JPH02295964A - フエニレンジアミンおよびその製造方法 - Google Patents
フエニレンジアミンおよびその製造方法Info
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- JPH02295964A JPH02295964A JP2107712A JP10771290A JPH02295964A JP H02295964 A JPH02295964 A JP H02295964A JP 2107712 A JP2107712 A JP 2107712A JP 10771290 A JP10771290 A JP 10771290A JP H02295964 A JPH02295964 A JP H02295964A
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-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
- C07C309/01—Sulfonic acids
- C07C309/28—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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-
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- C07C309/46—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton containing nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the carbon skeleton having the sulfo groups bound to carbon atoms of non-condensed six-membered aromatic rings
-
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- C07C309/51—Sulfonic acids having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton containing nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the carbon skeleton at least one of the nitrogen atoms being part of any of the groups, X being a hetero atom, Y being any atom
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
〔式中R1は水素、ホルミルまたはオキサリルを表わし
、 R2は水素または01〜C4アルキルを表わし、R3ハ
水素または02〜C8アルカノイルを表わし、 ただし R1とR2は同時に水素を表わさず、R2がメ
チルまたはエチルを表わす場合にR1とR3は同時に水
素を表わさないものとする〕で示されるフェニレンジア
ミンならびにフェニレンジアミンの製造方法に関する。
、 R2は水素または01〜C4アルキルを表わし、R3ハ
水素または02〜C8アルカノイルを表わし、 ただし R1とR2は同時に水素を表わさず、R2がメ
チルまたはエチルを表わす場合にR1とR3は同時に水
素を表わさないものとする〕で示されるフェニレンジア
ミンならびにフェニレンジアミンの製造方法に関する。
比較的古い欧州特許出願公開筒315045号明細書か
ら4−アミノ−2−(N−メチルアミノ)ベンゼンスル
ホン酸ならびに4−アミノ−2−(N−エチルアi))
ベンゼンスルホン酸は公知である。
ら4−アミノ−2−(N−メチルアミノ)ベンゼンスル
ホン酸ならびに4−アミノ−2−(N−エチルアi))
ベンゼンスルホン酸は公知である。
本発明の課題は、新規フェニレンジアミン々らびにその
製造方法を提供することであった。
製造方法を提供することであった。
前記l!題に対して冒頭に詳細に表わした式■のフェニ
レンジアミンが見出された。
レンジアミンが見出された。
前記の式Iにおいて表わされる全てのアルキル基は直鎖
または分枝鎖であってもよいつR2はたとえばメチル、
エチル、プロピル、イソゾロざル、ブチル、インブチル
または8−プチルを表わす。
または分枝鎖であってもよいつR2はたとえばメチル、
エチル、プロピル、イソゾロざル、ブチル、インブチル
または8−プチルを表わす。
R3はたとえばアセチル、ゾロビオニル、ブチリル、イ
ンブチリル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘキサノイ
ル、オクタノイルまたは2−エチルヘキサノイルを表わ
す。
ンブチリル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘキサノイ
ル、オクタノイルまたは2−エチルヘキサノイルを表わ
す。
さらに、式I:
〔式中R1は水素、ホルミルまたはオキサリルを表わし
、 R2は水素またはCユ〜C4アルキルを表わし、R3は
水素または02〜C8アルカノイルを表わし、 ただし HlとR2は同時に水素を表わさないものとす
る〕で示されるフェニレンシアミンは、有利に、まず1
,3−ジアミノベンゼン−4−フルホン酸をイ酸または
シュウ酸で処理し、場合によりC2〜C8アルカン醗か
ら誘導されたアシル化剤で処理し、次に、場合により第
2工程で、式■: N)( 〔式中R4はホルミルまたはオキサリルを表わし R3
は前記のものを表わす〕で示される得られたアシル誘導
体を式1: %式% 〔式中B5は01〜C4アルキルを表わし、Xは脱離基
を表わす〕で示されるアルキル化剤と反応させ、場合に
より第3工程で、ホルミル基またはオキサリル基および
場合によりC2〜C8アルカノイル基を、加水分解によ
り分割する場合に得られることが見出された。
、 R2は水素またはCユ〜C4アルキルを表わし、R3は
水素または02〜C8アルカノイルを表わし、 ただし HlとR2は同時に水素を表わさないものとす
る〕で示されるフェニレンシアミンは、有利に、まず1
,3−ジアミノベンゼン−4−フルホン酸をイ酸または
シュウ酸で処理し、場合によりC2〜C8アルカン醗か
ら誘導されたアシル化剤で処理し、次に、場合により第
2工程で、式■: N)( 〔式中R4はホルミルまたはオキサリルを表わし R3
は前記のものを表わす〕で示される得られたアシル誘導
体を式1: %式% 〔式中B5は01〜C4アルキルを表わし、Xは脱離基
を表わす〕で示されるアルキル化剤と反応させ、場合に
より第3工程で、ホルミル基またはオキサリル基および
場合によりC2〜C8アルカノイル基を、加水分解によ
り分割する場合に得られることが見出された。
この本発明による方法は、1.3−ジアミノベンゼン−
4−スルホン酸を水溶液中で90〜100°Cの温度で
ギ酸またはシュウ酸で処理し、その際水溶液中の酸濃度
は、それぞれの溶液に対して一般に5〜98重量%、有
利に5〜30重量%にあるように実施するのが好ましい
。
4−スルホン酸を水溶液中で90〜100°Cの温度で
ギ酸またはシュウ酸で処理し、その際水溶液中の酸濃度
は、それぞれの溶液に対して一般に5〜98重量%、有
利に5〜30重量%にあるように実施するのが好ましい
。
通常り、5〜5時間、有利には1,5〜3時間の反応時
間の後に1生じた3−(N−ホルミルアミノ)−着たけ
3−(N−オキサクルアミノ)アニリン−4−スルホン
酸は、PF11〜7、有利に1〜3.5オたは5〜7で
、場合により食塩を添加しながら沈殿させ、吸引濾過す
ることができる。しかし生じた反応溶液は直接次の処理
を行うこともできる。
間の後に1生じた3−(N−ホルミルアミノ)−着たけ
3−(N−オキサクルアミノ)アニリン−4−スルホン
酸は、PF11〜7、有利に1〜3.5オたは5〜7で
、場合により食塩を添加しながら沈殿させ、吸引濾過す
ることができる。しかし生じた反応溶液は直接次の処理
を行うこともできる。
ギ酸またはシュウ酸での処理の後に、02〜c8アルカ
ン酸から誘導したアシル化剤で処理を行うことができる
。この処理は通常水性反応媒体中で行なわれる。
ン酸から誘導したアシル化剤で処理を行うことができる
。この処理は通常水性反応媒体中で行なわれる。
前記アシル化剤は、通常相応するカルボン酸無水物(こ
の場合混成カルボン酸無水物も挙げられる)または相応
するカルボン酸ハロゲニドである。たとえば無水酢酸、
無水プロピオン酸、アセチルクロリドまたはゾロ曾オニ
ルクロリドが挙げられる。無水プロピオン酸、特に無水
酢酸を使用するのが好ましい。
の場合混成カルボン酸無水物も挙げられる)または相応
するカルボン酸ハロゲニドである。たとえば無水酢酸、
無水プロピオン酸、アセチルクロリドまたはゾロ曾オニ
ルクロリドが挙げられる。無水プロピオン酸、特に無水
酢酸を使用するのが好ましい。
フエニレシジアミン1モルにつき、通常アシル化剤1.
1〜2.0モル、有利に1.1〜1.7モルが用いられ
る。一般に、とのアシル化は10〜45℃、有利に20
〜60℃の温度で、−値3〜7.5、有利に5.5〜6
.5で行う。
1〜2.0モル、有利に1.1〜1.7モルが用いられ
る。一般に、とのアシル化は10〜45℃、有利に20
〜60℃の温度で、−値3〜7.5、有利に5.5〜6
.5で行う。
一般に15〜90分、有利に60〜60分の反応が終了
した後に、式ri(R3m C2〜C8アルカノイル)
のアシル化生成物は、pHHO25〜7.5、有利に3
〜4.5で、食塩を用いて沈殿させることができる。し
かし生じた反応溶液は直接次の処理を行うことができる
。
した後に、式ri(R3m C2〜C8アルカノイル)
のアシル化生成物は、pHHO25〜7.5、有利に3
〜4.5で、食塩を用いて沈殿させることができる。し
かし生じた反応溶液は直接次の処理を行うことができる
。
有利な方法においてはアシル化剤なしに作業する、つま
クアルキル化反応を、ギ酸またはシュウ酸での処理の直
稜に行う。この場合、反応性成物を途中で単離せずに作
業するのが好ましい。アルキル化反応が始まる前に、水
溶液のβ値を6〜7に調節する。
クアルキル化反応を、ギ酸またはシュウ酸での処理の直
稜に行う。この場合、反応性成物を途中で単離せずに作
業するのが好ましい。アルキル化反応が始まる前に、水
溶液のβ値を6〜7に調節する。
R2が01〜C4アルキルを表わす式■の化合物は、た
とえばアシル化住物]を、式■5−X 〔式中P6はCよ〜C4アルキルを表わし、Xは脱離基
を表わす〕で示されるアルキル化剤と反応させることK
より得られた。
とえばアシル化住物]を、式■5−X 〔式中P6はCよ〜C4アルキルを表わし、Xは脱離基
を表わす〕で示されるアルキル化剤と反応させることK
より得られた。
適当な脱離基は、たとえばハロゲン、たとえば塩素、臭
素またはヨウ素または式: %式% o−5o2−oR’ [”式中R5は前記のものを表わ
す〕で示される基である。cl−c、−ジアルキルスル
フェート、%にジメチルスルフェートまたはジエチルス
ルフェートを使用するのが好ましい。
素またはヨウ素または式: %式% o−5o2−oR’ [”式中R5は前記のものを表わ
す〕で示される基である。cl−c、−ジアルキルスル
フェート、%にジメチルスルフェートまたはジエチルス
ルフェートを使用するのが好ましい。
このアルキル化反応は、公知方法により、水性反応媒体
中で、塩基、たとえば水酸化す) IJクム″!丸は水
酸化カリウムの存在で実施し、その際水酸化ナトリウム
を使用するのが好ましい。
中で、塩基、たとえば水酸化す) IJクム″!丸は水
酸化カリウムの存在で実施し、その際水酸化ナトリウム
を使用するのが好ましい。
アシル化生成物■1モルにつき、一般にアルキル化剤1
1.0〜2.0 %A=有利1c 1.2〜1.7 %
ルを使用する。アルキル化剤11そル等量につき、原則
として塩基1〜2モル、有利に1.1〜1.3モルを使
用する。
1.0〜2.0 %A=有利1c 1.2〜1.7 %
ルを使用する。アルキル化剤11そル等量につき、原則
として塩基1〜2モル、有利に1.1〜1.3モルを使
用する。
反応温度は通常10〜80℃である、ジメチルスルフェ
ートで処理する際に10〜50°C1有利に20〜35
℃の温度が好ましく、ジエチルスフエートで処理する際
には40〜80℃の温度範囲が有利である。
ートで処理する際に10〜50°C1有利に20〜35
℃の温度が好ましく、ジエチルスフエートで処理する際
には40〜80℃の温度範囲が有利である。
試薬の添加の順序は任意である。この反応は一般に5〜
30分の反応時間の後に完了し、次いで反応生成物は公
知方法で単離される。
30分の反応時間の後に完了し、次いで反応生成物は公
知方法で単離される。
しかし、途中で単離せずに、ホルミル基またはオキサリ
ル基および02〜C8アルカノイル基を加水分解により
直接分割してもよい。これは酸性かまたはアルカリ性の
水性媒体中で行なわれる。
ル基および02〜C8アルカノイル基を加水分解により
直接分割してもよい。これは酸性かまたはアルカリ性の
水性媒体中で行なわれる。
酸性媒体中での作業の場合、たとえば試薬として塩酸−
!!たけ硫酸を用い、−値−0,5〜+2、有利に−0
,5〜+0.5で作業する。アルカリ性媒体中での作業
の場合、たとえば試薬として、脱アシルすべき生成物1
モルに対して、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム
1〜6モルを使用する。
!!たけ硫酸を用い、−値−0,5〜+2、有利に−0
,5〜+0.5で作業する。アルカリ性媒体中での作業
の場合、たとえば試薬として、脱アシルすべき生成物1
モルに対して、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム
1〜6モルを使用する。
酸性ならびにアルカリ性媒体中で、還流温度に温めなが
ら加水分解による分割を行う。2〜3時間の反応時間の
後に分割は完了し、目的生成物は公知方法により単離さ
れる。
ら加水分解による分割を行う。2〜3時間の反応時間の
後に分割は完了し、目的生成物は公知方法により単離さ
れる。
連続的ならびに非連続的作業法で行うことができる新規
方法を用いて、容易に本発明による式■のフェニレンジ
アミンは得られる。このフェニレンジアミンは、染料、
たとえば比較的古い欧州特許出願公開第315045号
明細書に記載されたような反応性染料の合成のための価
値ある中間体である。
方法を用いて、容易に本発明による式■のフェニレンジ
アミンは得られる。このフェニレンジアミンは、染料、
たとえば比較的古い欧州特許出願公開第315045号
明細書に記載されたような反応性染料の合成のための価
値ある中間体である。
次に、本発明を実施例につき詳説する。
例 1
1.3−ジアミノベンゼン−4−スルホン酸94gを水
4301およびギ酸70g中で6時間煮沸還流させた。
4301およびギ酸70g中で6時間煮沸還流させた。
20℃に冷却後、生じた3−(N−ホルミルアミノ)ア
ニリン−4−スルホン酸を吸引濾過し、水500Ii中
に攪拌混入し、その際苛性ソーダ液でβ値を6.5に調
節した。ここで無水酢酸を添加し、その際−値を苛性ソ
ーダ液の添加により5.0〜6.5KU4節した。
ニリン−4−スルホン酸を吸引濾過し、水500Ii中
に攪拌混入し、その際苛性ソーダ液でβ値を6.5に調
節した。ここで無水酢酸を添加し、その際−値を苛性ソ
ーダ液の添加により5.0〜6.5KU4節した。
30分後、−値を苛性ソーダ液で12.5に調節し、ジ
メチルスルフェート75gを筒用した。
メチルスルフェート75gを筒用した。
30分徒K、塩酸でβ値を−0,5に調節し、3時間煮
沸還流させた。冷却後、苛性ソーダ液でβ値をLOK調
節し、塩化ナトリウム150gで塩析し、沈殿した3−
(N−メチルアミノ)アニリン−4−スルホン酸を吸引
濾過した。
沸還流させた。冷却後、苛性ソーダ液でβ値をLOK調
節し、塩化ナトリウム150gで塩析し、沈殿した3−
(N−メチルアミノ)アニリン−4−スルホン酸を吸引
濾過した。
13C−NMR−データ:
3−(N−ホルミルアミノ)アニリン−4−スオホン酸
δ(a5− DMSO) : 173,6 (a)、
153.3 (s)、148.0 (s)、131.<
S (a)、120.6 (a)、106.4 (d)
、105.5 (a) 3−(N−メチル7j/)7ニリンー4−スルホン酸 δ(dσ−DMSO) : 153.8 (s)、1
50.5 (s)、13L8 (a)、120.2 (
s’)、106.2 (d)、101)、8 (d)、
32.5 (q) 例 2 3−(N−7セチルアミノ)アニリン−4−スルホン酸
115Iを水43017およびギ酸70.9中で7時間
煮沸加熱した。20’OK冷却した後、引き続き苛性ソ
ーダ液で−を12¥′C調節し九。次いでジメチルスル
7エート75’、Ft−添加し、40分後に塩酸で−を
−0,5K調節したつ還流温度に3時間加熱した後に1
食塩1502で塩析し、苛性ノーダ液でβ値を1.OK
K調節、沈殿物として生じた3−(N−メチルアミン)
アニリン−4−スルホン酸を濾過により単離した。
153.3 (s)、148.0 (s)、131.<
S (a)、120.6 (a)、106.4 (d)
、105.5 (a) 3−(N−メチル7j/)7ニリンー4−スルホン酸 δ(dσ−DMSO) : 153.8 (s)、1
50.5 (s)、13L8 (a)、120.2 (
s’)、106.2 (d)、101)、8 (d)、
32.5 (q) 例 2 3−(N−7セチルアミノ)アニリン−4−スルホン酸
115Iを水43017およびギ酸70.9中で7時間
煮沸加熱した。20’OK冷却した後、引き続き苛性ソ
ーダ液で−を12¥′C調節し九。次いでジメチルスル
7エート75’、Ft−添加し、40分後に塩酸で−を
−0,5K調節したつ還流温度に3時間加熱した後に1
食塩1502で塩析し、苛性ノーダ液でβ値を1.OK
K調節、沈殿物として生じた3−(N−メチルアミン)
アニリン−4−スルホン酸を濾過により単離した。
例 6
1.3−ジアミノベンゼン−4−スルホン酸94gを水
430.9オよヒキ酸70.9中で3時間煮沸還流させ
た。引き続き20℃で水100dを添加し、−値を苛性
ソーダ液で6.5に調節した。次いで無水酢酸70gを
添加し、その際−値を苛性ソーダ液で5.5〜6.5に
保持した。
430.9オよヒキ酸70.9中で3時間煮沸還流させ
た。引き続き20℃で水100dを添加し、−値を苛性
ソーダ液で6.5に調節した。次いで無水酢酸70gを
添加し、その際−値を苛性ソーダ液で5.5〜6.5に
保持した。
引き続き苛性ソーダ液でβ値を12.5に調節し、ジメ
チルスルフェート75gを添加したう30分後50ii
tチの苛性ソーダ液110Iを添加し、100℃で3時
間煮沸還流させた。引き続き水150dを留去し、塩酸
でβ値を1に調節した。20℃で沈殿物として生じた3
−(N−メチルアミノ)アニリン−4−スルホン酸ヲ濾
過により単離した。
チルスルフェート75gを添加したう30分後50ii
tチの苛性ソーダ液110Iを添加し、100℃で3時
間煮沸還流させた。引き続き水150dを留去し、塩酸
でβ値を1に調節した。20℃で沈殿物として生じた3
−(N−メチルアミノ)アニリン−4−スルホン酸ヲ濾
過により単離した。
例 4
1.3−ジアミノベンゼン−4−スルホン酸4711を
水215Nおよびヤ酸35.9中で6時間煮沸還流させ
た。次いでβ値を苛性ソーダ液で6.5に調節し、20
℃で無水酢酸35.9を流加した。その際−値を苛性ソ
ーダ液で6.0〜7.0に保持した。1時間後に、塩酸
でβ値を4.0に調節し、塩化ナトリウム200IIを
添加した。5時間攪拌した後に、沈殿物として生じた1
−(N−アセチルアミン)−3−(N−ホルミルアミノ
)ベンゼン−4−スルホン酸ヲ濾過により単離した。
水215Nおよびヤ酸35.9中で6時間煮沸還流させ
た。次いでβ値を苛性ソーダ液で6.5に調節し、20
℃で無水酢酸35.9を流加した。その際−値を苛性ソ
ーダ液で6.0〜7.0に保持した。1時間後に、塩酸
でβ値を4.0に調節し、塩化ナトリウム200IIを
添加した。5時間攪拌した後に、沈殿物として生じた1
−(N−アセチルアミン)−3−(N−ホルミルアミノ
)ベンゼン−4−スルホン酸ヲ濾過により単離した。
13C−N■−データ
1−(N−アセチルアミン)−3−(N−ホルミルアミ
ノ)ベンゼン−4−スルホン酸a (c!’−DMSO
): 168.8 (s)、159.9 (a)、1
42.5 (s)、134.4 (a’)、130・0
(8)、127.7 (a)、113.7 (a)、1
11.5 (a)、23.8 ((1) 例 5 3−(N−ホルミルアミノ)アニリン−4−スルホン酸
220gを水15001nl中でβ値5.0〜5.5で
無水酢酸140yと反応させた。
ノ)ベンゼン−4−スルホン酸a (c!’−DMSO
): 168.8 (s)、159.9 (a)、1
42.5 (s)、134.4 (a’)、130・0
(8)、127.7 (a)、113.7 (a)、1
11.5 (a)、23.8 ((1) 例 5 3−(N−ホルミルアミノ)アニリン−4−スルホン酸
220gを水15001nl中でβ値5.0〜5.5で
無水酢酸140yと反応させた。
pH値7.0で50℃に温め、ジエチルスルフニー)2
00.9を添加した。引き続き苛性ソーダ液でβ値を1
2.5〜13.01C調節し、2時間後攪拌した。引き
続き、塩酸でβ値を0〜−0.5に調節し、3時間10
0℃で煮沸還流した。冷却後に、−値を苛性ソーダ液で
1.0Kpi節し、塩化ナトリウム200gを添加し、
沈殿物として生じ*3−(N−エチルアミノ)アニリン
−4−スルホン酸を吸引濾過した。
00.9を添加した。引き続き苛性ソーダ液でβ値を1
2.5〜13.01C調節し、2時間後攪拌した。引き
続き、塩酸でβ値を0〜−0.5に調節し、3時間10
0℃で煮沸還流した。冷却後に、−値を苛性ソーダ液で
1.0Kpi節し、塩化ナトリウム200gを添加し、
沈殿物として生じ*3−(N−エチルアミノ)アニリン
−4−スルホン酸を吸引濾過した。
13C−NMR−データ:
3− (N−エチルアミノ)アニリン−4−スルホン酸
δ (a’ −Duso ) : 142.7
(s)、137.7 (a)、128.6 (sお
よびd) 109.1 (a)、104.8 (a)、34.4
(t、)、13.5 (q)例 6 例4と同様に行うが、無水酢酸の代わDK無水プロピオ
ン酸42Fを使用した。1−(N−プロピオニルアミノ
)−3−(N−ホルミルアミノ)ベンゼン−4−スルホ
ン酸が得られた。
(s)、137.7 (a)、128.6 (sお
よびd) 109.1 (a)、104.8 (a)、34.4
(t、)、13.5 (q)例 6 例4と同様に行うが、無水酢酸の代わDK無水プロピオ
ン酸42Fを使用した。1−(N−プロピオニルアミノ
)−3−(N−ホルミルアミノ)ベンゼン−4−スルホ
ン酸が得られた。
13C−NMR−データ:
δ(a’ −DMSO) : 172−2 (s)、
159.7 (a)、140・4(8)、134.4
(s)、1+0.1 (s)、127.5 (a)、1
13.4 (a)、111.1 (d)、29.5 (
t) 、9.4 (q) 例 7 例1と同様に行うが、無水酢酸の代わりに無水プロピオ
ン869を使用した。3−(N−メチルアミン)−7ニ
リンー4−スルホン酸が得られた。
159.7 (a)、140・4(8)、134.4
(s)、1+0.1 (s)、127.5 (a)、1
13.4 (a)、111.1 (d)、29.5 (
t) 、9.4 (q) 例 7 例1と同様に行うが、無水酢酸の代わりに無水プロピオ
ン869を使用した。3−(N−メチルアミン)−7ニ
リンー4−スルホン酸が得られた。
例 8
1.3−ジアミノベンゼン−4−スルホン酸979を水
250d中に攪拌混合し、98重量%のヤ酸3811L
lを添加した後に、95℃〜100℃で5時間煮沸した
。30℃に冷却後、氷65yを添加し、50重量゛チの
苛性ソーダ液60.5mlでβ値を6.5〜7.0に調
節した。引き続き50重量%の苛性ソーダ液45mとジ
メチルスル7エート7D11Llとを添加した。30分
間の後攪拌の後に96重量−の硫酸43紅で酸性化し、
100℃で3時間攪拌した。冷却後に沈殿物として生じ
た3−(N−メチルアミン)アニリン−4−スルホン酸
を濾過により単離した。
250d中に攪拌混合し、98重量%のヤ酸3811L
lを添加した後に、95℃〜100℃で5時間煮沸した
。30℃に冷却後、氷65yを添加し、50重量゛チの
苛性ソーダ液60.5mlでβ値を6.5〜7.0に調
節した。引き続き50重量%の苛性ソーダ液45mとジ
メチルスル7エート7D11Llとを添加した。30分
間の後攪拌の後に96重量−の硫酸43紅で酸性化し、
100℃で3時間攪拌した。冷却後に沈殿物として生じ
た3−(N−メチルアミン)アニリン−4−スルホン酸
を濾過により単離した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中R^1は水素、ホルミルまたはオキサリルを表わ
し、 R^2は水素またはC_1〜C_4アルキルを表わし、
R^3は水素またはC_2〜C_8アルカノイルを表わ
し、 ただし、R^1とR^2は同時に水素を表わさず、R^
2がメチルまたはエチルを表わす場合にR^1とR^3
は同時に水素を表わさないものとする〕で示されるフェ
ニレンジアミン。 2、式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中R^1は水素、ホルミルまたはオキサリルを表わ
し、 R^2は水素またはC_1〜C_4アルキルを表わし、 R^3は水素またはC_2〜C_8アルカノイルを表わ
し、 ただし、R^1とR^2は同時に水素を表わさないもの
とする〕で示されるフェニレンジアミンの製造方法にお
いて、まず1,3−ジアミノベンゼン−4−スルホン酸
をギ酸またはシユウ酸で処理し、場合によりC_2〜C
_8アルカン酸から誘導されたアシル化剤で処理し、次
に、場合により第2工程で、式II: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中R^4はホルミルまたはオキサリルを表わし、R
^3は前記のものを表わす〕で示される得られたアシル
誘導体を式III: R^5−X(III) 〔式中R^5はC_1〜C_4アルキルを表わし、Xは
脱離基を表わす〕で示されるアルキル化剤と反応させ、
場合により第3工程で、ホルミル基またはオキサリル基
および場合によりC_1〜C_8アルカノイル基を加水
分解により分割することを特徴とするフェニレンジアミ
ンの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3914650.2 | 1989-05-03 | ||
| DE3914650A DE3914650A1 (de) | 1989-05-03 | 1989-05-03 | Neue phenylendiamine sowie ein verfahren zur herstellung von phenylendiaminen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02295964A true JPH02295964A (ja) | 1990-12-06 |
| JP2834535B2 JP2834535B2 (ja) | 1998-12-09 |
Family
ID=6380037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2107712A Expired - Fee Related JP2834535B2 (ja) | 1989-05-03 | 1990-04-25 | フエニレンジアミンおよびその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5117050A (ja) |
| EP (1) | EP0396077B1 (ja) |
| JP (1) | JP2834535B2 (ja) |
| KR (1) | KR0177152B1 (ja) |
| DE (2) | DE3914650A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| US5488145A (en) * | 1993-12-23 | 1996-01-30 | Oklahoma Medical Research Foundation | 2,4-disulfonyl phenyl butyl nitrone, its salts, and their use as pharmaceutical free radical traps |
| JP2004124053A (ja) * | 2002-05-30 | 2004-04-22 | Kyung-In Synthetic Corp | 繊維反応性染料およびその製造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB333559A (en) * | 1929-05-09 | 1930-08-11 | Ig Farbenindustrie Ag | Process for the manufacture of reserving agents for wool |
| US3232980A (en) * | 1961-12-22 | 1966-02-01 | Gen Aniline & Film Corp | Preparation of amino-(nitrobenzamido)benzenesulfonic acids |
| CH475331A (de) * | 1965-07-05 | 1969-07-15 | Ciba Geigy | Verfahren zum Härten von Gelatine |
| EP0038296B1 (de) * | 1980-03-31 | 1984-05-09 | Ciba-Geigy Ag | Disazoverbindungen |
| DE3737537A1 (de) * | 1987-11-05 | 1989-05-18 | Basf Ag | Verdoppelte kupfer-formazanreaktivfarbstoffe und ihre verwendung |
-
1989
- 1989-05-03 DE DE3914650A patent/DE3914650A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-04-16 US US07/509,137 patent/US5117050A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-04-25 JP JP2107712A patent/JP2834535B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1990-04-30 EP EP90108211A patent/EP0396077B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-04-30 ES ES90108211T patent/ES2054143T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1990-04-30 DE DE9090108211T patent/DE59001153D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-05-03 KR KR1019900006239A patent/KR0177152B1/ko not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR0177152B1 (ko) | 1999-05-15 |
| EP0396077B1 (de) | 1993-04-07 |
| DE3914650A1 (de) | 1990-11-08 |
| US5117050A (en) | 1992-05-26 |
| KR900018017A (ko) | 1990-12-20 |
| DE59001153D1 (de) | 1993-05-13 |
| EP0396077A1 (de) | 1990-11-07 |
| ES2054143T3 (es) | 1994-08-01 |
| JP2834535B2 (ja) | 1998-12-09 |
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