JPH0241882B2 - - Google Patents
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- JPH0241882B2 JPH0241882B2 JP1249585A JP1249585A JPH0241882B2 JP H0241882 B2 JPH0241882 B2 JP H0241882B2 JP 1249585 A JP1249585 A JP 1249585A JP 1249585 A JP1249585 A JP 1249585A JP H0241882 B2 JPH0241882 B2 JP H0241882B2
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- mold
- magnetic field
- magnetic particles
- mold clamping
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- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 claims description 38
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 claims description 12
- 239000012768 molten material Substances 0.000 claims description 11
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/0013—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor using fillers dispersed in the moulding material, e.g. metal particles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/0253—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Dispersion Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(イ) 産業上の利用分野
本発明は、磁場射出成形方法に関するものであ
る。
る。
(ロ) 従来の技術
磁場射出成形は、磁性粒子を溶融材料中に混入
し、プラスチツクマグネツトなどを成形する方法
である。すなわち、磁場発生コイルに電流を流し
て金型キヤビテイに磁場を発生させた状態で磁性
粒子を混入した溶融材料を金型キヤビテイ内に射
出し、磁性粒子を磁場方向に配向させて冷却固化
する。これにより、プラスチツクマグネツトを得
ることができる。
し、プラスチツクマグネツトなどを成形する方法
である。すなわち、磁場発生コイルに電流を流し
て金型キヤビテイに磁場を発生させた状態で磁性
粒子を混入した溶融材料を金型キヤビテイ内に射
出し、磁性粒子を磁場方向に配向させて冷却固化
する。これにより、プラスチツクマグネツトを得
ることができる。
(ハ) 発明が解決しようとする問題点
しかし、従来の磁場射出成形方法には、プラス
チツクマグネツトの磁気特性をある程度以上向上
することができないという問題点があつた。すな
わち、プラスチツクマグネツトの磁気特性は、磁
性粒子が同一の場合には、一般に磁性粒子の混合
比が高いほど、また磁性粒子の配向率が高いほ
ど、向上する。従つて、磁性粒子の混合比を大き
くすれば磁気特性が向上するはずであるが、実際
には磁性粒子の混合比をある程度以上大きくして
も、これに応じて配向率が低下するため磁気特性
は向上せず、磁性粒子の混合比には限界があつ
た。すなわち、磁場中で配向しようとする磁性粒
子同志が機械的に接触し、磁性粒子の配向が互い
の干渉により妨げられる。この状態を第4図に概
念的に示す。溶融材料50中の各磁性粒子52は
磁化容易軸54を有しており、磁場が作用すると
その磁化容易軸54を磁場方向56と一致させる
ように回転しようとするが、第4図に示すよう
に、磁性粒子52同志が互いに干渉し、すべての
磁性粒子の磁化容易軸54が磁場方向56と一致
した状態とはならない。すなわち、配向率に限界
がある。本発明は、上記のような問題点を解決す
ることを目的としている。
チツクマグネツトの磁気特性をある程度以上向上
することができないという問題点があつた。すな
わち、プラスチツクマグネツトの磁気特性は、磁
性粒子が同一の場合には、一般に磁性粒子の混合
比が高いほど、また磁性粒子の配向率が高いほ
ど、向上する。従つて、磁性粒子の混合比を大き
くすれば磁気特性が向上するはずであるが、実際
には磁性粒子の混合比をある程度以上大きくして
も、これに応じて配向率が低下するため磁気特性
は向上せず、磁性粒子の混合比には限界があつ
た。すなわち、磁場中で配向しようとする磁性粒
子同志が機械的に接触し、磁性粒子の配向が互い
の干渉により妨げられる。この状態を第4図に概
念的に示す。溶融材料50中の各磁性粒子52は
磁化容易軸54を有しており、磁場が作用すると
その磁化容易軸54を磁場方向56と一致させる
ように回転しようとするが、第4図に示すよう
に、磁性粒子52同志が互いに干渉し、すべての
磁性粒子の磁化容易軸54が磁場方向56と一致
した状態とはならない。すなわち、配向率に限界
がある。本発明は、上記のような問題点を解決す
ることを目的としている。
(ニ) 問題点を解決するための手段
本発明は、型締の最初の段階で型締力を周期的
に変動させることにより、上記問題点を解決す
る。すなわち、本発明による磁場射出成形方法
は、型閉じ完了から所定時間は所定の上限値と下
限値との間を周期的に変動する型締力を作用さ
せ、次いで所定時間経過後は一定の型締力を作用
させることを特徴としている。
に変動させることにより、上記問題点を解決す
る。すなわち、本発明による磁場射出成形方法
は、型閉じ完了から所定時間は所定の上限値と下
限値との間を周期的に変動する型締力を作用さ
せ、次いで所定時間経過後は一定の型締力を作用
させることを特徴としている。
(ホ) 作用
上記のようにすることにより、磁性粒子を含む
溶融材料の金型キヤビテイ内への射出工程の最初
の段階で型締力が周期的に変動し、これに応じて
金型キヤビテイの容積が周期的に変動する。この
金型キヤビテイの容積変動が溶融材料中の磁性粒
子に作用し、磁性粒子が微小な運動をする。これ
により、磁性粒子はそれぞれ所定の場所を確保
し、作用する磁場によつて隣接する磁性粒子同志
が衝突することなく配列される。従つて、配向さ
れる際に磁性粒子同志が互いに妨げ合うという現
象の発生が防止され、磁性粒子の配向率が向上す
る。配向率が向上するため磁性粒子の混合比を増
大しても十分に配向させることができ、磁性粒子
の混合比及び配向率が共に増大し、プラスチツク
マグネツトの磁気特性を大幅に向上することがで
きる。
溶融材料の金型キヤビテイ内への射出工程の最初
の段階で型締力が周期的に変動し、これに応じて
金型キヤビテイの容積が周期的に変動する。この
金型キヤビテイの容積変動が溶融材料中の磁性粒
子に作用し、磁性粒子が微小な運動をする。これ
により、磁性粒子はそれぞれ所定の場所を確保
し、作用する磁場によつて隣接する磁性粒子同志
が衝突することなく配列される。従つて、配向さ
れる際に磁性粒子同志が互いに妨げ合うという現
象の発生が防止され、磁性粒子の配向率が向上す
る。配向率が向上するため磁性粒子の混合比を増
大しても十分に配向させることができ、磁性粒子
の混合比及び配向率が共に増大し、プラスチツク
マグネツトの磁気特性を大幅に向上することがで
きる。
(ヘ) 実施例
以下、本発明の実施例を添付図面の第1〜3図
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
第2図に磁場射出成形機の1例を示す。固定盤
10と型締ハウジング12とがタイバー14によ
つて連結されており、可動盤16がタイバー14
によつて案内されて移動可能である。固定盤10
に固定型18が取り付けられ、可動盤16に可動
型20が取り付けられ、固定型18と可動型20
とによつて金型キヤビテイ22が形成される。金
型キヤビテイ22には、射出シリンダ24から磁
性粒子を含む溶融材料を注入可能である。型締し
た状態の固定型18及び可動型20の外周には磁
場発生コイル26が配置される。可動盤16は、
型締ハウジング12に取り付けられた型締シリン
ダ28のピストン30と連結されており、これに
よつて軸方向に駆動可能である。型締シリンダ2
8には油圧源32からの油圧が作用するが、油圧
源32の油圧は電磁リリーフ弁34によつて制御
される。すなわち、電磁リリーフ弁34はソレノ
イド34aの作動状態に応じて油圧源32からの
吐出油の一部を排出することにより、型締シリン
ダ28へ供給される油圧を調整する。ソレノイド
34aには制御装置36からの信号に基づいて作
動する増幅器38から電流が供給される。制御装
置36は、型締力設定器39、角振動数設定器4
0及び振幅設定器42を有している。制御装置3
6は、射出成形機の作動を制御するシーケンスコ
ントローラ44及びタイマー46により後述のよ
うに作用する。
10と型締ハウジング12とがタイバー14によ
つて連結されており、可動盤16がタイバー14
によつて案内されて移動可能である。固定盤10
に固定型18が取り付けられ、可動盤16に可動
型20が取り付けられ、固定型18と可動型20
とによつて金型キヤビテイ22が形成される。金
型キヤビテイ22には、射出シリンダ24から磁
性粒子を含む溶融材料を注入可能である。型締し
た状態の固定型18及び可動型20の外周には磁
場発生コイル26が配置される。可動盤16は、
型締ハウジング12に取り付けられた型締シリン
ダ28のピストン30と連結されており、これに
よつて軸方向に駆動可能である。型締シリンダ2
8には油圧源32からの油圧が作用するが、油圧
源32の油圧は電磁リリーフ弁34によつて制御
される。すなわち、電磁リリーフ弁34はソレノ
イド34aの作動状態に応じて油圧源32からの
吐出油の一部を排出することにより、型締シリン
ダ28へ供給される油圧を調整する。ソレノイド
34aには制御装置36からの信号に基づいて作
動する増幅器38から電流が供給される。制御装
置36は、型締力設定器39、角振動数設定器4
0及び振幅設定器42を有している。制御装置3
6は、射出成形機の作動を制御するシーケンスコ
ントローラ44及びタイマー46により後述のよ
うに作用する。
磁場射出成形機による型締、成形、着磁等の動
作は以下のようにして行われる。まず、型開き状
態にある射出成形機の型締シリンダ28に油圧を
供給し、型閉じを行わせる。すなわち、第2図中
で左方向に移動していた可動盤16を右向きに移
動させ、可動型20を固定型18に接触させる。
可動型20が固定型18に接触したことがリミツ
トスイツチなどの図示してない位置検出器によつ
て検出されると、シーケンスコントローラ44は
制御装置36に指令を与え、制御装置36は所定
の電流I=I0+I1・sinωtをソレノイド34aに通
電するように増幅器38に指令信号を与える。こ
こでI0、I1及びωはそれぞれ型締力設定器39、
振幅設定器42及び角振動数設定器40によつて
それぞれ設定される。この電流の供給はタイマー
46に設定された所定時間だけ継続し、所定時間
経過後は一定の電流I0を通電するように制御され
る。この電流I0の供給はシーケンスコントローラ
44から着磁工程の終了が指令されるまで継続さ
れる。電磁リリーフ弁34はソレノイド34aに
通電される電流に応じて油圧源32の圧力を制御
し、これを型締シリンダ28に作用させる。従つ
て、型締シリンダ28の押し力、すなわち型締力
はソレノイド34aへの通電量に応じて制御され
る。電流I0に対応する型締力F0、及び電流I1に対
応する型締力をF1とすると、所定時間経過まで
の型締力FはF=F0+F1・sinωtで示される。従
つて、型締力は第1図に示すように変化すること
になる。この型締力によつて固定型18及び可動
型20が弾性変形し、金型キヤビテイ22の容積
が変化する。従つて、型締力が振動する所定の時
間の間は金型キヤビテイ22の容積も振動するこ
とになる。一方、磁場発生コイル26には型閉じ
工程完了時から図示してない電源装置によつて所
定の電流が供給され、金型キヤビテイ22には所
定の磁場が発生する。磁場が安定したあと金型キ
ヤビテイ22内に射出シリンダ24から磁性粒子
を含む溶融材料が射出される。金型キヤビテイ2
2内に射出された溶融材料中の磁性粒子は磁場方
向に配向させられる。タイマー46によつて設定
された所定時間中は金型キヤビテイ22の容積が
周期的に変動するため、溶融材料及びこれに含ま
れる磁性粒子も振動状態となり、磁性粒子はこの
振動によつてそれぞれ最適位置を確保しつつ配向
されることになる。次いで、所定時間経過後は型
締力は一定にし、金型キヤビテイ22の容積の変
動を停止させ、一定の磁場によつて磁性粒子を十
分に配向させる。これにより磁性粒子の配向率は
大幅に向上し、磁性粒子の混合比が高い場合であ
つても確実に配向させることができる。この場合
の磁性粒子の配向状態を第3図に概念的に示す。
溶融材料50中の大部分の磁性粒子52の磁化容
易軸54が磁場方向56に一致する。これによ
り、プラスチツクマグネツトの磁気特性を大幅に
向上することができる。なお、磁場発生コイル2
6への通電は着磁完了後には停止され、次いで成
形品の冷却が行われる。その間、成形品の消磁を
行い、次いで型締力を除去し、型開きし、成形品
の取り出しを行う。
作は以下のようにして行われる。まず、型開き状
態にある射出成形機の型締シリンダ28に油圧を
供給し、型閉じを行わせる。すなわち、第2図中
で左方向に移動していた可動盤16を右向きに移
動させ、可動型20を固定型18に接触させる。
可動型20が固定型18に接触したことがリミツ
トスイツチなどの図示してない位置検出器によつ
て検出されると、シーケンスコントローラ44は
制御装置36に指令を与え、制御装置36は所定
の電流I=I0+I1・sinωtをソレノイド34aに通
電するように増幅器38に指令信号を与える。こ
こでI0、I1及びωはそれぞれ型締力設定器39、
振幅設定器42及び角振動数設定器40によつて
それぞれ設定される。この電流の供給はタイマー
46に設定された所定時間だけ継続し、所定時間
経過後は一定の電流I0を通電するように制御され
る。この電流I0の供給はシーケンスコントローラ
44から着磁工程の終了が指令されるまで継続さ
れる。電磁リリーフ弁34はソレノイド34aに
通電される電流に応じて油圧源32の圧力を制御
し、これを型締シリンダ28に作用させる。従つ
て、型締シリンダ28の押し力、すなわち型締力
はソレノイド34aへの通電量に応じて制御され
る。電流I0に対応する型締力F0、及び電流I1に対
応する型締力をF1とすると、所定時間経過まで
の型締力FはF=F0+F1・sinωtで示される。従
つて、型締力は第1図に示すように変化すること
になる。この型締力によつて固定型18及び可動
型20が弾性変形し、金型キヤビテイ22の容積
が変化する。従つて、型締力が振動する所定の時
間の間は金型キヤビテイ22の容積も振動するこ
とになる。一方、磁場発生コイル26には型閉じ
工程完了時から図示してない電源装置によつて所
定の電流が供給され、金型キヤビテイ22には所
定の磁場が発生する。磁場が安定したあと金型キ
ヤビテイ22内に射出シリンダ24から磁性粒子
を含む溶融材料が射出される。金型キヤビテイ2
2内に射出された溶融材料中の磁性粒子は磁場方
向に配向させられる。タイマー46によつて設定
された所定時間中は金型キヤビテイ22の容積が
周期的に変動するため、溶融材料及びこれに含ま
れる磁性粒子も振動状態となり、磁性粒子はこの
振動によつてそれぞれ最適位置を確保しつつ配向
されることになる。次いで、所定時間経過後は型
締力は一定にし、金型キヤビテイ22の容積の変
動を停止させ、一定の磁場によつて磁性粒子を十
分に配向させる。これにより磁性粒子の配向率は
大幅に向上し、磁性粒子の混合比が高い場合であ
つても確実に配向させることができる。この場合
の磁性粒子の配向状態を第3図に概念的に示す。
溶融材料50中の大部分の磁性粒子52の磁化容
易軸54が磁場方向56に一致する。これによ
り、プラスチツクマグネツトの磁気特性を大幅に
向上することができる。なお、磁場発生コイル2
6への通電は着磁完了後には停止され、次いで成
形品の冷却が行われる。その間、成形品の消磁を
行い、次いで型締力を除去し、型開きし、成形品
の取り出しを行う。
(ト) 発明の効果
以上説明してきたように、本発明によると、型
締力を周期的に変動させて金型キヤビテイの容積
を変動させ、磁性粒子の配向を十分に行わせるよ
うにしたので、磁性粒子の配向率が向上しプラス
チツクマグネツトの磁気特性を大幅に向上するこ
とができる。
締力を周期的に変動させて金型キヤビテイの容積
を変動させ、磁性粒子の配向を十分に行わせるよ
うにしたので、磁性粒子の配向率が向上しプラス
チツクマグネツトの磁気特性を大幅に向上するこ
とができる。
第1図は本発明による型締力の特性を示す図、
第2図は磁場射出成形機を示す図、第3図は本発
明による磁性粒子の配向状態を示す図、第4図は
従来の磁場射出成形方法による磁性粒子の配向状
態を示す図である。 18……固定型、20……可動型、……金型キ
ヤビテイ、24……射出シリンダ、26……磁場
発生コイル、28……型締シリンダ、32……油
圧源、34……電磁リリーフ弁、36……制御装
置、44……シーケンスコントローラ。
第2図は磁場射出成形機を示す図、第3図は本発
明による磁性粒子の配向状態を示す図、第4図は
従来の磁場射出成形方法による磁性粒子の配向状
態を示す図である。 18……固定型、20……可動型、……金型キ
ヤビテイ、24……射出シリンダ、26……磁場
発生コイル、28……型締シリンダ、32……油
圧源、34……電磁リリーフ弁、36……制御装
置、44……シーケンスコントローラ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 磁場を発生させた金型キヤビテイ内に磁性粒
子を含む溶融材料を射出する磁場射出成形方法に
おいて、 型閉じ完了から所定時間は所定の上限値と下限
値との間を周期的に変動する型締力を作用させ、
所定時間経過後は一定の型締力を作用させること
を特徴とする磁場射出成形方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1249585A JPS61172320A (ja) | 1985-01-28 | 1985-01-28 | 磁場射出成形方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1249585A JPS61172320A (ja) | 1985-01-28 | 1985-01-28 | 磁場射出成形方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61172320A JPS61172320A (ja) | 1986-08-04 |
| JPH0241882B2 true JPH0241882B2 (ja) | 1990-09-19 |
Family
ID=11806955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1249585A Granted JPS61172320A (ja) | 1985-01-28 | 1985-01-28 | 磁場射出成形方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61172320A (ja) |
-
1985
- 1985-01-28 JP JP1249585A patent/JPS61172320A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61172320A (ja) | 1986-08-04 |
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