JPH0229741B2 - - Google Patents
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- JPH0229741B2 JPH0229741B2 JP56037898A JP3789881A JPH0229741B2 JP H0229741 B2 JPH0229741 B2 JP H0229741B2 JP 56037898 A JP56037898 A JP 56037898A JP 3789881 A JP3789881 A JP 3789881A JP H0229741 B2 JPH0229741 B2 JP H0229741B2
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- JP
- Japan
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- metal
- layer
- irradiation
- energy density
- amorphous alloy
- Prior art date
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C26/00—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
- C23C26/02—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00 applying molten material to the substrate
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、高エネルギー密度のビームの走査に
よつて、金属材料上に所定の組成の均一な表面被
覆非晶質合金層を面状に設ける方法に関するもの
である。
よつて、金属材料上に所定の組成の均一な表面被
覆非晶質合金層を面状に設ける方法に関するもの
である。
［従来の技術］
元来、金属材料に要求される特性の中には、金
属材料の表面層のみが保有していれば充分であつ
て、必ずしも金属材料全体が備えている必要のな
いものがたくさんある。
属材料の表面層のみが保有していれば充分であつ
て、必ずしも金属材料全体が備えている必要のな
いものがたくさんある。
そして、このような特性を金属材料の表面層に
付与する金属表面被覆層の作成方法としては、従
来は溶融メツキ、化学メツキ、電気メツキ、拡散
浸透メツキ、気相メツキ、真空メツキ等の各種メ
ツキ法あるいは溶融法その他の方法が行なわれて
いる。
付与する金属表面被覆層の作成方法としては、従
来は溶融メツキ、化学メツキ、電気メツキ、拡散
浸透メツキ、気相メツキ、真空メツキ等の各種メ
ツキ法あるいは溶融法その他の方法が行なわれて
いる。
しかし、これらの方法では、被覆できる金属の
多くは単体であり、また被覆できる金属の種類に
限界があつて、多くの場合欠陥の密度が高く、均
一被覆とはなり難いだけでなく、下地金属との密
着性が不充分なことも多い。従つて、従来の方法
による表面被覆層には、高強度、高耐摩耗性、高
耐食性、特殊な表面活性等を期待することは困難
であつた。
多くは単体であり、また被覆できる金属の種類に
限界があつて、多くの場合欠陥の密度が高く、均
一被覆とはなり難いだけでなく、下地金属との密
着性が不充分なことも多い。従つて、従来の方法
による表面被覆層には、高強度、高耐摩耗性、高
耐食性、特殊な表面活性等を期待することは困難
であつた。
通常、合金は固体状態では結晶化しているが、
合金組成を限定して溶融状態から急速凝固させる
と、固体状態でも液体状態に類似した結晶構造を
持たない非晶質構造が得られる。このような合金
を非晶質合金と言う。
合金組成を限定して溶融状態から急速凝固させる
と、固体状態でも液体状態に類似した結晶構造を
持たない非晶質構造が得られる。このような合金
を非晶質合金と言う。
この非晶質合金は、従来の実用金属材料に比べ
て著しく高い強度、硬度、耐摩耗性等の優れた機
械的性質を保有し、また放射線損傷を受けず、且
つ組成によつては異常に高い耐食性や特殊な表面
活性を示すものである。
て著しく高い強度、硬度、耐摩耗性等の優れた機
械的性質を保有し、また放射線損傷を受けず、且
つ組成によつては異常に高い耐食性や特殊な表面
活性を示すものである。
従来、金属表面に非晶質の被覆層を形成する提
案は幾つか行なわれており、例えば特開昭55−
148752号公報にその発想がうかがえる。これは、
被覆材料を金属基材に付着させ、その表面を
104Watt／cm2以上のエネルギー密度を有するスポ
ツト状加熱源で走査して急速溶融した後、走査方
向の後方及びピツチ方向の後方にＬ字系に配置し
た冷却媒体を接触させることにより103℃／秒以
上の冷却速度で急冷する方法である。
案は幾つか行なわれており、例えば特開昭55−
148752号公報にその発想がうかがえる。これは、
被覆材料を金属基材に付着させ、その表面を
104Watt／cm2以上のエネルギー密度を有するスポ
ツト状加熱源で走査して急速溶融した後、走査方
向の後方及びピツチ方向の後方にＬ字系に配置し
た冷却媒体を接触させることにより103℃／秒以
上の冷却速度で急冷する方法である。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、前記の方法は、一旦非晶質化し
た被覆材料が、隣接部への加熱により結晶化して
しまうことを防止するための配慮が行なわれてい
ない。即ち、溶融された被覆材料を急速に冷却媒
体との接触によつて103℃／秒以上という大きな
冷却速度で冷却して非晶質層を得ようとするもの
であるため現実には急冷が困難であり、殆ど実用
にならないものである。
た被覆材料が、隣接部への加熱により結晶化して
しまうことを防止するための配慮が行なわれてい
ない。即ち、溶融された被覆材料を急速に冷却媒
体との接触によつて103℃／秒以上という大きな
冷却速度で冷却して非晶質層を得ようとするもの
であるため現実には急冷が困難であり、殆ど実用
にならないものである。
本発明は、入熱量を制御することにより特別な
冷却手段を必要とせず、下地金属を組成の一部と
して下地金属を覆う非晶質合金、即ちこの非晶質
合金を下地金属に強固に密着した欠陥のない表面
被覆層として連続した面状に作成する方法を得る
ことを目的とする。
冷却手段を必要とせず、下地金属を組成の一部と
して下地金属を覆う非晶質合金、即ちこの非晶質
合金を下地金属に強固に密着した欠陥のない表面
被覆層として連続した面状に作成する方法を得る
ことを目的とする。
［課題を解決するための手段］
本発明に係る表面被覆非晶質合金層の作成方法
では、下地金属表面上に重ねた金属層に高エネル
ギー密度ビームを照射することによつて表面被覆
非晶質合金層を作成する方法において、 前記金属層と前記下地金属表層の一部との溶融
した組成が、所望の非晶質合金組成となるように
各々予め定められた組成の前記金属層と前記下地
金属とを準備する工程と、 前記下地金属の表面上に重ねた前記金属層の上
方から、前記金属層と前記下地金属表層の一部と
を共に溶融させるに充分な照射エネルギー密度の
ビームを予め定められた照射時間で照射し、該ビ
ームによつて局所的に溶融した溶融金属を下地金
属への熱伝導により急速凝固させつつ、該溶融・
凝固操作を連続して前記所望組成の非晶質合金の
連続した帯状の非晶質合金層を得る工程と、 前記連続操作で得られた帯状の非晶質合金層の
幅方向に一部を重複して隣接した帯状の非晶質合
金層を同様の連続した溶融・凝固操作で形成する
と共にこれを繰り返す工程とを備え、 前記局所照射による照射時間と、前記照射エネ
ルギー密度との積を5J・sec／cm2以下に制御する
ものである。
では、下地金属表面上に重ねた金属層に高エネル
ギー密度ビームを照射することによつて表面被覆
非晶質合金層を作成する方法において、 前記金属層と前記下地金属表層の一部との溶融
した組成が、所望の非晶質合金組成となるように
各々予め定められた組成の前記金属層と前記下地
金属とを準備する工程と、 前記下地金属の表面上に重ねた前記金属層の上
方から、前記金属層と前記下地金属表層の一部と
を共に溶融させるに充分な照射エネルギー密度の
ビームを予め定められた照射時間で照射し、該ビ
ームによつて局所的に溶融した溶融金属を下地金
属への熱伝導により急速凝固させつつ、該溶融・
凝固操作を連続して前記所望組成の非晶質合金の
連続した帯状の非晶質合金層を得る工程と、 前記連続操作で得られた帯状の非晶質合金層の
幅方向に一部を重複して隣接した帯状の非晶質合
金層を同様の連続した溶融・凝固操作で形成する
と共にこれを繰り返す工程とを備え、 前記局所照射による照射時間と、前記照射エネ
ルギー密度との積を5J・sec／cm2以下に制御する
ものである。
更に好ましくは、前記照射エネルギー密度が
5000J／cm2以下で、前記局所照射による照射時間
が５×10-3sec以下となるように制御するもので
ある。
5000J／cm2以下で、前記局所照射による照射時間
が５×10-3sec以下となるように制御するもので
ある。
［作用］
目的とする表面被覆非晶質合金層を得るには、
溶融状態で所定の組成になつている表面層を急冷
しなければならない。この点、レーザービーム、
電子ビーム等の高エネルギー密度ビームは、エネ
ルギー密度と照射時間を適当に制御することによ
つて、どのような表面金属層であろうと周辺部の
昇温を避けながら局所的に溶融するのに適してい
る。即ち、ビームの局所照射による単位時間当り
の溶融面積と溶け込み深さとで定まる溶融体積が
下地金属に対して充分に小さいため、周辺の大き
な体積の下地金属への熱伝導による放熱によつて
溶融部の急冷凝固を外部接触冷却手段の必要なし
に良好に行なうことができる。
溶融状態で所定の組成になつている表面層を急冷
しなければならない。この点、レーザービーム、
電子ビーム等の高エネルギー密度ビームは、エネ
ルギー密度と照射時間を適当に制御することによ
つて、どのような表面金属層であろうと周辺部の
昇温を避けながら局所的に溶融するのに適してい
る。即ち、ビームの局所照射による単位時間当り
の溶融面積と溶け込み深さとで定まる溶融体積が
下地金属に対して充分に小さいため、周辺の大き
な体積の下地金属への熱伝導による放熱によつて
溶融部の急冷凝固を外部接触冷却手段の必要なし
に良好に行なうことができる。
本発明者らはこのような高エネルギー密度ビー
ムの特性を利用して、予め塗布あるいは被覆した
金属と下地金属の表面から所定の厚さ部までを同
時に短時間溶融、合金化ならびに均質化したの
ち、周辺の大きな体積の固相金属へ放熱して急冷
することに基づく処理を、先にこの処理を行なつ
た部分と一部が重なるように繰り返し行なうこと
によつて、所定の組成を備え、且つ下地金属に密
着した所望の厚さの表面被覆非晶質合金層を下地
金属を覆つて連続した面状に作成し得ることを見
出したものである。
ムの特性を利用して、予め塗布あるいは被覆した
金属と下地金属の表面から所定の厚さ部までを同
時に短時間溶融、合金化ならびに均質化したの
ち、周辺の大きな体積の固相金属へ放熱して急冷
することに基づく処理を、先にこの処理を行なつ
た部分と一部が重なるように繰り返し行なうこと
によつて、所定の組成を備え、且つ下地金属に密
着した所望の厚さの表面被覆非晶質合金層を下地
金属を覆つて連続した面状に作成し得ることを見
出したものである。
即ち、本発明の要旨とするところは、下地金属
表面上に重ねた金属層に高エネルギー密度ビーム
を照射することによつて表面被覆非晶質合金層を
作成する方法において、 前記金属層と前記下地金属表層の一部との溶融
した組成が、所望の非晶質合金組成となるように
各々予め定められた組成の前記金属層と前記下地
金属とを準備する工程と、 前記下地金属の表面上に重ねた前記金属層の上
方から、前記金属層と前記下地金属表層の一部と
を共に溶融させるに充分な照射エネルギー密度の
ビームを予め定められた照射時間で照射し、該ビ
ームによつて局所的に溶融した溶融金属を下地金
属への熱伝導により急速凝固させつつ、該溶融・
凝固操作を連続して前記所望組成の非晶質合金の
連続した帯状の非晶質合金層を得る工程と、 前記連続操作で得られた帯状の非晶質合金層の
幅方向に一部を重複して隣接した帯状の非晶質合
金層を同様の連続した溶融・凝固操作で形成する
と共にこれを繰り返す工程とを備え、 前記局所照射による照射時間と、前記照射エネ
ルギー密度との積を5J・sec／cm2以下に制御する
ものである。
表面上に重ねた金属層に高エネルギー密度ビーム
を照射することによつて表面被覆非晶質合金層を
作成する方法において、 前記金属層と前記下地金属表層の一部との溶融
した組成が、所望の非晶質合金組成となるように
各々予め定められた組成の前記金属層と前記下地
金属とを準備する工程と、 前記下地金属の表面上に重ねた前記金属層の上
方から、前記金属層と前記下地金属表層の一部と
を共に溶融させるに充分な照射エネルギー密度の
ビームを予め定められた照射時間で照射し、該ビ
ームによつて局所的に溶融した溶融金属を下地金
属への熱伝導により急速凝固させつつ、該溶融・
凝固操作を連続して前記所望組成の非晶質合金の
連続した帯状の非晶質合金層を得る工程と、 前記連続操作で得られた帯状の非晶質合金層の
幅方向に一部を重複して隣接した帯状の非晶質合
金層を同様の連続した溶融・凝固操作で形成する
と共にこれを繰り返す工程とを備え、 前記局所照射による照射時間と、前記照射エネ
ルギー密度との積を5J・sec／cm2以下に制御する
ものである。
更に好ましくは、前記照射エネルギー密度が
5000J／cm2以下で、前記局所照射による照射時間
が５×10-3sec以下となるように制御するもので
ある。
5000J／cm2以下で、前記局所照射による照射時間
が５×10-3sec以下となるように制御するもので
ある。
以下、本発明について詳細に説明すると、本発
明の満たすべき条件は次の通りである。
明の満たすべき条件は次の通りである。
(a) 溶融合金を非晶質化し得る組成にすること
(b) 溶融合金を急冷・凝固して非晶質化すること
(c) 特別な外部接触冷却手段を必要としないこと
(d) 面状の非晶質化被覆層を形成すること
このために、本発明は次の要件を満たすもので
ある。
ある。
(1) 例えば炭素綱のような通常の金属を下地金属
として、この下地金属も非晶質合金の組成の一
部とすること (2) 溶融金属の組成が、急冷凝固することによつ
て非晶質合金になるように、予め下地金属表面
上に設ける金属層の平均組成を限定すること (3) 周辺の大きな体積の下地金属への熱伝導によ
る放熱によつて外部接触冷却部材を用いること
なく急冷凝固を行なうこと (4) 前記(3)のためには、金属層上方から、金属層
と下地金属表層の一部とを溶融させる照射エネ
ルギー密度を制御した高エネルギー密度ビーム
を局所照射すること (5) また前記(3)のためには、局所照射される単位
時間当りの照射面積と溶融体積とが下地金属に
対して充分に小さいこと (6) 更に前記(3)のためには、局所照射する高エネ
ルギー密度ビームの照射時間を制御すること (7) 予め下地金属表面上に設けた金属層と下地金
属表層の一部とを溶融して局所的に合金化し、
この局所的な溶融合金化を連続して、連続した
一条の帯状の合金層とすること 尚、前記(6)，(7)を実現させるための操作は、
パルス状にビームを短時間照射し、照射場所を
次々と移動させて行なうこともできるが、工業
的に好ましくは、連続的にビームを移動するか
又は被照射体である下地金属材料側を相対移動
し、結果として金属表面を同ビームで走査し、
この走査時間を制御することにより、局所部分
に照射される照射時間を制御することができ、
連続的に一条の帯状の合金層とすることができ
る。
として、この下地金属も非晶質合金の組成の一
部とすること (2) 溶融金属の組成が、急冷凝固することによつ
て非晶質合金になるように、予め下地金属表面
上に設ける金属層の平均組成を限定すること (3) 周辺の大きな体積の下地金属への熱伝導によ
る放熱によつて外部接触冷却部材を用いること
なく急冷凝固を行なうこと (4) 前記(3)のためには、金属層上方から、金属層
と下地金属表層の一部とを溶融させる照射エネ
ルギー密度を制御した高エネルギー密度ビーム
を局所照射すること (5) また前記(3)のためには、局所照射される単位
時間当りの照射面積と溶融体積とが下地金属に
対して充分に小さいこと (6) 更に前記(3)のためには、局所照射する高エネ
ルギー密度ビームの照射時間を制御すること (7) 予め下地金属表面上に設けた金属層と下地金
属表層の一部とを溶融して局所的に合金化し、
この局所的な溶融合金化を連続して、連続した
一条の帯状の合金層とすること 尚、前記(6)，(7)を実現させるための操作は、
パルス状にビームを短時間照射し、照射場所を
次々と移動させて行なうこともできるが、工業
的に好ましくは、連続的にビームを移動するか
又は被照射体である下地金属材料側を相対移動
し、結果として金属表面を同ビームで走査し、
この走査時間を制御することにより、局所部分
に照射される照射時間を制御することができ、
連続的に一条の帯状の合金層とすることができ
る。
(8) 得られた一条の帯状の合金層の長手方向に一
部を重複して同様の連続した溶融合金化操作を
繰り返し、表面被覆合金層の表面積を拡大し、
最終的に下地金属材料の所定の大きさに面状の
表面被覆合金層を形成すること ところで、下地金属の表面をある大きさの面
状の表面被覆合金層で覆う場合には、溶融合金
の周りの固体が過剰に加熱されていない場合、
溶融合金の組成が適正であつて、且つ、溶融合
金の溶け込み深さと溶融面積（即ち、溶融体積
が）が急冷し得る程度に制限されていれば、溶
融合金を非晶質化するための急冷は、周りの下
地金属による吸熱によつて充分に保証される。
これは、液体急冷法によつて非晶質合金板を作
製するために広く用いられている片ロール法の
急冷原理から明らかである。
部を重複して同様の連続した溶融合金化操作を
繰り返し、表面被覆合金層の表面積を拡大し、
最終的に下地金属材料の所定の大きさに面状の
表面被覆合金層を形成すること ところで、下地金属の表面をある大きさの面
状の表面被覆合金層で覆う場合には、溶融合金
の周りの固体が過剰に加熱されていない場合、
溶融合金の組成が適正であつて、且つ、溶融合
金の溶け込み深さと溶融面積（即ち、溶融体積
が）が急冷し得る程度に制限されていれば、溶
融合金を非晶質化するための急冷は、周りの下
地金属による吸熱によつて充分に保証される。
これは、液体急冷法によつて非晶質合金板を作
製するために広く用いられている片ロール法の
急冷原理から明らかである。
しかしながら、照射エネルギー密度を制御
し、単位時間当りの照射面積が充分に小さく、
照射時間を制御した場合であつても、前記(8)の
ように非晶質化した部分に一部重なるように溶
融急冷処理を繰り返す場合には、不必要に過剰
な高エネルギー密度ビーム照射により溶融体積
の増大（溶融深さの増大）及び周辺の固相金属
の甚だしい加熱を招くことがあり、その場合に
は、急冷凝固されて非晶質化した金属が再度加
熱されて境界部で結晶化することである。この
ため、更に次の(9)の要件が必要となつてくる。
し、単位時間当りの照射面積が充分に小さく、
照射時間を制御した場合であつても、前記(8)の
ように非晶質化した部分に一部重なるように溶
融急冷処理を繰り返す場合には、不必要に過剰
な高エネルギー密度ビーム照射により溶融体積
の増大（溶融深さの増大）及び周辺の固相金属
の甚だしい加熱を招くことがあり、その場合に
は、急冷凝固されて非晶質化した金属が再度加
熱されて境界部で結晶化することである。この
ため、更に次の(9)の要件が必要となつてくる。
(9) 局所溶融部への入熱量の上限を制限すること
ところが、局所溶融部が極めて小さいこと、
及び局所照射による照射時間が極めて小さいこ
とから、実際の局所溶融部の入熱量は厳密には
測定不能である。従つて、入熱量は、受入れ側
ではなく照射側の照射エネルギー密度と局所照
射による照射時間の積で表わすことでのみ規定
される。
及び局所照射による照射時間が極めて小さいこ
とから、実際の局所溶融部の入熱量は厳密には
測定不能である。従つて、入熱量は、受入れ側
ではなく照射側の照射エネルギー密度と局所照
射による照射時間の積で表わすことでのみ規定
される。
本発明においては、照射エネルギー密度と局所
照射による照射時間の積で表された入熱量を、
5J・sec／cm2以下に抑制するものであり、それに
よつて安定に非晶質合金層を得るものである。
照射による照射時間の積で表された入熱量を、
5J・sec／cm2以下に抑制するものであり、それに
よつて安定に非晶質合金層を得るものである。
即ち、局所溶融部への入熱量は、受入れ側では
なく照射側の照射エネルギー密度と局所照射によ
る照射時間の積で表わすことでのみ規定されるの
であるが、高エネルギー密度ビームの種類及び照
射される金属層及び下地金属の材質組成及び材質
状態による吸収率の違いにより、照射エネルギー
が全て金属層及び下地金属への熱量に変換される
ものではない。
なく照射側の照射エネルギー密度と局所照射によ
る照射時間の積で表わすことでのみ規定されるの
であるが、高エネルギー密度ビームの種類及び照
射される金属層及び下地金属の材質組成及び材質
状態による吸収率の違いにより、照射エネルギー
が全て金属層及び下地金属への熱量に変換される
ものではない。
つまり、照射エネルギー密度と局所照射による
照射時間の積で表わした入熱量は、使用するエネ
ルギービームの種類や、下地金属と金属層の組成
等により種々に変化するものである。
照射時間の積で表わした入熱量は、使用するエネ
ルギービームの種類や、下地金属と金属層の組成
等により種々に変化するものである。
例えば、本発明で開示する実際の実施例では、
一般的に適用されるエネルギービーム即ちCO2レ
ーザーで、前述のように溶融合金の組成が適正で
あつて急冷により容易に非晶質合金となる組成に
いて非晶質化を行なつている。この照射エネルギ
ー密度と局所照射による照射時間の積で表された
入熱量は、各々0.188（Ｊ・sec／cm2）、0.105（J.
sec／cm2）であつた。
一般的に適用されるエネルギービーム即ちCO2レ
ーザーで、前述のように溶融合金の組成が適正で
あつて急冷により容易に非晶質合金となる組成に
いて非晶質化を行なつている。この照射エネルギ
ー密度と局所照射による照射時間の積で表された
入熱量は、各々0.188（Ｊ・sec／cm2）、0.105（J.
sec／cm2）であつた。
後述するように、これら各実施例は合金中にＰ
が含有されている。このように、合金中にＰが含
有された合金での赤外線吸収率は約50％であるこ
とが知られている。即ち、各実施例で規定された
局所照射による照射時間とエネルギー密度との積
の熱量に対して、実際に溶融に使用された熱量
は、各々約50/100（＝0.5）倍である。つまり、
実際に溶融に使用された熱量は、各々約0.094
（Ｊ・sec／cm2）、0.525（Ｊ・sec／cm2）であつた。
が含有されている。このように、合金中にＰが含
有された合金での赤外線吸収率は約50％であるこ
とが知られている。即ち、各実施例で規定された
局所照射による照射時間とエネルギー密度との積
の熱量に対して、実際に溶融に使用された熱量
は、各々約50/100（＝0.5）倍である。つまり、
実際に溶融に使用された熱量は、各々約0.094
（Ｊ・sec／cm2）、0.525（Ｊ・sec／cm2）であつた。
一方、赤外線吸収率が低いことで知られている
Ni，Al，Cu等の金属での赤外線吸収率は約２％
であることが知られている。即ち、これら赤外線
吸収率の低い金属のみで非晶質化を行なう場合に
は、局所照射による照射時間とエネルギー密度と
の積は、その約２％のみが溶融に使用される熱量
となり、後述する実施例よりも大きな熱量が必要
とされることが理解される。
Ni，Al，Cu等の金属での赤外線吸収率は約２％
であることが知られている。即ち、これら赤外線
吸収率の低い金属のみで非晶質化を行なう場合に
は、局所照射による照射時間とエネルギー密度と
の積は、その約２％のみが溶融に使用される熱量
となり、後述する実施例よりも大きな熱量が必要
とされることが理解される。
このため、赤外線吸収率の低い合金を非晶質化
する場合を想定して、局所照射による照射時間と
エネルギー密度との積の上限を検討すると、例え
ば前記実施例１から推測された実際の溶融に使用
された熱量（0.094（Ｊ・sec／cm2））の約100/2
（＝50）倍となることが判る。即ち、 0.094×50＝4.7（Ｊ・sec／cm2） となり、赤外線吸収率の低い合金を非晶質化する
場合には、照射エネルギー密度と局所照射による
照射時間の積で表された入熱量も、5J・sec／cm2
以下となつている。
する場合を想定して、局所照射による照射時間と
エネルギー密度との積の上限を検討すると、例え
ば前記実施例１から推測された実際の溶融に使用
された熱量（0.094（Ｊ・sec／cm2））の約100/2
（＝50）倍となることが判る。即ち、 0.094×50＝4.7（Ｊ・sec／cm2） となり、赤外線吸収率の低い合金を非晶質化する
場合には、照射エネルギー密度と局所照射による
照射時間の積で表された入熱量も、5J・sec／cm2
以下となつている。
また、前記(3)の「周辺の大きな体積の下地金属
への熱伝導による放熱によつて外部接触冷却部材
を用いることなく急冷凝固を行なうこと」に対し
ても、自から条件が規定される。即ち、局所照射
による照射時間と、照射エネルギー密度との各条
件が各々ある程度制限される。
への熱伝導による放熱によつて外部接触冷却部材
を用いることなく急冷凝固を行なうこと」に対し
ても、自から条件が規定される。即ち、局所照射
による照射時間と、照射エネルギー密度との各条
件が各々ある程度制限される。
例えば、局所照射にる照射時間を長くして長時
間にわたり加熱溶融することは、溶融体積が大き
くなり、過大になるため、周辺部からの急冷凝固
が不可能となり、更には先に急冷凝固して非晶質
化した部分が再度の加熱で結晶化してしまう。こ
のため、現実的な局所照射による照射時間は、５
×10-3以下とすることが望ましい。
間にわたり加熱溶融することは、溶融体積が大き
くなり、過大になるため、周辺部からの急冷凝固
が不可能となり、更には先に急冷凝固して非晶質
化した部分が再度の加熱で結晶化してしまう。こ
のため、現実的な局所照射による照射時間は、５
×10-3以下とすることが望ましい。
また逆に、極めて短時間に高エネルギー密度ビ
ームを局所溶融部に照射する場合では、所定の面
積を所定の溶け込み深さで溶融させるためには、
著しく高いエネルギー密度を放出する大型エネル
ギー源を必要する。
ームを局所溶融部に照射する場合では、所定の面
積を所定の溶け込み深さで溶融させるためには、
著しく高いエネルギー密度を放出する大型エネル
ギー源を必要する。
また、このような著しく高いエネルギー密度の
ビームで走査する場合に、照射時間を前述のよう
に短くするためには、ビームの走査速度を極めて
速くしなければならない。
ビームで走査する場合に、照射時間を前述のよう
に短くするためには、ビームの走査速度を極めて
速くしなければならない。
従つて、大出力ビーム源及び高速走査機構が必
要となり、何れの場合においても高価な装置とな
るので、実際的ではない。
要となり、何れの場合においても高価な装置とな
るので、実際的ではない。
従つて、通常入手できるレーザ装置や走査駆動
機構を考慮すれば照射エネルギー密度は、
5000J／cm2以下に止める必要がある。
機構を考慮すれば照射エネルギー密度は、
5000J／cm2以下に止める必要がある。
尚、本発明において、予め下地金属表面上に設
けた金属層と下地金属表層の一部とを同時に溶融
し、合金化する必要があるのは次の理由による。
けた金属層と下地金属表層の一部とを同時に溶融
し、合金化する必要があるのは次の理由による。
即ち、予め下地金属表面上に設けた金属層と下
地金属表層の一部とを同時に溶融して合金化する
ことを同時に行わず、予め下地金属表面上に設け
た金属層のみを溶融する場合には、生成する表面
の金属層が下地金属から剥離し易く、下地金属に
密着した表面被覆金属層の作成が困難になるだけ
でなく、溶融金属から下地金属への熱伝導が不充
分になるため溶融金属の急冷を実現し難く、表面
被覆非晶質合金層の作成が困難となるからであ
る。
地金属表層の一部とを同時に溶融して合金化する
ことを同時に行わず、予め下地金属表面上に設け
た金属層のみを溶融する場合には、生成する表面
の金属層が下地金属から剥離し易く、下地金属に
密着した表面被覆金属層の作成が困難になるだけ
でなく、溶融金属から下地金属への熱伝導が不充
分になるため溶融金属の急冷を実現し難く、表面
被覆非晶質合金層の作成が困難となるからであ
る。
尚、予め下地金属表面上に重ねた金属層は、金
属粉を塗布する方法、或いはメツキ法、溶射法等
の種々の方法により設けることができ、該金属層
を形成した後、真空中または不活性気体をはじめ
とする各種雰囲気中で加熱し、金属層を下地金属
材料に充分に接合させた後、加熱で表面酸化層が
生じている時は必要なら取り除くことも行なつて
よい。これにより、金属層上より高エネルギー密
度ビームを照射する場合には、予め設けられた金
属層と下地金属材料との接合が生じているために
高エネルギー密度ビーム照射中あるいは照射後に
表面被覆層が下地金属から剥離することもなく、
溶融金属から下地金属への熱伝導も充分に保証さ
れる。
属粉を塗布する方法、或いはメツキ法、溶射法等
の種々の方法により設けることができ、該金属層
を形成した後、真空中または不活性気体をはじめ
とする各種雰囲気中で加熱し、金属層を下地金属
材料に充分に接合させた後、加熱で表面酸化層が
生じている時は必要なら取り除くことも行なつて
よい。これにより、金属層上より高エネルギー密
度ビームを照射する場合には、予め設けられた金
属層と下地金属材料との接合が生じているために
高エネルギー密度ビーム照射中あるいは照射後に
表面被覆層が下地金属から剥離することもなく、
溶融金属から下地金属への熱伝導も充分に保証さ
れる。
尚、表面被覆非晶質合金層の作成のための溶融
急冷による非晶質化には、合金が一種あるいは二
種以上の半金属を含むことがしばしば必要であ
る。従つて、本発明にいう予め下地金属表面上に
設けた金属層には、金属に限らず半金属が含まれ
ることがあり、時には非金属が含まれることもあ
る。更に、これら半金属及び非金属は、一般に蒸
気圧が高くまた容易に酸化されるために、溶融時
に蒸発または酸化によつて半金属及び非金属の一
部が失われるので、半金属及び非金属の添加が必
要な場合には、予め設けられる被覆金属層には蒸
発または酸化によつて失われる量を推定して過剰
に半金属及び非金属を添加しておくことが必要な
場合もある。
急冷による非晶質化には、合金が一種あるいは二
種以上の半金属を含むことがしばしば必要であ
る。従つて、本発明にいう予め下地金属表面上に
設けた金属層には、金属に限らず半金属が含まれ
ることがあり、時には非金属が含まれることもあ
る。更に、これら半金属及び非金属は、一般に蒸
気圧が高くまた容易に酸化されるために、溶融時
に蒸発または酸化によつて半金属及び非金属の一
部が失われるので、半金属及び非金属の添加が必
要な場合には、予め設けられる被覆金属層には蒸
発または酸化によつて失われる量を推定して過剰
に半金属及び非金属を添加しておくことが必要な
場合もある。
一方、大気中における高エネルギー密度ビーム
の照射は、照射される金属の酸化を防止するため
に、通常窒素ガス等の不活性ガスを金属に拭き付
けながら行なう。この不活性ガスを吹き付けるこ
とあるいは金属を移動することによる表面に塗布
により設けられた金属層成分の飛散は、流動パラ
フイン等適宜な液体バインダで適度の湿り気を持
たせるものを下地金属表面に塗布するか、又は上
記液体で濡らした下地金属表面に振り掛けること
が必要であり、更に必要な場合にはこれらを乾燥
あるいは熱処理することによつて、下地金属表面
に金属層を密着させて飛散を防止する。また、金
属粉を数層塗布すること、各種メツキ法、溶射法
その他の方法のうち一つの方法あるいは二つ以上
の方法によつて多層被覆すること、金属被覆と金
属粉塗布を共に行なうこと等は高エネルギー密度
ビーム処理には好適であつて何ら支障はない。更
に、金属粉の塗布あるいは金属被覆と高エネルギ
ー密度ビーム処理を繰り返すことも、また高エネ
ルギー密度ビーム処理を一つの表面層に繰り返し
て施すことも目的に応じて有効である。
の照射は、照射される金属の酸化を防止するため
に、通常窒素ガス等の不活性ガスを金属に拭き付
けながら行なう。この不活性ガスを吹き付けるこ
とあるいは金属を移動することによる表面に塗布
により設けられた金属層成分の飛散は、流動パラ
フイン等適宜な液体バインダで適度の湿り気を持
たせるものを下地金属表面に塗布するか、又は上
記液体で濡らした下地金属表面に振り掛けること
が必要であり、更に必要な場合にはこれらを乾燥
あるいは熱処理することによつて、下地金属表面
に金属層を密着させて飛散を防止する。また、金
属粉を数層塗布すること、各種メツキ法、溶射法
その他の方法のうち一つの方法あるいは二つ以上
の方法によつて多層被覆すること、金属被覆と金
属粉塗布を共に行なうこと等は高エネルギー密度
ビーム処理には好適であつて何ら支障はない。更
に、金属粉の塗布あるいは金属被覆と高エネルギ
ー密度ビーム処理を繰り返すことも、また高エネ
ルギー密度ビーム処理を一つの表面層に繰り返し
て施すことも目的に応じて有効である。
更に、本発明に用い得る高エネルギー密度ビー
ムは、レーザービーム、電子ビームに限らず限ら
れた体積の金属表面を短時間に溶融し得るエネル
ギー密度のビームであればどのようなものであつ
ても原理的に使用できる。更に複数のビームを同
時に金属に照射することは、処理時間を短縮し効
果的である。尚、高エネルギー密度ビーム照射に
よる金属の昇温を避けるため、該照射部を水その
他によつて冷却することも本発明の達成に有効で
ある。
ムは、レーザービーム、電子ビームに限らず限ら
れた体積の金属表面を短時間に溶融し得るエネル
ギー密度のビームであればどのようなものであつ
ても原理的に使用できる。更に複数のビームを同
時に金属に照射することは、処理時間を短縮し効
果的である。尚、高エネルギー密度ビーム照射に
よる金属の昇温を避けるため、該照射部を水その
他によつて冷却することも本発明の達成に有効で
ある。
［実施例］
次に、実施例によつて本発明の説明を補足する
と共に効果を示す。
と共に効果を示す。
実施例 １
非晶質Ni−Fe−Cr−Ｐ合金層による軟鋼丸棒
の被覆の一例であつて、厚さ約70μmに非晶質Ni
−14Fe−14Cr−18P（但し、表面被覆非晶質合金
層を作成するこの実施例においては物質の組成を
表す式の数値は何れも原子パーセント）の合金被
覆を行なう目的で、直径20mmの軟鋼丸棒50μmの
厚さにNi−25Pメツキを施し、更に10μmの厚さ
にCrメツキを施した。
の被覆の一例であつて、厚さ約70μmに非晶質Ni
−14Fe−14Cr−18P（但し、表面被覆非晶質合金
層を作成するこの実施例においては物質の組成を
表す式の数値は何れも原子パーセント）の合金被
覆を行なう目的で、直径20mmの軟鋼丸棒50μmの
厚さにNi−25Pメツキを施し、更に10μmの厚さ
にCrメツキを施した。
これを第１図に準じ440rpmの回転速度で回転
させ且つ一回転の間に軸線に平行な方向に70μm
ずつ連続的に移動させた。この回転ならびに移動
の間400WのCO2レーザーを用い、ビーム直径を
100μmとして照射を行なつた。即ち、この場合の
走査速度は 2π×440／60（cm／sec） 1sec間に処理する面積は 2π×440／60×0.01（cm2） エネルギー密度は 400÷（2π×440／60×0.01） ＝868.12（Ｊ／cm2） 局所照射による照射時間は 0.01÷（2π×440／60）＝2.17×10-4（sec） であり、エネルギー密度×照射時間は、 868.12×2.17×10-4＝0.188（Ｊ・sec／cm2） であつた。
させ且つ一回転の間に軸線に平行な方向に70μm
ずつ連続的に移動させた。この回転ならびに移動
の間400WのCO2レーザーを用い、ビーム直径を
100μmとして照射を行なつた。即ち、この場合の
走査速度は 2π×440／60（cm／sec） 1sec間に処理する面積は 2π×440／60×0.01（cm2） エネルギー密度は 400÷（2π×440／60×0.01） ＝868.12（Ｊ／cm2） 局所照射による照射時間は 0.01÷（2π×440／60）＝2.17×10-4（sec） であり、エネルギー密度×照射時間は、 868.12×2.17×10-4＝0.188（Ｊ・sec／cm2） であつた。
尚、本実施例は合金中にＰが含有されている。
このように、合金中にＰが含有された合金での赤
外線吸収率は約50％であることが知られている。
即ち、本実施例で規定された局所照射による照射
時間とエネルギー密度との積の熱量に対して、実
際に溶融に使用された熱量は、約＝0.5倍であり、
実際に溶融に使用された熱量は 0.188×0.5＝0.094（Ｊ・sec／cm2） であつたことが推測される。
このように、合金中にＰが含有された合金での赤
外線吸収率は約50％であることが知られている。
即ち、本実施例で規定された局所照射による照射
時間とエネルギー密度との積の熱量に対して、実
際に溶融に使用された熱量は、約＝0.5倍であり、
実際に溶融に使用された熱量は 0.188×0.5＝0.094（Ｊ・sec／cm2） であつたことが推測される。
この結果、Crメツキ層、Ni−Ｐメツキ層なら
びにメツキ層の内側の軟鋼棒の深さ10μmまでが
均一に溶融合金化した後急冷され、目的通り約
70μmの厚さの非晶質Ni−14Fe−14Cr−18P合金
層が、下地軟鋼丸棒に密着して生成した。表面被
覆層は非晶質化しているため、第３図ａ及びｂに
示すように、結晶質の炭素鋼あるいはステンレス
鋼に金属組織が表われるナイタールエツチａ及び
しゆう酸電解エツチｂによつても結晶の金属組織
は表われなかつた。また第３図ｃ，ｄ，ｅ，ｆに
示すように、非晶質合金中ではNi，Fe，Cr，Ｐ
が均一に分布していることが判明した。（但し、
第３図ａ，ｂは反射電子像、ｃはNiKα（ｎ＝
２）、ｅはCrKα（ｎ＝１）、ｆはpKα（ｎ＝１）の
各々Ｘ線像） 実施例 ２ 非晶質Fe−Cr−Ｐ−Ｃ合金層による軟鋼板の
被覆の一例であつて、厚さ約55μmに非晶質Fe−
7Cr−12P−6C（但し、表面被覆非晶質合金層を作
製するこの実施例においては物質の組成を表す式
の数値は何れも原子パーセント）合金を軟鋼板に
被覆する目的で白銑、りん化鉄及び電解クロムを
５：４：１の重量比で混合した後粉砕し、300メ
ツシユの篩にかけた粉末とし、これを流動パラフ
インで濡らした厚さ10mmの軟鋼板に振り掛けレー
ザービーム処理用表面とした。これに200Wの
CO2レーザービームを金属表面におけるビーム直
径100μmとして照射した。第２図に示す照射方法
に準じて軟鋼板のｘ方向の一端から照射を開始
し、軟鋼板をｘ方向の一方へ43.6cm／secの速度
で相対移動させてｘ方向のビーム走査を行なつ
た。ビーム照射が軟鋼板の他端に達すると軟鋼板
をｙ方向に70μmが平行移動し、次いで、ｘ方向
の他方へ上記と同一速度で戻した。即ち、この場
合の走査速度は 43.6（cm／sec） 1sec間に処理する面積は 43.6×0.01（cm2／sec） エネルギー密度は 200÷（43.6×0.01）＝458.72（Ｊ／cm2） 局所照射による照射時間は 0.01÷43.6＝2.29×10-4（sec） であり、エネルギー密度×照射時間は、 458.72×2.29×10-4＝0.105（Ｊ・sec／cm2） であつた。
びにメツキ層の内側の軟鋼棒の深さ10μmまでが
均一に溶融合金化した後急冷され、目的通り約
70μmの厚さの非晶質Ni−14Fe−14Cr−18P合金
層が、下地軟鋼丸棒に密着して生成した。表面被
覆層は非晶質化しているため、第３図ａ及びｂに
示すように、結晶質の炭素鋼あるいはステンレス
鋼に金属組織が表われるナイタールエツチａ及び
しゆう酸電解エツチｂによつても結晶の金属組織
は表われなかつた。また第３図ｃ，ｄ，ｅ，ｆに
示すように、非晶質合金中ではNi，Fe，Cr，Ｐ
が均一に分布していることが判明した。（但し、
第３図ａ，ｂは反射電子像、ｃはNiKα（ｎ＝
２）、ｅはCrKα（ｎ＝１）、ｆはpKα（ｎ＝１）の
各々Ｘ線像） 実施例 ２ 非晶質Fe−Cr−Ｐ−Ｃ合金層による軟鋼板の
被覆の一例であつて、厚さ約55μmに非晶質Fe−
7Cr−12P−6C（但し、表面被覆非晶質合金層を作
製するこの実施例においては物質の組成を表す式
の数値は何れも原子パーセント）合金を軟鋼板に
被覆する目的で白銑、りん化鉄及び電解クロムを
５：４：１の重量比で混合した後粉砕し、300メ
ツシユの篩にかけた粉末とし、これを流動パラフ
インで濡らした厚さ10mmの軟鋼板に振り掛けレー
ザービーム処理用表面とした。これに200Wの
CO2レーザービームを金属表面におけるビーム直
径100μmとして照射した。第２図に示す照射方法
に準じて軟鋼板のｘ方向の一端から照射を開始
し、軟鋼板をｘ方向の一方へ43.6cm／secの速度
で相対移動させてｘ方向のビーム走査を行なつ
た。ビーム照射が軟鋼板の他端に達すると軟鋼板
をｙ方向に70μmが平行移動し、次いで、ｘ方向
の他方へ上記と同一速度で戻した。即ち、この場
合の走査速度は 43.6（cm／sec） 1sec間に処理する面積は 43.6×0.01（cm2／sec） エネルギー密度は 200÷（43.6×0.01）＝458.72（Ｊ／cm2） 局所照射による照射時間は 0.01÷43.6＝2.29×10-4（sec） であり、エネルギー密度×照射時間は、 458.72×2.29×10-4＝0.105（Ｊ・sec／cm2） であつた。
尚、本実施例にも合金中にＰが含有されている
ことから、本実施例で実際に溶融に使用された熱
量は 0.105×0.5＝0.094（Ｊ・sec／cm2） であつたことが推測される。
ことから、本実施例で実際に溶融に使用された熱
量は 0.105×0.5＝0.094（Ｊ・sec／cm2） であつたことが推測される。
以上の走査を繰り返すことによつて軟鋼板の全
面を隙間なくレーザービームで走査した。この結
果平均約50μmの厚さに非晶質Fe−8Cr−13P−
7C合金を下地に密着して被覆させることができ
た。
面を隙間なくレーザービームで走査した。この結
果平均約50μmの厚さに非晶質Fe−8Cr−13P−
7C合金を下地に密着して被覆させることができ
た。
［発明の効果］
以上説明したとおり、本発明によれば、高エネ
ルギー密度ビームの照射側のパラメータで入熱量
の上限を制御することにより、特別な冷却手段を
必要とせず、下地金属を組成の一部として下地金
属を覆う非晶質合金を得ると共に、この非晶質合
金を下地金属に密着した欠陥のない表面被覆層と
して連続した面状に作成することが可能であると
いう効果がある。
ルギー密度ビームの照射側のパラメータで入熱量
の上限を制御することにより、特別な冷却手段を
必要とせず、下地金属を組成の一部として下地金
属を覆う非晶質合金を得ると共に、この非晶質合
金を下地金属に密着した欠陥のない表面被覆層と
して連続した面状に作成することが可能であると
いう効果がある。
第１図は金属丸棒にビーム処理する方法の模式
図であり、第２図は金属板にビーム処理する方法
の模式図である。第３図は炭素綱丸棒にNi−Ｐ
メツキ及びCrメツキを施した後本発明方法によ
るレーザービーム処理を施した資料の断面図であ
り、ａ……ナイタールエツチ後の断面反射電子
像、ｂ……しゆう酸電解エツチ後の断面反射電子
像、ｃ……NiKαX線像、ｄ……FeKαX線像、ｅ
……CrKαX線像、pKαX線像である。
図であり、第２図は金属板にビーム処理する方法
の模式図である。第３図は炭素綱丸棒にNi−Ｐ
メツキ及びCrメツキを施した後本発明方法によ
るレーザービーム処理を施した資料の断面図であ
り、ａ……ナイタールエツチ後の断面反射電子
像、ｂ……しゆう酸電解エツチ後の断面反射電子
像、ｃ……NiKαX線像、ｄ……FeKαX線像、ｅ
……CrKαX線像、pKαX線像である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下地金属表面上に重ねた金属層に高エネルギ
ー密度ビームを照射することによつて表面被覆非
晶質合金層を作成する方法において、 前記金属層と前記下地金属表層の一部との溶融
した組成が、所望の非晶質合金組成となるように
各々予め定められた組成の前記金属層と前記下地
金属とを準備する工程と、 前記下地金属の表面上に重ねた前記金属層の上
方から、前記金属層と前記下地金属表層の一部と
を共に溶融させるに充分な照射エネルギー密度の
ビームを予め定められた照射時間で照射し、該ビ
ームによつて局所的に溶融した溶融金属を下地金
属への熱伝導により急速凝固させつつ、該溶融・
凝固操作を連続して前記所望組成の非晶質合金の
連続した帯状の非晶質合金層を得る工程と、 前記連続操作で得られた帯状の非晶質合金層の
幅方向に一部を重複して隣接した帯状の非晶質合
金層を同様の連続した溶融・凝固操作で形成する
と共にこれを繰り返す工程とを備え、 前記局所照射による照射時間と、前記照射エネ
ルギー密度との積を5J・sec／cm2以下に制御する
ことを特徴とする表面被覆非晶質合金層の作成方
法。 ２ 前記照射エネルギー密度が5000J／cm2以下で、
前記局所照射による照射時間が５×10-3sec以下
となるように制御することを特徴とする特許請求
の範囲第１項に記載の表面被覆非晶質合金層の作
成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3789881A JPS57155363A (en) | 1981-03-18 | 1981-03-18 | Method of forming surface covering metal layer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3789881A JPS57155363A (en) | 1981-03-18 | 1981-03-18 | Method of forming surface covering metal layer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57155363A JPS57155363A (en) | 1982-09-25 |
| JPH0229741B2 true JPH0229741B2 (ja) | 1990-07-02 |
Family
ID=12510355
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3789881A Granted JPS57155363A (en) | 1981-03-18 | 1981-03-18 | Method of forming surface covering metal layer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57155363A (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57200536A (en) * | 1981-06-02 | 1982-12-08 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Preparation of corrosion resistant structural member |
| JPS6036615A (ja) * | 1983-08-06 | 1985-02-25 | Nippon Steel Corp | 金属表層溶融処理法 |
| JPS60114564A (ja) * | 1983-11-26 | 1985-06-21 | Dai Ichi High Frequency Co Ltd | 表面処理方法 |
| JPS60159111A (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-20 | Toshiba Corp | レ−ザ光による表面処理方法 |
| JPS60165315A (ja) * | 1984-02-06 | 1985-08-28 | Mitsubishi Motors Corp | 白銑硬化方法 |
| JPH0684548B2 (ja) * | 1986-09-19 | 1994-10-26 | 吉田工業株式会社 | 高耐食アモルファス表面層を有する被覆金属体およびその作製法 |
| EP1518941A1 (en) | 2003-09-24 | 2005-03-30 | Sidmar N.V. | A method and apparatus for the production of metal coated steel products |
| JP5066797B2 (ja) * | 2005-07-08 | 2012-11-07 | 三菱電機株式会社 | 成膜方法および成膜ワークを生産する方法。 |
| KR100673293B1 (ko) * | 2005-07-11 | 2007-01-24 | 학교법인 포항공과대학교 | 표면 복합재료의 제조방법 및 이에 의한 표면 복합재료 |
| DE102011006899B4 (de) * | 2011-04-06 | 2025-01-30 | Te Connectivity Germany Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Kontaktelementen durch mechanisches Aufbringen von Materialschicht mit hoher Auflösung sowie Kontaktelement und eine Vorrichtung zur Herstellung |
| CN106102411A (zh) * | 2016-06-02 | 2016-11-09 | 吴本刚 | 240vdc高压直流供电系统 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55148752A (en) * | 1979-05-11 | 1980-11-19 | Nippon Steel Corp | Formation method of coating on metal surface |
-
1981
- 1981-03-18 JP JP3789881A patent/JPS57155363A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57155363A (en) | 1982-09-25 |
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