JPH024125Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH024125Y2 JPH024125Y2 JP14531685U JP14531685U JPH024125Y2 JP H024125 Y2 JPH024125 Y2 JP H024125Y2 JP 14531685 U JP14531685 U JP 14531685U JP 14531685 U JP14531685 U JP 14531685U JP H024125 Y2 JPH024125 Y2 JP H024125Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roll
- seal
- strip
- chamber
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Vacuum Packaging (AREA)
- Package Closures (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本考案は、帯鋼等(以下、単に帯板という。)
を連続的に移動させながら真空中でメツキ処理、
清浄処理等を行なうための真空処理室の出入口部
において大気中からの気体流入を阻止する帯板真
空シール装置に関するものである。
を連続的に移動させながら真空中でメツキ処理、
清浄処理等を行なうための真空処理室の出入口部
において大気中からの気体流入を阻止する帯板真
空シール装置に関するものである。
(従来の技術)
従来、真空シール方法として、帯板の通板によ
り回転されるゴムコーテイングロールよりなるピ
ンチロールを設けたものにおいて、ピンチロール
に帯板をストレートに通板させ、かつ、ピンチロ
ール表面のほぼ全体を覆うシールブロツクを設
け、ピンチロールとシールブロツク間の隙間を狭
くして気体の流入量を少なくする方法(A)、ピンチ
ロールに帯板をS字状に通板させ、かつ、帯板を
介してピンチロール表面のほぼ全体を覆うシール
ブロツクを設け、気体の流入抵抗を増す方法(B)、
ピンチロールに帯板をストレートに通板させ、か
つ、ピンチロールの後段に、ピンチロール表面に
狭小間隙をおいて対向するシールバーを設け、流
入気体量をピンチロールとシールバー間で少くす
る方法(C)、或は、1本のロールに帯板を巻付けて
通板させ、かつ、帯板の巻付いた側のロール表面
を帯板を介して覆うシールカバーを設け、気体の
流入抵抗を増す方法(D)等が開発されている。
り回転されるゴムコーテイングロールよりなるピ
ンチロールを設けたものにおいて、ピンチロール
に帯板をストレートに通板させ、かつ、ピンチロ
ール表面のほぼ全体を覆うシールブロツクを設
け、ピンチロールとシールブロツク間の隙間を狭
くして気体の流入量を少なくする方法(A)、ピンチ
ロールに帯板をS字状に通板させ、かつ、帯板を
介してピンチロール表面のほぼ全体を覆うシール
ブロツクを設け、気体の流入抵抗を増す方法(B)、
ピンチロールに帯板をストレートに通板させ、か
つ、ピンチロールの後段に、ピンチロール表面に
狭小間隙をおいて対向するシールバーを設け、流
入気体量をピンチロールとシールバー間で少くす
る方法(C)、或は、1本のロールに帯板を巻付けて
通板させ、かつ、帯板の巻付いた側のロール表面
を帯板を介して覆うシールカバーを設け、気体の
流入抵抗を増す方法(D)等が開発されている。
(考案が解決しようとする問題点)
しかし、方法(A)では、ピンチロールがゴムコー
テイングロールであるため表面に真円度がなく、
回転中に変形するから、ピンチロールとシールブ
ロツク間の間隙を狭くしすぎると摺接を生じ、ピ
ンチロールは回らなくなつて、帯板とピンチロー
ル間にスリツプが生じることになり、ストリツプ
表面に傷が付く。このように、ピンチロールとシ
ールブロツク間の隙間の狭小化には限度があり、
もつぱら高真空を得るためには真空ポンプの大容
量化やピンチロールとシールブロツクからなるシ
ール装置を帯板通板方向に沿い直列に多数配置
し、各シール装置間に真空吸引装置を接続した真
空予備室を増す必要があり、設備費が高くつく。
テイングロールであるため表面に真円度がなく、
回転中に変形するから、ピンチロールとシールブ
ロツク間の間隙を狭くしすぎると摺接を生じ、ピ
ンチロールは回らなくなつて、帯板とピンチロー
ル間にスリツプが生じることになり、ストリツプ
表面に傷が付く。このように、ピンチロールとシ
ールブロツク間の隙間の狭小化には限度があり、
もつぱら高真空を得るためには真空ポンプの大容
量化やピンチロールとシールブロツクからなるシ
ール装置を帯板通板方向に沿い直列に多数配置
し、各シール装置間に真空吸引装置を接続した真
空予備室を増す必要があり、設備費が高くつく。
方法(B),(D)では、帯板を狭い通路に通過させて
気体の流入抵抗を増すために通路を狭めるにも限
度があり、帯板とシールブロツク等が摺接しスリ
ツプを生じると、帯板表面に傷が付く。
気体の流入抵抗を増すために通路を狭めるにも限
度があり、帯板とシールブロツク等が摺接しスリ
ツプを生じると、帯板表面に傷が付く。
方法(C)では、上流側から流入する気体のシール
をシールバーとピンチロール間の隙間で行なつて
いるが、前記方法(A)で述べた通りピンチロールの
表面に真円度がなく、かつ、回転中表面が変形す
るため、隙間を狭めるには限度があり、シール効
果が充分得られない。隙間を狭くしすぎると、ピ
ンチロールに傷が付くし、ピンチロールが回らな
くなると帯板に傷が付くという不都合がある。
をシールバーとピンチロール間の隙間で行なつて
いるが、前記方法(A)で述べた通りピンチロールの
表面に真円度がなく、かつ、回転中表面が変形す
るため、隙間を狭めるには限度があり、シール効
果が充分得られない。隙間を狭くしすぎると、ピ
ンチロールに傷が付くし、ピンチロールが回らな
くなると帯板に傷が付くという不都合がある。
(問題点を解決するための手段)
本考案の帯板真空シール装置は、帯状の材料を
連続して搬出入する真空処理装置の出入口部にお
ける帯板真空シール装置において、帯板真空シー
ル装置を、ピンチロールと、該ピンチロールにそ
れぞれ当接して回転される金属製シールロール
と、該金属製シールロールを微小間隙をおいて覆
う仕切壁状のシールブロツクとで構成したことを
特徴としており、ピンチロールをスムーズに回転
させてピンチロールと帯板間のスリツプにより帯
板表面に傷が付くのを防止すると共に、ロール・
シールブロツク間の隙間の大幅な狭小化を可能と
して真空処理室側への気体流入を阻止する装置ユ
ニツト当りのシール効果を確実に向上させること
ができるようにしたものである。
連続して搬出入する真空処理装置の出入口部にお
ける帯板真空シール装置において、帯板真空シー
ル装置を、ピンチロールと、該ピンチロールにそ
れぞれ当接して回転される金属製シールロール
と、該金属製シールロールを微小間隙をおいて覆
う仕切壁状のシールブロツクとで構成したことを
特徴としており、ピンチロールをスムーズに回転
させてピンチロールと帯板間のスリツプにより帯
板表面に傷が付くのを防止すると共に、ロール・
シールブロツク間の隙間の大幅な狭小化を可能と
して真空処理室側への気体流入を阻止する装置ユ
ニツト当りのシール効果を確実に向上させること
ができるようにしたものである。
(実施例)
以下、本考案を適用した第1図〜第3図に示す
実施例に従い説明する。
実施例に従い説明する。
図中1はゴムコーテイングロールからなるピン
チロールで、ハウジング2の構成単位としてのチ
ヤンバ3内に軸受4を介して回転可能に支持され
ている。
チロールで、ハウジング2の構成単位としてのチ
ヤンバ3内に軸受4を介して回転可能に支持され
ている。
5は鉄等の金属製シールロールで、チヤンバ3
内に軸受6を介して回転可能に支持されている。
内に軸受6を介して回転可能に支持されている。
軸受4,6は、チヤンバ側壁7にチヤンバ中心
線方向に間隔をおいて配設されており、これによ
つてピンチロール1のそれぞれにチヤンバ3の一
端側からシールロール5が当接している。
線方向に間隔をおいて配設されており、これによ
つてピンチロール1のそれぞれにチヤンバ3の一
端側からシールロール5が当接している。
8はチヤンバ3内を仕切るシールブロツクで、
該シールブロツク8の一面にはシールロール5よ
り僅かに大径の断面半円形に形成されたシール用
凹溝9が並設されており、対向した両シールブロ
ツク8,8間が帯板通過用の通路とされている。
該シールブロツク8の一面にはシールロール5よ
り僅かに大径の断面半円形に形成されたシール用
凹溝9が並設されており、対向した両シールブロ
ツク8,8間が帯板通過用の通路とされている。
シールロール5は、シールブロツク8の凹溝9
内に同芯に配置され、ロール表面と溝面間には微
小間隙が設けられている。
内に同芯に配置され、ロール表面と溝面間には微
小間隙が設けられている。
11,12はリング状のシールブロツクで、ピ
ンチロール1とシールロール5の端面に向かい互
に独立してチヤンバ3内に出没可能に移動フレー
ム13,14を介してチヤンバ側壁7内に組込ま
れている。移動フレーム13,14はリング状を
なし、ピンチロール1及びシールロール5と同芯
に移動可能にチヤンバ側壁7内に配されると共
に、該移動フレーム13,14とチヤンバ側壁7
間にはバネ15,16が介装されている。シール
ブロツク11,12は、この移動フレーム13,
14に装着されて、ロール1,5の当接方向にて
互に外接し、かつ、チヤンバ側壁7に内接すると
共に、バネ15,16によりピンチロール1とシ
ールロール5の端面に押付けられてその周部全長
に亘り当接している。かくして、ピンチロール1
及びシールロール5とチヤンバ側壁7間において
両ロールの当接方向と交差する方向での気体移動
が阻止されている。
ンチロール1とシールロール5の端面に向かい互
に独立してチヤンバ3内に出没可能に移動フレー
ム13,14を介してチヤンバ側壁7内に組込ま
れている。移動フレーム13,14はリング状を
なし、ピンチロール1及びシールロール5と同芯
に移動可能にチヤンバ側壁7内に配されると共
に、該移動フレーム13,14とチヤンバ側壁7
間にはバネ15,16が介装されている。シール
ブロツク11,12は、この移動フレーム13,
14に装着されて、ロール1,5の当接方向にて
互に外接し、かつ、チヤンバ側壁7に内接すると
共に、バネ15,16によりピンチロール1とシ
ールロール5の端面に押付けられてその周部全長
に亘り当接している。かくして、ピンチロール1
及びシールロール5とチヤンバ側壁7間において
両ロールの当接方向と交差する方向での気体移動
が阻止されている。
17,18は外部気体流入阻止用のシール蓋
で、チヤンバ側壁7に軸受4,6を覆うように設
けられている。
で、チヤンバ側壁7に軸受4,6を覆うように設
けられている。
19は真空処理室用チヤンバで、該チヤンバ1
9の出入口部には、前記シール装置ユニツト1,
5,8,11,12,17,18が複数(実施例
では3個ずつ)、ピンチロール1を大気側にして
チヤンバ同士のフランジ接続により直列に連設さ
れている。
9の出入口部には、前記シール装置ユニツト1,
5,8,11,12,17,18が複数(実施例
では3個ずつ)、ピンチロール1を大気側にして
チヤンバ同士のフランジ接続により直列に連設さ
れている。
20は真空吸引装置(実施例では真空ポンプ)
で、隣合うシール装置ユニツト間のチヤンバ3と
真空処理室用チヤンバ19とに互に独立して配管
21を介して接続されている。かくして、ハウジ
ング2内には、シールブロツク8により仕切られ
た真空処理室22と真空予備室23が設けられて
いる。
で、隣合うシール装置ユニツト間のチヤンバ3と
真空処理室用チヤンバ19とに互に独立して配管
21を介して接続されている。かくして、ハウジ
ング2内には、シールブロツク8により仕切られ
た真空処理室22と真空予備室23が設けられて
いる。
尚、シール装置ユニツトは第3図に示す如くピ
ンチロール1を真空処理室22側に配置して直列
に連設しても同効である。この場合、真空処理室
用チヤンバ19の出入口部に、帯板通過用孔部を
有する図示しない仕切壁を設ければよい。
ンチロール1を真空処理室22側に配置して直列
に連設しても同効である。この場合、真空処理室
用チヤンバ19の出入口部に、帯板通過用孔部を
有する図示しない仕切壁を設ければよい。
(作用)
帯板24を対向させたシールブロツク8の間の
通路10に通し、かつ、ピンチロール1に挟持支
持させて連続的に移動させながら真空処理室22
内で所定の処理を行なうため、各真空吸引装置2
0を作動させて真空処理室22と真空予備室23
内の気体を外部排出させると、シールブロツク1
1,12により、ピンチロール1及びシールロー
ル5とケーシング側壁(チヤンバ側壁7)間にお
いて両ロール1,5の当接方向と交差する方向
(実施例では上下方向)での気体移動が阻止され
ているため、外部気体aは第1図に矢印で示す如
くピンチロール1とチヤンバ上壁25、下壁26
間の間隙Aと、金属製シールロール5とシールブ
ロツク8間の間隙Bと、対向しているシールブロ
ツク8間の帯板通路10とを通つて最初の真空予
備室23内に入るが、シールロール5は金属製で
あるからシールブロツク8の円弧状凹溝9に微小
間隙で配設でき、しかもシールロール5はピンチ
ロール1と当接してピンチロール1と共に何ら支
障なく回転できる。そして前記間隙Bは微小で気
体の流入抵抗が大きいため、真空予備室23内へ
の気体流入量は少なく、また、流入気体は内部気
体として真空吸引により外部排出される。
通路10に通し、かつ、ピンチロール1に挟持支
持させて連続的に移動させながら真空処理室22
内で所定の処理を行なうため、各真空吸引装置2
0を作動させて真空処理室22と真空予備室23
内の気体を外部排出させると、シールブロツク1
1,12により、ピンチロール1及びシールロー
ル5とケーシング側壁(チヤンバ側壁7)間にお
いて両ロール1,5の当接方向と交差する方向
(実施例では上下方向)での気体移動が阻止され
ているため、外部気体aは第1図に矢印で示す如
くピンチロール1とチヤンバ上壁25、下壁26
間の間隙Aと、金属製シールロール5とシールブ
ロツク8間の間隙Bと、対向しているシールブロ
ツク8間の帯板通路10とを通つて最初の真空予
備室23内に入るが、シールロール5は金属製で
あるからシールブロツク8の円弧状凹溝9に微小
間隙で配設でき、しかもシールロール5はピンチ
ロール1と当接してピンチロール1と共に何ら支
障なく回転できる。そして前記間隙Bは微小で気
体の流入抵抗が大きいため、真空予備室23内へ
の気体流入量は少なく、また、流入気体は内部気
体として真空吸引により外部排出される。
そして、前記と同じ動作が順次繰返されること
になり、真空処理室22に所定の真空度が得られ
る。
になり、真空処理室22に所定の真空度が得られ
る。
尚、ロール端前部でのシール構造は、従来と同
様に、ロール1,5の端面とチヤンバ側壁7との
間隙が狭小になるよう配設しておけば所望の気体
流入抵抗が得られる。更に本実施例ではシールブ
ロツク11,12をリング状とした例について説
明したが、ロール1,5の当接方向に沿うロール
端面への押付力が付勢されたものに限らず、ロー
ル端面とチヤンバ側壁7との隙間を狭小にしただ
けのものでもよく、その形状、取付け構造は何ら
限定されない。
様に、ロール1,5の端面とチヤンバ側壁7との
間隙が狭小になるよう配設しておけば所望の気体
流入抵抗が得られる。更に本実施例ではシールブ
ロツク11,12をリング状とした例について説
明したが、ロール1,5の当接方向に沿うロール
端面への押付力が付勢されたものに限らず、ロー
ル端面とチヤンバ側壁7との隙間を狭小にしただ
けのものでもよく、その形状、取付け構造は何ら
限定されない。
(考案の効果)
以上の通り本考案は、ピンチロールに当接させ
たシールロールを金属製としたので、これを覆う
シールブロツクとの間の間隙を微小(極小を含
む。)になし得た。このため、大気側から流入し
た気体は微小間隙を通過することになり、そのと
き大きな抵抗を受けてシール装置ユニツト間の気
体移動量は極めて小さくなる。従つて、シール装
置ユニツト当りのシール効果は確実に向上し、従
来に比してシール装置ユニツト数を減少させて装
置のコンパクト化を図りながら安定した真空度を
得ることができる。また、ゴムコーテイングロー
ルであるピンチロールもその外周が厳格な真円度
をもたなくてよいので安価となる他、ピンチロー
ル及びシールロールは共に帯板の移動につれて円
滑に回転でき、帯板表面品質が維持できる等多大
の効果がある。
たシールロールを金属製としたので、これを覆う
シールブロツクとの間の間隙を微小(極小を含
む。)になし得た。このため、大気側から流入し
た気体は微小間隙を通過することになり、そのと
き大きな抵抗を受けてシール装置ユニツト間の気
体移動量は極めて小さくなる。従つて、シール装
置ユニツト当りのシール効果は確実に向上し、従
来に比してシール装置ユニツト数を減少させて装
置のコンパクト化を図りながら安定した真空度を
得ることができる。また、ゴムコーテイングロー
ルであるピンチロールもその外周が厳格な真円度
をもたなくてよいので安価となる他、ピンチロー
ル及びシールロールは共に帯板の移動につれて円
滑に回転でき、帯板表面品質が維持できる等多大
の効果がある。
第1図は本考案の一実施例を示す概略的な側断
面図、第2図は第1図の〜線に沿う拡大平断面
図、第3図は本考案の他の実施例を部分的に示す
概略的な側断面図である。 1……ピンチロール、2……ハウジング、3…
…チヤンバ、4,6……軸受、5……シールロー
ル、7……チヤンバ側壁、8……シールブロツ
ク、9……凹溝、10……孔部、11,12……
シールブロツク、13,14……移動フレーム、
15,16……バネ、19……真空処理室用チヤ
ンバ、20……真空吸引装置、22……真空処理
室、23……真空予備室、24……帯板、A,B
……間隙。
面図、第2図は第1図の〜線に沿う拡大平断面
図、第3図は本考案の他の実施例を部分的に示す
概略的な側断面図である。 1……ピンチロール、2……ハウジング、3…
…チヤンバ、4,6……軸受、5……シールロー
ル、7……チヤンバ側壁、8……シールブロツ
ク、9……凹溝、10……孔部、11,12……
シールブロツク、13,14……移動フレーム、
15,16……バネ、19……真空処理室用チヤ
ンバ、20……真空吸引装置、22……真空処理
室、23……真空予備室、24……帯板、A,B
……間隙。
Claims (1)
- 帯状の材料を連続して搬出入する真空処理装置
の出入口部における帯板真空シール装置におい
て、帯板真空シール装置を、ピンチロールと、該
ピンチロールにそれぞれ当接して回転される金属
製シールロールと、該金属製シールロールを微小
間隙をおいて覆う仕切壁状のシールブロツクとで
構成したことを特徴とする帯板真空シール装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14531685U JPH024125Y2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14531685U JPH024125Y2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6254911U JPS6254911U (ja) | 1987-04-06 |
| JPH024125Y2 true JPH024125Y2 (ja) | 1990-01-31 |
Family
ID=31056742
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14531685U Expired JPH024125Y2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH024125Y2 (ja) |
-
1985
- 1985-09-24 JP JP14531685U patent/JPH024125Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6254911U (ja) | 1987-04-06 |
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