JPH02301931A - 陰極線管用陰極構体 - Google Patents
陰極線管用陰極構体Info
- Publication number
- JPH02301931A JPH02301931A JP12370389A JP12370389A JPH02301931A JP H02301931 A JPH02301931 A JP H02301931A JP 12370389 A JP12370389 A JP 12370389A JP 12370389 A JP12370389 A JP 12370389A JP H02301931 A JPH02301931 A JP H02301931A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- hermetic glass
- glass
- conical
- support body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims abstract description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
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Landscapes
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、陰極線管用陰極構体に関し、特に陰極支持構
体の構造に関する。
体の構造に関する。
陰極線管に用いる陰極支持構体は、第3図に示すように
ハーメチックガラス1と呼ばれる結晶化ガラスの中に埋
設された陰極支持体2とハーメチックガラス1の外側に
接着された外囲器3から構成されている。陰極支持体2
は、ハーメチックガラス1との接着性を考慮して低熱膨
張係数をもったコバール等の薄板を円筒状に加工して形
成されている。この円筒状の陰極支持体2の一方の開口
部には円盤状めスパッタ防止フランジがプレス加工等に
より形成されている。第3図において、陰極支持体2の
中に陰極4が挿入され所定の位置に溶接固定され、さら
に陰極4の中にヒータ5が挿入されて陰極構体ができ上
っている。そしてこの陰極構体のヒータ5に通電するこ
とにより陰極4が加熱され、陰極4より電子が放射され
る。
ハーメチックガラス1と呼ばれる結晶化ガラスの中に埋
設された陰極支持体2とハーメチックガラス1の外側に
接着された外囲器3から構成されている。陰極支持体2
は、ハーメチックガラス1との接着性を考慮して低熱膨
張係数をもったコバール等の薄板を円筒状に加工して形
成されている。この円筒状の陰極支持体2の一方の開口
部には円盤状めスパッタ防止フランジがプレス加工等に
より形成されている。第3図において、陰極支持体2の
中に陰極4が挿入され所定の位置に溶接固定され、さら
に陰極4の中にヒータ5が挿入されて陰極構体ができ上
っている。そしてこの陰極構体のヒータ5に通電するこ
とにより陰極4が加熱され、陰極4より電子が放射され
る。
上述した陰極構体において、ヒータ5に長時間・通電す
ると、隣り合った陰極同士の絶縁抵抗が時間の経過と共
に次第に低下して来る。いわゆる陰極−陰極間漏洩電流
不良となる問題があった。この陰極−陰極間漏洩電流不
良の原因は、第4図に示すようにヒータ5により陰極4
が約700〜800℃の温度に上昇し、かつ長時間通電
するため陰極4の基体金属であるニッケルやクロムか蒸
発し図のハツチングで示した部分に蒸着されることによ
り隣り合った陰極同士の絶縁抵抗が低下して行くことが
判明した。
ると、隣り合った陰極同士の絶縁抵抗が時間の経過と共
に次第に低下して来る。いわゆる陰極−陰極間漏洩電流
不良となる問題があった。この陰極−陰極間漏洩電流不
良の原因は、第4図に示すようにヒータ5により陰極4
が約700〜800℃の温度に上昇し、かつ長時間通電
するため陰極4の基体金属であるニッケルやクロムか蒸
発し図のハツチングで示した部分に蒸着されることによ
り隣り合った陰極同士の絶縁抵抗が低下して行くことが
判明した。
本発明は、複数個の陰極支持体がバーメチらクガラス内
にインライン状に埋設され、この陰極支持体内に陰極が
装着された陰極構体において、ヒータを長時間通電した
時、隣り合った陰極の間に陰極の基体金属であるニッケ
ルやクロムが蒸着しても絶縁抵抗の低下がない様に陰極
支持体の円盤状のフランジの下に絶縁性物質の円錐状の
小丘を設けたことを特徴とする。
にインライン状に埋設され、この陰極支持体内に陰極が
装着された陰極構体において、ヒータを長時間通電した
時、隣り合った陰極の間に陰極の基体金属であるニッケ
ルやクロムが蒸着しても絶縁抵抗の低下がない様に陰極
支持体の円盤状のフランジの下に絶縁性物質の円錐状の
小丘を設けたことを特徴とする。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の断面図である。第1図にお
いて、陰極支持体2はハーメチックガラス1と呼ばれる
結晶化ガラス中に埋設されハーメチックガラス1の外側
には42合金等をプレス形成した外囲器3が接着されて
いる。そして、陰極支持体2の円盤状のフランジの下に
はハーメデックガラスで形成された円錐状の小丘6が設
けられている。
いて、陰極支持体2はハーメチックガラス1と呼ばれる
結晶化ガラス中に埋設されハーメチックガラス1の外側
には42合金等をプレス形成した外囲器3が接着されて
いる。そして、陰極支持体2の円盤状のフランジの下に
はハーメデックガラスで形成された円錐状の小丘6が設
けられている。
第2図は本発明の陰極支持体2の円盤状のフランジの下
にハーメチックガラスで形成された円錐状の小丘6が設
けられている部分へ陰極4の基体金属であるニッケルや
クロムが蒸着する様子を示す断面図である。第2図に示
す通り陰極4の基体金属であるニッケルやクロムが蒸発
してもハーメチックガラスで円錐状に小丘6が形成され
ているため基体金属の蒸着はハツチングで示すようにハ
ーメチックガラスの円錐状の小丘6の途中までしか形成
されず、ヒータ5を長時間通電しても陰極−陰極間漏洩
電流不良となることがなくなった。
にハーメチックガラスで形成された円錐状の小丘6が設
けられている部分へ陰極4の基体金属であるニッケルや
クロムが蒸着する様子を示す断面図である。第2図に示
す通り陰極4の基体金属であるニッケルやクロムが蒸発
してもハーメチックガラスで円錐状に小丘6が形成され
ているため基体金属の蒸着はハツチングで示すようにハ
ーメチックガラスの円錐状の小丘6の途中までしか形成
されず、ヒータ5を長時間通電しても陰極−陰極間漏洩
電流不良となることがなくなった。
なお、この実施例では円錐状の小丘を形成するのにハー
メチックガラスを使用したが絶縁性の物質であれば種類
を問わない。
メチックガラスを使用したが絶縁性の物質であれば種類
を問わない。
以上説明したように本発明は、陰極支持体の円盤状のフ
ランジの下に絶縁性物質の円錐状の小丘を設けることに
より陰極から蒸発物質が隣り合った陰極同士の絶縁抵抗
な企下させることがなくし−タを長時間通電しても、隘
極−陰極間漏洩電流不良の発生しない陰極線間用陰極構
体を提供することが可能である。
ランジの下に絶縁性物質の円錐状の小丘を設けることに
より陰極から蒸発物質が隣り合った陰極同士の絶縁抵抗
な企下させることがなくし−タを長時間通電しても、隘
極−陰極間漏洩電流不良の発生しない陰極線間用陰極構
体を提供することが可能である。
図面の簡単な説明
第1図は本発明の陰極構体の一実施例を示す断面図、第
2図は本発明の陰極構体の陰極からの蒸発物質が蒸着し
た状態を示す断面図、第3図は従来の陰極構体の例を示
す断面図、第4図は従来の陰極構体の陰極からの蒸発物
質が蒸着した状態を示す断面図である。
2図は本発明の陰極構体の陰極からの蒸発物質が蒸着し
た状態を示す断面図、第3図は従来の陰極構体の例を示
す断面図、第4図は従来の陰極構体の陰極からの蒸発物
質が蒸着した状態を示す断面図である。
1・・・ハーメチックガラス、2・・・陰極支持体、3
・・・外囲器、4・・・陰極、5・・・ヒータ、6・・
・ハーメチックガラスの円錐状の小丘。
・・・外囲器、4・・・陰極、5・・・ヒータ、6・・
・ハーメチックガラスの円錐状の小丘。
Claims (1)
- 複数個の陰極支持体がハーメチックガラス内にインライ
ン状に埋設され、この陰極支持体内に陰極が装着された
陰極構体において、前記陰極支持体の円盤状のスパッタ
防止フランジの下部に絶縁物質の円錐状の小丘を設けた
ことを特徴とする陰極線管用陰極構体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12370389A JPH02301931A (ja) | 1989-05-16 | 1989-05-16 | 陰極線管用陰極構体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12370389A JPH02301931A (ja) | 1989-05-16 | 1989-05-16 | 陰極線管用陰極構体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02301931A true JPH02301931A (ja) | 1990-12-14 |
Family
ID=14867257
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12370389A Pending JPH02301931A (ja) | 1989-05-16 | 1989-05-16 | 陰極線管用陰極構体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02301931A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5732532A (en) * | 1980-08-06 | 1982-02-22 | Hitachi Ltd | Hermetic cathode-supporting member for electron gun |
| JPS5714345B2 (ja) * | 1973-04-09 | 1982-03-24 |
-
1989
- 1989-05-16 JP JP12370389A patent/JPH02301931A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5714345B2 (ja) * | 1973-04-09 | 1982-03-24 | ||
| JPS5732532A (en) * | 1980-08-06 | 1982-02-22 | Hitachi Ltd | Hermetic cathode-supporting member for electron gun |
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