JPH0233902A - サーマルヘッドおよびその製造法 - Google Patents
サーマルヘッドおよびその製造法Info
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- JPH0233902A JPH0233902A JP63184356A JP18435688A JPH0233902A JP H0233902 A JPH0233902 A JP H0233902A JP 63184356 A JP63184356 A JP 63184356A JP 18435688 A JP18435688 A JP 18435688A JP H0233902 A JPH0233902 A JP H0233902A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はファクシミリ、フルカラープリンタ、ワープロ
などの印字装置に用いるサーマルヘッドおよびその製造
法に関する。
などの印字装置に用いるサーマルヘッドおよびその製造
法に関する。
従来の技術
熱転写、感熱印字方式プリンタなどの印字装置に用いら
れるサーマルヘッドとして、従来第２および第３図に示
す二つの種類のものがある。第１図に示すものは、グレ
ーズ層（２０）を被覆したアルミナのような絶縁基板（
２１）の上に蒸着、スパッタリングのような真空薄膜形
成プロセスにより得たＴａ−Ｓｉのような抵抗体層＜２
２）、Ｎｌ 、Ｃｒのような電極層（２３）、５Ｉ０２
のような耐１酸化層（２４・）、ＳＩＣのような耐磨耗
層（２５）をホトリソエツチング法をもちいてパターン
形成する、いわゆる薄膜型と呼ばれるものである。第３
図に示すものは基板（３・ｌ）の上に順にグレーズ層（
３０）、電極１層（６２）、抵抗体層（Ｇ３）、耐磨耗
層（６４）を、それぞれをペーストの印刷焼成により形
成する、いわゆる厚膜型と呼ばれるものである。
れるサーマルヘッドとして、従来第２および第３図に示
す二つの種類のものがある。第１図に示すものは、グレ
ーズ層（２０）を被覆したアルミナのような絶縁基板（
２１）の上に蒸着、スパッタリングのような真空薄膜形
成プロセスにより得たＴａ−Ｓｉのような抵抗体層＜２
２）、Ｎｌ 、Ｃｒのような電極層（２３）、５Ｉ０２
のような耐１酸化層（２４・）、ＳＩＣのような耐磨耗
層（２５）をホトリソエツチング法をもちいてパターン
形成する、いわゆる薄膜型と呼ばれるものである。第３
図に示すものは基板（３・ｌ）の上に順にグレーズ層（
３０）、電極１層（６２）、抵抗体層（Ｇ３）、耐磨耗
層（６４）を、それぞれをペーストの印刷焼成により形
成する、いわゆる厚膜型と呼ばれるものである。
発明が解決しようとする課題
上に述べた二つの種類のサーマルヘッドはそれぞれ長所
と短所を有する。すなはち、薄、模型サーマルヘッドは
抵、抗体形状（面積、厚さなど）が各ドツト間で均一で
ありその熱容量が均一であることから印字の時の紙への
熱の伝達が均一に行われる。また各抵抗体の抵抗値もあ
るレベルまでは均一なものが得られ、総合的に見て印字
品質の優れたサーマルヘッドである。抵抗体層の厚さが
薄く１０００−５０００Ａであることから熱容量が小さ
く、パルス印加ＯＮ、ＯＦＦ時の抵、抗体温度の立ち上
がり、立ち下がり時定数は優れたものになり印字発熱効
率も高い。しかしながら従来の薄膜型では抵抗値のばら
つきは±５％以下にすることは難しく、さらに優れた印
字品質を望むことは困難である。また薄膜プロセスのた
めの設備コスト、バッチ生産など生産性、低コスト化の
点から解決するべき問題点が多い。
と短所を有する。すなはち、薄、模型サーマルヘッドは
抵、抗体形状（面積、厚さなど）が各ドツト間で均一で
ありその熱容量が均一であることから印字の時の紙への
熱の伝達が均一に行われる。また各抵抗体の抵抗値もあ
るレベルまでは均一なものが得られ、総合的に見て印字
品質の優れたサーマルヘッドである。抵抗体層の厚さが
薄く１０００−５０００Ａであることから熱容量が小さ
く、パルス印加ＯＮ、ＯＦＦ時の抵、抗体温度の立ち上
がり、立ち下がり時定数は優れたものになり印字発熱効
率も高い。しかしながら従来の薄膜型では抵抗値のばら
つきは±５％以下にすることは難しく、さらに優れた印
字品質を望むことは困難である。また薄膜プロセスのた
めの設備コスト、バッチ生産など生産性、低コスト化の
点から解決するべき問題点が多い。
一方、厚膜型サーマルヘッドは印刷、焼成法を用いるこ
とから設備コストが低いこと、連続生産が容易なことな
ど利点が多いが、抵抗体層が酸化ルテニウム粉末などの
金属・酸化物へ粉末とガラスフリットとの混合物から成
るペーストを印刷、焼成して形成したものであることか
ら抵抗体層中の金属酸化物層の均一分散が得られに＜＜
、ドツト間の抵抗値ばらつきを少なくすることが困・難
である。厚膜型サーマルヘッドでは過負荷トリミング法
によってこの抵抗値ばらつきを±１％・以下にすること
が可能である。しかしながら一つのドツトの中のミクロ
な電流パスに注目するとトリミングの不均一性などが要
改善点として残されている。これらの短所は、厚膜抵抗
体層の大きな熱容量に起因するところ大であり、発熱印
字の時の時定数が大きいこと、印字熱効率が悪いこと、
印字品質が悪いことなど、の結果に至っている。
とから設備コストが低いこと、連続生産が容易なことな
ど利点が多いが、抵抗体層が酸化ルテニウム粉末などの
金属・酸化物へ粉末とガラスフリットとの混合物から成
るペーストを印刷、焼成して形成したものであることか
ら抵抗体層中の金属酸化物層の均一分散が得られに＜＜
、ドツト間の抵抗値ばらつきを少なくすることが困・難
である。厚膜型サーマルヘッドでは過負荷トリミング法
によってこの抵抗値ばらつきを±１％・以下にすること
が可能である。しかしながら一つのドツトの中のミクロ
な電流パスに注目するとトリミングの不均一性などが要
改善点として残されている。これらの短所は、厚膜抵抗
体層の大きな熱容量に起因するところ大であり、発熱印
字の時の時定数が大きいこと、印字熱効率が悪いこと、
印字品質が悪いことなど、の結果に至っている。
本発明は、サーマルヘッドの印字時定数、熱効率、およ
び印字品質の改善を目的とする。
び印字品質の改善を目的とする。
課題を解決するための手段
本発明は、金属の有機化合物を出発原料とし、これの分
解によって得られた厚さ３．０μ以下の抵抗体層を有す
るサーマルヘッドおよびその製造法である。
解によって得られた厚さ３．０μ以下の抵抗体層を有す
るサーマルヘッドおよびその製造法である。
作用
本発明によれば、ペーストの印刷分解焼成法によって厚
さが３．０μ以下の抵抗体層を得ることができ、これを
発熱電体として用いたサーマルヘッドは、熱効率、印字
ＯＮ、ＯＦ、Ｆ、時定数、印字品質の優れたものとなる
。
さが３．０μ以下の抵抗体層を得ることができ、これを
発熱電体として用いたサーマルヘッドは、熱効率、印字
ＯＮ、ＯＦ、Ｆ、時定数、印字品質の優れたものとなる
。
実施例
以下に図面に従って本発明の具体的な実施例を示す。
（実施例１）
厚さ０．８ｍｍのグレーズアルミナ基板の上に金の有機
金属化合物ペーストの印刷１焼、成、ホトリソエツチン
グによって電、極−層を形成する。このうえに印刷焼成
法によってライン状の抵、抗１体層を形成する。
金属化合物ペーストの印刷１焼、成、ホトリソエツチン
グによって電、極−層を形成する。このうえに印刷焼成
法によってライン状の抵、抗１体層を形成する。
印刷に用いた抵、抗体ペーストは、ルテニウムの脂肪酸
エステル（炭素、数７で液体）、Ｐ、ｂ、Ｂ、Ｓｉ，そ
れぞれの脂肪酸エステル、エチルセルロース、テルピネ
オールの混合組４成ペーストである。最、後に硼、珪酸
鉛系ガラスペーストの印・側坑、成により耐Ｉ磨耗層を
形成した。
エステル（炭素、数７で液体）、Ｐ、ｂ、Ｂ、Ｓｉ，そ
れぞれの脂肪酸エステル、エチルセルロース、テルピネ
オールの混合組４成ペーストである。最、後に硼、珪酸
鉛系ガラスペーストの印・側坑、成により耐Ｉ磨耗層を
形成した。
（実施例２）
実施例１のルテニウムの有機化合物として炭素数が２０
の固体状レジネートを用いた。
の固体状レジネートを用いた。
（実施例３）
実施例１のルテニウムの脂、肪、酸エステルの替わりに
ルテニウムの多環有機化合物を用いた。
ルテニウムの多環有機化合物を用いた。
（実施例４）
ルテニウムの多環有機化合物と実施・例１で用いたペー
ストとの混合ペーストを印−側坑。成した。
ストとの混合ペーストを印−側坑。成した。
（実施例５）
ルテニ°ウムの固体状ＩＩ鵬肪酸エステル（炭素数７）
。
。
ルテニウムの液状脂、肪酸エステル（炭素数２０ ）
、Ｐｂ 。
、Ｐｂ 。
Ｓｉ，Ｂ、 それぞれのアルコラート、エチルセルロ
ス、テルピネオールの混合ペーストを印・刷、焼成して
抵抗体層とした。他は実施例１と同じ。
ス、テルピネオールの混合ペーストを印・刷、焼成して
抵抗体層とした。他は実施例１と同じ。
（実施例６）
実施例−１と同じ抵抗体層を形成しこの抵抗体層の上に
スパッタリング法により炭化硅素膜（厚さ３μｍ）を形
成して耐、磨耗層とする。
スパッタリング法により炭化硅素膜（厚さ３μｍ）を形
成して耐、磨耗層とする。
（実施例７）
実施例１と同じ抵１抗体層を形成し、この抵抗体層の上
に、Ｓｉ，Ｂ、Ｐ、ｂ それぞれの・脂、肪酸エステ
ル（炭素数１０）、炭化硅素隻粉末（平均粒径０．５μ
ｍ）、エチルセルロース、テルピネオールの混合ペース
トの印刷焼成によって耐６磨、耗層（、厚さ２．０μｍ
、）を形成する。
に、Ｓｉ，Ｂ、Ｐ、ｂ それぞれの・脂、肪酸エステ
ル（炭素数１０）、炭化硅素隻粉末（平均粒径０．５μ
ｍ）、エチルセルロース、テルピネオールの混合ペース
トの印刷焼成によって耐６磨、耗層（、厚さ２．０μｍ
、）を形成する。
（実施例８）
ホーロ基板の上に金のレジネートの印刷焼成およびホト
リソエツチング法により電極パターンを形成する。実施
１例１で用いたものと同じルテニウムの有機化合物を含
、むペーストを印僧Ｊする。印・制帽は２００μｍ０
これを第１図に示す装置を用いて水蒸気雰囲気中で熱
分〉解する。温・度は８．００℃、水蒸気分圧は１００
ｍ＋ｎＨｇである。（＋）、（２）、（３）、（，４，
）、（５）、（Ｇ）、はそれぞれ加熱用電気ヒータ、石
英炉心管、水蒸気供給装置、試料、温度側・御器、酸素
および窒素からなるキャリアガスボンベである。
リソエツチング法により電極パターンを形成する。実施
１例１で用いたものと同じルテニウムの有機化合物を含
、むペーストを印僧Ｊする。印・制帽は２００μｍ０
これを第１図に示す装置を用いて水蒸気雰囲気中で熱
分〉解する。温・度は８．００℃、水蒸気分圧は１００
ｍ＋ｎＨｇである。（＋）、（２）、（３）、（，４，
）、（５）、（Ｇ）、はそれぞれ加熱用電気ヒータ、石
英炉心管、水蒸気供給装置、試料、温度側・御器、酸素
および窒素からなるキャリアガスボンベである。
（実施例９）
紫外線により分・解し酸化物となるルテニウムの有機化
合物と、同じく紫外線により分・解し酸化物となるＳｉ
，Ｐｂ、Ｂ、の有・硫化合物と、テルピネオール、エチ
ルセルロース、の混合ペーストラ印刷ｔ ル。
合物と、同じく紫外線により分・解し酸化物となるＳｉ
，Ｐｂ、Ｂ、の有・硫化合物と、テルピネオール、エチ
ルセルロース、の混合ペーストラ印刷ｔ ル。
続いてこれに紫外線を照射しＲｕＯ２−５Ｉ０２−Ｐｂ
Ｏ−Ｂ２０３層とする。耐磨耗層として実施例６と同じ
方法で炭化硅素層を形成する。
Ｏ−Ｂ２０３層とする。耐磨耗層として実施例６と同じ
方法で炭化硅素層を形成する。
表に本発明の実施貴によるサーマルヘッドの特性を示す
。表中の比較例１は抵抗ペーストとして酸化ルテニウム
粉末と畢珪酸ガラスフリットとエチルセルローズとター
ピネオールとの混合ペーストを用いたもので、その他の
構拳成および材料は美本ｌ）パルス電圧Ｑ、ＩＥｉＷ／
ｄｏｔ３２ｍｓｅｃ／ｃｙｃｌｅｌ／４ｄｕｔｙ立上り
４ｍ５ｅｃ時の時定数束２）同条件で立下り４ｍ５ｅｃ
時の時定数＊３） ０Ｄ＝１．０時の入力Ｉネルキ゛
−ＩＧｍｓｅｃ／ｃｙｃｌｅｌ／４ｄｕｔｙ雄側１と同
じである。また比較例２は薄膜プロセスにより制作した
サーマルヘッドである。
。表中の比較例１は抵抗ペーストとして酸化ルテニウム
粉末と畢珪酸ガラスフリットとエチルセルローズとター
ピネオールとの混合ペーストを用いたもので、その他の
構拳成および材料は美本ｌ）パルス電圧Ｑ、ＩＥｉＷ／
ｄｏｔ３２ｍｓｅｃ／ｃｙｃｌｅｌ／４ｄｕｔｙ立上り
４ｍ５ｅｃ時の時定数束２）同条件で立下り４ｍ５ｅｃ
時の時定数＊３） ０Ｄ＝１．０時の入力Ｉネルキ゛
−ＩＧｍｓｅｃ／ｃｙｃｌｅｌ／４ｄｕｔｙ雄側１と同
じである。また比較例２は薄膜プロセスにより制作した
サーマルヘッドである。
発明の効果
以上のように、本発明によれば従来の様なガラスフリッ
トをバインダに用いないためにその厚さの非常に薄い抵
抗体層を得ることができる。このため抵抗体層の熱容量
が薄膜プロセスによるものと同等になるため印字の時の
ＯＮ、ＯＦＦ時定数、印字熱効率、印字品質、いずれの
点ても優れた特性を有するサーマルヘッドが低コストで
連続的に生産できる。
トをバインダに用いないためにその厚さの非常に薄い抵
抗体層を得ることができる。このため抵抗体層の熱容量
が薄膜プロセスによるものと同等になるため印字の時の
ＯＮ、ＯＦＦ時定数、印字熱効率、印字品質、いずれの
点ても優れた特性を有するサーマルヘッドが低コストで
連続的に生産できる。
のサーマルヘッドの構令成図である。
１・・加熱用電気ヒータ、２・・石英炉心管、３・水蒸
気供給装置、４・・試料、５・・温度制御器、６・・キ
ャリアガスボンベ。
気供給装置、４・・試料、５・・温度制御器、６・・キ
ャリアガスボンベ。
Claims (11)
- （１）金属の有機化合物を出発原料とし、この出発原料
の分解反応によって得られた厚さ３．０μ以下の発熱抵
抗体層を有するサーマルヘッドの製造法。 - （２）金属が白金族元素、金、銀、ニッケル、クロム、
シリコン、ゲルマニウム、タンタル、アルミニウム、ジ
ルコニウム、チタン、硼素、ビスマス、バナジウム、鉛
から選ばれたものであること特徴とする請求項１記載の
サーマルヘッドの製造法。 - （３）金属の有機化合物が炭素数が２０までの低級脂肪
酸のエステル、アルコラート、メルカプチド、多環式有
機金属化合物、その他のレジネート、ロジネートの単体
もしくはこれらの混合物であることを特徴とする請求項
１記載のサーマルヘッドの製造法。 - （４）金属の有機化合物が室温において液体状、固体状
または両者の混合物であることを特徴とする請求項１記
載のサーマルヘッド製造法。 - （５）分解が、熱エネルギによるもの、光エネルギによ
るもの、化学反応によるもの、のいずれか一つまたはこ
れらの併用によるもであることを特徴とする請求項１記
載のサーマルヘッドの製造法。 - （６）分解が２０ｍｍＨｇ以上の水蒸気雰囲気中で行わ
れることを特徴とする請求項１記載のサーマルヘッドの
製造法。 - （７）耐磨耗層が蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ，など
による炭化硅素、窒化硅素、Ｓｉ−Ｎ−Ｏ膜、炭素膜の
いずれかであることを特徴とする請求項７記載のサーマ
ルヘッドの製造法。 - （８）耐磨耗層がＳｉ，Ｂ，Ｐｂなどの元素の有機化合
物を出発原料とし、これの分解により得られたものであ
ることを特徴とする請求項７記載のサーマルヘッドの製
造法。 - （９）耐磨耗層がＳｉ，Ｐｂ，Ｂ，の有機化合物、Ｓｉ
Ｃ，ＳｉＮ，ＴｉＣ粉末、を少なくとも含む混合ペース
トを出発原料とし、これの分解により得られたものであ
ることを特徴とする請求項７記載のサーマルヘッドの製
造法。 - （１０）金属の有機化合物を出発原料とし、この出発原
料の分解反応によって得られた厚さ３．０μ以下の発熱
抵抗体層を有するサーマルヘッド。 - （１１）発熱抵抗体層の上に厚さ５．０μｍ以下の耐磨
耗層を有することを特徴とする請求項１０記載のサーマ
ルヘッド。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63184356A JPH088162B2 (ja) | 1988-07-22 | 1988-07-22 | サーマルヘッドおよびその製造法 |
| KR1019890701511A KR920005760B1 (ko) | 1987-12-10 | 1988-12-08 | 더어멀 헤드 및 그 제조방법 |
| EP19890900304 EP0344329A4 (en) | 1987-12-10 | 1988-12-08 | Thermal head and production thereof. |
| PCT/JP1988/001239 WO1989005232A1 (en) | 1987-12-10 | 1988-12-08 | Thermal head and production thereof |
| US07/830,457 US5250958A (en) | 1987-12-10 | 1992-02-05 | Thermal head and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63184356A JPH088162B2 (ja) | 1988-07-22 | 1988-07-22 | サーマルヘッドおよびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0233902A true JPH0233902A (ja) | 1990-02-05 |
| JPH088162B2 JPH088162B2 (ja) | 1996-01-29 |
Family
ID=16151813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63184356A Expired - Fee Related JPH088162B2 (ja) | 1987-12-10 | 1988-07-22 | サーマルヘッドおよびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH088162B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5510823A (en) * | 1991-03-07 | 1996-04-23 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Paste for resistive element film |
| US5695571A (en) * | 1993-06-01 | 1997-12-09 | Fujitsu Limited | Cleaning method using a defluxing agent |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53101426A (en) * | 1977-01-20 | 1978-09-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Thin film type thermal head |
| JPS6253850A (ja) * | 1985-09-02 | 1987-03-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 感熱記録用サ−マルヘツドの製造方法 |
| JPS6276603A (ja) * | 1985-09-30 | 1987-04-08 | ティーディーケイ株式会社 | 保護膜の製造法 |
| JPH01220402A (ja) * | 1988-02-29 | 1989-09-04 | Fuji Xerox Co Ltd | 抵抗体及びその製造方法ならびにその抵抗体を用いたサーマルヘッド |
-
1988
- 1988-07-22 JP JP63184356A patent/JPH088162B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53101426A (en) * | 1977-01-20 | 1978-09-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Thin film type thermal head |
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| JPH01220402A (ja) * | 1988-02-29 | 1989-09-04 | Fuji Xerox Co Ltd | 抵抗体及びその製造方法ならびにその抵抗体を用いたサーマルヘッド |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5510823A (en) * | 1991-03-07 | 1996-04-23 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Paste for resistive element film |
| US5695571A (en) * | 1993-06-01 | 1997-12-09 | Fujitsu Limited | Cleaning method using a defluxing agent |
| US6050479A (en) * | 1993-06-01 | 2000-04-18 | Fujitsu, Ltd. | Defluxing agent cleaning method and cleaning apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH088162B2 (ja) | 1996-01-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |