メトキシ基、エトキシ基、βクロルエトキシ基、、 5
ec−ブトキシ基等が挙げられる。
更にまた、XI及びX2で表わされる置換若しくは未置
換のアミノ基としては、例えばアルキル基、了り−ル基
(好ましくはフェニル基)等で置換されたもの、例えば
N−メチルアミノ基、N−エチルアミノ基、N、N−ジ
メチルアミノ基、N。
N−ジエチルアミノ基、N−フェニルアミノ基、N、N
−ジフェニルアミノ基や、更にはアシル基で置換された
アセチルアミノ基、p−クロルベンゾイルアミノ基等が
挙げられる。
前記−設計CI)においてp及びqは、それぞれ、Ol
l又は2を表わすが、p及びqは同時に0となることは
なく、好ましくはp=l、q=。
又はp=t、q=Lの場合である。
更にまたp又はqが2のときは、X′又はX2は、それ
ぞれ同−又は異なる基をとることができる。
また、前記−設計(I)において、Aは下記−設計(I
I)で表わされる。
一般式〔■〕 式中、Arはフッ素化炭化水素基を少なくとも1個有す
る芳香族炭素環基又は芳香族複素環基を表わすが、前記
フッ素化炭化水素基の炭素原子数1ないし4のフッ素化
炭化水素基が好ましく、例えば、トリフルオロメチル基
、ペンタフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、
ヘプタフルオロプロピル基等が挙げられる。このうちさ
らに好ましいフッ素化炭化水素基はトリフルオロメチル
基である。また、前記芳香族炭素環基の例としてはフェ
ニル基、ナフチル基、テンスリル基等が挙げられ、好ま
しくはフェニル基である。さらに前記芳香族複素環基と
しては、例えば、カルバゾリル基、ジベンゾフリル基等
が挙げられる。さらにまた前記芳香族炭素環基及び芳香
族複素環基において前記フッ素化炭化水素基以外の置換
基としては、例えば、炭素原子数1ないし4個の置換及
び未置換のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、イ
ソプロピル基、t−ブチル基、トリフルオロメチル基等
;置換及び未置換のアラルキル基、例えばベンジル基、
フェネチル基環;ハロゲン原子、例えば塩素原子、臭素
原子、フッ素原子、沃素原子;炭素原子数1〜4個の置
換若しくは未置換のアルコキシ基、例えばメトキシ基、
エトキシ基、イソプロポキシ基、t−ブトキシ基、2−
クロルエトキシ基等;ヒドロキシ基;置換若しくは未置
換のアリールオキシ基、例えばp−クロルフェノキシ基
、1−ナフトキシ基環;、アシルオキシ基、例えばアセ
チルオキシ基、p−シアノベンゾイルオキシ基環;カル
ボキシル基、そのエステル基、例えばエトキシカルボニ
ル基、m−ブロモフェノキシカルボニル基;カルバモイ
ル基、例えばアミノカルボニル基、t−ブチルアミノカ
ルボニル基、アニリノカルボニル基環;アシル基、例え
ばアセチル基、O−ニトロベンゾイル基環;スルホ基、
スルファモイル基、例えばアミノスルホニル基、t−ブ
チルアミノスルホニル基、p−)リルアミノスルホニル
基等;アミノ基、アシルアミノ基、例えばアセチルアミ
ノ基、ベンゾイルアミノ基等;スルホンアミド基、例え
ばメタンスルホンアミド基、p−トルエンスルホンアミ
ド基環;シアノ基;ニトロ基等が挙げられる。これら置
換基のうち、好ましいものは炭素原子数1ないし4個の
置換・未置換のアルキル基、例えばメチル基、エチル基
、イソプロピル基、t−ブチル基、トリフルオロメチル
基環;ハロゲン原子、例えば塩素原子、臭素原子、フッ
素原子、沃素原子;炭素原子数1ないし4個の置換・未
置換のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、
t−ブトキシ基、2一クロルエトキシ基等;ニトロ基;
シアノ基等である。
前記−設計(n)において、Zは置換・未置換の芳香族
炭素環、または置換・未置換の芳香族複素環を形成する
に必要な原子群であって、具体的には例えば置換・未置
換のベンゼン環、置換・未置換のナフタレン環、置換・
未置換のインドール環、置換・未置換のカルバゾール環
等を形成するのに必要な原子群を表わす。
これらの環を形成するのに必要な原子群の置換基として
は、例えばArの置換基として挙げたような一連の置換
基が列挙されるが、好ましくはハロゲン原子(塩素原子
、臭素原子、弗素原子、沃素原子)、スルホ基、スルフ
ァモイル基(例えばアミノスルホニル基、p−)リルア
ミノスルホニル基等)である。
本発明の前記一般式〔I〕で表わされるビスアゾ化合物
は、好ましくは下記−設計(I)、(IV)(V)、[
VI)で表わされる。
(以下余白) 一般式(I[[) 一般式(IV) 一般式〔■〕 一般式(VD キーC0IIII−静′ 式中、X”、X”% X”およびX2bは、それぞれ水
素原子、ハロゲン原子、置換若しくは未置換のアルキル
基、置換若しくは未置換のアルコキシ基、ニトロ基、シ
アノ基、ヒドロキシ基又は置換若しくは未置換のアミノ
基を表わし、XIl、X+bX2″およびX2bのうち
、少なくとも1つはハロゲン原子である。XIfiおよ
びX1b1並びにX”およびXzbは、それぞれ互いに
同−又は異なる基であってもよい。
Arは前記−設計〔■〕におけるArと同義である。
Yは前記−設計〔【〕におけるZの置換基と同義である
下記に本発明の前記−設計(1)で示されるビスアゾ化
合物の具体例について述べるがこれによって本発明のビ
スアゾ化合物が限定されるものではない。
(以下余白) −α)NH−靜 (2)下余白) 前記−設計[()で表わされるビスアゾ化合物は、公知
の方法により容易に合成することができる。
合成例1 (例示化合物寛71の合成)2.7−ジアミ
ツー4−ブロム−9−フルオレノン2.89g <0.
01モル)を塩酸10mj’、水20rnJに分散し、
5℃以下に保ちつつ亜硝酸ナトリウム140g (0,
02モル)を水5ml!に溶した溶液を滴下した。同温
度でさらに1時間撹拌をつづけた後、不溶物を濾過除去
し、濾液に六弗化燐酸アンモニウム4.6gを水50m
1に溶かした溶液を加えた。
析出したテトラゾニウム塩を濾取し、N、N−ジメチル
ホルムアミド(DMF)100 mlに溶解した。5℃
以下に保ちながら、2−ヒドロキシ−3−ナフトエ!−
3−)リフルオロメチルアニリド6.62g  (0,
02モル)をDMF200mj!に溶かした溶液を滴下
した。
ひきつづき5℃以下に保ちながらトリエタノールアミン
6 g (0,04モル)をDMF30mj!に溶解し
たものを滴下し、5℃以下で1時間、室温で4時間撹拌
した。反応後析出晶を濾取し、DMF洗浄、水洗浄して
乾燥し、目的物8.71 gを得た。
理論値 C=6(15%、H=2.77%、N=8.63%実測
値 C=60.1%、H=2.95%、N=8−72%合成
例2(例示化合物患219の合成)2.7−ジアミツー
4−ブロム−9−フルオレノン2.89g (0,01
モル)を塩酸10m1、水20mj!に分散し、5℃以
下に保ちつつ亜硝酸ナトリウム1.40g (0,02
モル)を水5mlに溶した溶液を滴下した。同温度でさ
らに1時間攪拌をつづけた後、不溶物を濾過除去し、濾
液に六弗化燐酸アンモニウム4.6gを水50m/に溶
かした溶液を加えた。
析出したテトラゾニウム塩を濾取し、N、N−ジメチル
ホルムアミド た.5℃以下に保ちながら、2−ヒドロキシ−3(3’
−トリフルオロメチルフェニルカルバモイル)ベンゾ(
a)カルバゾール8.40g (0.02)モルをDM
F20Qmlに溶かした溶液を滴下した。
ひきつづき5℃以下に保ちながらトリエタノールアミン
6 g (0.04モル)をDMF30mJに溶解した
ものを滴下し、5℃以下で1時間、室温で4時間攪拌し
た.反応後析出晶を濾取し、DMF洗浄、水洗浄して乾
燥し、目的物5.2gを得た。
理論値 C=63.6%、Hミ2.87%、N=9.73%実測
値 C=63.4%、H = 2.97%、N = 10.
01%本発明の他の化合物も前記合成例1と同様にそ′
れぞれ対応するアミノ化合物を用いてジアゾニウム塩を
作り、次いで2−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸−置換ア
ニリド又は2−ヒドロキシ−3〜(置換フェニルカルバ
モイル)ベンゾ(a)−1換・未置換カルバゾールと反
応させて作ることができる。
次に、−設計(III)、(IV)で表される上記ペリ
ノン化合物について述べる。
一般式〔■〕または一般式[IV)において、Wl及び
W2は置換若しくは未置換のアリーレン基である。置換
基としてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン原子
;メチル基、エチル基、直鎖状又は分枝状のプロピル基
、ブチル基等の低級アルキル基;メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基等の低級アルコキシ基;
ベンジル基等のアラルキル基が挙げられる。
アリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基等
が挙げられる。
Rは、置換若しくは未置換の炭化水素残基であるが、具
体的にはメチル基、エチル基、直鎖状又は分枝状のプロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキ
ル基(好ましくは炭素数1〜6のアルキル基);ヒドロ
キシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカ
ルボニルアルキル基、アシロキシアルコキシアルキル基
、ヒドロキシアルコキシアルキル基、アシロキシアルコ
キシアルキル基、アリールオキシアルキル基、アシロキ
シアルキル基、シアノアルキル基、アミノアルキル基、
N,N−ジアルキルアミノアルキル基、アルキルアミノ
アルキル基、ハロゲン化アルキル基、カルボキシアルキ
ル基、モルホリノア、ルキル基、アルキルチオアルキル
基、アリールチオアルキル基等の置換アルキル基(好ま
しくは炭素数1〜6のアルキル基);シクロヘキシル基
のようなシクロアルキル基;ベンジル基、フェネチル基
のようなアラルキル基;フェニル基、クロルフェニル基
、メトキシフェニル基、ニトロフェニル基、トリル基、
キシリル基、アルキルアミノフェニル基等のアリール基
が挙げられる。
−設計(ill)、(IVIにおいて、アゾ基はアリー
レン基(Wl 、 WI )を介してオキサジアゾール
環に結合されているが、オキサジアゾール環のアリーレ
ン基への結合位置は任意である。例えば、WI、W″が
ベンゼン環である場合には、アゾ基の結合位置に対しベ
ンゼン環のオルト、メタ、パラ位の置換位置を選択でき
るが、このときはパラ位が好ましい。
一般式CI[]、〔■〕において、ナフタル酸イミド骨
核部分の芳香核に置換基T、Vを設けることもできる。
好適な置換基としてハロゲン原子、ニトロ基等が挙げら
れる。
以下に、 より具体的な化合物例を挙げるが、 む ろんこれらに限定されるものではない。
■ ll−3 ■ ■ ■ c、u、ot+ Ctl(a催 ■ ■ CHl V−3 C,1(4clA CHl CJ4圓 TV−4 IV−5 ■ C3)IhO[シH5 CJhOCJs 以上の如きペリノン系化合物は公知の方法より合成する
ことができる(特公昭49−21270号参照)が、市
販品として入手することができる。
電子写真感光体の構成は種々の形態が知られているが、
電子写真感光体はそれらのいずれの形態をもとり得る。
通常は、第2図〜第7図の形態である。第2図及び第3
図では、導電性支持体1上に前述のペリノン系化合物及
び−設計(1)で表される化合物と必要に応じてキャリ
ア輸送物質を含有するキャリア発生層2と1、後述する
キャリア輸送物質を主成分として含有するキャリア輸送
層3との積層体より成る感光層4A、4Bを設けており
、第2図と第3図では、キャリア発生層2とキャリア輸
送層3の積層順が異なる。第4図及び第5図に示すよう
にこれらの感光層4A、Bは、導電性支持体上に、接着
層、バリア層などの中間層5を介して設けてもよい。こ
のように感光層を二層構成としたときに最も優れた電子
写真特性を有する感光体が得られる。また、第6図及び
第7図に示すように前記ペリノン化合物及び−設計[I
)で表され化合物をキャリア輸送物質を含有する層6中
に分散せしめて成る感光層4Dを導電性支持体l上に直
接、あるいは中間層5を介して設けてもよい。
また最表面層として保護層を設けてもよい。
本発明の構成において、「−設計(1)で表される化合
物と上記ペリノン系化合物とをキャリア発生物質として
含有する層」は、第2図〜第7図においては、キャリア
発生層2、感光層4Dに相当するものである。
キャリア発生層2、感光層4Dは、導電性支持体1、若
しくはキャリア輸送層3上に直接、あるいは必要に応じ
て接着層若しくはバリヤ層などの中間層5を設けた上に
例えば次の方法によって形成することができる。
M−1)上記ペリノン化合物及び−設計(1)で表され
るアゾ化合物を一緒に或いは別々に適当な溶媒に溶解し
た溶液を、或いは必要に応じてバインダー樹脂を加え混
合溶解した溶液を塗布する方法。
M−2)上記ペリノン化合物及び一般式〔I〕で表され
るアゾ化合物を一緒に或いは別々にボールミル、ホモミ
キサ等によって分散媒中でwLet粒子(好ましくは粒
径5μm以下、更に好ましくは1μm以下)とし、必要
に応じてバインダー樹脂を加え混合分散した分散液を塗
布する方法。
キャリア発生層の形成に使用される溶媒あるいは分散媒
としては、n−ブチルアミン、ジェチルア逃ン、エチレ
ンジアミン、イソプロパツールアミン、トリエタノール
アミン、トリエチレンジアミン、N、N−ジメチルボル
ムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム
、1.2−ジクロロエタン、l、2−ジクロロプロパン
、1.1.2−トリクロロエタン、1.1.1−トリク
ロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエタン
、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
メタノール、エタノール、イソプロパツール、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセロソ
ルブ等が挙げられる。
また、キャリア輸送層は上記キャリア発生層と同様にし
て形成することができる。
キャリア発生層あるいはキャリア輸送層の形成に用いら
れるバインダー樹脂は任意のものを用いることができる
が、疎水性で、かつ誘電率が高く、電気絶縁性のフィル
ム形成性高分子重合体を用いるのが好ましい。このよう
な高分子重合体としては、例えば次のものを挙げること
ができるが、これらに限定されるものではない。
P−1)ポリカーボネート P−2)ポリエステル P−3)メタクリル酸 P−4)アクリル樹脂 P−5)ポリ塩化ビニル P−6)ポリ塩化ビニリデン P−7)ポリスチレン P−8)ポリビニルアセテート P−9)スチレン−ブタジェン共重合体P−10)塩化
ビニリデン−アクリロニトリル共重合体 P−11)塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体p−r2)
塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体 P−13>シリコン樹脂 P−14)シリコン−アルキッド樹脂 P−15)フェノールホルムアルデヒド樹脂P−16)
スチレン−アルキッド樹脂 P−17>ポリ−N−ビニルカルバゾールP−18)ポ
リビニルブチラール P−19)ポリビニルフォルマール これらのバインダー樹脂は、単独であるいは2種以上の
混合物として用いることができる。
キャリア発生層において、キャリア発生物質とバインダ
ーとの重量比は好ましくは100  : 0〜1000
がよい、キャリア発生物質の含有割合がこれより少ない
と光感度が低く、残留電位の増加を招き、またこれより
多いと暗減衰及び受容電位が低下する。
形成されるキャリア発生層の膜厚は、好ましくは0.0
1〜10μmである。
また、前記のようにして形成されるキャリア輸送層にお
いて、キャリア輸送物質はキャリア輸送層中のバインダ
ー樹脂100重量部当り20〜200重量部が好ましく
、特に好ましくは30〜150重量部である。
また、形成されるキャリア輸送層の厚さは、好ましくは
5〜50μm、特に好ましくは5〜30μmである。
キャリア輸送物質としては、特に制限はないが、例えば
オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾ
ール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導
体、イミダゾール誘導体、イミダシロン誘導体、イミダ
ゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル
化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、アミン
誘導体、オキサシロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体
、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベン
ゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体
、アミノスチルベン誘導体、ポリ−Nビニルカルバゾー
ル、ポリ−1−ビニルピレン、ポリ−9−ビニルアント
ラセン等から選ばれた一種又は二種以上が例示される。
キャリア輸送物質としては、光照射時発生するキャリア
の支持体側への輸送能力が優れている外、前記ペリレン
化合物及び−最大(1)で表されるアゾ化合物との組合
せに好適なものが好ましく用いられ、かかる電荷輸送物
質として好ましいものは下記−最大(A)、(B)及び
(C)で表わされるものが挙げられる。
一般式(A) 但し、Ar’ 、Ar” 、Ar’はそれぞれ置換又は
未置換のアリール基を表わし、Ar’は置換又は未置換
のアリーレン基を表わし、R&は水素原子、置換若しく
は未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリ
ール基を表わす。
このような化合物の具体例は特開昭58−65440号
の第3〜4頁及び同58−198043号の第3〜6頁
に詳細に記載されている。
一般式(B) 但し、R7は置換・未置換の7リール基、置換未置換の
複素環基であり、R8は水素原子、置換未置換のアルキ
ル基、置換・未置換の了り−ル基を表わし、詳細には特
開昭58−134642号及び同58−166354号
の公報に記載されている。
−設計(C) 但し、R9は置換・未置換のアリール基であり、R”は
水素原子、ハロゲン原子、置換・未置換のアルキル基、
置換・未置換のアルコキシ基、置換・未置換のアミノ基
、ヒドロキシ基であり、R1は置換・未置換のアリール
基、置換・未置換の複素環基を表わす。これらの化合物
の合成法及びその例示は特公昭57−148750号公
報に詳細に記載されており、本発明に援用することがで
きる。
本発明のその他の好ましい電荷輸送物質としては、特開
昭57−67940号、同59−15252号、同57
101844号公報にそれぞれ記載されているヒドラゾ
ン化合物を挙げることができる。
感光体に用いられる3電性支持体としては、合金を含め
た金属板、金属ドラム又は導電性ポリマ、酸化インジウ
ム等の導電性化合物や合金を含めたアルミニウム、パラ
ジウム、金等の金属薄層を塗布、蒸着あるいはラミネー
トして、導電性化された紙、プラスチックフィルム等が
挙げられる。
接着層あるいはバリヤ層などの中間層としては、前記バ
インダー樹脂として用いられる高分子重合体のほか、ポ
リビニルアルコール、エチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロースなどの有機高分子物質または酸化アルミ
ニウムなどが用いられる。
本発明の感光層には有機アミン類を添加することができ
、特に2級アミンを添加するのが好ましい。
かかる2級アミンとしては、例えばジメチルアミン、ジ
エチルアミン、ジ−nプロピルアミン、ジ−イソプロピ
ルアミン、ジ−nブチルアミン、ジ−イソブチルアミン
、ジ−nアミルアミン、ジイソアミルアミン、ジ−nヘ
キシルアミン、ジイソヘキシルアミン、ジ−nペンチル
アミン、ジ−イソペンチルアミン、ジ−nオクチルアミ
ン、ジ−イソオクチルアミン、ジ−nノニルアミン、ジ
−イソノニルアミン、ジ−nデシルアミン、ジイソデシ
ルアミン、ジ−nモノデシルアミン、ジルイソモノデシ
ルアミン、ジ−nドデシルアミン、ジ−イソドデシルア
ミン等を挙げることができる。
又かかる有機アミン類の添加量としては、キャリア発生
物質の1倍以下、好ましくは0.2倍〜0.005倍の
範囲のモル数とするのがよい。
感光層には、オゾン劣化防止の目的で酸化防止剤を添加
することができる。
かかる酸化防止剤の代表的具体例を以下に示すが、これ
に限定されるものではない。
(1)群;ヒンダードフェノール類 ジブチルヒドロキシトルエン、2.2−メチレンビス(
6−t−ブチル−4−メチルフェノール)4.4′−ブ
チリデンビス(6−t−ブチル−3−メチルフェノール
)、4.4’−チオビス(6−tブチル−3−メチルフ
ェノール)、2.2’−ブチリデンビス(6−t−ブチ
ル−4−メチルフェノール)、α−トコフェロール、β
−トコフェロール、2,2.4−トリメチル−6−ヒド
ロキシ7−t−ブチルクロマン、ペンタエリスチルテト
ラキス(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4ヒドロキシ
フエニル)プロピオネート)、2,2チオジエチレンビ
スC3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロピオネ−1−)、1.6−ヘキサンジオー
ルビス[,3−(3゜5−ジーL−7’チルー4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオネート〕、ブチルヒドロキシ
アニソール、ジブチルヒドロキシアニソール、1− (
2−((3,5−ジーter t−ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオニルオキシ)エチル〕−4(3
−(3,5−ジーter t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオニルオキシ]−2,2゜6.6−チ
トラメチルピペリジルなど。
(II)!LパラフェニレンジアミミノN−フェニル−
N′−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N、N
−ジー5ec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N−
フェニル−N −5ecブチル−p−フェニレンジアミ
ン、N、N’−ジイソプロピル−p−フェニレンジアミ
ン、N、 Nジメチル−N、 N−ジ−t−ブチル−p
−フェニレンジアミンなど。
(I[)群:ハイドロキノン類 2.5−ジ−t−オクチルハイドロキノン、2゜6−シ
ドデシルハイドロキノン、2−ドデシルハイドロキノン
、2−ドデシル−5−クロロハイドロキノン、2−t−
オクチル−5−メチルハイドロキノン、2−(2−オク
タデセニル)−5−メチルハイドロキノンなど。
(IV)群:有機硫黄化合物類 ジラウリル−3,3′−チオジプロピオネート、ジステ
アリル−3,3′−チオジプロピオネート、ジテトラデ
シルー3.3′−チオジプロピオネートなど。
(V)群:有機燐化合物類 トリフェニルホスフィン、トリ (ノニルフェニル)ホ
スフィン、トリ (ジノニルフェニル)ホスフィン、ト
リクレジルホスフィン、トリ (2,4ジブチルフエノ
キシ)ホスフィンなど。
これらの化合物はゴム、プラスチック、油脂類等の酸化
防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる
これらの酸化防止剤はキャリア輸送層に添加してよい、
その場合の酸化防止剤の添加量はキャリア輸送物質10
0重量部に対して0.1〜100重量部、好ましくは1
〜50重量部、特に好ましくは1〜25重量部である。
キャリア発生層には感度の向上、残留電位乃至反復使用
時の疲労低減等を目的として、一種又は二種以上の電子
受容性物質を含有せしめることができる。
ここに用いることのできる電子受容性物質としては、例
えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マ
レイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、
テトラブロム無水フタル酸、3−ニトロ無水フタル酸、
4−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸1.無水
メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノ
ジメタン、0−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼ
ン、1.3.5−トリニトロベンゼン、バラニトロベン
ゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド
、クロラニル、プルマニル、ジクロロジシアノバラベン
ゾキノン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、
2,7−シニトロフルオレノン、2.4.7−1−リニ
トロフルオレノン、2゜4.5.7−テトラニトロフル
オレノン、9−フルオレニリデン〔ジシアノメチレンマ
ロノジニトリル〕、ポリニトロ−9−フルオレニリデン
ー〔ジシアノメチレンマロノジニトリル〕、ピクリン酸
、0−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3.5−
ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5−ニト
ロサリチル酸、3,5−ジニトロサリチル酸、フタル酸
、メリット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を挙
げることができる。
電子受容性物質の添加量は、重量比でキャリア発生物質
:電子受容性物質=100  :  (0,01〜20
0)、好ましくは100  :  (0,1〜100)
である。
電子受容性物質はキャリア輸送層に添加してもよい、か
かる層への電子受容性物質の添加量は重量比でキャリア
輸送物質:電子受容性物質=100:  (0,01〜
100)、好ましくは100  :  (0,1〜50
)である。
また本発明の感光体には、その他、必要により感光層を
保護する目的で紫外線吸収剤等を含有してもよく、また
感色性補正の染料を含有してもよい。
ホ、実施例 以下、本発明の詳細な説明するが、これにより本発明の
実施の態様が限定されるものではない。
実施例−1 ポリカーボネート樹脂(パンライトL −1250゜音
大化成側製)5gを1,2−ジクロロエタン200mA
に溶解した後、キャリア発生物質CGM2として例示ペ
リノン系化合物(I[[−3)Logを混合し、サンド
グラインダーで10時間分散した。これをA液とする。
次に上記ポリカーボネート樹脂1gを1,2ジクロロ工
タン120mAに溶解した後、キャリア発生物質CGM
1として例示アゾ化合物患71.2gを混合し、サンド
グラインダーで10時間分散した。これをB液とする。
上記A液200mj!とB液2Qmj!を攪拌混合して
キャリア発生層形成用塗布液とし、これを/l蒸着を施
こしたポリエステルベース上にワイヤーパーで塗布し、
乾燥後膜要約0.3μmのキャリア発生層を形成した。
次に下記組成のキャリア輸送層形成用塗布液を用い、ブ
レードにより乾燥後膜要約20.ctmのキャリア輸送
層を上記のキャリア発生層上に塗布形成し、感光体を得
た。
1.2−ジクロロエタン ポリカーボネート樹脂(同上) 100mj! 5  g 2  g この得られた感光体を試料患1とする。
次に、試料隘1において、使用されるキャリア発生物質
又はその含有量比を表−1に示す様に変えた以外は試料
隘1と同様にして試料N12〜8を作製した。
こうして得られた感光体試料!kl〜8の特性評価試験
を以下の様にして行った。
〔感度試験〕
静電帯電試験装置E P A −8100(川口電機部
製)を用いて、感光体表面電位が初期電位から半減する
のに必要な露光量El/Z  C!1ux−sec)を
測定した。
〔繰り返し特性試験〕
上記静電帯電試験装置E P A −8100を用いて
、帯電−露光−除電を100回繰り返した時の1回目と
100回目の帯電電位の変化量Δv04100  (V
)を測定した。
〔赤色再現性試験〕
電子写真複写機r U −Bix 1550」(コニカ
■製)を改良し表面電位計を備えた複写機を用い、コダ
ック力う−コントロールパ、チを原稿として、その中の
黒紙電位を一600V、白紙電位を一1oo vに合わ
せてコピーを行った時の赤パッチに対応する感光体の表
面電位V、、、(v〕を測定した。■1.4の値が低い
ほど赤色画像の再現性が劣ることを示す。
得られた結果をまとめて表−1に示す。
(以下余白) *比較アブ化合物 表−1の結果から、実施例の感光体は比較感光体に比べ
て、感度、赤色画像の複写再現性及び繰り返し特性の全
ての点において、優れた性能を示していることが明らか
である。
実施例−2 使用されるキャリア発生物質の組合せを表−2に示すP
J番こ変え、さらにキャリア輸送層形成用塗布液に用い
られるポリカーボネート樹脂をニーピロンZ−200(
三菱ガス化学■M)に代える以外は実施例−1と同様に
して試料魚9〜12を作製し、これらの試料について実
施例−1と同様な特性評価試験を行い、得られた結果を
表−2に示す。
(以下余白) 表−2の結果から、実施例の感光体は、感度、赤色画像
の複写再現性及び繰り返し特性の全ての点において、優
れた性能を示すことがわかる。
実施例−3 使用されるキャリア発生物質の組合せを表−3に示す様
に変え、さらにキャリア輸送層形成用塗布液に用いられ
るポリカーボネート樹脂をニーピロンZ−200(前出
)に代え、キャリア輸送物質をに代える以外は実施例−
1と同様にして試料!1h13〜15を作製し、これら
の試料について実施例−1と同様な特性評価試験を行い
、得られた結果を表=3に示す。
(以下余白) 表−3の結果から、実施例の感光体は感度、赤色画像の
複写再現性及び繰り返し特性の全ての点において、優れ
た性能を示すことがわかる。
実施例−4 使用されるキャリア発生物質の組合せを表−4に示す様
に変え、さらにキャリア輸送層形成用塗布液に用いられ
るポリカーボネート樹脂をユーピOCHよ に代える以外は実施例−1と同様にして試料隘16〜1
8を作製し、これらの試料について実施例−1と同様な
特性評価試験を行い、得ら、れた結果を表4に示す。
(以下余白) 表−4の結果から、実施例の感光体は白色光に対する感
度、半導体レーザー光に対する感度及び繰り返し特性の
全ての点において、優れた性能を示すことがわかる。
実施例−5 アルミニウムを蒸着したポリエチレンテレフタレートシ
ート状導電性基体上に、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水
マレイン酸共重合体(エスレソクMF−10:積水化学
工業社製)よりなる厚さ約O01μmの中間層を形成し
た。
次いで、下記組成のキャリア輸送層形成用塗布液を前記
中間層上に塗布、乾燥して15μm厚のキャリア輸送層
を形成した。
1.2−ジクロロエタン      100m1ポリカ
ーボネート樹脂(パンライトに一1300帝人化成社製
)15g 2  g 次に、ポリカーボネート樹脂(パンライトL−1250
、奇人化成■製>5gを1,2−ジクロロエタン200
mj!に溶解した後、キャリア発生物質CGM2として
例示ペリノン系化合物(I[−3)10gを混合し、サ
ンドグラインダーで10時間分散した。これをA液とす
る。
次に上記ポリカーボネート樹脂1gを1,2ジクロロ工
タン120mj!に溶解した後、キャリア発生物質CG
M1として例示アゾ化合物&(71)2gを混合し、サ
ンドグラインダーで10時間分散した。これをB液とす
る。
上記のA液200mJとB液20m1とを攪拌混合して
得た分散液に、下記キャリア輸送物質4g添加し、更に
モノクロロベンゼン20m1を加えてキャリア発生層形
成用塗布液とした。この塗布液を前記キャリア輸送層上
にスプレー塗布し、膜厚5μmのキャリア発生層を形成
した。
こうして得られた感光体を試料患19とする。
次に試料隘19において、使用されるキャリア発生物質
又はその含有量を表−5に示すように変え、その他は試
料隘19と同様にして試料患20〜23を作製した。こ
れらの各試料について実施例−1と同様な特性評価を行
い、得られた結果を表−5に示す。
(以下余白) 表−5の結果から、実施例の感光体は感度、赤色画像の
複写再現性及び繰り返し特性の全ての点において、優れ
た性能を示すことがわかる。
【図面の簡単な説明】
第1図は各キャリア発生物質についての量子効率スペク
トルを示すグラフである。 第2図、第3図、第4図、第5図、第6図、第7図はそ
れぞれ感光体の構成例について示す断面図である。 なお、図面に示す符号において、 1・−−−−−−−−−−−−一導電性支持体2・−・
・・・−・・−・・キャリア発生層3−・−−一−−−
−−−−−−キャリア輸送層4A、4B、4 D−−−
−−−−−−−−−m−感光層5−−−−−−−・・−
・中間層 6・・・−・・・−・−電荷輸送物質を含有する層であ
る。 代理人  弁理士  逢 坂   宏 シ良1ヅ馳:/nm 第 図 第4図 第6図 第3図 第5図 第7 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、下記一般式〔 I 〕で表される化合物をキャリア発
    生物質として含有する層を有し、かつ下記一般式〔III
    〕で表される化合物と下記一般式〔IV〕で表される化合
    物との少なくとも一方をキャリア発生物質として前記層
    に含有する感光体。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔X^1及びX^2は、それぞれ、ハロゲン原子、置換
    若しくは未置換のアルキル基、置換若しくは未置換のア
    ルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基又は置
    換若しくは未置換のアミノ基を表し、X^1及びX^2
    のうち少なくとも1つはハロゲン原子である。 p及びqはそれぞれ0、1又は2の整数を表し、p及び
    qは同時に0となることはなく、且つ、pが2のときは
    X^1は互いに同一の又は異なる基であってよく、qが
    2のときはX^2は互いに同一の又は異なる基であって
    よい。 Aは下記一般式〔II〕で表わされる基を表す。 一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Arは少なくともフッ素化炭化水素基を有する
    芳香族炭素環基又は芳香族複素環基を表す。 Zは置換若しくは未置換の芳香族炭素環又は置換若しく
    は未置換の芳香族複素環を形成するのに必要な非金属原
    子群を表す。) m及びnはそれぞれ0、1又は2の整数を表す。 但し、m及びnが同時に0となることはない。〕一般式
    〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式〔IV〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔Rは、置換若しくは未置換の炭化水素残基を表す。 W^1及びW^2は、それぞれ、置換若しくは未置換の
    アリーレン基を表す。 V、Tは、それぞれ置換基を表す。 rは0、1、2又は3を表す。 sは0又は1を表す。〕
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