JPH0240231A - 差圧シール装置 - Google Patents
差圧シール装置Info
- Publication number
- JPH0240231A JPH0240231A JP18836888A JP18836888A JPH0240231A JP H0240231 A JPH0240231 A JP H0240231A JP 18836888 A JP18836888 A JP 18836888A JP 18836888 A JP18836888 A JP 18836888A JP H0240231 A JPH0240231 A JP H0240231A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- plate material
- chambers
- plates
- gap
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/03—Pressure vessels, or vacuum vessels, having closure members or seals specially adapted therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、帯板等の板材に真空中でコーティング等の処
理を連続して行う処理ラインにおいて、圧力の異なる2
室の間の圧力差を保持するための差圧シール装置に関す
るものである。
理を連続して行う処理ラインにおいて、圧力の異なる2
室の間の圧力差を保持するための差圧シール装置に関す
るものである。
[従来の技術]
帯板等の板材に装飾性、耐食性、耐摩耗性等を付与する
ために、真空中でイオンブレーティング、スバウタリン
グ、プラズマCVD(chemicalvapor d
eposition) 、真空蒸着等により、材料の表
面に連続的にセラミックスや金属の皮膜を形成するコー
ティング技術か開発されつつある。このような処理を行
うライン等において、板材を大気中から真空の処理室に
入れるためには、大気圧から順次圧力を下げた多段の真
空室を通過させることが要求される。また、一つのライ
ンで複数の処理を行う場合は、真空度の異なる処理室を
連続的に通過させることが要求される。
ために、真空中でイオンブレーティング、スバウタリン
グ、プラズマCVD(chemicalvapor d
eposition) 、真空蒸着等により、材料の表
面に連続的にセラミックスや金属の皮膜を形成するコー
ティング技術か開発されつつある。このような処理を行
うライン等において、板材を大気中から真空の処理室に
入れるためには、大気圧から順次圧力を下げた多段の真
空室を通過させることが要求される。また、一つのライ
ンで複数の処理を行う場合は、真空度の異なる処理室を
連続的に通過させることが要求される。
このような要求に応える装置として、板材を上下から挟
んでシールする一対のロールを多段配置したシール装置
を、真空度の異なる処理室の間に配したもの(特開昭5
7−195753)、さらに真空の処理室と大気の間に
配したもの(特開昭57−195754)が知られてい
る。
んでシールする一対のロールを多段配置したシール装置
を、真空度の異なる処理室の間に配したもの(特開昭5
7−195753)、さらに真空の処理室と大気の間に
配したもの(特開昭57−195754)が知られてい
る。
[発明か解決しようとする課題]
真空処理を行う装置において、高真空を得るためおよび
高温に耐えるために、装置を金属製にする必要がある。
高温に耐えるために、装置を金属製にする必要がある。
帯板等の板材を連続処理する場合、コーティング等の処
理を行った板材にシール装置の金属ロールが接触すると
、板材の表面に形成された皮膜に疵がつき、またコーテ
ィングされる前の板材に金属ロールが接触しても、板材
の表面に疵がついてコーテイング後の表面疵になるとい
う問題があった。
理を行った板材にシール装置の金属ロールが接触すると
、板材の表面に形成された皮膜に疵がつき、またコーテ
ィングされる前の板材に金属ロールが接触しても、板材
の表面に疵がついてコーテイング後の表面疵になるとい
う問題があった。
本発明は、帯板等の板材にコーティング等の処理を連続
して行う処理ラインにおいて、圧力の異なる2室の間の
圧力差を保持するとともに、被処理材の表面に疵や汚れ
を発生させることのない差圧シール装置を提供すること
を目的とする。
して行う処理ラインにおいて、圧力の異なる2室の間の
圧力差を保持するとともに、被処理材の表面に疵や汚れ
を発生させることのない差圧シール装置を提供すること
を目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明装置を図面に示す具体例により説明する。
本発明の差圧シール装置は、第1図(第2図の1−I断
面図)、第2図(第1図のII −II断面図)および
第3図(第1図の■−m断面図)に示すように、帯板等
の板材Sが略水平方向に搬送され、板材Sの下面に処理
が施される処理ラインにおいて圧力の異なるA、82室
の境界をなす装置てあって、上隔壁l、下隔壁2.上フ
レーム3゜下フレーム4.上プレート5.下プレー1・
6.ガイドロール7、シールプレート8を有し、これら
はいずれも金属製である。
面図)、第2図(第1図のII −II断面図)および
第3図(第1図の■−m断面図)に示すように、帯板等
の板材Sが略水平方向に搬送され、板材Sの下面に処理
が施される処理ラインにおいて圧力の異なるA、82室
の境界をなす装置てあって、上隔壁l、下隔壁2.上フ
レーム3゜下フレーム4.上プレート5.下プレー1・
6.ガイドロール7、シールプレート8を有し、これら
はいずれも金属製である。
1隔Jfilの下端と下隔壁2の上端の間には板材Sが
通過する間隙が設けられ、上フレーム3は上隔壁1の下
端から下方に突出して上下位置゛調整可能に設けられ、
下フレーム4は下隔壁2の上端から上方に突出して上下
位置調整可能に設けられている。
通過する間隙が設けられ、上フレーム3は上隔壁1の下
端から下方に突出して上下位置゛調整可能に設けられ、
下フレーム4は下隔壁2の上端から上方に突出して上下
位置調整可能に設けられている。
上フレーム3の下端には上プレート5が板材Sと平行に
設けられ、下フレーム4の上端には下プレート6が板材
Sと平行に設けられている。上プレート5の板材S搬送
方向の前後端にはガイドロール’/a、7bか設けられ
、ガイドロール7a、 7bの軸は板材Sの表面と平行
でかつ板材Sの搬送方向と直角になっており、上プレー
ト5の下面より下方に突出し、かつ下プレート6との間
に間隙をもって設けられている。
設けられ、下フレーム4の上端には下プレート6が板材
Sと平行に設けられている。上プレート5の板材S搬送
方向の前後端にはガイドロール’/a、7bか設けられ
、ガイドロール7a、 7bの軸は板材Sの表面と平行
でかつ板材Sの搬送方向と直角になっており、上プレー
ト5の下面より下方に突出し、かつ下プレート6との間
に間隙をもって設けられている。
さらに上プレート5および下プレート6の板材S搬送方
向両側端部にはシールプレート8が設けられ、シールプ
レート8は両プレート5および6の間隙を埋めかつ前記
2室の側壁9a、 9bと密着している。
向両側端部にはシールプレート8が設けられ、シールプ
レート8は両プレート5および6の間隙を埋めかつ前記
2室の側壁9a、 9bと密着している。
第1図および第2図において、10a、lObはガイド
ロール7aを上プレート5に取り付けるための軸受ブロ
ック、IOc、10dはガイドロール7bを上プレート
5に取り付けるための軸受ブロクつてある。本例では、
上プレート5の板材S搬送方向前後端には、第2図のよ
うに切欠きか設けてあって、該切欠きにガイドロール7
a、 7bが取り付けられている。
ロール7aを上プレート5に取り付けるための軸受ブロ
ック、IOc、10dはガイドロール7bを上プレート
5に取り付けるための軸受ブロクつてある。本例では、
上プレート5の板材S搬送方向前後端には、第2図のよ
うに切欠きか設けてあって、該切欠きにガイドロール7
a、 7bが取り付けられている。
また、lla、Ilbは上フレーム3を上隔壁1に取り
付けるためのネジであり、上フレーム3には長穴13a
、13bが設けてあって、上フレーム3を上隔壁lに対
して上下位置調整できるようになっている。12a、1
2bは下フレーム4を下隔壁2に取り付けるためのネジ
であり、下フレーム4には長穴14a、14bが設けて
あって、下フレーム4を下隔壁2に対して上下位置調整
できるようになっている。
付けるためのネジであり、上フレーム3には長穴13a
、13bが設けてあって、上フレーム3を上隔壁lに対
して上下位置調整できるようになっている。12a、1
2bは下フレーム4を下隔壁2に取り付けるためのネジ
であり、下フレーム4には長穴14a、14bが設けて
あって、下フレーム4を下隔壁2に対して上下位置調整
できるようになっている。
[作用]
A、82室は上隔壁1.下隔壁2および上フシーム3.
下フレーム4て遮断され、上プレート5と下プレート6
の間隙のみか開いている。そして、753図のように、
この間隙の側壁9a、 9b側にはシールプレート8a
、 8bか設けてあり、上プレート5と下プレート6と
シールプレート7a、 7bて囲まれた通路を通して板
材Sか搬送されるとともに、A、82室の雰囲気はこの
通路のみで通している。
下フレーム4て遮断され、上プレート5と下プレート6
の間隙のみか開いている。そして、753図のように、
この間隙の側壁9a、 9b側にはシールプレート8a
、 8bか設けてあり、上プレート5と下プレート6と
シールプレート7a、 7bて囲まれた通路を通して板
材Sか搬送されるとともに、A、82室の雰囲気はこの
通路のみで通している。
この通路の長さは上プレート5および下プレート6の長
さに相当し、第1図のように、この長さを上プレート5
と下プレート6の間隙に対して長く取ることにより、A
、B2室の間の気体の通気抵抗を大にすることかてき、
2室間の圧力差を保持することができる。上プレート5
と下プレート6の間隙は、板材Sの厚さに応じ、上隔壁
1と上フレーム3の取り付は位置および上隔壁2と下フ
レーム4の取り付は位置の調整を行うことによって、必
要最小限に調整することかできる。
さに相当し、第1図のように、この長さを上プレート5
と下プレート6の間隙に対して長く取ることにより、A
、B2室の間の気体の通気抵抗を大にすることかてき、
2室間の圧力差を保持することができる。上プレート5
と下プレート6の間隙は、板材Sの厚さに応じ、上隔壁
1と上フレーム3の取り付は位置および上隔壁2と下フ
レーム4の取り付は位置の調整を行うことによって、必
要最小限に調整することかできる。
上プレート5の板材S搬送方向前後端には、第1図のよ
うに、ガイドロール7a、 7bが上プレート5の下面
よりも下方に突出して設けてあり、板材Sは前後面リー
ル等の図示しない搬送手段によって上面がガイドロール
7a、 7bと接触するように搬送されるので、板材S
と上プレート5および下プレート6との間に間隙が保た
れる。このため、板材Sの下面は無接触の状態で搬送す
ることかできるので、下面にコーティング等の処理を施
すとき疵や汚れか生しることかない。
うに、ガイドロール7a、 7bが上プレート5の下面
よりも下方に突出して設けてあり、板材Sは前後面リー
ル等の図示しない搬送手段によって上面がガイドロール
7a、 7bと接触するように搬送されるので、板材S
と上プレート5および下プレート6との間に間隙が保た
れる。このため、板材Sの下面は無接触の状態で搬送す
ることかできるので、下面にコーティング等の処理を施
すとき疵や汚れか生しることかない。
なお、板材Sの上面をガイドロール7a、 7bに接触
させる手段としては、板材Sか磁性体の場合はガイドロ
ール7a、 7bを磁石とすることもできる。
させる手段としては、板材Sか磁性体の場合はガイドロ
ール7a、 7bを磁石とすることもできる。
また、A、82室間の通気抵抗をさらに大きくするため
、第2図に示す上プレート5とガイドロール7a、 7
bの間の隙間を覆うカバーを設けることもてきる。
、第2図に示す上プレート5とガイドロール7a、 7
bの間の隙間を覆うカバーを設けることもてきる。
本例においては板材Sの搬送方向か上隔壁lおよび上隔
壁2と垂直になっているので、上プレート5は上フレー
ム3に、下プレート6は下フレーム4にそれぞれ垂直に
固設されているか、板材Sの搬送方向が変化する場合は
、上プレート5および下プレート6か板材Sと平行にな
るように、上プレート5は上フレーム3に対し、下プレ
ート6は下フレーム4に対してそれぞれ取り付は角度を
調整てきる機構にすることか好ましい。
壁2と垂直になっているので、上プレート5は上フレー
ム3に、下プレート6は下フレーム4にそれぞれ垂直に
固設されているか、板材Sの搬送方向が変化する場合は
、上プレート5および下プレート6か板材Sと平行にな
るように、上プレート5は上フレーム3に対し、下プレ
ート6は下フレーム4に対してそれぞれ取り付は角度を
調整てきる機構にすることか好ましい。
[実施例]
第4図に示すように、2基の巻出巻取装置15a。
+5bの間に低圧真空処理室16と高圧真空処理室17
を配置し、両真空処理室の間に本発明の差圧シール装置
りを4個直列に設け、帯板20を張力を付加しつつ搬送
して、両真空処理室にて異種のコーティングをした。1
8a 、 18b 、 18cは差圧真空室、+9a、
19b、19c、19d、19eは排気ポンプである。
を配置し、両真空処理室の間に本発明の差圧シール装置
りを4個直列に設け、帯板20を張力を付加しつつ搬送
して、両真空処理室にて異種のコーティングをした。1
8a 、 18b 、 18cは差圧真空室、+9a、
19b、19c、19d、19eは排気ポンプである。
各差圧シール装置D1.D2.D3.D4において、上
プレート5および下プレート6の長さは200 m11
、上プレート6と下プレート6の間隙は5mn+、ガイ
ドロール7a、 7bの直径は40mmとし、帯板の幅
は370++oa 、厚さは0.1〜0.5mmとした
。
プレート5および下プレート6の長さは200 m11
、上プレート6と下プレート6の間隙は5mn+、ガイ
ドロール7a、 7bの直径は40mmとし、帯板の幅
は370++oa 、厚さは0.1〜0.5mmとした
。
低圧真空処理室16の圧力をQ、OOI Torr、高
圧真空処理室17の圧力を0.2 Torrとし、差圧
真空室18a、18b、18cの圧力か、それぞれ約0
.005 Torr。
圧真空処理室17の圧力を0.2 Torrとし、差圧
真空室18a、18b、18cの圧力か、それぞれ約0
.005 Torr。
0.01 Torr 、 0.I Torrとなるよう
に排気しつつ、帯板ZOを右方向および左方向に搬送し
た結果、何れの板厚、方向においても各室の圧力は前記
真空度に維持された。また、帯板20の下面には疵か発
生しなかった。
に排気しつつ、帯板ZOを右方向および左方向に搬送し
た結果、何れの板厚、方向においても各室の圧力は前記
真空度に維持された。また、帯板20の下面には疵か発
生しなかった。
尚、本実施例において、帯板20の厚さが厚くなると帯
板のパスラインかラインの中央部では低くなるので、各
差圧シール装置Dl、D2.D:l、D4の何れも、上
プレート5および下プレート6の取り付は位置と取り付
は角度を板厚毎に調整した。
板のパスラインかラインの中央部では低くなるので、各
差圧シール装置Dl、D2.D:l、D4の何れも、上
プレート5および下プレート6の取り付は位置と取り付
は角度を板厚毎に調整した。
[発明の効果]
帯板等の板材を真空度の異なる複数の真空室に連続的に
通過させて複数のコーティング等の処理を行うに際し1
本発明の差圧シール装置を使用することにより、各真空
室の真空度が確実に維持され、処理面に疵や汚れを発生
させることなく処理することができる。また、一つの真
空室で処理する際にも1本発明装置を多段に設けるかあ
るいは他のシール装置と併用して板材を大気中から真空
室に搬入することにより、同様の効果が得られる。
通過させて複数のコーティング等の処理を行うに際し1
本発明の差圧シール装置を使用することにより、各真空
室の真空度が確実に維持され、処理面に疵や汚れを発生
させることなく処理することができる。また、一つの真
空室で処理する際にも1本発明装置を多段に設けるかあ
るいは他のシール装置と併用して板材を大気中から真空
室に搬入することにより、同様の効果が得られる。
第1図は本発明装置の具体例を示す側面図、第2図は同
じく平面図、第3図は同じく正面図、第4図は本発明装
置の適用例を示す図である。 l・・・上隔壁、2・・・下隔壁、3−・・上フレーム
。 4・・・下フレーム、5・・・上プレート、6・・・下
プレート、7・・・ガイドロール、8・・・シールプレ
ート。 9・・・側壁、lO・・・軸受ブロック、 11.12
・・・ネジ、1:l、 14・・・長穴、15・・・巻
出巻取装置、16・・・低圧真空処理室、17・・・高
圧真空処理室、18・・・差圧真空室、19・・・排気
ポンプ、20・・・帯板、D・・・差圧シール装置、S
・・・板材。
じく平面図、第3図は同じく正面図、第4図は本発明装
置の適用例を示す図である。 l・・・上隔壁、2・・・下隔壁、3−・・上フレーム
。 4・・・下フレーム、5・・・上プレート、6・・・下
プレート、7・・・ガイドロール、8・・・シールプレ
ート。 9・・・側壁、lO・・・軸受ブロック、 11.12
・・・ネジ、1:l、 14・・・長穴、15・・・巻
出巻取装置、16・・・低圧真空処理室、17・・・高
圧真空処理室、18・・・差圧真空室、19・・・排気
ポンプ、20・・・帯板、D・・・差圧シール装置、S
・・・板材。
Claims (1)
- 1、略水平方向に搬送される板材(S)の下面に処理を
行う処理ラインにおいて圧力の異なる2室の境界をなす
装置であって、上隔壁(1)、下隔壁(2)、上フレー
ム(3)、下フレーム(4)、上プレート(5)、下プ
レート(6)、ガイドロール(7)、シールプレート(
8)を有し、上隔壁(1)の下端と下隔壁(2)の上端
の間には板材(S)が通過する間隙が設けられ、上フレ
ーム(3)は上隔壁(1)の下端から下方に突出して上
下位置調整可能に設けられ、下フレーム(4)は下隔壁
(2)の上端から上方に突出して上下位置調整可能に設
けられ、上プレート(5)は上フレーム(3)の下端に
板材(S)と平行に設けられ、下プレート(6)は下フ
レーム(4)の上端に板材(S)と平行に設けられ、ガ
イドロール(7)は軸を板材(S)の表面と平行にかつ
板材(S)の搬送方向と直角にして上プレート(5)の
板材(S)搬送方向前後端に上プレート(5)の下面よ
り下方に突出しかつ下プレート(6)との間に間隙をも
って設けられ、シールプレート(8)は上プレート(5
)および下プレート(6)の板材(S)搬送方向両側端
部にて両プレート(5)および(6)の間隙を埋めかつ
前記2室の側壁(9)と密着して設けられていることを
特徴とする差圧シール装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18836888A JPH0240231A (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 差圧シール装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18836888A JPH0240231A (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 差圧シール装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0240231A true JPH0240231A (ja) | 1990-02-09 |
| JPH0592B2 JPH0592B2 (ja) | 1993-01-05 |
Family
ID=16222390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18836888A Granted JPH0240231A (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 差圧シール装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0240231A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011006737A (ja) * | 2009-06-25 | 2011-01-13 | Hitachi Zosen Corp | 真空成膜装置及び真空成膜方法 |
-
1988
- 1988-07-29 JP JP18836888A patent/JPH0240231A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011006737A (ja) * | 2009-06-25 | 2011-01-13 | Hitachi Zosen Corp | 真空成膜装置及び真空成膜方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0592B2 (ja) | 1993-01-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20140326182A1 (en) | Continuous Substrate Processing Apparatus | |
| JP5057794B2 (ja) | 連続成膜装置 | |
| KR970013175A (ko) | 기판처리장치 | |
| US9096929B2 (en) | System and method for deposition of a material on a substrate | |
| US7837799B2 (en) | Arrangement for transporting a flat substrate in a vacuum chamber | |
| KR20130132814A (ko) | 모듈식 코우터 분리 | |
| CN1589336A (zh) | 涂覆腹板状材料的真空涂覆设备 | |
| TWI647743B (zh) | 用於處理基板上薄膜之設備,以及用於提供氣密製程分離壁之方法 | |
| JPH0240231A (ja) | 差圧シール装置 | |
| WO2016184487A1 (en) | Load lock chamber, vacuum processing system with load lock chamber and method for evacuating a load lock chamber | |
| US6152345A (en) | Method for controlling width-wise expansion of a conveyed web | |
| JPS61170568A (ja) | 連続真空処理装置 | |
| JPH0243364A (ja) | 帯板保持装置 | |
| TW201910545A (zh) | 用於處理基板的設備、用於處理基板的處理系統、以及用於保養用在處理基板的設備的方法 | |
| CN101225505A (zh) | 基板保持台和使用其的成膜方法、成膜装置 | |
| US4249846A (en) | Rotary vacuum seal for a wafer transport system | |
| KR20240025473A (ko) | 스퍼터링 장치 및 성막 방법 | |
| JP7837094B1 (ja) | 差動排気装置 | |
| CN115552053A (zh) | 磁控溅射装置及使用该磁控溅射装置的成膜方法 | |
| CN116445880B (zh) | 一种独立式连续工艺系统 | |
| DE102015116781A1 (de) | Transportsystemanordnung und Prozessieranlage | |
| JPS6324067A (ja) | 帯状物のエア−ロツク装置 | |
| JPS61113766A (ja) | エンドステ−シヨン | |
| GB2601831A (en) | Conductance seal | |
| JPS5939649A (ja) | フイルム条帯の連続形処理装置 |