JPH0242083A - 新規化合物、その製法及びそれを含む医薬組成物 - Google Patents
新規化合物、その製法及びそれを含む医薬組成物Info
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- JPH0242083A JPH0242083A JP1149275A JP14927589A JPH0242083A JP H0242083 A JPH0242083 A JP H0242083A JP 1149275 A JP1149275 A JP 1149275A JP 14927589 A JP14927589 A JP 14927589A JP H0242083 A JPH0242083 A JP H0242083A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D493/00—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
- C07D493/02—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D493/06—Peri-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H17/00—Compounds containing heterocyclic radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
- C07H17/04—Heterocyclic radicals containing only oxygen as ring hetero atoms
- C07H17/08—Hetero rings containing eight or more ring members, e.g. erythromycins
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規な化合物、それらの製造法、化学的中間体
としてのそれらの用途及びヒトを含む動物のかびの感染
の治療における用途に関する。
としてのそれらの用途及びヒトを含む動物のかびの感染
の治療における用途に関する。
３ｔｒｅｐｔＯｍ７ｅｅｌ ｎｏｄｏａｕａにょシ生産
されるポリエンミクロライドであるアンホテリシンＢは
、かびの感染の治療に広く用いられている。
されるポリエンミクロライドであるアンホテリシンＢは
、かびの感染の治療に広く用いられている。
アンホテリシンＢは、その分子構造及び絶対的な立体構
造がＸ線結晶学分析により明確に立証され大唯−の複雑
なポリエンマクロライドである。
造がＸ線結晶学分析により明確に立証され大唯−の複雑
なポリエンマクロライドである。
アンホテリシンＢは式■
を有する。
アンホテリシンＢの誘導体は文献に報告されている。Ｎ
１ｅｏｌａｏｕら（Ｊ、Ｃｈ＠ｍ、 Ｓｏ、ｃ、Ｃｈｅ
ｍ。
１ｅｏｌａｏｕら（Ｊ、Ｃｈ＠ｍ、 Ｓｏ、ｃ、Ｃｈｅ
ｍ。
Ｃｏｍｍｕｎ、 ４１３（１９８６））は、アミン官能
基のアセチル化及びアンホテリシンＢのカルボン酸官能
基のメチル化により式（Ｂ） （式中Ｒａはアセチルであ、？ＲｂＦｉメチルでありそ
してＲＣは水素である） のアセトアミドメチルエステル誘導体を得ることを記載
している。０℃で２．６−ルチジンとともにトリメチル
シリルトリプルオロメタンスルホネートを用いる前述の
誘導体のパーシリル化は、Ｎ１ｃｏｌａｏｕ ら（Ｊ、
Ｃｈｅｒｎ、 ＳｏＣｏＣｈｅｍ、 Ｃｏｍｍｕｎ。
基のアセチル化及びアンホテリシンＢのカルボン酸官能
基のメチル化により式（Ｂ） （式中Ｒａはアセチルであ、？ＲｂＦｉメチルでありそ
してＲＣは水素である） のアセトアミドメチルエステル誘導体を得ることを記載
している。０℃で２．６−ルチジンとともにトリメチル
シリルトリプルオロメタンスルホネートを用いる前述の
誘導体のパーシリル化は、Ｎ１ｃｏｌａｏｕ ら（Ｊ、
Ｃｈｅｒｎ、 ＳｏＣｏＣｈｅｍ、 Ｃｏｍｍｕｎ。
６８６、（１９８７）） によシ報告されて、ＲＩＬ
がアセチルであり、Ｂｂがメチルでありそしてｌｅがト
リメチルシリルである式（Ｂ）の化合物を生ずる。
がアセチルであり、Ｂｂがメチルでありそしてｌｅがト
リメチルシリルである式（Ｂ）の化合物を生ずる。
２５℃において四塩化炭素中のＮ＝プロモサクシンイミ
ドに対して前述のパーシリル誘導体を接触することが同
じ論文に報告されて、対応するアグリコン誘導体が得ら
れ、そして０℃でのメタノール中の水素化はう素ナトリ
クムによる還元によシ対応するシリル化アンホテレノラ
イドＢメチルエステルが得られる。
ドに対して前述のパーシリル誘導体を接触することが同
じ論文に報告されて、対応するアグリコン誘導体が得ら
れ、そして０℃でのメタノール中の水素化はう素ナトリ
クムによる還元によシ対応するシリル化アンホテレノラ
イドＢメチルエステルが得られる。
同様なシリル化反応が行われて、アノマー性１３位の反
応活性ヒドロキシル基が除去されたアンホテリシンＢの
新規な誘導体を提供する。形成された１３．１４位の二
重結合が、次の脱グリコシド反応中に維持される。得ら
れ大アグリコン誘導体の１９位のカルボニル官能基は還
元されて、１９位のヒドロキシル官能基がさらに誘導体
化される対応するアンホテレノライドを提供できる。
応活性ヒドロキシル基が除去されたアンホテリシンＢの
新規な誘導体を提供する。形成された１３．１４位の二
重結合が、次の脱グリコシド反応中に維持される。得ら
れ大アグリコン誘導体の１９位のカルボニル官能基は還
元されて、１９位のヒドロキシル官能基がさらに誘導体
化される対応するアンホテレノライドを提供できる。
新規な１３−二ン誘導体は、精製され六アンホテリシン
Ｂ及びその誘導体の製造における中間体として有用であ
る。新規な１３÷工ン鰐導体のあるものは、それ自体製
薬上活性があシそして抗かび剤としての有用性の可能性
を有する。
Ｂ及びその誘導体の製造における中間体として有用であ
る。新規な１３÷工ン鰐導体のあるものは、それ自体製
薬上活性があシそして抗かび剤としての有用性の可能性
を有する。
１３ｇ−二ン誘導性は、アンホテリシンＢ及びその誘導
体の反応活性１３二しドロキシル基の保護の有効な形を
提供し、それは必要に応じ再生される及び／又はさらに
誘導体化される。
体の反応活性１３二しドロキシル基の保護の有効な形を
提供し、それは必要に応じ再生される及び／又はさらに
誘導体化される。
１３位のヒドロキシル基の反応活性の性質社、アンホテ
リシンＢ及びその誘導体に対する化学反応中望ましくな
い副生物をしばしば生ずる。１３位のヒドロキシル基の
除去は、このような副生物の形成を妨ける。１３−二ン
化合物は、従ってアンホテリシンＢ及びその誘導体の化
学的操作中純度及び収量の両方を増大させるのに利用で
きる。
リシンＢ及びその誘導体に対する化学反応中望ましくな
い副生物をしばしば生ずる。１３位のヒドロキシル基の
除去は、このような副生物の形成を妨ける。１３−二ン
化合物は、従ってアンホテリシンＢ及びその誘導体の化
学的操作中純度及び収量の両方を増大させるのに利用で
きる。
その上、１３− １４＝及び１５−位は選択的に官能基
化され、１５位における選択的官能基化はアリル性活性
化によシ助けられる。
化され、１５位における選択的官能基化はアリル性活性
化によシ助けられる。
従って、本発明は式（１）
（式中
それぞれの８１は独立して水素又はシリル保護基であ’
）： Ｒｍはカルボン酸又はその誘導体：ケトン又はア
ルデヒド官能基；ヒドロキシメチルであってそのヒドロ
キシル官能基は任意にシリル化されているか又はヒドロ
キシ０１〜４アルキル、アルコキシ０１〜４アルキル、
アルコキシカルボニルＣ２〜、アルキル、ヒドロキシカ
ルボニルＣ１〜４アルキル、アルキル、アルカノイル又
は任意に置換されていてもよ１ハアリール又はアロイル
によ多置換されておシ；Ｘ及びＹの一つは水素であって
他は糖類の残基；ヒドロキシル：任意に置換されていて
もよい０１〜．アルコキシ又はＣｓ〜 シクロアルコキ
シ：アルカノイルオキシ：チオアルカノイルオキシ：ス
ルホニルオキシ；ノヘロゲ゛ン；又は任意に置換されて
いてもよいアリールオキシ、アルアルキルオキシ又はア
ロイルオキシであるか；又はＸ及びＹはそれらが結合し
ている炭素原子と一緒になってカルボニル基又はその誘
導体であり；ただしそれぞれのＲ３がトリメチルシリル
であ夛そしてＲ８がメトキシカルボニルのときＸ及びＹ
の一つはヒドロキシル＃ ４ニニトロ品フェニルカルボ
キシ又はＮ−アセチル−３，４＝Ｏ−）リメチルシリル
ーミコサミンではなく、又はＸ及びＹはそれらが結合し
ている炭素原子と一緒になってカルボニル基ではなく；
それぞれのＲ１が水素でありそして）１．がメトキシカ
ルボニルのときＸ及びＹの一つはヒドロキシル又は４−
ニトロフェニルカルボキシではなく；そしてそれぞれの
Ｒ１が水素でありＲ６がカルボキシのときＸ及びＹの一
つはヒドロキシルではない） の化合物又はその塩を提供する。
）： Ｒｍはカルボン酸又はその誘導体：ケトン又はア
ルデヒド官能基；ヒドロキシメチルであってそのヒドロ
キシル官能基は任意にシリル化されているか又はヒドロ
キシ０１〜４アルキル、アルコキシ０１〜４アルキル、
アルコキシカルボニルＣ２〜、アルキル、ヒドロキシカ
ルボニルＣ１〜４アルキル、アルキル、アルカノイル又
は任意に置換されていてもよ１ハアリール又はアロイル
によ多置換されておシ；Ｘ及びＹの一つは水素であって
他は糖類の残基；ヒドロキシル：任意に置換されていて
もよい０１〜．アルコキシ又はＣｓ〜 シクロアルコキ
シ：アルカノイルオキシ：チオアルカノイルオキシ：ス
ルホニルオキシ；ノヘロゲ゛ン；又は任意に置換されて
いてもよいアリールオキシ、アルアルキルオキシ又はア
ロイルオキシであるか；又はＸ及びＹはそれらが結合し
ている炭素原子と一緒になってカルボニル基又はその誘
導体であり；ただしそれぞれのＲ３がトリメチルシリル
であ夛そしてＲ８がメトキシカルボニルのときＸ及びＹ
の一つはヒドロキシル＃ ４ニニトロ品フェニルカルボ
キシ又はＮ−アセチル−３，４＝Ｏ−）リメチルシリル
ーミコサミンではなく、又はＸ及びＹはそれらが結合し
ている炭素原子と一緒になってカルボニル基ではなく；
それぞれのＲ１が水素でありそして）１．がメトキシカ
ルボニルのときＸ及びＹの一つはヒドロキシル又は４−
ニトロフェニルカルボキシではなく；そしてそれぞれの
Ｒ１が水素でありＲ６がカルボキシのときＸ及びＹの一
つはヒドロキシルではない） の化合物又はその塩を提供する。
他に特定されて−ない限シ、それぞれのアルキル基は好
ましくはＣ１〜、基さらに好ましくはＣ３〜魯基であり
、セして直鎖であるか又は枝分れ鎖′である。アルコキ
シ又はＣ１〜、シクロアルコキシ基の任意の炭素原子に
おける任意の置換基は、カルボキシ、アルコキシカルボ
ニル、ヒドロキシル。
ましくはＣ１〜、基さらに好ましくはＣ３〜魯基であり
、セして直鎖であるか又は枝分れ鎖′である。アルコキ
シ又はＣ１〜、シクロアルコキシ基の任意の炭素原子に
おける任意の置換基は、カルボキシ、アルコキシカルボ
ニル、ヒドロキシル。
ハロゲン、アルキル、アルコキシ及び任意にＣ３〜・ア
ルキルにより置換されていてもよいアミノを含む。用語
ハロゲンは、弗素、塩素、臭素及び沃素を含む。
ルキルにより置換されていてもよいアミノを含む。用語
ハロゲンは、弗素、塩素、臭素及び沃素を含む。
用語カルボン酸誘導体は、エステル、チオエステル、ア
ミド、無水物及び酸ノ・ロゲン化物を含む。
ミド、無水物及び酸ノ・ロゲン化物を含む。
エステル及びチオエステルは、アルコキシカルボニル、
アリールオキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカル
ボニル、アルキルチオカルボニル。
アリールオキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカル
ボニル、アルキルチオカルボニル。
アリールチオカルボニル及びヘテロアリールチオカルボ
ニル基を含む。アミドは第一級、第二級及び第三級アミ
ドを含む。例えば、アミン部分は１又は２個のアルキル
基によ）置換できる。用語ケトンはアルキル、アリール
及びヘテロアリールケトンを含む。
ニル基を含む。アミドは第一級、第二級及び第三級アミ
ドを含む。例えば、アミン部分は１又は２個のアルキル
基によ）置換できる。用語ケトンはアルキル、アリール
及びヘテロアリールケトンを含む。
用語スルホニルオキシは、アルキル誘導基例えばメシレ
ート及びアリール誘導基例えばトシレートを含む。用語
カルボニル基誘導体はオキシム及びヒドラゾンを含む。
ート及びアリール誘導基例えばトシレートを含む。用語
カルボニル基誘導体はオキシム及びヒドラゾンを含む。
用語アリールは、単環及び二環の炭素環部分例えばフェ
ニル及びナフチルを含む。アリール部分は、カルボキシ
、アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、アルキル、ア
ルコキシ、ハロゲン及ヒ任意にアルキルにより置換され
ていてもよいアミノを含む基によυモノ、ジ又はトリ置
換され、そして好ましくはモノ又はジ置換される。
ニル及びナフチルを含む。アリール部分は、カルボキシ
、アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、アルキル、ア
ルコキシ、ハロゲン及ヒ任意にアルキルにより置換され
ていてもよいアミノを含む基によυモノ、ジ又はトリ置
換され、そして好ましくはモノ又はジ置換される。
用語ヘテロアリールは、５−又は６ニ員の単環及び９−
又は１〇−員の二環のへテロアリールを含む。
又は１〇−員の二環のへテロアリールを含む。
さらに、５−又は６−員の単環及び９−又は１〇−員の
二項のへテロアリールは、好ましくは窒素、酸素及び硫
黄から選択された１又は２個のへテロ原子を含み、１個
よシ多いヘテロ原子がある場合には同−又は異ることが
できる。９−又は１〇−員の二環のへテロアリールのと
き、２個の３１は好ましくは単一のへテロ原子を含む１
個の５−又は６−員の環と縮合している。
二項のへテロアリールは、好ましくは窒素、酸素及び硫
黄から選択された１又は２個のへテロ原子を含み、１個
よシ多いヘテロ原子がある場合には同−又は異ることが
できる。９−又は１〇−員の二環のへテロアリールのと
き、２個の３１は好ましくは単一のへテロ原子を含む１
個の５−又は６−員の環と縮合している。
式（１）の化合物及びその塩は、又溶媒和物例えば水和
物を形成しそして本発明は又これらの形を包含する。本
明細書で言及するとき本発明の化合物又はその塩が溶媒
和物を含むことは理解されよう。
物を形成しそして本発明は又これらの形を包含する。本
明細書で言及するとき本発明の化合物又はその塩が溶媒
和物を含むことは理解されよう。
Ｂ、の好適な基は水素、トリメチルシリル、トリエチル
シリル及び第三級ブチルジメチルシリルを含む。好まし
くはそれぞれのＲ１は水素であるか又はそれぞれのＲ１
＃ｉｌＪメチルシリル又はトリエチルシリルである。
シリル及び第三級ブチルジメチルシリルを含む。好まし
くはそれぞれのＲ１は水素であるか又はそれぞれのＲ１
＃ｉｌＪメチルシリル又はトリエチルシリルである。
Ｒ３の好適な基は、ヒドロキシカルボニル、アルコキシ
カルボニル、アミノカルボニル、アルキルチオカルボニ
ル、アリールチオカルボニル、ヘテロアリールチオカル
ボニル、アルカノイル、アロイル及びヒドロキシメチル
を含み、ヒドロキシル官能基は任意にＣ１〜４アルキル
又はＣ１〜１アルカノイルにより置換されていてもよい
。好ましくはＲ３はヒドロキシカルボニル、アルコキシ
カルボニル例えばメトキシカルボニル、ヒドロキシメチ
ル、アルカノイル例えばアセチル、アロイル例えばベン
ゾイル又はヘテロアリールチオカルボニル例えば２−ピ
リジルチオカルボニルである。
カルボニル、アミノカルボニル、アルキルチオカルボニ
ル、アリールチオカルボニル、ヘテロアリールチオカル
ボニル、アルカノイル、アロイル及びヒドロキシメチル
を含み、ヒドロキシル官能基は任意にＣ１〜４アルキル
又はＣ１〜１アルカノイルにより置換されていてもよい
。好ましくはＲ３はヒドロキシカルボニル、アルコキシ
カルボニル例えばメトキシカルボニル、ヒドロキシメチ
ル、アルカノイル例えばアセチル、アロイル例えばベン
ゾイル又はヘテロアリールチオカルボニル例えば２−ピ
リジルチオカルボニルである。
Ｘ及びＹの一つが水素のとき他のものの好適な基はヒド
ロ中シル：Ｃ１〜４アルコキシ又ｕ Ｃｓ〜。
ロ中シル：Ｃ１〜４アルコキシ又ｕ Ｃｓ〜。
シクロアルコキシ（任意にカルボキシ、アルコキシカル
ボニル、ヒドロキシル、アルキル、アルコキシ、ハロゲ
ン又は任意にＣ１〜６アルキルにより置換されていても
よいアミノにより置換されていてもよい）；フェノキシ
及びベンジルオキシ（そのベンゼン環のそれぞれは任意
にカルボキシ、アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、
アルキル。
ボニル、ヒドロキシル、アルキル、アルコキシ、ハロゲ
ン又は任意にＣ１〜６アルキルにより置換されていても
よいアミノにより置換されていてもよい）；フェノキシ
及びベンジルオキシ（そのベンゼン環のそれぞれは任意
にカルボキシ、アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、
アルキル。
アルコキシ、ハロゲン又は任意にＣ１〜４アルキルによ
シ置換されていてもよいアミノ及び糖類の残基： たアミノ基又は保護されたアミノ基である）を含む。
シ置換されていてもよいアミノ及び糖類の残基： たアミノ基又は保護されたアミノ基である）を含む。
好ましくはＲ４は水素、トリメチルシリル又はトリエチ
ルシリルでありそして２はアミノ基又は保護されたアミ
ノ基、−ＮＨＲ，である。
ルシリルでありそして２はアミノ基又は保護されたアミ
ノ基、−ＮＨＲ，である。
Ｒ１の基は、水素、アセチル、トリフルオロアセチル、
９−フルオレニルメトキシカルボニル。
９−フルオレニルメトキシカルボニル。
トリクロロエトキシカルボニル、２÷メチルスルホニル
エトキシカルボニル及び２ニトリメチルシリルエトキシ
カルボニルを含む。好ましくはＲ。
エトキシカルボニル及び２ニトリメチルシリルエトキシ
カルボニルを含む。好ましくはＲ。
は水素、アセチル、トリフルオロアセチル又は９−フル
オレニルメトキシカルボニルテアル。
オレニルメトキシカルボニルテアル。
式（幻
（式中それぞれのＲ４１ｌｔ独立して水素又はシリル保
護基でありそして２はアミノ基、誘導体化され（式中Ｒ
８及びＲ３は式（１）で規定した通シでありＲ，は水素
又はアミン保護基でありそしてそれぞれのＲ４は独立し
て水素又はシリル保護基である）の式（１）内の化、金
物又はその塩の下位群である。
護基でありそして２はアミノ基、誘導体化され（式中Ｒ
８及びＲ３は式（１）で規定した通シでありＲ，は水素
又はアミン保護基でありそしてそれぞれのＲ４は独立し
て水素又はシリル保護基である）の式（１）内の化、金
物又はその塩の下位群である。
式（ＩＩＩ）
（式中Ｒ１及びＲ８は式（１）で規定した通シであ）セ
してＸ及びＹはそれらが結合している炭素原子と一緒に
なってカルボニル基である） の式（１）内の化合物の第二の下位群がある。
してＸ及びＹはそれらが結合している炭素原子と一緒に
なってカルボニル基である） の式（１）内の化合物の第二の下位群がある。
式（Ｉ）内の化合物の他の下位群は、式（ＩＶ）（式中
Ｒ８及びＲ１は式（１）において規定した通シであり、
Ｘ及びＹの一つは水素であって他はヒドロキシル；Ｃ１
〜、アルコキシ又はＣ１〜４シクロアルコキシ（任意に
カルボキシ、アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、ア
ルキル、アルコキシ、ハロゲン又は任意にＣ１〜、アル
キルによシ置換されていてもよいアミノによシ置換され
ていてもよい）；フェノキシ及びベンジルオキシ（その
ベンゼン環のそれぞれは任意にカルボキシ、アルコキシ
カルボニル、ヒドロキシル、アルキル、アルコキシ。
Ｒ８及びＲ１は式（１）において規定した通シであり、
Ｘ及びＹの一つは水素であって他はヒドロキシル；Ｃ１
〜、アルコキシ又はＣ１〜４シクロアルコキシ（任意に
カルボキシ、アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、ア
ルキル、アルコキシ、ハロゲン又は任意にＣ１〜、アル
キルによシ置換されていてもよいアミノによシ置換され
ていてもよい）；フェノキシ及びベンジルオキシ（その
ベンゼン環のそれぞれは任意にカルボキシ、アルコキシ
カルボニル、ヒドロキシル、アルキル、アルコキシ。
ハロゲン又は任意に０１〜・アルキルによシ置換されて
いてもよいアミノによ）置換されていてもよい）から選
択される〕 の化合物又はその塩である。
いてもよいアミノによ）置換されていてもよい）から選
択される〕 の化合物又はその塩である。
式（Ｖ）
〔式中、Ｒ２は式（１）について規定した通シであり；
Ｘ及びＹの一つは水素であって他Ｂｅドロキシル；Ｃ１
〜、アルコキシ又はＣ５〜畠シクロアルコキシであって
任意にカルボキシ、アルコキシカルボニル。
Ｘ及びＹの一つは水素であって他Ｂｅドロキシル；Ｃ１
〜、アルコキシ又はＣ５〜畠シクロアルコキシであって
任意にカルボキシ、アルコキシカルボニル。
ヒドロキシル、アルキル、アルコキシ、ハロゲン。
又は任意にＣ１〜、アルキルにより置換でれていてもよ
いアミノにより置換されていてもよにフェノキシ及びベ
ンジルオキシであってそのベンゼン環のそれぞれは任意
にカルボキシ、アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、
アルキル、アルコキシ。
いアミノにより置換されていてもよにフェノキシ及びベ
ンジルオキシであってそのベンゼン環のそれぞれは任意
にカルボキシ、アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、
アルキル、アルコキシ。
ハロゲン、又は任意にＣ１〜４アルキルにより置換され
ていてもよいアミノにより置換されていてもよ〈：又は
糖類の残基； （式中Ｒ１は水素又はアミノ保護基である）から選択さ
れるか；又はＸ及びＹはそれらが結合している炭素原子
と一緒になってカルボニル基であり；ただしＲ８がメト
キシカルボニル又はカルボキシのときＸ及びＹの一つは
ヒドロキシルではない〕の式（１）内の化合物又はその
製薬上許容しうる塩の好ましい下位群がある。
ていてもよいアミノにより置換されていてもよ〈：又は
糖類の残基； （式中Ｒ１は水素又はアミノ保護基である）から選択さ
れるか；又はＸ及びＹはそれらが結合している炭素原子
と一緒になってカルボニル基であり；ただしＲ８がメト
キシカルボニル又はカルボキシのときＸ及びＹの一つは
ヒドロキシルではない〕の式（１）内の化合物又はその
製薬上許容しうる塩の好ましい下位群がある。
式（至）の化合物中のＲ，の好適な基は、ヒドロキシカ
ルボニル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、
アルキルチオカルボニル、アリールチオカルボニル。ヘ
テロアリールチオカルボニル。
ルボニル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、
アルキルチオカルボニル、アリールチオカルボニル。ヘ
テロアリールチオカルボニル。
アルカノイル、アロイル及びヒドロキシメチル（ヒドロ
キシル官能基は任意にＣ８〜、アルキル又はＣ２〜、ア
ルカノイルにより置換されていてもよい）を含む。好ま
しくはＲ８はヒドロキシカルボニル、アルコキシカルボ
ニル例えばメトキシカルボニル、ヒドロキシメチル、ア
セチル又はベンゾイルを含む。
キシル官能基は任意にＣ８〜、アルキル又はＣ２〜、ア
ルカノイルにより置換されていてもよい）を含む。好ま
しくはＲ８はヒドロキシカルボニル、アルコキシカルボ
ニル例えばメトキシカルボニル、ヒドロキシメチル、ア
セチル又はベンゾイルを含む。
式（至）の化合物中のＸ及びＹの一つが水素のとき、他
のものの基はヒドロキシル；Ｃ３〜４アルコキシ又はＣ
１〜、シクロアルコキシ（任意にカルボキシ。
のものの基はヒドロキシル；Ｃ３〜４アルコキシ又はＣ
１〜、シクロアルコキシ（任意にカルボキシ。
アルフキジカルボニル、ヒドロキシル、０１〜．アルキ
ル、Ｃ１〜４アルコキシ、ハロゲン又は任意にＣ１〜４
アルキルにより置換されていてもよいアミノにより置換
されていてもよい）：７工／キシ及びぺ／ジルオキシ（
そのベンゼン環のそれぞれは任意にカルボキシ、アルコ
キシカルボニル、ヒドロキシル、Ｃ１〜４アルキル、Ｃ
８〜４アルコキシ。
ル、Ｃ１〜４アルコキシ、ハロゲン又は任意にＣ１〜４
アルキルにより置換されていてもよいアミノにより置換
されていてもよい）：７工／キシ及びぺ／ジルオキシ（
そのベンゼン環のそれぞれは任意にカルボキシ、アルコ
キシカルボニル、ヒドロキシル、Ｃ１〜４アルキル、Ｃ
８〜４アルコキシ。
ハロゲン又は任意にＣ１〜４アルキルにより置換されて
いてもよいアミノにより置換されていてもよい）；そし
て好ましくは糖類の残基； （式中Ｒ，ｔｉ水素又はアミン保護基でありさらに好壕
しくはＲ１は水素である） を含む。
いてもよいアミノにより置換されていてもよい）；そし
て好ましくは糖類の残基； （式中Ｒ，ｔｉ水素又はアミン保護基でありさらに好壕
しくはＲ１は水素である） を含む。
式（至）の化合物は、抗かび活性を有することが分って
おり、それ故ヒトを含む動物のかびの感染の治療におけ
る薬剤として有用な可能性がある。
おり、それ故ヒトを含む動物のかびの感染の治療におけ
る薬剤として有用な可能性がある。
本発明の化合物の製薬上許容しうる塩を含む塩は、従来
のように例えば適切な酸又は塩基との反応によシ形成で
きる。
のように例えば適切な酸又は塩基との反応によシ形成で
きる。
Ｒ１が水素又はアルキルである式（至）の化合物は、酸
例えば従来の製薬上許容しうる酸例えば塩酸。
例えば従来の製薬上許容しうる酸例えば塩酸。
臭化水素酸、燐酸、酢酸、フマール酸、サルチル酸、く
えん酸、乳酸、マンデル酸、酒石酸、しゆう酸及びメタ
ンスルホン酸により酸付加塩を形成できる。
えん酸、乳酸、マンデル酸、酒石酸、しゆう酸及びメタ
ンスルホン酸により酸付加塩を形成できる。
Ｒ１がカルボキシルである式（至）の化合物は、塩基例
えば従来の製薬上許容しうる塩基例えば炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸カリウム、水酸化リチウム。
えば従来の製薬上許容しうる塩基例えば炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸カリウム、水酸化リチウム。
トリエチルアミン、ピリジン及びルチジンによシ塩基性
付加塩を形成できる。
付加塩を形成できる。
本発明は文武（１）の化合物を製造する方法を提供し、
その方法は式（Ｖｌ） （式中、Ｌが脱離基又はそれに転換できる基であり、Ｒ
１及びＲ３は式（１）について規定した通シであり、Ｒ
３は水素又はアミン保護基でありそしてそれぞれのＲ４
は独立して水素又はシリル保護基である） の化合物とシリル化剤とを反応させて式（１０の化合物
を得て、そして次に必要に応じて （ａ） ＲｔをＲ３の他の基に、Ｒ８をＲ３の他の基
に、Ｒ富をＲ１の他の基に又はＲ６をＲ４の他の基に転
換する工程； （ｂ） 糖類の部分を任意に開裂して式（ｆｉｒ）の
化合物を得る工程； （ｅ） 式（１）の化合物の１９位のカルボニル基を
任意に還元して、Ｘ及びＹの一つが水素でありそして他
がヒドロキシルである式（ＩＶ）の化合物を得る工程；
及び （ｄ） 形成した１９六ヒドロキシル官能基を任意に
誘導体化して式（ＩＶ）の他の化合物を得る工程よりな
る。
その方法は式（Ｖｌ） （式中、Ｌが脱離基又はそれに転換できる基であり、Ｒ
１及びＲ３は式（１）について規定した通シであり、Ｒ
３は水素又はアミン保護基でありそしてそれぞれのＲ４
は独立して水素又はシリル保護基である） の化合物とシリル化剤とを反応させて式（１０の化合物
を得て、そして次に必要に応じて （ａ） ＲｔをＲ３の他の基に、Ｒ８をＲ３の他の基
に、Ｒ富をＲ１の他の基に又はＲ６をＲ４の他の基に転
換する工程； （ｂ） 糖類の部分を任意に開裂して式（ｆｉｒ）の
化合物を得る工程； （ｅ） 式（１）の化合物の１９位のカルボニル基を
任意に還元して、Ｘ及びＹの一つが水素でありそして他
がヒドロキシルである式（ＩＶ）の化合物を得る工程；
及び （ｄ） 形成した１９六ヒドロキシル官能基を任意に
誘導体化して式（ＩＶ）の他の化合物を得る工程よりな
る。
Ｌに関する好適な基は、ヒドロキシル、アルコキシ例え
ばメトキシ、アシルオキシ及びチオール誘導基を含む。
ばメトキシ、アシルオキシ及びチオール誘導基を含む。
好適なアシル化剤は、特にトリメチルシリルトリフルオ
ロメタンスルホネート及びトリエチルシＩＪ ／Ｌ／ト
リフルオロメタンスルホネートｔ−含ｔｒ。
ロメタンスルホネート及びトリエチルシＩＪ ／Ｌ／ト
リフルオロメタンスルホネートｔ−含ｔｒ。
脱離基りが誘導体化ヒドロキシル基である式（ＶＩ）の
化合物からの式■の化合物の製造は、標準のシリル化条
件下で容易に行われる。
化合物からの式■の化合物の製造は、標準のシリル化条
件下で容易に行われる。
式（ＶＩ）の化合物とシリル化剤との反応は、例えば０
〜５℃の低温度で不活性雰囲気下で不活性溶媒例えばジ
クロロメタン中で行うことができる。
〜５℃の低温度で不活性雰囲気下で不活性溶媒例えばジ
クロロメタン中で行うことができる。
反応は好都合には弱い塩基例えばピリジン誘導体例えば
２．６−ルチジンの存在下過剰のシリル化剤を用いて行
われる。−万、液体の゛塩基が溶媒を置換できる。反応
時間はシリル基の大きさに依存し、トリメチルシリル基
では１分以下からより大きなシリル基では数時間に及ぶ
。
２．６−ルチジンの存在下過剰のシリル化剤を用いて行
われる。−万、液体の゛塩基が溶媒を置換できる。反応
時間はシリル基の大きさに依存し、トリメチルシリル基
では１分以下からより大きなシリル基では数時間に及ぶ
。
式（ＶＩ）の化合物中の任意のＲ３が水素であ夛そして
過剰のシリル化剤が用いられるとき、遊離のヒドロキシ
ル基がシリル化されて、それぞれのＲ３がシリル保護基
である式（ＩＱの化合物を生ずる。
過剰のシリル化剤が用いられるとき、遊離のヒドロキシ
ル基がシリル化されて、それぞれのＲ３がシリル保護基
である式（ＩＱの化合物を生ずる。
遊離のヒドロキシル基（Ｒ１、Ｒ４＝Ｈ）当シ１当量よ
り少いシリル化剤の使用は、遊離しドロキシル基の部分
的なシリル化を生ずるだろう。
り少いシリル化剤の使用は、遊離しドロキシル基の部分
的なシリル化を生ずるだろう。
Ｒ８及びＲ４シリル保護基は、周知の脱保膵基法例えば
高温度、常温又は低温度におけるテトラヒドロフラン中
の弗化水素・ピリジンの溶液を用−て除去されて、Ｒ８
及びＲ４が水素である式（１０の化合物を生ずることが
できる。
高温度、常温又は低温度におけるテトラヒドロフラン中
の弗化水素・ピリジンの溶液を用−て除去されて、Ｒ８
及びＲ４が水素である式（１０の化合物を生ずることが
できる。
式（ＩＥＩ）及び（ＩＶ）の化合物を生ずる式（２）の
化合物の他の変換は、Ｒ重 （そして存在するときはＲ
４）がシリル保護基であるそれぞれ式（ＩＩ）及び（Ｉ
Ｉ）の化合物を用いて好都合に行われる。Ｒ３がシリル
保護基である式（Ｉ［）及び（Ｆ／）の化合物は、前述
の弗化水素・ピリジンを用いてＲ３が水素である式（Ｉ
ＩＤ′ＩＭｊ（ＩＶ ”） の化合物に転換できる。
化合物の他の変換は、Ｒ重 （そして存在するときはＲ
４）がシリル保護基であるそれぞれ式（ＩＩ）及び（Ｉ
Ｉ）の化合物を用いて好都合に行われる。Ｒ３がシリル
保護基である式（Ｉ［）及び（Ｆ／）の化合物は、前述
の弗化水素・ピリジンを用いてＲ３が水素である式（Ｉ
ＩＤ′ＩＭｊ（ＩＶ ”） の化合物に転換できる。
Ｒ１（そして存在するならばＲ４）が水素である式（Ｉ
Ｉ）、 （ｎｕ）及び（Ｆ／）の化合物は、式（至）の
化合物である。従って式（至）の化合物は、弗化水素・
ピリジンを用いて任意のＲ３又は（存在するならばＲ，
）がシリル保護基である式（ＩＩ）、 （ＩＩＩ）及び
（１’／）の化合物から製造できる。
Ｉ）、 （ｎｕ）及び（Ｆ／）の化合物は、式（至）の
化合物である。従って式（至）の化合物は、弗化水素・
ピリジンを用いて任意のＲ３又は（存在するならばＲ，
）がシリル保護基である式（ＩＩ）、 （ＩＩＩ）及び
（１’／）の化合物から製造できる。
Ｒ２の他の基への式（Ｉ）の化合物中のＲ３の転換は、
ポリエンマクロライド化学の領域で一般に用いている官
能基分子内転換法を用いて行うことができる。例えば、
Ｒ，カルボン酸は、低温におけるエーテル溶媒中のジア
ゾメタンを用いてエステル化されてＲｔメチルエステル
を生ずることがでキル。Ｒ，メチルエステルは、アルコ
ール性溶媒例えばメタノール中の水素化はう素ナトリウ
ムを用いてＲ，ヒドロキシメチルに還元できる。
ポリエンマクロライド化学の領域で一般に用いている官
能基分子内転換法を用いて行うことができる。例えば、
Ｒ，カルボン酸は、低温におけるエーテル溶媒中のジア
ゾメタンを用いてエステル化されてＲｔメチルエステル
を生ずることがでキル。Ｒ，メチルエステルは、アルコ
ール性溶媒例えばメタノール中の水素化はう素ナトリウ
ムを用いてＲ，ヒドロキシメチルに還元できる。
Ｒ，カルボン酸基は、低い酸化状態例えばＲ９ケト／又
はアルデヒドへの変換に好適な活性形に転換できる。例
えばＲ，カルボ／酸は、Ｒ，ヘテロアリールチオエステ
ル例えば２−ピリジルチオカルボニルに転換でき、それ
は有機金属試薬との反応を行ってＲ，ケトンを生ずるか
、又は一方Ｒ。
はアルデヒドへの変換に好適な活性形に転換できる。例
えばＲ，カルボ／酸は、Ｒ，ヘテロアリールチオエステ
ル例えば２−ピリジルチオカルボニルに転換でき、それ
は有機金属試薬との反応を行ってＲ，ケトンを生ずるか
、又は一方Ｒ。
ヒドロキシメチルに還元されモしてＲよアルデヒドに再
酸化される。
酸化される。
Ｒ，カルボン酸基は、低温から高温度例えば−２０℃〜
５０℃好ましくはＯ℃〜室温に及ぶ温度で不活性溶媒例
えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル又はジクロ
ロメタン好ましくはジエチルエーテル中で２−チオピリ
ジルクロロホルメートを用いてＲ，２−ピリジルチオカ
ルボニルに転換できる。
５０℃好ましくはＯ℃〜室温に及ぶ温度で不活性溶媒例
えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル又はジクロ
ロメタン好ましくはジエチルエーテル中で２−チオピリ
ジルクロロホルメートを用いてＲ，２−ピリジルチオカ
ルボニルに転換できる。
Ｒ１活性化カルボン酸誘導体との反応に好適な有機金属
試薬は、金属残基の金属元素がマグネシウム、リチウム
、銅、亜鉛、マンガン又はカドミウムである試薬を含む
。
試薬は、金属残基の金属元素がマグネシウム、リチウム
、銅、亜鉛、マンガン又はカドミウムである試薬を含む
。
好ましくは有機金属試薬は、ハロゲン化有機マグネシウ
ム又はグリニアール試薬例えば臭化又は沃化有機マグネ
シウム例えば臭化メチルマグネシウム又は臭化フェニル
マグネシウムである。
ム又はグリニアール試薬例えば臭化又は沃化有機マグネ
シウム例えば臭化メチルマグネシウム又は臭化フェニル
マグネシウムである。
有機金属試薬との反応は、このような反応に一般に用い
られる条件下例えば不活性雰囲気下そして低温度で無水
試薬を用いて行うことができる。
られる条件下例えば不活性雰囲気下そして低温度で無水
試薬を用いて行うことができる。
反応は好ましくは不活性溶媒例えばテトラヒドロフラン
又はジエチルエーテル中で過剰例えば２〜３０モル当量
及び好ましくは５〜１５モル当量のグリニアール試薬を
用いて行われる。反応は一般に一り８℃〜室温そして好
ましくは一り０℃〜室温の範囲の低温で行われる。反応
時間は、０．１〜６時間の間で変化するが、０．１〜１
時間の間の反応時間が一般に十分である。
又はジエチルエーテル中で過剰例えば２〜３０モル当量
及び好ましくは５〜１５モル当量のグリニアール試薬を
用いて行われる。反応は一般に一り８℃〜室温そして好
ましくは一り０℃〜室温の範囲の低温で行われる。反応
時間は、０．１〜６時間の間で変化するが、０．１〜１
時間の間の反応時間が一般に十分である。
Ｒ１カルボ／酸誘導体との反応に好適な還元剤は、水素
化ｔ′１！う素リチウムである。反応は不活性溶媒例え
ばジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン好ましくは
ジエチルエーテル中で行うことができる。
化ｔ′１！う素リチウムである。反応は不活性溶媒例え
ばジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン好ましくは
ジエチルエーテル中で行うことができる。
得られたＲ、−ＣＨ，０）（基の酸化は、変性Ｓｗｅｒ
ｎ酸化条件例えばジクロロメタン中の無水トリフルオロ
酢酸、ジメチルスルホキシド、トリエチルアミン及び１
．１．３．３−テトラメチル尿素の混合物を用いて行う
ことができる。
ｎ酸化条件例えばジクロロメタン中の無水トリフルオロ
酢酸、ジメチルスルホキシド、トリエチルアミン及び１
．１．３．３−テトラメチル尿素の混合物を用いて行う
ことができる。
Ｒ１及びＲ４（存在するとき）がシリル保護基でありＲ
３（存在すると１りがアミン保護基である式（１）の化
合物を用いてこれらの官能基分子内転換を行うことが好
都合又は必要である。
３（存在すると１りがアミン保護基である式（１）の化
合物を用いてこれらの官能基分子内転換を行うことが好
都合又は必要である。
Ｒ，ケトンへのＲ，カルボン酸の転換に好適なＲ，アミ
ン保護基は、アセチル及びトリフルオロアセチル好まし
くはトリフルオロアセチルを含む。
ン保護基は、アセチル及びトリフルオロアセチル好まし
くはトリフルオロアセチルを含む。
Ｒ，カルボン酸又はエステルの還元に好適な馬アミン保
護基は、アセチル及び９−フルオレニルメトキシカルボ
ニル好ましくは９−フルオレニルメトキシカルボニルを
含む。
護基は、アセチル及び９−フルオレニルメトキシカルボ
ニル好ましくは９−フルオレニルメトキシカルボニルを
含む。
式（田の化合物中のＲ，アミン保護基は、標準的方法に
よシ必要に応じ導入又は除去される。例えばＲ，アセチ
ル又はトリフルオロアセチルアミン保護基は、低温度〜
常温例えば０℃でメタノール・ジメチルスルホキシド又
はメタノール・ジメチルホルムアミド溶媒混合物中の第
一級アミン（Ｒ１−Ｈ）と無水酢酸又はエチルトリフル
オロアセテートとの反応により導入できる。
よシ必要に応じ導入又は除去される。例えばＲ，アセチ
ル又はトリフルオロアセチルアミン保護基は、低温度〜
常温例えば０℃でメタノール・ジメチルスルホキシド又
はメタノール・ジメチルホルムアミド溶媒混合物中の第
一級アミン（Ｒ１−Ｈ）と無水酢酸又はエチルトリフル
オロアセテートとの反応により導入できる。
Ｒ，９−フルオレニルメトキシカルボニル基は、塩基例
えばピリジンの存在下無水の条件下メタノール・ジメチ
ルホルムアミド中の第一級アミン（ｕｓ＝ｎ）のスラリ
ーへのＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニルオキ
シ）サクシンイミドの添加によシ導入できる。
えばピリジンの存在下無水の条件下メタノール・ジメチ
ルホルムアミド中の第一級アミン（ｕｓ＝ｎ）のスラリ
ーへのＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニルオキ
シ）サクシンイミドの添加によシ導入できる。
一方、Ｒ，９−フルオレニルメトキシカルボニルアミン
保護基は、塩基例えば炭酸カリウムの存在下無水の条件
下メタノール拳ジメチルホルムアミド中の第一級アミン
（Ｒｓ ＝Ｈ）の溶液への９−フルオレニルメチルクｃ
ｘロホルメートの添加によシ導入できる。
保護基は、塩基例えば炭酸カリウムの存在下無水の条件
下メタノール拳ジメチルホルムアミド中の第一級アミン
（Ｒｓ ＝Ｈ）の溶液への９−フルオレニルメチルクｃ
ｘロホルメートの添加によシ導入できる。
式（Ｉｆ）の化合物中のＲ１が水素のとき、Ｒ１水素へ
の容易に除去可能なＲ，アミン保護基の転換は、塩基性
の条件下で行うことができる。
の容易に除去可能なＲ，アミン保護基の転換は、塩基性
の条件下で行うことができる。
Ｒ，アミン保護基例えばトリフルオロアセチルは、無水
メタノール中の塩基例えばアンモニア又は炭酸カリウム
を用いて除去できる。
メタノール中の塩基例えばアンモニア又は炭酸カリウム
を用いて除去できる。
Ｒ，アミン保護基例えば９−フルオレニルメトキシカル
ボニルは、溶媒例えばメタノール性ジメチルスルホキシ
ド中で塩基性条件下で除去できる。
ボニルは、溶媒例えばメタノール性ジメチルスルホキシ
ド中で塩基性条件下で除去できる。
アミン脱保護基に好適な塩基は、アンモニア、ジアルキ
ルアミン例えばジメチルアミン及びジエチルアミン、ト
リアルキルアミン例えばトリエチルアミン、環状アミン
及び特に環状第二級アミン例えばモルホリン、ピペラジ
ン及びさらに特にピペリジン及びジアルキルアミン塩基
例えば１．５−ジアザビシクロ（４，３，０）ノン−５
−エン（ＤＢＮ）及び好ましくは１．８−ジアザビシク
ロ（５，４゜０〕ウンデセ−７−エン（ＤＢＵ）を含む
。
ルアミン例えばジメチルアミン及びジエチルアミン、ト
リアルキルアミン例えばトリエチルアミン、環状アミン
及び特に環状第二級アミン例えばモルホリン、ピペラジ
ン及びさらに特にピペリジン及びジアルキルアミン塩基
例えば１．５−ジアザビシクロ（４，３，０）ノン−５
−エン（ＤＢＮ）及び好ましくは１．８−ジアザビシク
ロ（５，４゜０〕ウンデセ−７−エン（ＤＢＵ）を含む
。
アミン脱保護基は、１分〜５時間好ましくは３０分〜２
．５時間に及ぶ時間で、低温度〜高温度例えば−３０℃
〜５０℃好ましくＦｉｏ℃〜室温で、１〜１０当量好ま
しくは１〜２当量の塩基を用いて行うことができる。
．５時間に及ぶ時間で、低温度〜高温度例えば−３０℃
〜５０℃好ましくＦｉｏ℃〜室温で、１〜１０当量好ま
しくは１〜２当量の塩基を用いて行うことができる。
式（ＩＩＩ）の化合物を生ずる式（１０の化合物の脱グ
リコシド化は、文献の方法によシ行うことができる。
リコシド化は、文献の方法によシ行うことができる。
Ｎ１ｅｏｌａｏｕら（Ｊ、Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｔ、Ｃｈｕ
ｍ、Ｃｏｒｎｍｕｎ。
ｍ、Ｃｏｒｎｍｕｎ。
６８６、（１９８７））は、四塩化炭素中のＮ−プロモ
ーサクシンイミドの使用を記載しておシ、ソシて３．Ｊ
ＩＢｉａｇｍｕｎｅら（’ｌ’ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｉ、ｅｔｔｅｒ＋ｓ。
ーサクシンイミドの使用を記載しておシ、ソシて３．Ｊ
ＩＢｉａｇｍｕｎｅら（’ｌ’ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｉ、ｅｔｔｅｒ＋ｓ。
２９、４４７（１９８８））は、テトラヒドロフラン中
のジクロロジシアノベンゾキノン（ＤＤＱ）の使用を記
載している。
のジクロロジシアノベンゾキノン（ＤＤＱ）の使用を記
載している。
式（ＩＩ）のアグリコン誘導体の１９位のカルボニル基
は、標準の還元法例えば室温でアルコール性溶媒例えば
メタノール中で水素化はう素ナトリウムを用いて還元さ
れて式（ＩＶ）の化合物を生ずる。
は、標準の還元法例えば室温でアルコール性溶媒例えば
メタノール中で水素化はう素ナトリウムを用いて還元さ
れて式（ＩＶ）の化合物を生ずる。
式（■）の化合物中のＲ３がカルボン酸エステル例えば
メチルエステルのとき、１９位のカルボニル基は選択的
に還元されるか、又は一方エステル官能基の同時還元が
、過剰の還元剤を用いて行われてＲ３とドロキシメチル
を生ずる。
メチルエステルのとき、１９位のカルボニル基は選択的
に還元されるか、又は一方エステル官能基の同時還元が
、過剰の還元剤を用いて行われてＲ３とドロキシメチル
を生ずる。
式（■）の化合物の１９位ヒドロキシル基が、標準のア
ルキル化又はアシル化法を用いて誘導体化されて、Ｘが
水素であｆｉＹがヒドロキシル以外である式（１）の化
合物を生ずる。
ルキル化又はアシル化法を用いて誘導体化されて、Ｘが
水素であｆｉＹがヒドロキシル以外である式（１）の化
合物を生ずる。
ＬがヒドロキシルでありＲ，が水素でありＲ１がカルボ
ン酸基でありｕｓが水素であ）そしてＲ４が水素である
式（ＶＩ）の中間体化合物は天然の生成物であるアンホ
テリシンＢであり市販されている。
ン酸基でありｕｓが水素であ）そしてＲ４が水素である
式（ＶＩ）の中間体化合物は天然の生成物であるアンホ
テリシンＢであり市販されている。
ＬがヒドロキシルでありＲ１及びＲ４が水素である式（
ＶＩ）の他の中間体化合物が、可変基Ｒ２及びＲ１の分
子内変換について前述した方法を用いて天然の生成物か
ら製造できる。Ｒ１及びＲ４が水素でありＬがヒドロキ
シル以外である式（■）の化合物は、Ｒ２がカルボン酸
又はその誘導体である及び／又はＲ３が水素又はアミン
保護基であるアンホテリシ／Ｂの誘導体又はアンホテリ
シンＢのアノマー性１３位ヒドロキシル基の選択的誘導
体化によシ製造できる。例えばＬがアルコキシである式
（ＶＩ）の化合物は、無水の条件下酸触媒例えばカンフ
ァースルホン酸の存在下りがヒドロキシルである式（Ｖ
Ｉ）の化合物と適切なアルコールとの反応によシ製造で
きる。
ＶＩ）の他の中間体化合物が、可変基Ｒ２及びＲ１の分
子内変換について前述した方法を用いて天然の生成物か
ら製造できる。Ｒ１及びＲ４が水素でありＬがヒドロキ
シル以外である式（■）の化合物は、Ｒ２がカルボン酸
又はその誘導体である及び／又はＲ３が水素又はアミン
保護基であるアンホテリシ／Ｂの誘導体又はアンホテリ
シンＢのアノマー性１３位ヒドロキシル基の選択的誘導
体化によシ製造できる。例えばＬがアルコキシである式
（ＶＩ）の化合物は、無水の条件下酸触媒例えばカンフ
ァースルホン酸の存在下りがヒドロキシルである式（Ｖ
Ｉ）の化合物と適切なアルコールとの反応によシ製造で
きる。
Ｒ，及びＲ４がシリル保護基である式（ＶＩ）の化合物
は、アンホテリシンＢ及びその誘導体の選択的シリル化
によシ製造できる。シリル化反応は前述のような標準の
方法を用いて行うことができるが、アノマー性１３位置
換基の除去は、シリル化試薬及び溶媒の好適な選択例え
ば溶媒としてのヘキサン又はジエチルエーテルを用いる
ととくよシ除去される。
は、アンホテリシンＢ及びその誘導体の選択的シリル化
によシ製造できる。シリル化反応は前述のような標準の
方法を用いて行うことができるが、アノマー性１３位置
換基の除去は、シリル化試薬及び溶媒の好適な選択例え
ば溶媒としてのヘキサン又はジエチルエーテルを用いる
ととくよシ除去される。
式（１）の化合物及びその塩は、精製されたアンホテリ
シンＢ及びその誘導体％にアンホテリシンＢの抗かび活
性誘導体の製造における中間体として有用である。
シンＢ及びその誘導体％にアンホテリシンＢの抗かび活
性誘導体の製造における中間体として有用である。
式（至）の化合物及びその製薬上許容しうる塩は、抗か
び剤であり、ヒトを含む動物のかびの感染と対抗するの
に有用な可能性がある。例えばそれらは他の微生物の中
で（：：ａｎｄｉｄａ、 Ｔｒｉｅｈｏｐｈｙｔｏｎ。
び剤であり、ヒトを含む動物のかびの感染と対抗するの
に有用な可能性がある。例えばそれらは他の微生物の中
で（：：ａｎｄｉｄａ、 Ｔｒｉｅｈｏｐｈｙｔｏｎ。
Ｍｉｅｒｏｍｐｏｒｕｍ又ＦｉＥｐｉｄｅｒｍｏｐｈｙ
ｔｏｎ の種によシ生ずるヒトの局所のかびの感染、又
はＣａｎｄｌｄａ ａｌｂｉｅａｎｓ によシ生ずる
粘膜の感染（例えば口腔カンジダ症及び腟カジンダ症）
の治療に有用である可能性がある。それらは又例えばＣ
ａｎｄｉｄａ ａｌｂｉｅａｎｓ、 Ｃｒｙ ｔｏｅｏ
ｅｅｕｓｎｅｏｆｏｒｍａｎｓ、 ＡＩ ＠ｒｇｉｌｌ
ｕ＠ｆｕｍｉｇａｔｕｓ。
ｔｏｎ の種によシ生ずるヒトの局所のかびの感染、又
はＣａｎｄｌｄａ ａｌｂｉｅａｎｓ によシ生ずる
粘膜の感染（例えば口腔カンジダ症及び腟カジンダ症）
の治療に有用である可能性がある。それらは又例えばＣ
ａｎｄｉｄａ ａｌｂｉｅａｎｓ、 Ｃｒｙ ｔｏｅｏ
ｅｅｕｓｎｅｏｆｏｒｍａｎｓ、 ＡＩ ＠ｒｇｉｌｌ
ｕ＠ｆｕｍｉｇａｔｕｓ。
Ｃｏｅｃｉｄｉｏｉｄｅｓ、ｐａｒａｅｏｅｃｌｄｉｏ
ｌｄｅｓ。
ｌｄｅｓ。
生ずる全身性かび感染の治療に用いられる。それらは又
真菌性菌腫、クロモプラストミコーシス及びムフール菌
症の治療に用いられる。
真菌性菌腫、クロモプラストミコーシス及びムフール菌
症の治療に用いられる。
本発明はさらに製薬上許容しうる希釈剤又は担体ととも
に式（Ｖａ） ノキシ及びベンジルオキシであってそのベンゼン環のそ
れぞれは任意にカルボキシ、アルコキシカルボニル、ヒ
ドロキシル、アルキル。アルコキシ。
に式（Ｖａ） ノキシ及びベンジルオキシであってそのベンゼン環のそ
れぞれは任意にカルボキシ、アルコキシカルボニル、ヒ
ドロキシル、アルキル。アルコキシ。
ハロゲン又は任意にＣ重〜、アルキルにより置換されて
いてもよいアミノにより置換されていてもよ〈：又は糖
類の残基： 〔式中％Ｒ，ｄ式（１）について規定した通りであり：
Ｘ及びＹの一つは水素であって他はヒドロキシル；Ｃ１
〜４アルコキシ又Ｉ″ｌ：Ｃ１〜４シクロアルコキシで
あって任意にカルボキシ。アルコキシカルボニル。
いてもよいアミノにより置換されていてもよ〈：又は糖
類の残基： 〔式中％Ｒ，ｄ式（１）について規定した通りであり：
Ｘ及びＹの一つは水素であって他はヒドロキシル；Ｃ１
〜４アルコキシ又Ｉ″ｌ：Ｃ１〜４シクロアルコキシで
あって任意にカルボキシ。アルコキシカルボニル。
ヒドロキシル、アルキル、アルコキシ、ノ１０ゲン又は
任意にＣ１〜。アルキルにより置換されていてもよいア
ミノにより置換されていてもよく；フエＮＨＲ。
任意にＣ１〜。アルキルにより置換されていてもよいア
ミノにより置換されていてもよく；フエＮＨＲ。
（式中Ｂ−ｍｕ水素又はアミン保護基である）であるか
又はＸ及びＹはそれらが結合している炭素原子とともに
カルボニル基である〕 の化合物又はその製薬上許容しうる塩を含む製薬組成物
を提供する。組成物は好ましくは錠剤９ カプセル、注
入形又はクリームでヒトに使用される。
又はＸ及びＹはそれらが結合している炭素原子とともに
カルボニル基である〕 の化合物又はその製薬上許容しうる塩を含む製薬組成物
を提供する。組成物は好ましくは錠剤９ カプセル、注
入形又はクリームでヒトに使用される。
ヒトの用途には、式（Ｖａ）の抗かび化合物（又はその
製薬上許容しうる塩）は、それのみで投与でき喪が、一
般に目的とする投与経路及び標準の製薬上の実施につい
て選択され喪製声上の担体とともに投与される。例えば
それらはでん粉又はラクトースのような添加物を含む錠
剤の形で、又は単独又は添加物との混合でカプセル又は
小球（ｏｖｕｌｅ）の形で、又は香味料又は着色剤を含
むエリキシル又は懸濁液の形で経口投与できる。それら
は非軽口的例えば静脈内。筋肉内又は皮下に注射される
。非経口投与では、それらは他の物質例えば溶液を等張
性にするのに十分な塩又はグルコースを含むことができ
る滅菌水溶液の形で用いるのが最良である。
製薬上許容しうる塩）は、それのみで投与でき喪が、一
般に目的とする投与経路及び標準の製薬上の実施につい
て選択され喪製声上の担体とともに投与される。例えば
それらはでん粉又はラクトースのような添加物を含む錠
剤の形で、又は単独又は添加物との混合でカプセル又は
小球（ｏｖｕｌｅ）の形で、又は香味料又は着色剤を含
むエリキシル又は懸濁液の形で経口投与できる。それら
は非軽口的例えば静脈内。筋肉内又は皮下に注射される
。非経口投与では、それらは他の物質例えば溶液を等張
性にするのに十分な塩又はグルコースを含むことができ
る滅菌水溶液の形で用いるのが最良である。
ヒトの患者に対する経口及び非経口投与では、式（Ｖａ
）の抗かび化合物の１日当りの投与ｔｈ、経口又は非経
口の経路で投与されるとき０．１〜１＝ｖ／Ｋｇ（分割
された投与物で）であろうことが予想される。従って化
合物の錠剤又はカプセルは、必要に応じて一時に１例文
Ｆ１２個又はそれ以上投与のために５η〜０．５Ｆの活
性化合物を含むことが予惣されろ。いつでも医者は、個
々の患者に最も好適でありそして特定の患者の年令、体
重及び症状によシ変化する実際の投与量を決定するだろ
う。上述の投与量は平均な場合の例示である。もちろん
、よシ多い又はよシ少い投与量の範囲が良い個々の場合
があり、そしてこれは本発明の範囲内である。
）の抗かび化合物の１日当りの投与ｔｈ、経口又は非経
口の経路で投与されるとき０．１〜１＝ｖ／Ｋｇ（分割
された投与物で）であろうことが予想される。従って化
合物の錠剤又はカプセルは、必要に応じて一時に１例文
Ｆ１２個又はそれ以上投与のために５η〜０．５Ｆの活
性化合物を含むことが予惣されろ。いつでも医者は、個
々の患者に最も好適でありそして特定の患者の年令、体
重及び症状によシ変化する実際の投与量を決定するだろ
う。上述の投与量は平均な場合の例示である。もちろん
、よシ多い又はよシ少い投与量の範囲が良い個々の場合
があり、そしてこれは本発明の範囲内である。
一方、式（Ｖａ）の抗かび化合物は廃剤又はペッサリー
の形で投与できるか、又はそれらはローション、溶液、
クリーム、軟膏又は粉末の形で局所的に適用できる。例
えばそれらはポリエチレングリコール又は液状パラフィ
ンの水性エマルションよシなるクリームに混入されるか
、又はそれらは必要に応じて安定剤及び保存料とと本に
白色ワックス又は白色のソフトパラフィン基剤よりなる
軟膏に１〜１０チの濃度で混入される。
の形で投与できるか、又はそれらはローション、溶液、
クリーム、軟膏又は粉末の形で局所的に適用できる。例
えばそれらはポリエチレングリコール又は液状パラフィ
ンの水性エマルションよシなるクリームに混入されるか
、又はそれらは必要に応じて安定剤及び保存料とと本に
白色ワックス又は白色のソフトパラフィン基剤よりなる
軟膏に１〜１０チの濃度で混入される。
指示された投与量の範囲内で有害な毒性掌上の効果は本
発明の化合物について観察されず、その効果はかびの感
染の治療の大めに適当な患者へのその投与を妨げるもの
である。
発明の化合物について観察されず、その効果はかびの感
染の治療の大めに適当な患者へのその投与を妨げるもの
である。
本発明はさらに治療物質として用いられる特にかびの感
染の治療に用いられる式（ｖ＆）の化合物又はその製薬
上許容しうる塩を提供する。
染の治療に用いられる式（ｖ＆）の化合物又はその製薬
上許容しうる塩を提供する。
本発明はその上ヒトを含む動物のがびの感染の治療法を
提供し、それは動物に有効な抗かび量の式（Ｖａ）の化
合物又はその製薬上許容しうる塩を投与することよシな
る。
提供し、それは動物に有効な抗かび量の式（Ｖａ）の化
合物又はその製薬上許容しうる塩を投与することよシな
る。
本発明は又活性な治療物質として特にヒトを含む動物の
かびの感染の治療に用いられる薬剤の製造のための式（
Ｖａ）の化合物又はその製薬上許容しうる塩の用途を提
供する。
かびの感染の治療に用いられる薬剤の製造のための式（
Ｖａ）の化合物又はその製薬上許容しうる塩の用途を提
供する。
下記の参考例は、本発明への新規な中間体の製造を説明
する。下記の実施例１〜２２は本発明の化合物の製造を
説明し、そして実施例２３は精製されたアンホテリシン
Ｂの製造における本発明の化合物の有用性を説明する。
する。下記の実施例１〜２２は本発明の化合物の製造を
説明し、そして実施例２３は精製されたアンホテリシン
Ｂの製造における本発明の化合物の有用性を説明する。
参考例Ｉ
Ｎ−アセチル−１３−０−メチルーアンホテリシンＢ
（ＤＩ） Ｎ−アセチルアンホテリシンＢ（Ｎｌｅｏｌａｏｕら、
Ｊ、 Ａｍｅｒｉｅａｎ Ｃｈｅｍ、３ｏｃ、、 、、
ＬＬＱ、 ４６６０．（１９８０））（６９７ａｖ、０
−７１ｍモル）及び無水ｄ−１０−カンファースルホン
酸（５７，５ｗｑ、 ０．２５ ｍモル）を０．５時間
窒素下室温で乾燥メタノール（１５ｍｇ）及び乾燥テト
ラヒドロフラン（２，５ｍ）の混合物中で攪拌し虎。ト
リエチルアミ７Ｃ２６ＴＭｆ、 ｏ、ｏｓ６Ｗ＃ｔ。
（ＤＩ） Ｎ−アセチルアンホテリシンＢ（Ｎｌｅｏｌａｏｕら、
Ｊ、 Ａｍｅｒｉｅａｎ Ｃｈｅｍ、３ｏｃ、、 、、
ＬＬＱ、 ４６６０．（１９８０））（６９７ａｖ、０
−７１ｍモル）及び無水ｄ−１０−カンファースルホン
酸（５７，５ｗｑ、 ０．２５ ｍモル）を０．５時間
窒素下室温で乾燥メタノール（１５ｍｇ）及び乾燥テト
ラヒドロフラン（２，５ｍ）の混合物中で攪拌し虎。ト
リエチルアミ７Ｃ２６ＴＭｆ、 ｏ、ｏｓ６Ｗ＃ｔ。
０．２６ｍモル）を加え、混合物を約３１ｍ１に濃縮し
そしてジエチルエーテル（４００ｍｇ）に加えた。沈で
んをＰ遇し酢酸エチルによ）洗って黄色の粉末として表
題化合物を得た。
そしてジエチルエーテル（４００ｍｇ）に加えた。沈で
んをＰ遇し酢酸エチルによ）洗って黄色の粉末として表
題化合物を得た。
ＵＰ １ ｅ ：逆相０ＤＳ５戸２５０ｘ４．６−カラ
ム；溶離１７８ｆｉメタノール・２２チｐＨ３ホスフエ
ートバツフアー１−／分；検出波長３６’Ｏｗｍ ”、
保持時間４．８分。
ム；溶離１７８ｆｉメタノール・２２チｐＨ３ホスフエ
ートバツフアー１−／分；検出波長３６’Ｏｗｍ ”、
保持時間４．８分。
参考例２
方法人
乾燥ジメチルスルホキシド（５０ｍ）及び乾燥メタノー
ル（１５ｍ）中のアンホテリシンＢ（５，０ｔ＊５．４
ｒｎモル）の溶液に、乾燥ピリジン（０，５３ｄ、６．
５ｍモル）を加えた。窒素雰囲気下回体Σシ（９−フル
オレニルメトキシカルボニルオキシ）サクシンイミド（
２−５９ｆ、７．６ｍモル）を加えた。１時間攪拌後Ｎ
−（９＝、フルオレニルメトキシカルボニルオキシ）サ
クシンイミド（ｏ、２ｓｒ。
ル（１５ｍ）中のアンホテリシンＢ（５，０ｔ＊５．４
ｒｎモル）の溶液に、乾燥ピリジン（０，５３ｄ、６．
５ｍモル）を加えた。窒素雰囲気下回体Σシ（９−フル
オレニルメトキシカルボニルオキシ）サクシンイミド（
２−５９ｆ、７．６ｍモル）を加えた。１時間攪拌後Ｎ
−（９＝、フルオレニルメトキシカルボニルオキシ）サ
クシンイミド（ｏ、２ｓｒ。
０．８ｍモル）をさらに加え虎。さらにＱ−・２５時間
抜氷酢酸（０，５ｍ、 ８．７ｍモル）を加え、溶液
をメタノール（３５ＷＩｔ）ｌ（より希釈しセしてジエ
チルエーテルＣ５１）ＩＣ注いだ。沈でんを濾過し、ジ
エチルエーテルによシ洗いそして乾燥して表題化合物（
Ｄ２−）が得られ、それをさらに精製することなく用い
た。
抜氷酢酸（０，５ｍ、 ８．７ｍモル）を加え、溶液
をメタノール（３５ＷＩｔ）ｌ（より希釈しセしてジエ
チルエーテルＣ５１）ＩＣ注いだ。沈でんを濾過し、ジ
エチルエーテルによシ洗いそして乾燥して表題化合物（
Ｄ２−）が得られ、それをさらに精製することなく用い
た。
方法Ｂ
０℃で窒素雰囲気下乾燥ジメチルスルホキシド（１０ｍ
）及び乾燥メタノール（２ｍ）中のアンホテリシンＢ
（０，５０ｆ、 ０．５４ｍモル） 及び無水炭酸カリ
ウム（０，１７ｆ、 １２ｍ−ｖ−ル） ｆ）溶液に
、固体９−フルオレニルメチルクロロホルメート（０，
２１ｔ、 ０４１ｍモル）を加え穴。１時間攪拌後９
−フルオレニルメチルクロロホルメート（０，０４Ｆ、
０−１７ｍモル）をさらに加えた。０．２５時間後反応
混合物を蒸留水（２０ｏ＊）に注いだ。
）及び乾燥メタノール（２ｍ）中のアンホテリシンＢ
（０，５０ｆ、 ０．５４ｍモル） 及び無水炭酸カリ
ウム（０，１７ｆ、 １２ｍ−ｖ−ル） ｆ）溶液に
、固体９−フルオレニルメチルクロロホルメート（０，
２１ｔ、 ０４１ｍモル）を加え穴。１時間攪拌後９
−フルオレニルメチルクロロホルメート（０，０４Ｆ、
０−１７ｍモル）をさらに加えた。０．２５時間後反応
混合物を蒸留水（２０ｏ＊）に注いだ。
沈でんを遠心分離により集め、メタ゛ノールに溶Ｓしそ
して真空下蒸発した。残査を最低量のテトラヒドロフラ
ン及びメタノール（１：１）の混合物に溶解しそして蒸
留水（２００ｍｇ、氷酢酸の添加によ！７ｐＨ３，２に
調節）に注いだ。沈でんを遠心分離し、水洗しそして真
空下乾燥して表題化合物が得られ、それをさらに精製す
ることなく用い念。
して真空下蒸発した。残査を最低量のテトラヒドロフラ
ン及びメタノール（１：１）の混合物に溶解しそして蒸
留水（２００ｍｇ、氷酢酸の添加によ！７ｐＨ３，２に
調節）に注いだ。沈でんを遠心分離し、水洗しそして真
空下乾燥して表題化合物が得られ、それをさらに精製す
ることなく用い念。
参考例３
ンホテリシンＢメチルエステル（Ｄ３ ）粗Ｎ＝（９−
フルオレニルメトキシカルボニル）アンホテリシンＢ
（Ｄ２）（０，３６Ｆ、０．３１ｍモル）を１：１ジメ
チルスルホキシド及びメタノール（２０ｍ）に溶解した
。０℃でしかも攪拌しつつ、ジエチルエーテル（２５ｍ
）中のジアゾメタンの溶液を０．３時間かけて加えた。
フルオレニルメトキシカルボニル）アンホテリシンＢ
（Ｄ２）（０，３６Ｆ、０．３１ｍモル）を１：１ジメ
チルスルホキシド及びメタノール（２０ｍ）に溶解した
。０℃でしかも攪拌しつつ、ジエチルエーテル（２５ｍ
）中のジアゾメタンの溶液を０．３時間かけて加えた。
ジアゾメタンは、Ｄｉａｚａｌｄ（商標）（０，３９ｒ
、Ｌ８ｒｎモル）； 水酸化カリウＡ （０，１８ｆ、
３．２ｍモル）： 水（１−）２ｔ［２−（２−工
）＝キ、シェド・キ、シ）−エタノール（２−）から発
生した。反応物をさらに１．５時間攪拌し次に氷酢酸に
よシ注意しつつ停止した。生成物はジエチルエーテルに
注ぐことによシ沈でんした。それを遠心分離により集め
、ジエチルエーテルにより洗い、メタノールに溶解しそ
して真空下蒸発した。
、Ｌ８ｒｎモル）； 水酸化カリウＡ （０，１８ｆ、
３．２ｍモル）： 水（１−）２ｔ［２−（２−工
）＝キ、シェド・キ、シ）−エタノール（２−）から発
生した。反応物をさらに１．５時間攪拌し次に氷酢酸に
よシ注意しつつ停止した。生成物はジエチルエーテルに
注ぐことによシ沈でんした。それを遠心分離により集め
、ジエチルエーテルにより洗い、メタノールに溶解しそ
して真空下蒸発した。
粗生成物を酢酸エチル／メタノール混合物によシ溶離す
るシリカゲルの中圧カラムクロマトグラフィによシ精製
した。表題化合物（Ｄ３）を黄色の固体として得六。
るシリカゲルの中圧カラムクロマトグラフィによシ精製
した。表題化合物（Ｄ３）を黄色の固体として得六。
δＨ２７０ＭＨｚ （ｄｉ ＴＨＦ／ｄ４−Ｍ＠ＯＨ）
７．７８ （２Ｈ，ｄ。
７．７８ （２Ｈ，ｄ。
Ｊ６゜９Ｈｚ）、７．７０（２Ｈ，ｄ、Ｊ ７．４Ｈｚ
）、７．３５（２Ｈ，ｄｄ、Ｊ７．４及び６．３Ｈｚ）
、 ７．２８・（２Ｈ，ｔ、 ７．４Ｈｚ ）、 ６．
６３−５．９３ （１３Ｈ，コンプレックス）、５．５
０（ＩＨ，！９）、５．３２＜ＩＨ，ｄｄ、Ｊ １０．
２及び１４．８Ｈｚ）。
）、７．３５（２Ｈ，ｄｄ、Ｊ７．４及び６．３Ｈｚ）
、 ７．２８・（２Ｈ，ｔ、 ７．４Ｈｚ ）、 ６．
６３−５．９３ （１３Ｈ，コンプレックス）、５．５
０（ＩＨ，！９）、５．３２＜ＩＨ，ｄｄ、Ｊ １０．
２及び１４．８Ｈｚ）。
４．７５−４．０４（ＩＯＨ，コンプレックス）、
３．９０−３．００（８Ｈ，ｙ）’プレックス）、３．
７４（３Ｌ ｆｉ）、２．５０−１．１５ （１９Ｈ，
コンプレックス）ｅ １．２８（３Ｈ，ｄ、 Ｊ６．
２Ｈｚ）、１．２０（３Ｈ，ｄ、Ｊ ６．３Ｈｚ）、１
．１０（３Ｈ。
３．９０−３．００（８Ｈ，ｙ）’プレックス）、３．
７４（３Ｌ ｆｉ）、２．５０−１．１５ （１９Ｈ，
コンプレックス）ｅ １．２８（３Ｈ，ｄ、 Ｊ６．
２Ｈｚ）、１．２０（３Ｈ，ｄ、Ｊ ６．３Ｈｚ）、１
．１０（３Ｈ。
ｄ、 Ｊ ６．３Ｈｚ ）及び０．９９（３Ｈ，ｄ、
Ｊ ７．２Ｈｚ）ｐｐｍ−参考例４ Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）アンホテ
リシンＢ （Ｄ２） （Ｌ８５ ｔ、 １．６１ｍモル
）及びｄ−１０−カンファースルホン酸（１５６Ｈ！。
Ｊ ７．２Ｈｚ）ｐｐｍ−参考例４ Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）アンホテ
リシンＢ （Ｄ２） （Ｌ８５ ｔ、 １．６１ｍモル
）及びｄ−１０−カンファースルホン酸（１５６Ｈ！。
０．６７ｍモル）を窒素下室温で乾燥テトラヒドロフラ
ン（１０／）／メタノール（６０ｍ／）中で攪拌り、７
ｔ。１５分後、トリエチルアミン（０，１４ｉａｇ。
ン（１０／）／メタノール（６０ｍ／）中で攪拌り、７
ｔ。１５分後、トリエチルアミン（０，１４ｉａｇ。
１０２＊、 １．０１ｍモル）を加え、［ｌを濾過し
、約１０−に濃縮しそしてジエチルエーテル／ｎ−ヘキ
サン（８００Ｈ！、１：１）に注いだ。沈でんした生成
物を遠心分離によシ集め、ジエチルエーテル／酢酸エチ
ル（１：１）により洗いそして乾燥して黄色の粉末とし
て表題化合物（Ｄ４）を得た。
、約１０−に濃縮しそしてジエチルエーテル／ｎ−ヘキ
サン（８００Ｈ！、１：１）に注いだ。沈でんした生成
物を遠心分離によシ集め、ジエチルエーテル／酢酸エチ
ル（１：１）により洗いそして乾燥して黄色の粉末とし
て表題化合物（Ｄ４）を得た。
Ｈｐ １ ｃ ：逆相０Ｄ８５μ２５０Ｘ４−６■カラ
ム；溶離液８０％メタノール−２０％ｐＨ３ホスフエー
トバツフアー１−／分署検出波長３５９ｎｍ：保持時間
７．６分 参考例５ 乾燥ジメチルホルムアミド（１００ｄ）／メタノール（
１０ｍｇ）中のアンホテリシンＢ（２，２Ｏｆ、２．３
８ｍモル）、エチルトリーフルオロアセテ−） （０，
５１Ｆ、 ０．４３＋＋＋Ｊ、 ３．５７ｍモル）及
びジイソプロピルエチルアミン（０，４６Ｆ、 ０．６
２ｍ、 ３．５７ｍモル）の混合物を窒素下室銀で攪拌
し念。１晩攪拌後混合物を氷酢酸（約ｉｍ／）を含むジ
エチルエーテル（４ｔ）に注いだ。沈でんし光固体を濾
過によシ集めジエチルエーテル及び酢酸エチルによシ洗
い、乾燥して褐色の粉末として表題化合物（Ｄ５）を得
た。
ム；溶離液８０％メタノール−２０％ｐＨ３ホスフエー
トバツフアー１−／分署検出波長３５９ｎｍ：保持時間
７．６分 参考例５ 乾燥ジメチルホルムアミド（１００ｄ）／メタノール（
１０ｍｇ）中のアンホテリシンＢ（２，２Ｏｆ、２．３
８ｍモル）、エチルトリーフルオロアセテ−） （０，
５１Ｆ、 ０．４３＋＋＋Ｊ、 ３．５７ｍモル）及
びジイソプロピルエチルアミン（０，４６Ｆ、 ０．６
２ｍ、 ３．５７ｍモル）の混合物を窒素下室銀で攪拌
し念。１晩攪拌後混合物を氷酢酸（約ｉｍ／）を含むジ
エチルエーテル（４ｔ）に注いだ。沈でんし光固体を濾
過によシ集めジエチルエーテル及び酢酸エチルによシ洗
い、乾燥して褐色の粉末として表題化合物（Ｄ５）を得
た。
Ｈｐ １ ｅ ：逆相０ＤＳ５ｐ２５０Ｘ４．６ｍカラ
ム；溶離液７８チメタノール・２２％ｐＨ３ホｘフ工−
トバツフアー１ｓｇ／分；検出波長３５０ ｎ ｍ ：
保持時間７．９分。
ム；溶離液７８チメタノール・２２％ｐＨ３ホｘフ工−
トバツフアー１ｓｇ／分；検出波長３５０ ｎ ｍ ：
保持時間７．９分。
δＨ２７Ｇ Ｍ Ｈｚ （ｄ ４−メタノール／ ｄ
＠−ピリジ／１：１）６．７５−６．２３ （１３Ｈ，
ｍのシリーズ）ｅ ５．７５−５．４０（２Ｈ，ｍ、部
分的に溶媒のビークによシマスフされる入５．０−４．
６０（５Ｈ，ｍのシリーズ）ｅ ４４９（ＩＨ，ｍ、）
。
＠−ピリジ／１：１）６．７５−６．２３ （１３Ｈ，
ｍのシリーズ）ｅ ５．７５−５．４０（２Ｈ，ｍ、部
分的に溶媒のビークによシマスフされる入５．０−４．
６０（５Ｈ，ｍのシリーズ）ｅ ４４９（ＩＨ，ｍ、）
。
４．３７（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ ３．０，１０．５Ｈｚ）、
４．２７（ＩＨ，ｄ。
４．２７（ＩＨ，ｄ。
Ｊ ３．０Ｈｚ）、４．０５−３．８０（３Ｈ，ｍ）
、３．５７（ＩＨ，ｍ入３．４５−Ｌ３０（２Ｈ，ｍ）
、２．７０−２．３０（６Ｈ，ｍのシリーズ）、２．２
８−１．３０（１３Ｈ，ｍのシリーズ）、 １．４３
（３Ｈ，ｄ、Ｊ ６．３Ｈｚ）、１．３６（３Ｈ，ｄ、
Ｊ６−６Ｈｚ）。
、３．５７（ＩＨ，ｍ入３．４５−Ｌ３０（２Ｈ，ｍ）
、２．７０−２．３０（６Ｈ，ｍのシリーズ）、２．２
８−１．３０（１３Ｈ，ｍのシリーズ）、 １．４３
（３Ｈ，ｄ、Ｊ ６．３Ｈｚ）、１．３６（３Ｈ，ｄ、
Ｊ６−６Ｈｚ）。
１．２５（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．３Ｈｚ）、 １．１８
（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ７．２Ｈｚ）、 ｐｐｍ。
（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ７．２Ｈｚ）、 ｐｐｍ。
ＩＲ’ｍａｚ（ＫＢｒディスク）： ３４００（ブロー
ド）。
ド）。
２９２０．１７２０，１５５２，１３７９，１３２３，
１１７２゜１ ０ ６ ３、 １ ０１０． ８８
３． ８４ ７． ７９ ５ｃＭ−重実施例Ｉ Ｎ−アセチル−３，５，８，９，１１，１５，３５，２
’。
１１７２゜１ ０ ６ ３、 １ ０１０． ８８
３． ８４ ７． ７９ ５ｃＭ−重実施例Ｉ Ｎ−アセチル−３，５，８，９，１１，１５，３５，２
’。
４′−ノナ−０−トリメチルシリル−１３１４−アンヒ
ドロアンホテリシンＢメチルエ・ステル（Ｅｌ）窒素雰
囲気下θ℃で乾燥ジクロロメタン（１０−）に懸濁した
Ｎ−アセチルアンホテリシンＢメチルエステル（Ｎｉｅ
ｏｌａｏｕら、Ｊ、ＡｍＩｒ１ｅａｎＣｈｅｒｎ、Ｓｏ
ｅ、、 １１０．４６６０． （１９８ｇ）） （０−
３１０，３０６ｍモル）を２． ６−ルチジ／（０−６
Ｇ５１１ｔ。
ドロアンホテリシンＢメチルエ・ステル（Ｅｌ）窒素雰
囲気下θ℃で乾燥ジクロロメタン（１０−）に懸濁した
Ｎ−アセチルアンホテリシンＢメチルエステル（Ｎｉｅ
ｏｌａｏｕら、Ｊ、ＡｍＩｒ１ｅａｎＣｈｅｒｎ、Ｓｏ
ｅ、、 １１０．４６６０． （１９８ｇ）） （０−
３１０，３０６ｍモル）を２． ６−ルチジ／（０−６
Ｇ５１１ｔ。
５．１９ｍモル）によυ処理し、次にトリメチルシリル
トリフルオロメタンスルホ＊ −ト（０，７７ＷＩｔ。
トリフルオロメタンスルホ＊ −ト（０，７７ＷＩｔ。
３．９８ｍモル）を滴下し穴。溶液を０．５時間攪拌し
そして次に真空下蒸発した。
そして次に真空下蒸発した。
組物質をニーヘキサン及びニーヘキサン／酢酸エチル混
合物によシ溶離するシリカゲルの中圧カラムクロマトグ
ラフィによシ精製し虎。
合物によシ溶離するシリカゲルの中圧カラムクロマトグ
ラフィによシ精製し虎。
表題化合物（Ｅｌ）をオレンジ色のガムとして得て、そ
れを高真空上貯蔵してすべての残存２゜６−ルチジンを
除いた。
れを高真空上貯蔵してすべての残存２゜６−ルチジンを
除いた。
スｍａｘ（ＣＨＣｌ、） ４１０ｎｍ： ｏｍａｘ（Ｃ
ＨＣＩＢ ） ２９５０゜１？２５，１６７０，１３７
０，１２４５，１１６０，１１００゜１０７０．１００
０及び８４０ｅｓ−” ：δＨ（４００ＭＨｚ） （（
ＣＤｓ）２ＣＯ） ６．７２ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ９．３
Ｈｚ）、６．４９−６．１１（１２Ｈ，＝ｙｙプレック
ス）。
ＨＣＩＢ ） ２９５０゜１？２５，１６７０，１３７
０，１２４５，１１６０，１１００゜１０７０．１００
０及び８４０ｅｓ−” ：δＨ（４００ＭＨｚ） （（
ＣＤｓ）２ＣＯ） ６．７２ （ＩＨ，ｄ、 Ｊ９．３
Ｈｚ）、６．４９−６．１１（１２Ｈ，＝ｙｙプレック
ス）。
５．８９（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ ６．０及び１５．１Ｈｚ
）、 ５．６１ （ＩＨ。
）、 ５．６１ （ＩＨ。
ｄｄ、 Ｊ ９．２及び１４．８Ｈｚ）、４．９０（
ＩＨ，ａｔ）、４．６８（ＩＨ，ｄｄ、Ｊｌ、５及び８
．８Ｈｚ）、４．６２（ＩＨ，ｍ）。
ＩＨ，ａｔ）、４．６８（ＩＨ，ｄｄ、Ｊｌ、５及び８
．８Ｈｚ）、４．６２（ＩＨ，ｍ）。
４．５５（ＩＨ，ｄ、 Ｊ ｔ−ｏａｚ）ｓ ４．５
０（ＩＨ，ｄ、 Ｊ １．７Ｈｚ）、４．１８（２Ｈ，
ｍ）、３．９８（２Ｈ，ｍ）、３．８８（３Ｈ，ｍ）、
３．７１（３Ｈ，ｓ）、３．６６（２Ｈ，ｍ）。
０（ＩＨ，ｄ、 Ｊ １．７Ｈｚ）、４．１８（２Ｈ，
ｍ）、３．９８（２Ｈ，ｍ）、３．８８（３Ｈ，ｍ）、
３．７１（３Ｈ，ｓ）、３．６６（２Ｈ，ｍ）。
３．４６ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ ９．７及び９．０Ｈｚ
）、 ３．３１ （Ｉ Ｈ，ｄｑ。
）、 ３．３１ （Ｉ Ｈ，ｄｑ。
５６．１及び９．０Ｈｚ）、 ２．５６ （ＩＨ，ｄ
ｄ、 Ｊ ８．８及び１０．９Ｈｚ）、 ２．４７（
２Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．３Ｈｚ）、 ２．４２゜（ＩＨ，
ｂｑ、Ｊ６．８及び８．９Ｈｚ）、２−１２（２Ｈ，ｍ
）。
ｄ、 Ｊ ８．８及び１０．９Ｈｚ）、 ２．４７（
２Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．３Ｈｚ）、 ２．４２゜（ＩＨ，
ｂｑ、Ｊ６．８及び８．９Ｈｚ）、２−１２（２Ｈ，ｍ
）。
２．０２（ＩＨ，ｍ）、 ２．００−１．８４ （７Ｈ
，ｍ、−：２ンプレツクス）、１７５−Ｌ５９（３Ｉ（
、コンプレックス）、１．５８−１．４０ （３Ｈ，コ
ンプレックス）、 １．１９（３Ｈ，ｄ、Ｊ６、ＩＨ
り、１．１６（３Ｈ，ｄ、Ｊ６．２Ｈｚ）ｅ ＬＯ３
（３Ｈ。
，ｍ、−：２ンプレツクス）、１７５−Ｌ５９（３Ｉ（
、コンプレックス）、１．５８−１．４０ （３Ｈ，コ
ンプレックス）、 １．１９（３Ｈ，ｄ、Ｊ６、ＩＨ
り、１．１６（３Ｈ，ｄ、Ｊ６．２Ｈｚ）ｅ ＬＯ３
（３Ｈ。
ｄ、Ｊ ６．７Ｈｚ）、０．９６（３Ｈ，ｄ、Ｊ ７
．ＩＨｚ）。
．ＩＨｚ）。
０．１５９（９Ｈ，ｆｉ）、０．１５７（９Ｈ，ＩＩ）
、０．１５４（９Ｈ。
、０．１５４（９Ｈ。
ｓ）、０．１４２（９Ｈ，ａ）、０．１３６（９Ｈ，ｓ
）、０．１３２（９Ｈ，ｓ）、０．１１８（９Ｈ，ｍ）
、０−０８９（９Ｈ，ａ）。
）、０．１３２（９Ｈ，ｓ）、０．１１８（９Ｈ，ｍ）
、０−０８９（９Ｈ，ａ）。
及び０．０７０ （９Ｈ，ｌ ”） ＰＰｍ。
質量スペクトル： ＦＡＢ（３−ＮＯＢＡマトリックス
）同位体クラスター存在度計算。質量１６１２，４強度
１００．質量１６１３．チ強度９１．６゜Ｈｐ １ ｅ
：正常相、 Ｗａｔｅｒ＋ｓ Ｚ−モジュール放射状
圧縮シリカカラム。
）同位体クラスター存在度計算。質量１６１２，４強度
１００．質量１６１３．チ強度９１．６゜Ｈｐ １ ｅ
：正常相、 Ｗａｔｅｒ＋ｓ Ｚ−モジュール放射状
圧縮シリカカラム。
溶離液：ｎ−へキサン中１８チ酢酸エチル。流速：３−
７７分。４０６ｎｍ で検出。保持時間＝６．２分。
７７分。４０６ｎｍ で検出。保持時間＝６．２分。
実施例２
ヒト０−１９−ケトーア／ホテロノライドＢメチルエス
テル（Ｆ３２） 乾燥テトラヒドロフラン（２ｍ＞中のΣ−アセチルーａ
、ｓ；ｓ、９．１１．１５． ａｓ、 ２Ｓ ４′−ノ
ナー皇−トリメチルシリルー１３．１４−アンヒドロア
ンホテリシンＢメチルエステル（Ｅｌ） （０，１４ｔ
。
テル（Ｆ３２） 乾燥テトラヒドロフラン（２ｍ＞中のΣ−アセチルーａ
、ｓ；ｓ、９．１１．１５． ａｓ、 ２Ｓ ４′−ノ
ナー皇−トリメチルシリルー１３．１４−アンヒドロア
ンホテリシンＢメチルエステル（Ｅｌ） （０，１４ｔ
。
０．０８７ｍモル）を乾燥デトラヒドロフラン（２１Ｒ
ｔ）中の２．３−ジクロロ−５，６−ジシアツー１゜４
−ベンゾキノン（２０〜、０．０８８ｔａモル）の溶液
により処理した。混合物を１．７５時間攪拌し次ＫＸ２
下蒸発した。粗生成物をｎ−ヘキサン及びｎ−ヘキサン
／酢酸エチル混合物によシ溶離するシリカゲルの中圧カ
ラムクロマトグラフィを用いて精製しブと。表題化合物
（Ｅ２）がオレンジ色のガムとして得られ六。
ｔ）中の２．３−ジクロロ−５，６−ジシアツー１゜４
−ベンゾキノン（２０〜、０．０８８ｔａモル）の溶液
により処理した。混合物を１．７５時間攪拌し次ＫＸ２
下蒸発した。粗生成物をｎ−ヘキサン及びｎ−ヘキサン
／酢酸エチル混合物によシ溶離するシリカゲルの中圧カ
ラムクロマトグラフィを用いて精製しブと。表題化合物
（Ｅ２）がオレンジ色のガムとして得られ六。
２ｍ１Ｌｚ（ｃａｃｉ、）４３０ｎｍ： ｏｍａｘ（Ｃ
５１Ｃ１ｍ）２９５０．１７３０（ａｈ）、１７２５．
１７１０（ｓｈ）。
５１Ｃ１ｍ）２９５０．１７３０（ａｈ）、１７２５．
１７１０（ｓｈ）。
１６３０．１５９０，１５４０，１３５０，１３００，
１２４０゜１１６０．１１５０，１０７０，１０１０，
８７０，８４０倒−１；δＨ（４００ＭＨｚ）（（ＣＤ
３）２ＣＯ）７．５５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ１５．６及び１
１．０Ｈｚ）、 ７．１１（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ１４．６
及び１１．１Ｈｚ）、６．７４（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ １４
．６及び１０．５Ｈｚ）。
１２４０゜１１６０．１１５０，１０７０，１０１０，
８７０，８４０倒−１；δＨ（４００ＭＨｚ）（（ＣＤ
３）２ＣＯ）７．５５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ１５．６及び１
１．０Ｈｚ）、 ７．１１（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ１４．６
及び１１．１Ｈｚ）、６．７４（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ １４
．６及び１０．５Ｈｚ）。
６．５５（２Ｈ，２ｘｄｄ、Ｊ １４．５及び１１．
０及びＪ１４．５及び１１．３Ｈｚ）、６．４３（ＩＨ
，ｄｄ、Ｊ １４．７及び１１．１Ｈｚ）。
０及びＪ１４．５及び１１．３Ｈｚ）、６．４３（ＩＨ
，ｄｄ、Ｊ １４．７及び１１．１Ｈｚ）。
６．４０（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ １４．８ 及び１
１．１Ｈｚ）、 ６．３４（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ
１４．６及び１１．０Ｈｚ）、６−２９（ＩＨ，ｄｄ。
１．１Ｈｚ）、 ６．３４（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ
１４．６及び１１．０Ｈｚ）、６−２９（ＩＨ，ｄｄ。
Ｊ１４．６及び１１．３Ｈｚ ）、 ６．２８−６．
１５ （３Ｈ，ｍ）。
１５ （３Ｈ，ｍ）。
６．１０（ＩＨ，ｄ、Ｊ １５．８Ｈｚ）、５．５５（
ＩＨ，ｄｄ、Ｊ１４．７及び９．６Ｈｚ ）、 ４４
８ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ ８．４及び１．８Ｈｚル４
．６３（ＩＨ，ｍ）、４．５７（ＩＨ，ｄ、Ｊ １．
９Ｈｚ）、４．０８（ＩＨ，ｍ、 Ｊ １０．２及
び１．２Ｈｚ ）ｓ ４．０７ （ＩＨ，ｍ）。
ＩＨ，ｄｄ、Ｊ１４．７及び９．６Ｈｚ ）、 ４４
８ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ ８．４及び１．８Ｈｚル４
．６３（ＩＨ，ｍ）、４．５７（ＩＨ，ｄ、Ｊ １．
９Ｈｚ）、４．０８（ＩＨ，ｍ、 Ｊ １０．２及
び１．２Ｈｚ ）ｓ ４．０７ （ＩＨ，ｍ）。
４．０２（ＬＨ，ｍ）、３．８８（１）（、ｍ）、３．
７５（ＩＨ，ｄｄ。
７５（ＩＨ，ｄｄ。
Ｊ８．８及び２．８Ｈｚ）、 ３．７１ （３Ｈ，８）
ｅ ３．７０ （ＩＨ。
ｅ ３．７０ （ＩＨ。
ｍ）、３．６０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ １０．２及び４．６
Ｈｚ）、 ３．２１（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ １２．８及び
１０．１ Ｈｚ ）、 ２−５８ （ＩＨ。
Ｈｚ）、 ３．２１（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ １２．８及び
１０．１ Ｈｚ ）、 ２−５８ （ＩＨ。
ｄｄ、 Ｊ １０．４及び８．５Ｈｚ）、 ２．５２
（ＩＩ（、ｄ、 Ｊ ２．ＯＨｚ ）。
（ＩＩ（、ｄ、 Ｊ ２．ＯＨｚ ）。
２．５０（ＩＨ，ｄ、Ｊ ３．９Ｈｚ）、２−４０（
ＩＨ，ｍ）、２．３１（ＩＨ，ｄ、Ｊ １１．９Ｈ１
）、２．２０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ１２．９及び１．６Ｈｚ
）ｔ ２．０６ （ＩＨ，ｍ）、 １．９０−１．７
８ （３Ｈ。
ＩＨ，ｍ）、２．３１（ＩＨ，ｄ、Ｊ １１．９Ｈ１
）、２．２０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ１２．９及び１．６Ｈｚ
）ｔ ２．０６ （ＩＨ，ｍ）、 １．９０−１．７
８ （３Ｈ。
ｍ）、１．７２−１．５２（６Ｈ，ｍ）、１．３９（Ｉ
Ｈ，ｍ）。
Ｈ，ｍ）。
１．１２（３Ｈ，ｄ、 Ｊ６．ＩＨｚ）、 ０．９
８（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．７Ｈ１）、０．９３（３
Ｈ，ｄ、Ｊ７．０Ｈｚ）及び０．２−０．０５（６３Ｈ
，７ｘｔｓ ） ｐｐｍ。
８（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．７Ｈ１）、０．９３（３
Ｈ，ｄ、Ｊ７．０Ｈｚ）及び０．２−０．０５（６３Ｈ
，７ｘｔｓ ） ｐｐｍ。
質量スペクトル： Ｆ’ＡＢ（３−ＮＯＢＡナトリウム
マトリックス）実測質量１２９９，１３００．計算質量
（ＣａｓＨｘｔ〒Ｏｔｓ Ｓｉｔ Ｎａとして）１３０
００Ｈｐ １ ｅ ：正常相、Ｗａｔｅｒｉ Ｚ−モジ
ュール放射状圧縮シリカカラム。溶離液：１３．３％酢
酸エチル（ｎ−ヘキサン中）。流速：３−７分。４０６
ｎｍで検出。保持時間：３．６分。
マトリックス）実測質量１２９９，１３００．計算質量
（ＣａｓＨｘｔ〒Ｏｔｓ Ｓｉｔ Ｎａとして）１３０
００Ｈｐ １ ｅ ：正常相、Ｗａｔｅｒｉ Ｚ−モジ
ュール放射状圧縮シリカカラム。溶離液：１３．３％酢
酸エチル（ｎ−ヘキサン中）。流速：３−７分。４０６
ｎｍで検出。保持時間：３．６分。
実施例３
乾燥メタノ−＃ （２ａｔ ） Ｋ溶解し７’ｃ ３．
５．８゜９，１１，１５．３５−ヘプタ−〇−トリメチ
ルシリルー１３．１４−アンヒドロ−１９−デヒドロ−
１９−ケトーアンホテロノライドＢメチルエステル（Ｅ
２） （３２１１Ｐ、 ０．０２５ｍモル）を窒素下
θ。
５．８゜９，１１，１５．３５−ヘプタ−〇−トリメチ
ルシリルー１３．１４−アンヒドロ−１９−デヒドロ−
１９−ケトーアンホテロノライドＢメチルエステル（Ｅ
２） （３２１１Ｐ、 ０．０２５ｍモル）を窒素下
θ。
に冷却し、水素化はう素ナトリウム（ｌｑ。
０．０２７ｍモル）Ｋよシ処理した。混合物を０．２５
時間攪拌し次に飽和塩化アンモニウム溶液（２０−）及
びジエチルエーテル（２０ｍ）の混合物に注いだ。有機
相を分離し、塩水によシ洗い、無水硫酸マグネシウムに
よシ乾燥し、−過しそして蒸発して黄色のガムを得な。
時間攪拌し次に飽和塩化アンモニウム溶液（２０−）及
びジエチルエーテル（２０ｍ）の混合物に注いだ。有機
相を分離し、塩水によシ洗い、無水硫酸マグネシウムに
よシ乾燥し、−過しそして蒸発して黄色のガムを得な。
表題化合物（Ｅ３）は、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル混合
物により溶離するシリカゲルの中圧カラムクロマトグラ
フィによシ得た。
物により溶離するシリカゲルの中圧カラムクロマトグラ
フィによシ得た。
δＨ（２７０ＭＨり（（ＣＤｓ）ｔｃＩｅ））６．６５
−６．２５（１２Ｈ。
−６．２５（１２Ｈ。
ｍ）、６．０５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ１５．Ｏ及び６．０Ｈ
ｚ）、５．８０（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ １４．５及び９
．０ Ｈｚ ）−４−９５（Ｉ Ｈ−ｍ）＠４．８０（
ＩＨ，ｄ、Ｊ ｓ、５ｕｚ）＊ ４．６５（ＩＨ，ｍ）
、４．６０（ＩＨ，ａ、Ｊ ｔｓｕｚ）、４．３０（
２Ｈ，ｍ）、４．０５（４Ｂ、ｍ）、３．８０（３Ｈ，
ｓ）、３．２５（！Ｈ，ｍ）、２．６（４Ｂ−−） ｅ
２−２５：（−１ｆｉ ：瓜）； ２．１５７１−４
ｊ、（１３Ｈｅ ｍ）−１−２５（３Ｈ＝ ｄｏ Ｊ
６− ＯＨｚ ）−１−２０（３Ｌ ｄ−Ｊ ６−９
Ｈｚ）、１．０５（３Ｈ，ｄ、Ｊ ７．２Ｈｚ）及び０
．２５ （６３Ｈ。
ｚ）、５．８０（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ １４．５及び９
．０ Ｈｚ ）−４−９５（Ｉ Ｈ−ｍ）＠４．８０（
ＩＨ，ｄ、Ｊ ｓ、５ｕｚ）＊ ４．６５（ＩＨ，ｍ）
、４．６０（ＩＨ，ａ、Ｊ ｔｓｕｚ）、４．３０（
２Ｈ，ｍ）、４．０５（４Ｂ、ｍ）、３．８０（３Ｈ，
ｓ）、３．２５（！Ｈ，ｍ）、２．６（４Ｂ−−） ｅ
２−２５：（−１ｆｉ ：瓜）； ２．１５７１−４
ｊ、（１３Ｈｅ ｍ）−１−２５（３Ｈ＝ ｄｏ Ｊ
６− ＯＨｚ ）−１−２０（３Ｌ ｄ−Ｊ ６−９
Ｈｚ）、１．０５（３Ｈ，ｄ、Ｊ ７．２Ｈｚ）及び０
．２５ （６３Ｈ。
ｍ）ｐｐｍ・
質量スペクトル： ＦＡＢ（３−ＮＯＢＡ／？−）リウ
ムマトリックス）実測質量１３０２゜計算質量（Ｃ６゜
Ｈ，、、Ｄ、、 ３ｔ、 Ｎ＆ として）１３０２゜
ｕｐ １ ｅ ：正常相。Ｗａｔｅｒｓｚ−モジュール
放射状圧縮シリカカラム。溶離液：１−ヘキサン中２０
チ酢酸エチル。流速：３−７分。４０６ｎｎｎで検出。
ムマトリックス）実測質量１３０２゜計算質量（Ｃ６゜
Ｈ，、、Ｄ、、 ３ｔ、 Ｎ＆ として）１３０２゜
ｕｐ １ ｅ ：正常相。Ｗａｔｅｒｓｚ−モジュール
放射状圧縮シリカカラム。溶離液：１−ヘキサン中２０
チ酢酸エチル。流速：３−７分。４０６ｎｎｎで検出。
保持時間：４６５分。
実施例４
４′−ノナシ０〒トリエチルシリル−１，３，１１４−
０＝Ｃ−・ 方法Ａ（Ｅ４） 参考例１の化合物（ｓｏ□ｖ）を０℃で乾燥ジクロロメ
レン（２５ｍ）に懸濁し、そして２．６−ルチジン（１
，８５Ｆ、 ２．Ｏ１ｍ、 ０．０１７モル）次にトリ
エチルシリルトリプルオロメタンスルホネー）（２，ｘ
ｘｒ、１．８０ｍｇ、０．００８ｍ）を注射器を経て滴
下した。１時間０′ｃで攪拌後溶媒を蒸発しセして残有
をｎ−ヘキサ／に溶解し、炉遇しそしてＦ液を再濃縮し
て褐色の油を得た。Ｂ−ヘキサン／酢酸エチル混合物に
よシ溶離するシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィ
による精製によって２種の主な生成物を得た。
０＝Ｃ−・ 方法Ａ（Ｅ４） 参考例１の化合物（ｓｏ□ｖ）を０℃で乾燥ジクロロメ
レン（２５ｍ）に懸濁し、そして２．６−ルチジン（１
，８５Ｆ、 ２．Ｏ１ｍ、 ０．０１７モル）次にトリ
エチルシリルトリプルオロメタンスルホネー）（２，ｘ
ｘｒ、１．８０ｍｇ、０．００８ｍ）を注射器を経て滴
下した。１時間０′ｃで攪拌後溶媒を蒸発しセして残有
をｎ−ヘキサ／に溶解し、炉遇しそしてＦ液を再濃縮し
て褐色の油を得た。Ｂ−ヘキサン／酢酸エチル混合物に
よシ溶離するシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィ
による精製によって２種の主な生成物を得た。
極性のよシ強い生成物である凡−アセチル−３゜５、８
．９．１１．３５．２’、 ４’−ノナ−０−）ジエチ
ルシリル−１３，１４−アンヒドロアンホテリシンＢ（
Ｅ４）は次の性状を有する。
．９．１１．３５．２’、 ４’−ノナ−０−）ジエチ
ルシリル−１３，１４−アンヒドロアンホテリシンＢ（
Ｅ４）は次の性状を有する。
ＩＪｒｎ＆Ｘ（薄いフィルム）：
３４２８．２９４２，２９００，２８６８，１７３１，
１６８９゜１６６９．１６３８，１５１２，１４５５，
１４０８，１３７２゜１３０５．１２３４，１１５２，
１０７０，１００２，９３５゜９２０ｍ−”： δＨ（４００ＭＨｚ）（（ＣＤｓ ＞ｔ Ｃｏ）：
６．５５−６．１１ （１３Ｈ。
１６８９゜１６６９．１６３８，１５１２，１４５５，
１４０８，１３７２゜１３０５．１２３４，１１５２，
１０７０，１００２，９３５゜９２０ｍ−”： δＨ（４００ＭＨｚ）（（ＣＤｓ ＞ｔ Ｃｏ）：
６．５５−６．１１ （１３Ｈ。
ｍのシリーズ） ５．９８ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ １
５．２ 及び６．０ Ｈｚ）。
５．２ 及び６．０ Ｈｚ）。
５．５５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ １４．８及び９．４Ｈｚ
）ｅ ４．８０ （ＩＨ。
）ｅ ４．８０ （ＩＨ。
ｄ、Ｊ ８．８Ｈ１）、４．７１−４．６３（２Ｈ，
ｍ）、４．６２（ＩＨ，ｓ）、４．５９（ＩＨ，ｓ）、
４．２８（ＬＨ，ｍ）、４．２０（ＩＨ，ｍ）、４．１
１（ＩＨ，ｍ）、４．０１（ＩＨ，ｍ）。
ｍ）、４．６２（ＩＨ，ｓ）、４．５９（ＩＨ，ｓ）、
４．２８（ＬＨ，ｍ）、４．２０（ＩＨ，ｍ）、４．１
１（ＩＨ，ｍ）、４．０１（ＩＨ，ｍ）。
３．９６−３．８４（３Ｈ，ｍ）、３．７３（２Ｈ，ｍ
）、３．５１（ＩＩ（、ｔ、 Ｊ ８．９）Ｉｚ）、
３．３５（ＩＨ，ｄｑ、 Ｊ ８．５及び６．２Ｈｚ
）、２．６４（Ｈ（、ｄｄ、Ｊ １０．９ 及び８．
７Ｈｚ）。
）、３．５１（ＩＩ（、ｔ、 Ｊ ８．９）Ｉｚ）、
３．３５（ＩＨ，ｄｑ、 Ｊ ８．５及び６．２Ｈｚ
）、２．６４（Ｈ（、ｄｄ、Ｊ １０．９ 及び８．
７Ｈｚ）。
２．５８−２．５５（２Ｈ，ｍ）、 ２．４３（ＩＨ
，ｎ’ｚ）、 ２−３８−２．３０（ＩＨ，ｍ＞、２
．＊１（ＩＨ，ｍ）２．．２０−１．８５（７Ｈ，ｍ、
１．９９におけるＳを含む）ｅ １．８２−１．４４
（６Ｈ，ｍのシリーズ）、 １．２５（３Ｈ，ｄ、
Ｊ ６．ＩＨｌ）１．１８（３Ｈ，ｄ、Ｊ ６．０ＨＥ
）、１．１２−０．８５（８７Ｈ。
，ｎ’ｚ）、 ２−３８−２．３０（ＩＨ，ｍ＞、２
．＊１（ＩＨ，ｍ）２．．２０−１．８５（７Ｈ，ｍ、
１．９９におけるＳを含む）ｅ １．８２−１．４４
（６Ｈ，ｍのシリーズ）、 １．２５（３Ｈ，ｄ、
Ｊ ６．ＩＨｌ）１．１８（３Ｈ，ｄ、Ｊ ６．０ＨＥ
）、１．１２−０．８５（８７Ｈ。
ブロード、コンプレックス’） ０．７７−０．５４
（５４Ｈ。
（５４Ｈ。
ブロード、コンプレックス）ｐｐｍ。
質量スペクトル： ＦＡＢ（３−ＮＯＢＡ／Ｎａ マト
リックス） Ｍ＝２０２０相対強度６３％、１９９７相
対強度３ｅｔｓ、ｘｓ２ｘ（ｓｏｑ／ｂ）、 ｔｓ２２
（ｔｏｏｌ）。
リックス） Ｍ＝２０２０相対強度６３％、１９９７相
対強度３ｅｔｓ、ｘｓ２ｘ（ｓｏｑ／ｂ）、 ｔｓ２２
（ｔｏｏｌ）。
Ｈｐ １ ｅ ：正常相。Ｗａｔｅｒｓ Ｚモデル放
射状圧縮シリカカラム。溶離液：Ａ−ヘキサン中５０Ｓ
酢酸エチル。流速：２−７分。４０６ ｎｍで検出。保
持時間：１３．０分。
射状圧縮シリカカラム。溶離液：Ａ−ヘキサン中５０Ｓ
酢酸エチル。流速：２−７分。４０６ ｎｍで検出。保
持時間：１３．０分。
方法Ｂ
参考例１の化合物（５２７１ＩＰ、５３０ｍモル）を窒
素下θ°で乾燥ジクロロメタン（２０ｍ）中に懸濁しそ
して２．６−ルチジン（０，９５６Ｆ、 １．０４ｍ、
８．９ｍモル）次にトリエチルシリルトリフルオロメ
タンスルホネー） （１，８２Ｆ、 １．５６ｍ、 ６
．９ｍモル）を注射器を経て加え大。０．５時間攪拌後
、混合物をジエチルエーテル／氷／ＩＮ塩酸の混合物に
注いだ。水性相を分離し、ジエチルエーテルによシ抽出
しそして合わせた有機抽出物を水冷ＩＮ、塩酸によシ洗
い、無水硫酸ナトリウムによシ乾燥し、濾過しそして真
空下蒸発して褐色の油を得た。
素下θ°で乾燥ジクロロメタン（２０ｍ）中に懸濁しそ
して２．６−ルチジン（０，９５６Ｆ、 １．０４ｍ、
８．９ｍモル）次にトリエチルシリルトリフルオロメ
タンスルホネー） （１，８２Ｆ、 １．５６ｍ、 ６
．９ｍモル）を注射器を経て加え大。０．５時間攪拌後
、混合物をジエチルエーテル／氷／ＩＮ塩酸の混合物に
注いだ。水性相を分離し、ジエチルエーテルによシ抽出
しそして合わせた有機抽出物を水冷ＩＮ、塩酸によシ洗
い、無水硫酸ナトリウムによシ乾燥し、濾過しそして真
空下蒸発して褐色の油を得た。
！−ヘキサン／酢酸エチル混合物によシ溶離するシリカ
ゲルのカラムクロマトグラフィによシ、方法ＡＫおける
ようにＮ−７セｆルー ３．５．８．９゜１１、１５．
３５．２’、 ４’−ノナ−０−）ジエチルシリル−１
３，１４−アンヒドロアンホテリシンＢ（Ｅ４）を得た
。
ゲルのカラムクロマトグラフィによシ、方法ＡＫおける
ようにＮ−７セｆルー ３．５．８．９゜１１、１５．
３５．２’、 ４’−ノナ−０−）ジエチルシリル−１
３，１４−アンヒドロアンホテリシンＢ（Ｅ４）を得た
。
実施例５
υ＝ｖ−ｙｔθ
０℃で窒素下乾燥塩化メチレン（５ＩＩｔ）及び２゜６
−ルチジ７（０，９ｓｅｇ、 ７−９２ｔｎモル）中
のＮ−７セチルアンホテリシ７Ｂメチルエステル（０，
３６１Ｆ、０．３６ｍモル）のスラリーに、トリメチル
シリルトリフルオロメタンスルホネート（１，１ｍ。
−ルチジ７（０，９ｓｅｇ、 ７−９２ｔｎモル）中
のＮ−７セチルアンホテリシ７Ｂメチルエステル（０，
３６１Ｆ、０．３６ｍモル）のスラリーに、トリメチル
シリルトリフルオロメタンスルホネート（１，１ｍ。
５．７６ｍモル）を加えた。０．３時間攪拌後反応物を
真空下蒸発しそして残置をｎ−ヘキサン（２５〇−）に
移した。沈でんを濾過によシ除きそしてヘキサンを蒸発
し念。シリル化生成物を酢酸エチル／ニーヘキサン混合
物を用いるシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィに
よシ精製した。
真空下蒸発しそして残置をｎ−ヘキサン（２５〇−）に
移した。沈でんを濾過によシ除きそしてヘキサンを蒸発
し念。シリル化生成物を酢酸エチル／ニーヘキサン混合
物を用いるシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィに
よシ精製した。
シリル化生成物をプラスチック瓶中の乾燥テトラヒドロ
フラン（５−）に溶解し念。窒素下、弗化水素・ピリジ
ン溶液（７０ｓ弗化水素・ピリジン試薬１４．６４ｆ及
びピリジン９２−から製造されそして２ＭＨＦ−１１ｍ
モルに相当するよりにテトラヒドロフランによシ２５０
−とされ六溶液５，５−）をプラスチック注射器によシ
加えた。１時間攪拌後溶液をジエチルエーテル：旦−ヘ
キサン（８００ｄ、１：１＞に注ぎそして沈でんを一過
し、ジエチルエーテル、酢酸エチルそしてジエチルエー
テルによシ洗い次に乾燥した。
フラン（５−）に溶解し念。窒素下、弗化水素・ピリジ
ン溶液（７０ｓ弗化水素・ピリジン試薬１４．６４ｆ及
びピリジン９２−から製造されそして２ＭＨＦ−１１ｍ
モルに相当するよりにテトラヒドロフランによシ２５０
−とされ六溶液５，５−）をプラスチック注射器によシ
加えた。１時間攪拌後溶液をジエチルエーテル：旦−ヘ
キサン（８００ｄ、１：１＞に注ぎそして沈でんを一過
し、ジエチルエーテル、酢酸エチルそしてジエチルエー
テルによシ洗い次に乾燥した。
”ＨＮＭＲによシこの物質は完全に脱シリル化していな
かった。固体をプラスチック瓶中の最低量の乾燥テトラ
ヒドロフラン中に溶解した。窒素下、弗化水素・ピリジ
ン溶液（７〇−弗化水素・ピリジン試薬１４６４Ｆ及び
ビリジ／９２ばから製造されモしてＨＦ−１１ｍモル中
２Ｍに相当するよりにテトラヒドロフランによシ２５０
−にされた溶液５．５ ｍ ）をプラスチック注射器に
より加え喪。
かった。固体をプラスチック瓶中の最低量の乾燥テトラ
ヒドロフラン中に溶解した。窒素下、弗化水素・ピリジ
ン溶液（７〇−弗化水素・ピリジン試薬１４６４Ｆ及び
ビリジ／９２ばから製造されモしてＨＦ−１１ｍモル中
２Ｍに相当するよりにテトラヒドロフランによシ２５０
−にされた溶液５．５ ｍ ）をプラスチック注射器に
より加え喪。
４．５時間攪拌後反応物をジエチルエーテル／ ｎ −
ヘキサン（８００ｍ、１：１）に注ぎ、そして沈でんを
一過し次いでジエチルエーテル、酢酸エチルそしてジエ
チルエーテルによシ洗い乾燥して表題化合物（Ｅ５）を
得た。
ヘキサン（８００ｍ、１：１）に注ぎ、そして沈でんを
一過し次いでジエチルエーテル、酢酸エチルそしてジエ
チルエーテルによシ洗い乾燥して表題化合物（Ｅ５）を
得た。
δＨ４００ＭＨｚ（１：１ ｄｇピリジンａ ｄ ４
メタノール）：６．５３−６．２９ （１２Ｈ７ｍのシ
リーズ ６．０６（１）Ｉ、ｄｄ。
メタノール）：６．５３−６．２９ （１２Ｈ７ｍのシ
リーズ ６．０６（１）Ｉ、ｄｄ。
Ｊ１４．１及び７．８）（Ｚ）、５．５９（ＩＨ，ｄｄ
、Ｊ １４．３及び９．８Ｈｚ ）ｔ ５．４９ （
ＩＨ，ｍ）。４．９２（ＩＨ，ｄ、 Ｊ １．９Ｈｚ
）ｓ ４．８０−４．７５ （３Ｈ，ｍのシリーズ）、
４−５０−４．４０ （２）（、ｍのシリーズ）、４．
３２−４．２３（２Ｈ，ｍのシリーズ）ｅ ４．１６
（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ ３．０及び０．９Ｈｚ）。
、Ｊ １４．３及び９．８Ｈｚ ）ｔ ５．４９ （
ＩＨ，ｍ）。４．９２（ＩＨ，ｄ、 Ｊ １．９Ｈｚ
）ｓ ４．８０−４．７５ （３Ｈ，ｍのシリーズ）、
４−５０−４．４０ （２）（、ｍのシリーズ）、４．
３２−４．２３（２Ｈ，ｍのシリーズ）ｅ ４．１６
（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ ３．０及び０．９Ｈｚ）。
３．９７（ＩＨ，ｍ）、３．８８（ＩＨ，ｍ）、３．７
９（３Ｈ，ｓ）。
９（３Ｈ，ｓ）。
３．７３ （ＩＨ，ｍ）、 ３．５４ （ＩＨ，Ｉｎ
）、 ３．４５−３．３５（３Ｈ０ｍのシリーズ）ｅ
２．８３（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ １０．８及び９．０Ｈ
１）、２．５７−２．４４（２Ｈ，ｍｌのシリーズ）。
）、 ３．４５−３．３５（３Ｈ０ｍのシリーズ）ｅ
２．８３（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ １０．８及び９．０Ｈ
１）、２．５７−２．４４（２Ｈ，ｍｌのシリーズ）。
２．３６−２．０９ （６Ｈ，ｍのシリーズ）ｅ ２
．０７（−３Ｈ。
．０７（−３Ｈ。
ｓ）、２．０３−１．７３（３Ｈ，ｒｎのシリーズ）ｅ
１．７Ｏ−Ｌ５０（５也ｍのシリーズ）、１．４４
（３Ｈ，ｄ、Ｊ６．ＩＨｚ）。
１．７Ｏ−Ｌ５０（５也ｍのシリーズ）、１．４４
（３Ｈ，ｄ、Ｊ６．ＩＨｚ）。
１．３４（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．４Ｈｚ）、 １．
２４（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．５Ｈ１）及び１．１５
（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ７．ＩＨｚ ） ｐｐｍ。
２４（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．５Ｈ１）及び１．１５
（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ７．ＩＨｚ ） ｐｐｍ。
ＩＲｕｍａｚ（ＫＢｒ（ディスク）：１７２７．１６５
６及び１５３２ｗ−” ＵＶスｍａｘ（メタノール）： ４０６，３８２，３６
３及び４５ｎｍ 質量スペクトル：ＦＡＢ（チオグリセロール／チオジェ
タノール／ Ｎ ＆マトリックス）実測質量ＭＮａ ９
８４．５゜計算（ｃｉ。Ｈテ寥Ｎ Ｏｔ ｔとして）９
６１．５０゜実施例６ １３１４−アンヒドロアンホテリシンＢ （Ｅ６）Ｈ （Ｅ６） 方法Ａ アンホテリシンＢ （１，６６ｆ、１．８ｒｎモル）
を室温で窒素下２．６−ルチジン（５，３ｄ、 ４５
．９ｍモル）とともに乾燥塩化メチレン（２０１Ｌｄ）
中でスラリー化した。トリメチルシリルトリフルオロメ
タンスルホネー）（６，８ｍ、３５．１ｍモル）を加え
そして反応物を０．５時間攪拌した。反応物を次に真窒
下蒸発した。残置を！−ヘキサン（８００ｔｄ）Ｋ移し
、濾過して沈でんを除きｐ液を蒸発して生成物を得た。
６及び１５３２ｗ−” ＵＶスｍａｘ（メタノール）： ４０６，３８２，３６
３及び４５ｎｍ 質量スペクトル：ＦＡＢ（チオグリセロール／チオジェ
タノール／ Ｎ ＆マトリックス）実測質量ＭＮａ ９
８４．５゜計算（ｃｉ。Ｈテ寥Ｎ Ｏｔ ｔとして）９
６１．５０゜実施例６ １３１４−アンヒドロアンホテリシンＢ （Ｅ６）Ｈ （Ｅ６） 方法Ａ アンホテリシンＢ （１，６６ｆ、１．８ｒｎモル）
を室温で窒素下２．６−ルチジン（５，３ｄ、 ４５
．９ｍモル）とともに乾燥塩化メチレン（２０１Ｌｄ）
中でスラリー化した。トリメチルシリルトリフルオロメ
タンスルホネー）（６，８ｍ、３５．１ｍモル）を加え
そして反応物を０．５時間攪拌した。反応物を次に真窒
下蒸発した。残置を！−ヘキサン（８００ｔｄ）Ｋ移し
、濾過して沈でんを除きｐ液を蒸発して生成物を得た。
粗生成物を乾燥テトラヒドロフラン（２０ｄ）ｋ溶解し
プラスチック瓶に移した。窒素下、弗化水素・ピリジン
溶液（７０％弗化水素・ピリジン試薬１４．６４Ｆ及び
ピリジン９２−からなシ、２ＭＨＦ−０，１４４ｒｎモ
ルに相当するようにテトラヒドロフランによ、９２５０
ｍとした溶液７２ｄ）をプラスチック注射器により加え
た。
プラスチック瓶に移した。窒素下、弗化水素・ピリジン
溶液（７０％弗化水素・ピリジン試薬１４．６４Ｆ及び
ピリジン９２−からなシ、２ＭＨＦ−０，１４４ｒｎモ
ルに相当するようにテトラヒドロフランによ、９２５０
ｍとした溶液７２ｄ）をプラスチック注射器により加え
た。
反応物を１時間攪拌し次に１：１ジエチルエーテル／ヘ
キサン（２ｔ）に注いだ。沈でんを炉遇しそしてジエチ
ルエーテル、酢酸エチル次にジエチルニーチルによシ洗
った。固体を飽和重炭酸ナトリ９ム中で再スラリー化し
、濾過し、水洗し。
キサン（２ｔ）に注いだ。沈でんを炉遇しそしてジエチ
ルエーテル、酢酸エチル次にジエチルニーチルによシ洗
った。固体を飽和重炭酸ナトリ９ム中で再スラリー化し
、濾過し、水洗し。
最低量のジメチルスルホキシドに溶解し、メタノールに
より希釈しそしてジエチルエーテル（ＩＬ）に注いだ。
より希釈しそしてジエチルエーテル（ＩＬ）に注いだ。
沈でんを炉遇し、ジエチルエーテル、酢酸エチル次にジ
エチルエーテルによシ洗いそして乾燥して表題化合物（
Ｅ６）を得た。
エチルエーテルによシ洗いそして乾燥して表題化合物（
Ｅ６）を得た。
ａｍａｘ（ＫＢｒディスク）：１７００，１６５０．１
５５５１−！ 質量スペクトル：ＦＡＢ（チオグリセロールマトリック
ス）実測質量（ＶＩＨ）９０６゜計算質量（ＶＩ ”）
’９ ＩＯ・Ｓ、４−８−６方法Ｂ 窒素下ジメチルスルホキシド／メタノール（３：１，３
ｍｇ）中のＮ−（９シフルオレニルメトキシカルポニル
）−１３，１４−アンヒドロアンホ、テリシンＢ （Ｅ
７ ）の溶液にピペリジン（１０ｐｔ。
５５５１−！ 質量スペクトル：ＦＡＢ（チオグリセロールマトリック
ス）実測質量（ＶＩＨ）９０６゜計算質量（ＶＩ ”）
’９ ＩＯ・Ｓ、４−８−６方法Ｂ 窒素下ジメチルスルホキシド／メタノール（３：１，３
ｍｇ）中のＮ−（９シフルオレニルメトキシカルポニル
）−１３，１４−アンヒドロアンホ、テリシンＢ （Ｅ
７ ）の溶液にピペリジン（１０ｐｔ。
０．１ｍモル）を加えた。反応物を２時間攪拌し、メタ
ノール（１−）によシ希釈しそしてジエチルエーテル（
５００＋ｄ）中に沈でんした。固体をＰ遇し、ジエチル
エーテルによシ洗いそして乾燥して表題化合物（Ｅ６）
を得た。
ノール（１−）によシ希釈しそしてジエチルエーテル（
５００＋ｄ）中に沈でんした。固体をＰ遇し、ジエチル
エーテルによシ洗いそして乾燥して表題化合物（Ｅ６）
を得た。
実施例７
Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−１３．
１４−アンヒドロアンホテリシンＢ（Ｅ７）０Ｈ Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）アンホテ
リシ７ Ｂ （Ｄ２） （１？、 ０．８７ｍモル）を
乾燥環化メチレン（９ゴ）及び２．６−ルチジン（１，
７３ｍ、 １４．８＋ｎモル）中でスラリー化した。
１４−アンヒドロアンホテリシンＢ（Ｅ７）０Ｈ Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）アンホテ
リシ７ Ｂ （Ｄ２） （１？、 ０．８７ｍモル）を
乾燥環化メチレン（９ゴ）及び２．６−ルチジン（１，
７３ｍ、 １４．８＋ｎモル）中でスラリー化した。
トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート（２
，１９＋ｄ、 １１．３ｍモル）を窒素下Ｏ℃で加え
た。０．３時間攪拌後反応物を真空下蒸発した。
，１９＋ｄ、 １１．３ｍモル）を窒素下Ｏ℃で加え
た。０．３時間攪拌後反応物を真空下蒸発した。
残置を１−ヘキサン（１ｔ）に移し、Ｆ遇しそして蒸発
してガムを得た。
してガムを得た。
さらに精製することなくガム（１５５Ｆ）を乾燥テトラ
ヒドロフラン（１２＋ｙ／）に溶解し、プラスチック瓶
に移し、そして窒素上弗化水素Φピリジン溶液（７０チ
弗化水素・ピリジン試薬２．４を及びピリジン１２．８
Ｗｌｔから作られそして１．３３ＭＨＦ−６９ｍモル
に相当するようにテトラヒドロフランによシロ３−にし
た溶液５２ｄ）によシ処理した。４時間攪拌後溶液をジ
エチルエーテル（８Ｌ）に注ぎＰ遇した。沈でんをジエ
チルエーテルによシ洗い、乾燥しそしてメタノール／水
混合物を用いる逆相シリカゲルによシ精製して表題化合
物（Ｅ７）を得た。
ヒドロフラン（１２＋ｙ／）に溶解し、プラスチック瓶
に移し、そして窒素上弗化水素Φピリジン溶液（７０チ
弗化水素・ピリジン試薬２．４を及びピリジン１２．８
Ｗｌｔから作られそして１．３３ＭＨＦ−６９ｍモル
に相当するようにテトラヒドロフランによシロ３−にし
た溶液５２ｄ）によシ処理した。４時間攪拌後溶液をジ
エチルエーテル（８Ｌ）に注ぎＰ遇した。沈でんをジエ
チルエーテルによシ洗い、乾燥しそしてメタノール／水
混合物を用いる逆相シリカゲルによシ精製して表題化合
物（Ｅ７）を得た。
実施例８
窒素上乾燥塩化メチレン（１，５ｍｇ ）中のＮ−（９
−フルオレニルメトキシカルボニル）アンホテリシンＢ
メｆルエｘｆｈ （Ｄ３） （０，１７ｆ、 ０．１５
ｍ −Ｅ： ル）のスラリーに、２．６−ルチジン（０
，２９ｄ、 ２．５ ｍモル）次にトリメチルシリルト
リフルオロメタンスルホネート（０，３７ｙｄ、 １．
９５ｍモル）を加えた。０．２５時間室温で攪拌後、溶
液を蒸発しそして１−ヘキサン（６０１１ｔ）を加え念
。固体を粉砕しそして濾過によシ除い念。有機物を蒸発
して表題化合物（Ｅ８ ）を得た。
−フルオレニルメトキシカルボニル）アンホテリシンＢ
メｆルエｘｆｈ （Ｄ３） （０，１７ｆ、 ０．１５
ｍ −Ｅ： ル）のスラリーに、２．６−ルチジン（０
，２９ｄ、 ２．５ ｍモル）次にトリメチルシリルト
リフルオロメタンスルホネート（０，３７ｙｄ、 １．
９５ｍモル）を加えた。０．２５時間室温で攪拌後、溶
液を蒸発しそして１−ヘキサン（６０１１ｔ）を加え念
。固体を粉砕しそして濾過によシ除い念。有機物を蒸発
して表題化合物（Ｅ８ ）を得た。
δＨ２７０ＭＨｚ （（ＣＤｓ ）ｔ Ｃｏ） ： ７
．８７ （２Ｈ，ｄ、 Ｊ ４．２Ｈｚ）、７−７０（
２Ｈ，ｍ）、７．４２（２Ｈ，ｔ、Ｊ７．７Ｈｚ）。
．８７ （２Ｈ，ｄ、 Ｊ ４．２Ｈｚ）、７−７０（
２Ｈ，ｍ）、７．４２（２Ｈ，ｔ、Ｊ７．７Ｈｚ）。
７．３２（２Ｈ，ｍ）、６Ｊ６（１２Ｈ，ｍ）、５．９
０（ＬＨ。
０（ＬＨ。
ｄｄ）、５．６１（ＩＨ，ｄｄ）、４．９１（ＩＨ，ｍ
）、４．７５−４．３８（３Ｈ，ｍのシリーズ）、４．
５７（ＩＨ，ｓ）。
）、４．７５−４．３８（３Ｈ，ｍのシリーズ）、４．
５７（ＩＨ，ｓ）。
４．５０ （ＩＨ，Ｂ ）、 ４．３９−４．０９ （
４Ｈ，ｍのシリーズ）。
４Ｈ，ｍのシリーズ）。
４．０９−３．７８（４Ｈ，ｍのシリーズ）、 ３．
７６ （３Ｈ，ｓ ）。
７６ （３Ｈ，ｓ ）。
３．６３（ＩＨ，ｍ）、３．４６（ＩＨ，ｔ）、３．３
０（ＩＨ，ｍ）。
０（ＩＨ，ｍ）。
２．６３−２．２８（５Ｈ，ｍのシリーズ）、２．１３
（ＩＨ，ｄ）。
（ＩＨ，ｄ）。
２．０３−１．７８（５Ｈ，ｍのシリーズ）、 １．
７８−１．３５（９Ｈ，ｍのシリーズ）、１．２１（３
Ｈ，ｄ）、１．１７（３Ｈ。
７８−１．３５（９Ｈ，ｍのシリーズ）、１．２１（３
Ｈ，ｄ）、１．１７（３Ｈ。
ａ）、 １．０Ｉ５（３Ｈ，ｄ）、０．９７（３Ｈ，
ｄ）及び０．１３（８１’Ｈ，ｍのシリーズ）ｐｐｍ。
ｄ）及び０．１３（８１’Ｈ，ｍのシリーズ）ｐｐｍ。
ＩＲｕｍａｘ（ＣＨ，ＣＩ！ ）： １ ７ ３０ｃ
ｍ−凰ＵＶ ２ ｍ ａ Ｘ （ヘキサン）： ４０２
，３８０，３６２ｎｒｎ 。
ｍ−凰ＵＶ ２ ｍ ａ Ｘ （ヘキサン）： ４０２
，３８０，３６２ｎｒｎ 。
質量スペクトル；ＦＡＢ（３−ＮＯＢＡ／Ｎａマトリッ
クス）実測質量ＭＮ＆”１８１３゜Ｃ９゜Ｈ，、、Ｎｏ
１．３ ｉ。
クス）実測質量ＭＮ＆”１８１３゜Ｃ９゜Ｈ，、、Ｎｏ
１．３ ｉ。
とじて計算１７８９，９２゜
実施例９
エステル（Ｅ９）
プラスチック瓶中の窒素下の乾燥テトラヒドロフモラン
（Ｉ ＱＭｔ）中のＮ−（９−フルオレニルメトキシカ
ルボニル） −ａ、 ｓ、 ８．９．１１．１５．３５
゜２′，４′−ノナー〇−トリメチルシリル−１３，１
４−アンヒドロアンホテリシンＢメチルエステル（Ｅ８
）（０，７７Ｆ、０．４２ｍモル）に、プラスチック
注射器によシ、弗化水素・ピリジン溶１（７０−弗化水
素・ピリジン試薬８，５ｆ及びピリジン４５−から作ら
れたテトラヒドロフラン１８０Ｔｆｔ中の溶液２６ ｙ
ｓｄ−１，３Ｍ ＨＦ−３４ｍ−ｖ−ルに相当）を加え
た。４時間攪拌後溶液をジエチルエーテル／ｎ−ヘキサ
ンの１；混合物（２１）に注いだ。
（Ｉ ＱＭｔ）中のＮ−（９−フルオレニルメトキシカ
ルボニル） −ａ、 ｓ、 ８．９．１１．１５．３５
゜２′，４′−ノナー〇−トリメチルシリル−１３，１
４−アンヒドロアンホテリシンＢメチルエステル（Ｅ８
）（０，７７Ｆ、０．４２ｍモル）に、プラスチック
注射器によシ、弗化水素・ピリジン溶１（７０−弗化水
素・ピリジン試薬８，５ｆ及びピリジン４５−から作ら
れたテトラヒドロフラン１８０Ｔｆｔ中の溶液２６ ｙ
ｓｄ−１，３Ｍ ＨＦ−３４ｍ−ｖ−ルに相当）を加え
た。４時間攪拌後溶液をジエチルエーテル／ｎ−ヘキサ
ンの１；混合物（２１）に注いだ。
沈でんをＦ逸しそしてジエチルエーテル、飽和重炭酸ナ
トリウム溶液そして水により洗いそして乾燥して表題化
合物（Ｅ９）を得た。
トリウム溶液そして水により洗いそして乾燥して表題化
合物（Ｅ９）を得た。
化合物を中圧下塩化メチレン／メタノール混合物を用い
るシリカゲルのクロマトグラフィにより精製した。
るシリカゲルのクロマトグラフィにより精製した。
ＪＲ４００ＭＨｚ （１： １ ｄ、ピリジン：ｄ４メ
タノール）ニア、８４（２）Ｉ、 ｄ、 Ｊ７．５Ｈｚ
）、 ７．７２（２Ｈ，ｄ、 Ｊ ７．２Ｈｚ）。
タノール）ニア、８４（２）Ｉ、 ｄ、 Ｊ７．５Ｈｚ
）、 ７．７２（２Ｈ，ｄ、 Ｊ ７．２Ｈｚ）。
７．４２（２Ｈ，ｔ、 Ｊ ７．４Ｈｚ）、 ７．３１
（２Ｈ，ｔ、 Ｊ７．４Ｈｚ）。
（２Ｈ，ｔ、 Ｊ７．４Ｈｚ）。
６．５５−６−３０（１２Ｈ，コンプレックス）ｅ
６．０７（ＬＨ。
６．０７（ＬＨ。
ｄｄ、 Ｊ １４．１及び７．６Ｈｚ）、 ５．
６０（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ １３．９及び９．８Ｈｚ
）、 ５．４７ （ＩＨ，ｍ）、 ４．９２ （ＩＨ
，ｍ）４．８１−４．７１Ｃ３Ｈ，コンプレックス）ｔ
４．５０−４．４１（２Ｈ，コンプレックス）、４
−３８（２Ｈ，ｄ、Ｊ７．２Ｈｚ）。
６０（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ １３．９及び９．８Ｈｚ
）、 ５．４７ （ＩＨ，ｍ）、 ４．９２ （ＩＨ
，ｍ）４．８１−４．７１Ｃ３Ｈ，コンプレックス）ｔ
４．５０−４．４１（２Ｈ，コンプレックス）、４
−３８（２Ｈ，ｄ、Ｊ７．２Ｈｚ）。
４．３−４．２（２Ｈ，コンプレックス）、４．２１（
ＬＨ，ｍ）。
ＬＨ，ｍ）。
４．０５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ １０−２及び２．８Ｈ２
）、３．９５（ＩＨ。
）、３．９５（ＩＨ。
ｔ＊ Ｊ ９．６ Ｈｚ ）−３； ８６ （Ｉ Ｈ−
ｄ−Ｊ ９．６ Ｈ２）−３，７８（３Ｈ，ｆｉ）、
３．７５（ＩＨ，ｍ）、 ３．５６（ＩＨ，ｒｎ）。
ｄ−Ｊ ９．６ Ｈ２）−３，７８（３Ｈ，ｆｉ）、
３．７５（ＩＨ，ｍ）、 ３．５６（ＩＨ，ｒｎ）。
３．４４（ＩＨ，ｍ）、３．４２（ＩＨ，ｍ）、２．８
２（ＩＨ，ｄｄＪｌｏ、５ 及び９−３Ｈｚ ）、
２．５５ （ＩＨ，ｍ）、 ２．４８ （ＩＨ。
２（ＩＨ，ｄｄＪｌｏ、５ 及び９−３Ｈｚ ）、
２．５５ （ＩＨ，ｍ）、 ２．４８ （ＩＨ。
ｄｄ、Ｊ１７．１及び９．７Ｈｚ）、２．３３（ＩＨ，
ｍ）、２．２９（２Ｈ，Ｉｎ）、２．１８（２Ｉ（、ｍ
）、２．１２（ＩＨ，ｍ）、１．９８Ｃ２Ｈ，１７ブレ
ツク、Ｘ）、１．８０（ＩＨ，ｍ）、１．７−１．５
（４Ｈ，コンプレツクｘ ） ｅ １−５２ （Ｉ
Ｈｅ ｍ） ｅｔ４７（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．ＩＨ
ｚ）、 １．３４（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．４Ｈｚ）
、１．２５（３Ｈ，ｄ、Ｊ ６．５Ｈｚ）及び１．１５
（３Ｈ，ｄ。
ｍ）、２．２９（２Ｈ，Ｉｎ）、２．１８（２Ｉ（、ｍ
）、２．１２（ＩＨ，ｍ）、１．９８Ｃ２Ｈ，１７ブレ
ツク、Ｘ）、１．８０（ＩＨ，ｍ）、１．７−１．５
（４Ｈ，コンプレツクｘ ） ｅ １−５２ （Ｉ
Ｈｅ ｍ） ｅｔ４７（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．ＩＨ
ｚ）、 １．３４（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．４Ｈｚ）
、１．２５（３Ｈ，ｄ、Ｊ ６．５Ｈｚ）及び１．１５
（３Ｈ，ｄ。
Ｊ ７． Ｉ Ｈｚ） ｐＰｒｎ。
ＩＲｕｍａｚ （ｘショール） ： １７２０ｃｗｔ−
’ＵＶ ２ｍ＊ｘ （ｘタノール）： ４０７，３８
４，３６５ｎｍ質量スペクトル： ＦＡＲ（３−ＮＯＢ
Ａ／Ｎａ マトリックス）実測質量ＭＮａ １１６４
０ Ｃ＠Ｓ Ｈｓｍ Ｎ０ｔｓとして１１４１．５６゜ 実施例１０ Ｈ Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−１３，
１４−アンヒドロアンホテリシンＢメチルエステル（Ｅ
９） （０，２１Ｆ、 ｏ。１８ｙｎモル）をジメチル
スルホキシド：メタノール（２ｄ、３：１）に溶解した
。窒素下ピペリジン（１８μ４ｏ、ｚ３ｍモル）を加え
そして３時間攪拌後溶液をジエチルエーテル（２００ｍ
）Ｋ注いだ。沈でんを濾過しそしてジエチルエーテル、
酢酸エチル／ジエチルエーテル次にジエチルエーテルに
より洗い乾燥して表題化合物（［１０）を得た。
’ＵＶ ２ｍ＊ｘ （ｘタノール）： ４０７，３８
４，３６５ｎｍ質量スペクトル： ＦＡＲ（３−ＮＯＢ
Ａ／Ｎａ マトリックス）実測質量ＭＮａ １１６４
０ Ｃ＠Ｓ Ｈｓｍ Ｎ０ｔｓとして１１４１．５６゜ 実施例１０ Ｈ Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−１３，
１４−アンヒドロアンホテリシンＢメチルエステル（Ｅ
９） （０，２１Ｆ、 ｏ。１８ｙｎモル）をジメチル
スルホキシド：メタノール（２ｄ、３：１）に溶解した
。窒素下ピペリジン（１８μ４ｏ、ｚ３ｍモル）を加え
そして３時間攪拌後溶液をジエチルエーテル（２００ｍ
）Ｋ注いだ。沈でんを濾過しそしてジエチルエーテル、
酢酸エチル／ジエチルエーテル次にジエチルエーテルに
より洗い乾燥して表題化合物（［１０）を得た。
工ｌｕｍａｘ（ＫＢｒディスク’）：１７２５，１６７
５゜１６００ｔｘ−” 質量スペクトル：ＦＡＢ（チオグリセロールマトリック
ス）実測質量ＭＨ９２０゜Ｃ４ａ Ｈｔ ｓ Ｎｏｔ・
として計算９１９．４９゜ 実施例１１ Ｈ トリウム（０，５８Ｆ、 １５．３ｍモル）を加えた
。
５゜１６００ｔｘ−” 質量スペクトル：ＦＡＢ（チオグリセロールマトリック
ス）実測質量ＭＨ９２０゜Ｃ４ａ Ｈｔ ｓ Ｎｏｔ・
として計算９１９．４９゜ 実施例１１ Ｈ トリウム（０，５８Ｆ、 １５．３ｍモル）を加えた
。
０．３時間後反応を飽和重炭酸す） ＩＪウム溶液（１
−）の添加によシ停止し次に飽和重炭酸ナトリウム溶液
（８００ｍ）に注いだ。沈でんを戸遇しそして水洗して
中性とし次に乾燥して表題化合物（Ｅｌｌ）を得た。
−）の添加によシ停止し次に飽和重炭酸ナトリウム溶液
（８００ｍ）に注いだ。沈でんを戸遇しそして水洗して
中性とし次に乾燥して表題化合物（Ｅｌｌ）を得た。
質量スペクトル： ＦＡＢ（３−ＮＯＢＡ／Ｎａ マト
リックス）実測質量ＭＮａ １１３６゜Ｃａｔ Ｈａ
ｓ ＮＯＩ？として計算１１１３．５７゜ 実施例１２ 罠温でメタノール／テトラヒドロフラン（１５ｙ、３：
ｘ）中のＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）
−１３，１４−アンヒドロアンホテリシンＢメチルエス
テル（Ｅ９） （０，７０ｆ。
リックス）実測質量ＭＮａ １１３６゜Ｃａｔ Ｈａ
ｓ ＮＯＩ？として計算１１１３．５７゜ 実施例１２ 罠温でメタノール／テトラヒドロフラン（１５ｙ、３：
ｘ）中のＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）
−１３，１４−アンヒドロアンホテリシンＢメチルエス
テル（Ｅ９） （０，７０ｆ。
０．６１ｍモル）の溶液に、一部ずつ水素化はう素す（
Ｅ１２） 窒素下ジメチルスルホキシド／メ゛タノール（３ｄ；３
：１）中のＮ二（９−フルオレニルメトキシカルボニル
）−”１６シデカルボキシー１６−ヒトロキシメチルシ
１３．１４−アンヒドロアンヒドロアンホテリシンＢ
（Ｅｌｌ）（０，１３Ｆ。
Ｅ１２） 窒素下ジメチルスルホキシド／メ゛タノール（３ｄ；３
：１）中のＮ二（９−フルオレニルメトキシカルボニル
）−”１６シデカルボキシー１６−ヒトロキシメチルシ
１３．１４−アンヒドロアンヒドロアンホテリシンＢ
（Ｅｌｌ）（０，１３Ｆ。
０．１１ｍ−Ｅ−ル）の溶液にピペリジン（２１１ｔ、
。
。
０．２２ｍモル）を加えた。１．５時間攪拌後溶液をジ
エチルエーテル（２００ｍ）に注いだ。沈でんを濾過し
そしてジエチルエーテルによシ十分に洗い乾燥して表題
化合物（Ｅ１２）を得た。
エチルエーテル（２００ｍ）に注いだ。沈でんを濾過し
そしてジエチルエーテルによシ十分に洗い乾燥して表題
化合物（Ｅ１２）を得た。
ＩＲｏｍａｘ（ヌジョール）：１７１０及び１６８０ｃ
Ｍ−”ＵＶ λｍａｘ（メタノ−／ｌ／： ４０６，
３８３，３６３ｎｎｘ。
Ｍ−”ＵＶ λｍａｘ（メタノ−／ｌ／： ４０６，
３８３，３６３ｎｎｘ。
質量スペクトル： ＦＡＢ（３−ＮＯＢＡ／Ｎａマトリ
ックス）実測質量ＭＮａ”９１４゜ＣａｙＨｙｓＮＯ□
として計算８９１．５０゜ 実施例１３ ＴＥＳ 窒素下Σ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−
１３，１４−アンヒドロアンホテリシンＢメチルエステ
ル（Ｅ９） （３，１８９，２，７ｍモル）を乾燥塩化
メチレン（２ｓ−）及び２，６−ルチジン（５，７３ｍ
、 ４８．６ｍそル）中でスラリー化し穴。室温でトリ
エチルシリルトリフルオロメタンスルホネー）（８−１
鴫３５．１ｍモル）を加えた。
ックス）実測質量ＭＮａ”９１４゜ＣａｙＨｙｓＮＯ□
として計算８９１．５０゜ 実施例１３ ＴＥＳ 窒素下Σ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−
１３，１４−アンヒドロアンホテリシンＢメチルエステ
ル（Ｅ９） （３，１８９，２，７ｍモル）を乾燥塩化
メチレン（２ｓ−）及び２，６−ルチジン（５，７３ｍ
、 ４８．６ｍそル）中でスラリー化し穴。室温でトリ
エチルシリルトリフルオロメタンスルホネー）（８−１
鴫３５．１ｍモル）を加えた。
０．７５時間後揮発物を真窒下除き残置をｎ−ヘキサン
（１ｔ）に竪した。沈でんを濾過によりａき戸液を蒸発
した。
（１ｔ）に竪した。沈でんを濾過によりａき戸液を蒸発
した。
生成物を酢酸エチル／旦−ヘキサン混合物を用いるシリ
カゲルのフラッシュクロマトグラフィによシ精製して表
題化合物（Ｅｌ ３ ）を得た。
カゲルのフラッシュクロマトグラフィによシ精製して表
題化合物（Ｅｌ ３ ）を得た。
ＵＶ Ｊｍａｘ（ヘキサン）： ４０７，３８３，３６
３，３４５゜２６５．２０６１１ｍ。
３，３４５゜２６５．２０６１１ｍ。
質量スペクトル： ＦＡＢ（３−ＮＯＢＡマトリックス
）実測質量ＭＨ＋２１６７゜Ｃ１ｍ、Ｈ，。、 ＮＯ，
、ＳＬ、として計算２１６８．３４゜ （Ｅｌ４） Ｃ−Ｍｅ Ｏ′／′ Ｎ−アセチル−１３−０−メチルアンホテリシンＢ （
ＤＩ） （０，９４ｆ、 ０．９５ｍ−ｖ−ル）を窒素
雰囲気下０℃で乾燥ジクロロメタン（５０ｄ）に懸濁し
％２．６−ルチジン（１，９８Ｆ、 ２．１５ｍ。
）実測質量ＭＨ＋２１６７゜Ｃ１ｍ、Ｈ，。、 ＮＯ，
、ＳＬ、として計算２１６８．３４゜ （Ｅｌ４） Ｃ−Ｍｅ Ｏ′／′ Ｎ−アセチル−１３−０−メチルアンホテリシンＢ （
ＤＩ） （０，９４ｆ、 ０．９５ｍ−ｖ−ル）を窒素
雰囲気下０℃で乾燥ジクロロメタン（５０ｄ）に懸濁し
％２．６−ルチジン（１，９８Ｆ、 ２．１５ｍ。
１８．５０ｍモル）次にトリエチルシリルトリフルオロ
メタンスルホネート（３，７６ｆ、３．２２ｍ、 １４
．００ｍモル）を注射器を経て加えた。４０分間θ℃で
攪拌後混合物をジエチルエーテル／氷冷０．２Ｍ重硫酸
ナトリ９ム溶液に注いだ。生成物をジエチルエーテルに
抽出しそして有機抽出物を無水硫酸マグネシウムによシ
乾燥し、−過し次に真空下蒸発しな。
メタンスルホネート（３，７６ｆ、３．２２ｍ、 １４
．００ｍモル）を注射器を経て加えた。４０分間θ℃で
攪拌後混合物をジエチルエーテル／氷冷０．２Ｍ重硫酸
ナトリ９ム溶液に注いだ。生成物をジエチルエーテルに
抽出しそして有機抽出物を無水硫酸マグネシウムによシ
乾燥し、−過し次に真空下蒸発しな。
粗生成物を乾燥ジエチルエーテル（１５ｍ）中で０℃で
攪拌しそしてトリエチルアミン（１０６岬、０．１５ｍ
、１−０４ｍモル）次に２−チオピリジルクロロホルメ
ート（１８０１１ｇ、ジクロロメタン中３４ｑ／−溶液
５．３ｓｄ、 １．０４ｍモル）によ多処理し大。３
０分間０℃で攪拌後混合物をジエチルエーテル（５０ｄ
）によシ希釈し、無水硫酸マグネシウムによシ乾燥し、
濾過しそして真空下蒸発した。１−ヘキサン／酢酸エチ
ル混合物によシ溶離するシリカゲルのフラッシュクロマ
トグラフィによる精製によって黄色の泡として表題化合
物（Ｅｌ４）を含む混合物を得喪。
攪拌しそしてトリエチルアミン（１０６岬、０．１５ｍ
、１−０４ｍモル）次に２−チオピリジルクロロホルメ
ート（１８０１１ｇ、ジクロロメタン中３４ｑ／−溶液
５．３ｓｄ、 １．０４ｍモル）によ多処理し大。３
０分間０℃で攪拌後混合物をジエチルエーテル（５０ｄ
）によシ希釈し、無水硫酸マグネシウムによシ乾燥し、
濾過しそして真空下蒸発した。１−ヘキサン／酢酸エチ
ル混合物によシ溶離するシリカゲルのフラッシュクロマ
トグラフィによる精製によって黄色の泡として表題化合
物（Ｅｌ４）を含む混合物を得喪。
Ｈｐ ｌ ｅ ：正常相。Ｗａｔｅｒｓ 放射状圧縮
シリカカラム。溶離液：ｌ−ヘキサ／中１５チ酢酸エチ
ル。
シリカカラム。溶離液：ｌ−ヘキサ／中１５チ酢酸エチ
ル。
２−７分。検出波長： ４０６ｎｍ０
１３．１４−アンヒドロ生成物の保持時間ニア、０分Ｏ
実施例１５
実施例１４の生成物混合物を窒素雰囲気下乾燥テトラヒ
ドロフラン（５−）中で０℃で攪拌しそしてメチルマグ
ネシウムプロミド（ジエチルエーテル中３Ｍ溶液０．３
７ｄ、 １．１１ｍモル）を注射器によシ加えた。０℃
で１５分後さらに０．３７−のメチルマグネシウムプロ
ミド溶液を加えそして混合物を０℃でさら）Ｃ１０分間
攪拌した。混合物をジエチルエーテル／水に注ぎ生成物
をジエチルエーテルに抽出した。合わせ大有機抽出物を
無水硫酸マグネシウムによシ乾燥し、濾過しそして真空
下濃縮した。ジクロロメタン中４チジエチルエーテルに
よシ溶離するシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィ
により精製して、表題化合物（Ｅｌ５）を含む混合物を
得た。
ドロフラン（５−）中で０℃で攪拌しそしてメチルマグ
ネシウムプロミド（ジエチルエーテル中３Ｍ溶液０．３
７ｄ、 １．１１ｍモル）を注射器によシ加えた。０℃
で１５分後さらに０．３７−のメチルマグネシウムプロ
ミド溶液を加えそして混合物を０℃でさら）Ｃ１０分間
攪拌した。混合物をジエチルエーテル／水に注ぎ生成物
をジエチルエーテルに抽出した。合わせ大有機抽出物を
無水硫酸マグネシウムによシ乾燥し、濾過しそして真空
下濃縮した。ジクロロメタン中４チジエチルエーテルに
よシ溶離するシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィ
により精製して、表題化合物（Ｅｌ５）を含む混合物を
得た。
Ｈｐ １ ｅ ：実施例１４におけるような正常相の条
件。
件。
１３．１４−アンヒドロ生成物の保持時間：３．６分。
実施例１６
トリエチルシリルー１３．１４−アンヒドロアンホテリ
シンＢ（Ｅ１６） 参考例４の生成物（１，５２Ｆ）を窒素下Ｏ℃で乾燥ジ
クロロメタン（６０ｍ）中に懸濁しそして２゜６−ルチ
ジ：、ｙ （２，５５ｆ、２．７６ｍ＋７． ２３．８
０ｍモル）次ＩＣ）リエチルシリルトリフルオａメタン
スルホネート（４，８９ｔ、 ４．１８ｄ、 １８
．５０ｍモル）を注射器によシ加えた。３０分間０℃で
攪拌後溶媒を蒸発しそして残渣を旦−ヘキサンに溶解し
、戸遇しそしてＰ液を再濃縮して褐色の油を得六。ニー
ヘキサン／酢酸エチル混合物によシ溶離するシリカゲル
のカラムクロマトグラフィによシ精製して表題生成物（
Ｅ１６）を得た。
シンＢ（Ｅ１６） 参考例４の生成物（１，５２Ｆ）を窒素下Ｏ℃で乾燥ジ
クロロメタン（６０ｍ）中に懸濁しそして２゜６−ルチ
ジ：、ｙ （２，５５ｆ、２．７６ｍ＋７． ２３．８
０ｍモル）次ＩＣ）リエチルシリルトリフルオａメタン
スルホネート（４，８９ｔ、 ４．１８ｄ、 １８
．５０ｍモル）を注射器によシ加えた。３０分間０℃で
攪拌後溶媒を蒸発しそして残渣を旦−ヘキサンに溶解し
、戸遇しそしてＰ液を再濃縮して褐色の油を得六。ニー
ヘキサン／酢酸エチル混合物によシ溶離するシリカゲル
のカラムクロマトグラフィによシ精製して表題生成物（
Ｅ１６）を得た。
１３．１４−アンヒドロ生成物を含む両分を氷／ ０．
２ Ｍ硫酸水素ナトリウム溶液により洗ってルチジンを
除き、無水硫酸マグネシウムによシ乾燥し、戸遇しそし
て蒸発した。
２ Ｍ硫酸水素ナトリウム溶液により洗ってルチジンを
除き、無水硫酸マグネシウムによシ乾燥し、戸遇しそし
て蒸発した。
ＲｆＯ，４Ｇ（シリカ） −Ｂ−ヘキサン中２５％酢酸
エチル〇 δＨ４００ＭＨｚ（（ＣＤｉ）ｔｃＯ） ： ７．８８
（２１Ｈ，ｄ、 Ｊ ７．５Ｈｚ）、 ７．７０（２
Ｈ，ｄ、 Ｊ ７．５Ｈｚ）、 ７．４３（２Ｈ，ｔ。
エチル〇 δＨ４００ＭＨｚ（（ＣＤｉ）ｔｃＯ） ： ７．８８
（２１Ｈ，ｄ、 Ｊ ７．５Ｈｚ）、 ７．７０（２
Ｈ，ｄ、 Ｊ ７．５Ｈｚ）、 ７．４３（２Ｈ，ｔ。
Ｊ ７．４Ｈｚ）、 ７．３４（２Ｈ，ｔ、 Ｊ ７．
４Ｈｚ）、 ６．５６−６．１１（１２Ｈ，ｍのシリー
ズ）、 ５−９９（１）Ｉ、 ｄｄ、Ｊ６．０．１５
．４Ｈｚ）、 ５．５５（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ ９．４．
１４．９Ｈｚ）。
４Ｈｚ）、 ６．５６−６．１１（１２Ｈ，ｍのシリー
ズ）、 ５−９９（１）Ｉ、 ｄｄ、Ｊ６．０．１５
．４Ｈｚ）、 ５．５５（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ ９．４．
１４．９Ｈｚ）。
５．３４（ＩＨ，ｄ、 Ｊ ９．９Ｈｚ）、 ４．８０
（ＩＨ，ｄ、 Ｊ ８．７Ｈｚ ）、 ４．７３−４．
６０ （２Ｈ，ｍ）、 ４．６３ （ＩＨ，ｓ ）。
（ＩＨ，ｄ、 Ｊ ８．７Ｈｚ ）、 ４．７３−４．
６０ （２Ｈ，ｍ）、 ４．６３ （ＩＨ，ｓ ）。
４．５９（ＩＨ，８）、 ４．５０（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ
６．５．１０．４Ｈｚ）、 ４．３５（ＩＨ，ｄｄ、
Ｊ ６．５．１０．４Ｈｚ）、 ４．３２−４．１７
（３Ｈ，ｍ）、４．１２（（ＩＨ，ｍ）、４．０１（Ｉ
ＪＩ、ｍ）。
６．５．１０．４Ｈｚ）、 ４．３５（ＩＨ，ｄｄ、
Ｊ ６．５．１０．４Ｈｚ）、 ４．３２−４．１７
（３Ｈ，ｍ）、４．１２（（ＩＨ，ｍ）、４．０１（Ｉ
ＪＩ、ｍ）。
３．９０（ＩＨ，ｄ、 Ｊ ２．７Ｈｚ）、 ３．８５
（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ２．８．８．７Ｈｚ ）、 ３．８
０−３．６６ （２Ｈ，ｍ）、 ３．６１ （ＩＨ。
（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ２．８．８．７Ｈｚ ）、 ３．８
０−３．６６ （２Ｈ，ｍ）、 ３．６１ （ＩＨ。
ｄｔ、 Ｊ ２．７． ９．７Ｈｚ）、 ３．４
５（ＩＨ，ｔ、 Ｊ ９．ＩＨｚ）。
５（ＩＨ，ｔ、 Ｊ ９．ＩＨｚ）。
３．３４（ＩＨ，ｍ）、２．６４（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ、８
．７，１０．８Ｈｚ）。
．７，１０．８Ｈｚ）。
２−６１−２．５０（２Ｈ，ｍ）、 ２．４３（ＩＨ
，ｒｎ）、 ２．４０−２．．２８（ＩＨ，ｍ＞、２
．２４−２．１５（ＩＨ，ＩＩＩ）、２．０８−１８８
（５Ｈ，ｍのシリーズ）、１．８３−１．４７（６Ｈ，
ｍのシリーズ）、 １．２５（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．
ＩＨｌ）、 １．１８（３Ｈ，ｄ。
，ｒｎ）、 ２．４０−２．．２８（ＩＨ，ｍ＞、２
．２４−２．１５（ＩＨ，ＩＩＩ）、２．０８−１８８
（５Ｈ，ｍのシリーズ）、１．８３−１．４７（６Ｈ，
ｍのシリーズ）、 １．２５（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．
ＩＨｌ）、 １．１８（３Ｈ，ｄ。
Ｊ６．０Ｈｚ）、１．１０−０．８８（８７Ｈ，ｍのシ
リーズ）。
リーズ）。
０．７７−０．５６ （５４Ｈ，ｍのシリーズ）ｐｐｍ
、カルボン酸のプロトンは観察されなかった。
、カルボン酸のプロトンは観察されなかった。
ＩＲ’ｍａｚ（薄いフィルム）： ３４４５，３５００
−２５００（ブロード、弱い）、１７３７（１７２０で
ショルダー）、１６８０，１５１０，１４６１，１４１
６，１３８０゜１３１０．１２４０，１１９２，１１６
９，１０８０，１００７゜９７７、７４０．６７２ｃｓ
ｗ−” 質量スペクトル： ＦＡＢ（３−ＮＯＢＡマトリックス
）実測質量ＭＨ２１５５−５゜ＣｔｔｅＨｔ。、ＮＯ，
、Ｓ ｉ、 Ｈ＋とじて計算２１５５゜ 実施例１７ ホテリシンＢ（２−ピリジルチオ）エステル（Ｅ １７
）五−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−３
，５，８，９，１１，１５，３５，２’、 ４’−ノナ
ー旦−トリエチルシリルー１３．１４−アンヒドロアン
ホテリシンＢ （Ｅ１６） （４６０ｖ、 ０．２１ｒ
ｒｚ＝ル）を０℃でトリエチルアミン（２４Ｍｑ、
０．０３ａｄ。
−２５００（ブロード、弱い）、１７３７（１７２０で
ショルダー）、１６８０，１５１０，１４６１，１４１
６，１３８０゜１３１０．１２４０，１１９２，１１６
９，１０８０，１００７゜９７７、７４０．６７２ｃｓ
ｗ−” 質量スペクトル： ＦＡＢ（３−ＮＯＢＡマトリックス
）実測質量ＭＨ２１５５−５゜ＣｔｔｅＨｔ。、ＮＯ，
、Ｓ ｉ、 Ｈ＋とじて計算２１５５゜ 実施例１７ ホテリシンＢ（２−ピリジルチオ）エステル（Ｅ １７
）五−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−３
，５，８，９，１１，１５，３５，２’、 ４’−ノナ
ー旦−トリエチルシリルー１３．１４−アンヒドロアン
ホテリシンＢ （Ｅ１６） （４６０ｖ、 ０．２１ｒ
ｒｚ＝ル）を０℃でトリエチルアミン（２４Ｍｑ、
０．０３ａｄ。
０、２４ ｍモル）次にジエチルエーテル（１２ｍ）中
の２−チオピリジルクロロホルメート（５２η、ジクロ
ロメタン中３５１１１ｉ／ｄ溶液ｔ、Ｓ Ｏ−）によ多
処理した。
の２−チオピリジルクロロホルメート（５２η、ジクロ
ロメタン中３５１１１ｉ／ｄ溶液ｔ、Ｓ Ｏ−）によ多
処理した。
３０分間０℃で攪拌後混合物をジエチルエーテトリエチ
ルシリルー１３．１４−アンヒドロアンルによシ希釈し
、無水硫酸マグネシウムによシ乾燥し、−過しそして真
空下蒸発し・た。クロマトグラフィの精製によシ黄色の
ガラス状固体として表題化合物（Ｅ１７）を得た。
ルシリルー１３．１４−アンヒドロアンルによシ希釈し
、無水硫酸マグネシウムによシ乾燥し、−過しそして真
空下蒸発し・た。クロマトグラフィの精製によシ黄色の
ガラス状固体として表題化合物（Ｅ１７）を得た。
Ｒｆ：０．２８（シリカ）、ｎ−ヘキサン中１０チ酢酸
エチル。
エチル。
δＨ２７０ＭＨｚ（（ＣＤｓ）ｇｃｏ）：８．７３（Ｉ
Ｈ，ｄ Ｊ ４Ｈｚ）。
Ｈ，ｄ Ｊ ４Ｈｚ）。
７Ｊ４（ＩＨ，ｄｔ、 Ｊ ８．２Ｈｚ）、 ７．８８
（２Ｈ，ｄ、 Ｊ８Ｈｚ）、 、７．７４（ＩＨ，ｄ、
Ｊ ８Ｈｚ）、 ７．７１（２Ｈ，ｄ Ｊ８Ｈｚ）、
７．５０−７．２７（５Ｈ，ｍ）、６．６５−６．１５
（１２Ｈ。
（２Ｈ，ｄ、 Ｊ８Ｈｚ）、 、７．７４（ＩＨ，ｄ、
Ｊ ８Ｈｚ）、 ７．７１（２Ｈ，ｄ Ｊ８Ｈｚ）、
７．５０−７．２７（５Ｈ，ｍ）、６．６５−６．１５
（１２Ｈ。
ｍのシリーズ）ｔ ６．０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ １５
，７Ｈｚ）。
，７Ｈｚ）。
５．６５（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ ９．１４Ｈｚ）、 ５．
３２（ＩＨ，ｄ、 ＪｌｏＨｚ）、４．９０−４．６０
（２Ｈ，ｍ）、４．７４（ＩＨ，Ｉ）。
３２（ＩＨ，ｄ、 ＪｌｏＨｚ）、４．９０−４．６０
（２Ｈ，ｍ）、４．７４（ＩＨ，Ｉ）。
４．６６（ＩＨ，ｌ）、 ４．５１（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ
１０．７Ｈｚ）。
１０．７Ｈｚ）。
４．４０−３．６５ （１０Ｈ，ｍのシリーズ）、
３．９３（ＩＨ，ｄ。
３．９３（ＩＨ，ｄ。
Ｊ ３Ｈｚ）、 ３．８６（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ ８．２
Ｈｚ）、 ３．５０−３．３５（２Ｈ，ｍ）、３．０３
（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ １１，９Ｈｚ）。
Ｈｚ）、 ３．５０−３．３５（２Ｈ，ｍ）、３．０３
（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ １１，９Ｈｚ）。
２．６５−１．４０（１６Ｈ，ｍのシリーズ）ｔ １
．２３（３Ｈ，ｄ。
．２３（３Ｈ，ｄ。
Ｊ ６Ｈｚ）、 １．１８（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ６Ｈｚ
）、 １．１６−０．８５（８７Ｈ，ｍのシリーズ）、
０．８５−０．４５（５４Ｅ：、ｍのシリーズ）ｐｐｍ
。
）、 １．１６−０．８５（８７Ｈ，ｍのシリーズ）、
０．８５−０．４５（５４Ｅ：、ｍのシリーズ）ｐｐｍ
。
ＩＲｕｍａｚ（薄いフィルＡ）： ３４５７，３０２０
゜２９６２．２９２０，２８８３．１？３６，１７０５
，１６７９゜１５７７．１５０８，１４６０，１４２０
，１３８３，１３１１゜１２４０．１１９２，１１６９
，１０８０，１００７，８３６゜７３０ｃｍ＋−１ 質量スペクトル： ＦＡＢ（３−ＮＯＢＡ／Ｎａ−ｒト
リックス）実測質量ＭＮａ ”２２７０Ｉ５Ｃ，、、Ｈ
，、、Ｎ、 Ｏ，、Ｓｌ。
゜２９６２．２９２０，２８８３．１？３６，１７０５
，１６７９゜１５７７．１５０８，１４６０，１４２０
，１３８３，１３１１゜１２４０．１１９２，１１６９
，１０８０，１００７，８３６゜７３０ｃｍ＋−１ 質量スペクトル： ＦＡＢ（３−ＮＯＢＡ／Ｎａ−ｒト
リックス）実測質量ＭＮａ ”２２７０Ｉ５Ｃ，、、Ｈ
，、、Ｎ、 Ｏ，、Ｓｌ。
ＳＮ＆ として計算２２７０゜
Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−３，５
，８，９，１１，１５，３５，２’、 ４’−ノナー〇
−トリエチルシリル−１３，１４，−アンヒドロアンホ
テリシンＢ（２−ピリジルチオ）エステル（Ｅ１７）（
２８２１’Ｆ、０．１３ｍモル）及び水素化はう素リチ
ウム（１６，４０岬、０．７５ｍモル）の混合物を室温
で窒素下乾燥テトラヒドロフラン（１０ｓ＋ｊ）中で攪
拌しな。１８時間後混合物を一７８℃に冷却し、飽和塩
化アンそニウム溶液によシ停止しそして室温とし虎。生
成物をジエチルエーテルに抽出しそして合わし九抽出物
を無水硫酸マグネシウムによシ乾燥しそして蒸発した。
，８，９，１１，１５，３５，２’、 ４’−ノナー〇
−トリエチルシリル−１３，１４，−アンヒドロアンホ
テリシンＢ（２−ピリジルチオ）エステル（Ｅ１７）（
２８２１’Ｆ、０．１３ｍモル）及び水素化はう素リチ
ウム（１６，４０岬、０．７５ｍモル）の混合物を室温
で窒素下乾燥テトラヒドロフラン（１０ｓ＋ｊ）中で攪
拌しな。１８時間後混合物を一７８℃に冷却し、飽和塩
化アンそニウム溶液によシ停止しそして室温とし虎。生
成物をジエチルエーテルに抽出しそして合わし九抽出物
を無水硫酸マグネシウムによシ乾燥しそして蒸発した。
ジクロロメタ７９１〜３％ジエチルエーテルによシ溶離
するシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィによシ精
製して黄色のガラス状物として表題化合物（Ｅ１８）を
得た。
するシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィによシ精
製して黄色のガラス状物として表題化合物（Ｅ１８）を
得た。
Ｒｆ：０．４０（シリカ）％ ジクロロメタ７９１％ジ
エチルエーテル。
エチルエーテル。
δＨ２７０ＭＨｚ （（ＣＤｓ）ｔ Ｃｏ） ニア、８
８ （２Ｈ，ｄ、 Ｊ ７．４Ｈｚ、）、 ７．７
０（２Ｈ，ｄ、 Ｊ ７．４Ｈｚ）、 ７．４６
−７．３４（４Ｈ，Ｉｎ）、６−６０−６．０５（１３
Ｈ，ｍのシリーズ）。
８ （２Ｈ，ｄ、 Ｊ ７．４Ｈｚ、）、 ７．７
０（２Ｈ，ｄ、 Ｊ ７．４Ｈｚ）、 ７．４６
−７．３４（４Ｈ，Ｉｎ）、６−６０−６．０５（１３
Ｈ，ｍのシリーズ）。
５．５５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ ９，１４Ｈｚ）、５．３
９（ＩＨ，ｄ。
９（ＩＨ，ｄ。
Ｊ １０．６Ｈｚ）、４．７５−３．６５（１８Ｈ，
ｍのシリーズ及び４．７３（ＩＨ，８）、４．６５（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ ２Ｈｚ）。
ｍのシリーズ及び４．７３（ＩＨ，８）、４．６５（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ ２Ｈｚ）。
３．９３（１）（、ｄ、Ｊ ３Ｈｚ））、３．６０（
ＩＨ，ｄｔ、Ｊ３．０．９．５Ｈ１）、 ３．４６（
ＩＨ，ｔ、 Ｊ ｓ、ｏａｚ）ｅ ３．３１（ＩＨ
，ｍ）、２．５８（２Ｈ，ｍ）、２゜５０−１．４５（
１５Ｈ。
ＩＨ，ｄｔ、Ｊ３．０．９．５Ｈ１）、 ３．４６（
ＩＨ，ｔ、 Ｊ ｓ、ｏａｚ）ｅ ３．３１（ＩＨ
，ｍ）、２．５８（２Ｈ，ｍ）、２゜５０−１．４５（
１５Ｈ。
ｍのシリーズ）ｅ １．２５（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ６
．１Ｈｚ）、１．１８（３Ｈ，ｄ、Ｊ ６．７Ｈ２）
、１．１５〒０．８０（８７Ｈ，ｍのシリーズ）０．７
５−０．４５（５４Ｈ，ｍのシリーズ）ｐｐｍ。
．１Ｈｚ）、１．１８（３Ｈ，ｄ、Ｊ ６．７Ｈ２）
、１．１５〒０．８０（８７Ｈ，ｍのシリーズ）０．７
５−０．４５（５４Ｈ，ｍのシリーズ）ｐｐｍ。
ＯＨプロトンは観察されなかった。
ＩＲｔ’ｍａｘ（薄いフィルム）： ３６００−３３０
０（ブロード、弱い）、３４４０．２９５・０．２９０
２．２２８７０，１７２６，１６６８，１５０５，１４
５５．１４’０８゜１３７２．１３０２，１２３３，１
１８７，１１６１，１０７３゜１０００．８９８，８５
７，８３３，８０５，７３２，７２０゜６６７ｃｎｓ−
” 質量スペクトル： ＦＡＢ（３−ＮｏＢＡ／Ｎ＆マトリ
ックス）実測質量ＭＮａ”２１６３゜Ｃ０゜Ｈ□ｅ Ｎ
０ｔｙ Ｓ ＬＮ＆＋とじて計算２１６３゜ −１３１４−アンヒドロアンホテリシンＢ（Ｅ １９）
（Ｅ１９） Ｎ−トリフルオロアセチルアンホテリシンＢ（Ｄ ５
） （１，９９ｆ、 １．９６ｍ−ｖ−ル）及びｄ−１
０−カンファースルホン酸（１８０１１９，０，７７ｍ
モル）を窒素下室温で乾燥テトラヒドロフラン（１０ｄ
）／メタノール（６０Ｊ）中で攪拌した。１５分後トリ
エチルアミン（１１８岬、 ０．１６ ｗｔ、１．１６
ｍモル）を加え、溶液を約１０−に濃縮しジエチルエ
ーテル（２ｔ）Ｋ加え穴。沈でんし穴生成物を濾過によ
υ集め、ジエチルエーテル次に酢酸エチルにより洗い、
乾燥して黄色の粉末としてＮ−）リフルオロアセチルシ
１３二〇シメチルアンホテリシンＢを得喪。
０（ブロード、弱い）、３４４０．２９５・０．２９０
２．２２８７０，１７２６，１６６８，１５０５，１４
５５．１４’０８゜１３７２．１３０２，１２３３，１
１８７，１１６１，１０７３゜１０００．８９８，８５
７，８３３，８０５，７３２，７２０゜６６７ｃｎｓ−
” 質量スペクトル： ＦＡＢ（３−ＮｏＢＡ／Ｎ＆マトリ
ックス）実測質量ＭＮａ”２１６３゜Ｃ０゜Ｈ□ｅ Ｎ
０ｔｙ Ｓ ＬＮ＆＋とじて計算２１６３゜ −１３１４−アンヒドロアンホテリシンＢ（Ｅ １９）
（Ｅ１９） Ｎ−トリフルオロアセチルアンホテリシンＢ（Ｄ ５
） （１，９９ｆ、 １．９６ｍ−ｖ−ル）及びｄ−１
０−カンファースルホン酸（１８０１１９，０，７７ｍ
モル）を窒素下室温で乾燥テトラヒドロフラン（１０ｄ
）／メタノール（６０Ｊ）中で攪拌した。１５分後トリ
エチルアミン（１１８岬、 ０．１６ ｗｔ、１．１６
ｍモル）を加え、溶液を約１０−に濃縮しジエチルエ
ーテル（２ｔ）Ｋ加え穴。沈でんし穴生成物を濾過によ
υ集め、ジエチルエーテル次に酢酸エチルにより洗い、
乾燥して黄色の粉末としてＮ−）リフルオロアセチルシ
１３二〇シメチルアンホテリシンＢを得喪。
Ｈｐ １ ｅ ：参考例５における条件。保持時間：５
．１分。
．１分。
黄色の粉末を窒素下０℃で乾燥ジクロロメタン（６０ａ
ｔ”）Ｋ懸濁し、２．６−ルチジン（２，５１ｒ、２．
７２＋ｄ、 ２３．４０ｍモル）次にトリエチルシリ
ルトリフルオロメタンスルホネート（４，７７ｔ。
ｔ”）Ｋ懸濁し、２．６−ルチジン（２，５１ｒ、２．
７２＋ｄ、 ２３．４０ｍモル）次にトリエチルシリ
ルトリフルオロメタンスルホネート（４，７７ｔ。
４．０８ｄ、 １８．００ｍモル）を注射器によシ加え
た。
た。
３０分間０℃で攪拌後溶媒を蒸発し残渣をｎ−へキサン
に溶解し、戸遇しそして戸液を再濃縮した。
に溶解し、戸遇しそして戸液を再濃縮した。
１−へキサン／酢酸エチル混合物によシ溶離するシリカ
ゲルのカラムクロマトグラフィにより精製して表題化合
物（Ｅ１９）を得六。
ゲルのカラムクロマトグラフィにより精製して表題化合
物（Ｅ１９）を得六。
Ｒｆｏ、ｚ３（シリカ）−ｎ−ヘキサ７９１０％酢酸エ
チル。
チル。
実施例２０
０イＣ−ＣＦ”
（Ｅ２０．）
五−トリフルオロアセチルシ３．５．８．９．１１゜１
５、３５．２’、 ４’−ノナ−０−トリエチルシリル
−１３，１４−アンヒドロアンホテリシ／Ｂ（Ｅ１９）
（６９７岬）を乾燥ジエチルエーテル（１０〆）中で０
℃で攪拌しそしてトリエチルアミン（３３１１ｖ、 ０
．０５ｍ／、 ０．３３ｍモル）次に２−チオピリジル
クロロホルメート（７７＋ｍｓ＋、 ジクロロメタン
中３５ｍｙ／ｙ溶液２．２＋ｔ／、０．４４ｍモル）に
よシ処理した。３０分間θ℃で攪拌混信の０、０１１ａ
ｔのトリエチルアミン及び０．５−の２−チオピリジル
クロロホルメート溶液を加えそして攪拌をさらに２０分
間続は念。混合物をジエチルエーテル（ｉ ｏ ｏｙ）
により希釈し、無水硫酸マグネシウムによシ乾燥し、濾
過し蒸発した。ニーヘキサン中ＸＯＳ酢酸エチルによυ
溶離するシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィによ
る精製により黄色のガラス状固体として表題化合物（Ｅ
２０）を得た。
５、３５．２’、 ４’−ノナ−０−トリエチルシリル
−１３，１４−アンヒドロアンホテリシ／Ｂ（Ｅ１９）
（６９７岬）を乾燥ジエチルエーテル（１０〆）中で０
℃で攪拌しそしてトリエチルアミン（３３１１ｖ、 ０
．０５ｍ／、 ０．３３ｍモル）次に２−チオピリジル
クロロホルメート（７７＋ｍｓ＋、 ジクロロメタン
中３５ｍｙ／ｙ溶液２．２＋ｔ／、０．４４ｍモル）に
よシ処理した。３０分間θ℃で攪拌混信の０、０１１ａ
ｔのトリエチルアミン及び０．５−の２−チオピリジル
クロロホルメート溶液を加えそして攪拌をさらに２０分
間続は念。混合物をジエチルエーテル（ｉ ｏ ｏｙ）
により希釈し、無水硫酸マグネシウムによシ乾燥し、濾
過し蒸発した。ニーヘキサン中ＸＯＳ酢酸エチルによυ
溶離するシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィによ
る精製により黄色のガラス状固体として表題化合物（Ｅ
２０）を得た。
Ｒｆ：０．８９（シリカ）−ｎ−ヘキサン中１５チ酢酸
エチル。
エチル。
δＨ４００ＭＨｚ（（ＣＤｓ）＊ Ｃｏ）： ８．７２
（）Ｈ，ｄｄｄ、ＪＯ，９，１，９，４，８Ｈｚ）、
７．９４（ＩＨ，ｄｔ、 Ｊ Ｌ９．７．７Ｈｚ）、
７．７４（ＩＨ，ｄｔ、 Ｊ Ｏ，９，７，９Ｈｚ
）、 ７．４５（ＩＨｄｄｄ、 Ｊ １．１．４．
８．７．６Ｈ１）、 ７．２７（ＩＨ，ｄ。
（）Ｈ，ｄｄｄ、ＪＯ，９，１，９，４，８Ｈｚ）、
７．９４（ＩＨ，ｄｔ、 Ｊ Ｌ９．７．７Ｈｚ）、
７．７４（ＩＨ，ｄｔ、 Ｊ Ｏ，９，７，９Ｈｚ
）、 ７．４５（ＩＨｄｄｄ、 Ｊ １．１．４．
８．７．６Ｈ１）、 ７．２７（ＩＨ，ｄ。
Ｊ９．２Ｈｚ）、６−５５−６．１１（１２Ｈ，ｍのシ
リーズ）。
リーズ）。
６゜０１ （ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ ６．４． １５．４
Ｈｚ）、 ５．５６ （ＩＨ，。
Ｈｚ）、 ５．５６ （ＩＨ，。
ｄｄ、 Ｊ ９．３． １４．８Ｈｚ）、 ４．８３
−４．７９（ＩＨ，ｍ）。
−４．７９（ＩＨ，ｍ）。
４．８２（ＩＨ，Ｉ）、４．７７（ＩＨ，ｆｆ１）、４
．６９（ＩＨ，ｍ）。
．６９（ＩＨ，ｍ）。
４．６７（ＩＨ，畠）ｅ ４．３５（ＩＨ，ｄｄｄ、
Ｊ ２．１．７．４゜１０．５Ｈｚ）、４．２２（
ＩＨ，ｍ）、４．１６−４．０６（２Ｈ。
Ｊ ２．１．７．４゜１０．５Ｈｚ）、４．２２（
ＩＨ，ｍ）、４．１６−４．０６（２Ｈ。
ｒｎ）、 ４．０５（ＩＨ，ｄ、 Ｊ ３．ＩＨｚ）
ｅ ４．０１ （ＩＩ（、ｍ）。
ｅ ４．０１ （ＩＩ（、ｍ）。
３．８５（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ ２．８． ８．６Ｈ
ｚ）、 ３．８０−３．６９（２Ｈ，ｍ）、３．６８
（ＩＨ，ｔ、Ｊ ８．９Ｈｚ）、３．５２（ＩＨ，ｄ
ｑ、 Ｊ ６．２． ８．６Ｈｚ）、 ３．０４
（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ８．６． １０．７Ｈｚ）、
２．５８（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ ５．８． １７．Ｉ
Ｈ２。
ｚ）、 ３．８０−３．６９（２Ｈ，ｍ）、３．６８
（ＩＨ，ｔ、Ｊ ８．９Ｈｚ）、３．５２（ＩＨ，ｄ
ｑ、 Ｊ ６．２． ８．６Ｈｚ）、 ３．０４
（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ８．６． １０．７Ｈｚ）、
２．５８（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ ５．８． １７．Ｉ
Ｈ２。
ＡＢＸシステムのＡ） ２．５２（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ
７．１７．１Ｈｚ 、。
７．１７．１Ｈｚ 、。
ＡＢＸシステムのＢ ） ＝ ２．４３ （Ｉ Ｈ−
ｍ ） ＊ ２．４０ ＝ ２．３０（２Ｈ，ｍ）、λ
１２−１．８８（５Ｈ，ｒｎのシリーズ）。
ｍ ） ＊ ２．４０ ＝ ２．３０（２Ｈ，ｍ）、λ
１２−１．８８（５Ｈ，ｒｎのシリーズ）。
１．８２−１．５８ （５Ｈ，ｍのシリーズ）ｅ １
，５１（ＩＨ，ｍ）＊１．２７（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．
２Ｈｍ）、 １．１９（３Ｈ，ｄ、 Ｊ６．０Ｈｚ）、
１．１０−０．９２（８７Ｈ，ｍのシリーズ）、０．７
７−０．５９（５４ＴＩ、ｍのシリーズ）ｐｐｍ。
，５１（ＩＨ，ｍ）＊１．２７（３Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．
２Ｈｍ）、 １．１９（３Ｈ，ｄ、 Ｊ６．０Ｈｚ）、
１．１０−０．９２（８７Ｈ，ｍのシリーズ）、０．７
７−０．５９（５４ＴＩ、ｍのシリーズ）ｐｐｍ。
ＩＲｔｍａｘ（薄いフィルム）： ３４３０，２９５８
゜２９１６．２８８０，１７３７，１７０３，１６７６
．１５７４゜１５２９．１４６０，１４１６，１３７９
，１２９８，１２３９゜１１８７．１１６７．１０フ５
，１００６，８３７，７４０゜６７２ｃｓｗ−” 質量スペクトル： ＦＡＢ（３−ＮＯＢム／Ｎａマトリ
ックス）実測質量２１４４゜Ｃ，、、Ｈ，、、Ｎ、Ｏ，
。Ｓ ｉｌ ５ＦｊＮＩＬ”として計算２１４４゜ 実施例２０のピリジルチオエステル（５２９Ｗ。
゜２９１６．２８８０，１７３７，１７０３，１６７６
．１５７４゜１５２９．１４６０，１４１６，１３７９
，１２９８，１２３９゜１１８７．１１６７．１０フ５
，１００６，８３７，７４０゜６７２ｃｓｗ−” 質量スペクトル： ＦＡＢ（３−ＮＯＢム／Ｎａマトリ
ックス）実測質量２１４４゜Ｃ，、、Ｈ，、、Ｎ、Ｏ，
。Ｓ ｉｌ ５ＦｊＮＩＬ”として計算２１４４゜ 実施例２０のピリジルチオエステル（５２９Ｗ。
０、２４ ｍモル）を窒素下乾燥テトラヒドロフラン（
１５Ｈｚ）中で０℃で攪拌し臭化フェニルマグネシウム
（ジエチルエーテル中３Ｍ溶ｉｏ、７９ｍ。
１５Ｈｚ）中で０℃で攪拌し臭化フェニルマグネシウム
（ジエチルエーテル中３Ｍ溶ｉｏ、７９ｍ。
２．３５ｍモル）を注射器により加え光。３０分後混信
０．３０−の臭化フェニルマグネシウム溶液を加えそし
て攪拌をさらにＬ５時間続けた。水を加えそして生成物
をジエチルエーテルに抽出した。
０．３０−の臭化フェニルマグネシウム溶液を加えそし
て攪拌をさらにＬ５時間続けた。水を加えそして生成物
をジエチルエーテルに抽出した。
合わせ大抽出物を飽和塩水によシ洗ｉ１無水硫酸ｉグネ
シウムによシ乾燥し一過しそして蒸発した。
シウムによシ乾燥し一過しそして蒸発した。
ニーヘキサン／酢酸エチル及びニーヘキサン／ジクロロ
メタン混合物によシ溶離するシリカゲルのカラムクロマ
トグラフィによる精製により２種の主な生成物を得た。
メタン混合物によシ溶離するシリカゲルのカラムクロマ
トグラフィによる精製により２種の主な生成物を得た。
最低の極性の工＝トリフルオロアセチル誘導体（Ｅ２１
）は次の性状を有する。
）は次の性状を有する。
Ｒｆ：０．７１（シリカ）、ニーヘキサン中１５チ酢酸
エチル。
エチル。
δＩＥＩ ２７０ＭＨｚ （（ＣＤｓ ）！ ＣＯ）
： ８．１２ （２Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．９Ｈｚλ７．７
４−７．５６（３Ｈ，ｍ）、 ７．３７（ＩＨ，ｄ、
Ｊ ９．ＩＨｚ）。
： ８．１２ （２Ｈ，ｄ、 Ｊ ６．９Ｈｚλ７．７
４−７．５６（３Ｈ，ｍ）、 ７．３７（ＩＨ，ｄ、
Ｊ ９．ＩＨｚ）。
６．５７−６．０９（１２Ｈ，ｍのシリーズ）ｅ ５
．９０（ＩＨ。
．９０（ＩＨ。
ｄｄ、 Ｊ ６．６．１５−７Ｈｚ）、 ５．５４（Ｉ
Ｈ，ｄｄ、 Ｊ １０゜１５Ｈｚ）、４．８３（ＩＨ，
ｄ、Ｊ ８．２Ｈｚ）、４．７３（ＩＨ，ｓ）。
Ｈ，ｄｄ、 Ｊ １０゜１５Ｈｚ）、４．８３（ＩＨ，
ｄ、Ｊ ８．２Ｈｚ）、４．７３（ＩＨ，ｓ）。
４Ｊ６（ＩＨ，ｍ）、４．４２（２Ｈ，ｍ）、４．２７
−３．６６（ＩＯＨ。
−３．６６（ＩＯＨ。
ｍのシリーズ）、３．６０（ＩＬ ｔ、Ｊ ８．９Ｈ
ｚ）、３．０５（ＩＨ，ｍ）、２−６６−４．３３（４
１Ｈ，ｍ）、２＋１Ｏ−Ｌ４３（１２Ｈ。
ｚ）、３．０５（ＩＨ，ｍ）、２−６６−４．３３（４
１Ｈ，ｍ）、２＋１Ｏ−Ｌ４３（１２Ｈ。
ｍのシリーズ）ｔ Ｌ２３−０．８８（９３Ｈ，ｒｎ
のシリーズ）。
のシリーズ）。
０．８８−０．３５ （５４Ｈ，ｍのシリーズ）ｐｐｒ
ｎ。
ｎ。
ＩＲｕｍｊＬｘ（薄いフィルム）： ３４３５，２９５
７，２９１５゜２８８０．１７３７，１６７５，１５９
９，１５２８，１４６０゜１４１３．１３７９，１２９
６，１２４０，１１６６．１０７１゜１００５．８９７
，８５７，８３９，７３０，６７０α−１質量スペクト
＃ ： ＦＡＢ（３−ＮＯＢＡ／Ｎａ−ｖトリックス）
実測質量ＭＮ＆ ２１１２±１゜Ｃ，、、Ｈ！、、
Ｎｏ、。
７，２９１５゜２８８０．１７３７，１６７５，１５９
９，１５２８，１４６０゜１４１３．１３７９，１２９
６，１２４０，１１６６．１０７１゜１００５．８９７
，８５７，８３９，７３０，６７０α−１質量スペクト
＃ ： ＦＡＢ（３−ＮＯＢＡ／Ｎａ−ｖトリックス）
実測質量ＭＮ＆ ２１１２±１゜Ｃ，、、Ｈ！、、
Ｎｏ、。
Ｓ Ｉｓ Ｆｓ Ｎａ として計算２１１１゜さらに
極性の高い遊離アミノ誘導体（Ｅ２２）は次の性状を有
する。
極性の高い遊離アミノ誘導体（Ｅ２２）は次の性状を有
する。
Ｒｆ：０．３８（シリカ）、ニーヘキサン中１５チ酢酸
エチル。
エチル。
ＩＲｔ’ｍａｚ（薄いフィルム）： ２９５５，２９１
０．２ｇ７９゜１７３６．１６７２，１５９９，１５８
０，１４６０，１４１２゜１３６６．１３０６，１２３
７，１２０５，１１６５，１０７５゜（ブロード）、１
００３，９７４，８６２，８３７，８０９゜７３６ ｃ
ｍｇ−、”＊ 質量スヘクトに： ＦＡＢ（３−ＮＯＢＡ／Ｎａ−ｒト
リックス）実測質量ＭＮａ”２０１６±１゜ＣＩ。、Ｈ
７゜、ＮＯ□３ｉ、Ｎａ として計算２０１５．３゜
１３．１４−アンヒドロアンホテリシンＢ（Ｅ６）（２
，３１１Ｆ、２．５Ｘ１０−’そル）を蒸留水（３ｍｇ
）に溶解した。この溶液の一部（０，２ｄ ）をｐＨ２
，４のホス７エートパツ７アー（オルト燐酸を用いて酸
性化しｆｔ Ｏ，０５Ｍ ＮａＨ２ＰＯａ ３ｗｔ）に
よシ希釈した。
０．２ｇ７９゜１７３６．１６７２，１５９９，１５８
０，１４６０，１４１２゜１３６６．１３０６，１２３
７，１２０５，１１６５，１０７５゜（ブロード）、１
００３，９７４，８６２，８３７，８０９゜７３６ ｃ
ｍｇ−、”＊ 質量スヘクトに： ＦＡＢ（３−ＮＯＢＡ／Ｎａ−ｒト
リックス）実測質量ＭＮａ”２０１６±１゜ＣＩ。、Ｈ
７゜、ＮＯ□３ｉ、Ｎａ として計算２０１５．３゜
１３．１４−アンヒドロアンホテリシンＢ（Ｅ６）（２
，３１１Ｆ、２．５Ｘ１０−’そル）を蒸留水（３ｍｇ
）に溶解した。この溶液の一部（０，２ｄ ）をｐＨ２
，４のホス７エートパツ７アー（オルト燐酸を用いて酸
性化しｆｔ Ｏ，０５Ｍ ＮａＨ２ＰＯａ ３ｗｔ）に
よシ希釈した。
反応を逆相Ｈｐｌｃｌｃよシモニターした。室温で３．
５時間後原料は水和されてアンホテリシンＢを生じ念。
５時間後原料は水和されてアンホテリシンＢを生じ念。
ＭＩＣデータ
方法
マイクロタイター血中でプロス培地中にテスト化合物を
希釈することによシ最小阻止濃度（ＶＩＩＣ）を求め念
。ブロス培地（イースト窒素ベース＋１チグルコース）
中に予め生長した微生物を希釈し穴に加えて、１穴当シ
約１ＯＳコロニ一形成単位の最終注入量とし大。血を３
７℃でインキュベートし６穴の混濁度を間隔をおいて調
べた。ＭＩＣを有意な生長を防止した最低濃度（μｆ／
−）とした。
希釈することによシ最小阻止濃度（ＶＩＩＣ）を求め念
。ブロス培地（イースト窒素ベース＋１チグルコース）
中に予め生長した微生物を希釈し穴に加えて、１穴当シ
約１ＯＳコロニ一形成単位の最終注入量とし大。血を３
７℃でインキュベートし６穴の混濁度を間隔をおいて調
べた。ＭＩＣを有意な生長を防止した最低濃度（μｆ／
−）とした。
結果
最小阻止濃度（μｆ／１Ｉｄ）
（２〜３日のインキュベーション後に測定）米注入量１
０暴細胞／Ｍｔ
０暴細胞／Ｍｔ
Claims (17)
- （１）式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中 それぞれのＲ＿１は独立して水素又はシリル保護基であ
り；Ｒ＿２はカルボン酸又はその誘導体；ケトン又はア
ルデヒド官能基；ヒドロキシメチルであつてそのヒドロ
キシル官能基は任意にシリル化されているか又はヒドロ
キシＣ＿１〜＿４アルキル、アルコキシＣ＿１〜＿４ア
ルキル、アルコキシカルボニルＣ＿１〜＿４アルキル、
ヒドロキシカルボニルＣ＿１〜＿４アルキル、アルキル
、アルカノイアロイルにより置換されており；Ｘ及びＹ
の一つは水素であつて他は糖類の残基；ヒドロキシル；
任意に置換されていてもよいＣ＿１〜＿６アルコキシ又
はＣ＿３〜＿８シクロアルコキシ；アルカノイルオキシ
；チオアルカノイルオキシ；スルホニルオキシ；ハロゲ
ン；又は任意に置換されていてもよいアリールオキシ、
アルアルキルオキシ又はアロイルオキシであるか；又は
Ｘ及びＹはそれらが結合している炭素原子と一緒になつ
てカルボニル基又はその誘導体であり；ただしそれぞれ
のＲ＿１がトリメチルシリルであつてＲ＿２がメトキシ
カルボニルのときＸ及びＹの一つはヒドロキシル、４−
ニトロ−フェニルカルボキシ又はＮ−アセチル−３，４
−Ｏ−トリメチルシリル−ミコサミンではなく、又はＸ
及びＹはそれらが結合している炭素原子と一緒になつて
カルボニル基ではなく；それぞれのＲ＿１が水素であつ
てＲ＿２がメトキシカルボニルのときＸ及びＹの一つは
ヒドロキシル又は４−ニトロフェニルカルボキシではな
く；そしてそれぞれのＲ＿１が水素であつてＲ＿２がカ
ルボキシのときＸ及びＹの一つはヒドロキシルではない
） の化合物又はその塩。 - （２）式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＿１及びＲ＿２は請求項１の式（ I ）につ
いて規定した通りであり、Ｒ＿３は水素又はアミン保護
基でありそしてそれぞれＲ＿４は独立して水素又はシリ
ル保護基であり、ただしそれぞれのＲ＿１及びＲ＿４が
トリメチルシリルであつてＲ＿２がメトキシカルボニル
のときＲ＿３はアセチルではない）の化合物又はその塩
。 - （３）式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 〔式中、Ｒ＿２は請求項１の式（ I ）について規定し
た通りであり；Ｘ及びＹの一つは水素であつて他はヒド
ロキシル；Ｃ＿１〜＿４アルコキシ又はＣ＿３〜＿８シ
クロアルコキシであつてこれらは任意にカルボキシ、ア
ルコキシカルボニル、ヒドロキシル、アルキル、アルコ
キシ、ハロゲン、又は任意にＣ＿１〜＿６アルキルによ
り置換されていてもよいアミノにより置換されていても
よく；フェノキシ及びベンジルオキシであつてそのベン
ゼン環のそれぞれは任意にカルボキシ、アルコキシカル
ボニル、ヒドロキシル、アルキル、アルコキシ、ハロゲ
ン、又は任意にＣ＿１〜＿６アルキルにより置換されて
いてもよいアミノにより置換されていてもよく；又は糖
類の残基；▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿３は水素又はアミノ保護基である）から選択
されるか；又はＸ及びＹはそれらが結合している炭素原
子と一緒になつてカルボニル基であり；ただしＲ＿２が
メトキシカルボニル又はカルボキシのときＸ及びＹの一
つはヒドロキシルではない〕の化合物又はその製薬上許
容しうる塩。 - （４）Ｒ＿１が水素、トリメチルシリル又はトリエチル
シリルである請求項１記載の化合物。 - （５）Ｒ＿２がヒドロキシカルボニル、アルコキシカル
ボニル、アミノカルボニル、アルキルチオカルボニル、
アリールチオカルボニル、ヘテロアリールチオカルボニ
ル、アルカノイル、アロイル又はヒドロキシメチル（ヒ
ドロキシ官能基は任意にＣ＿１〜＿４アルキル又はＣ＿
１〜＿５アルカノイルにより置換されていてもよい）で
ある請求項１〜４の何れか一つの項記載の化合物。 - （６）Ｒ＿２がヒドロキシカルボニル、メトキシカルボ
ニル、ヒドロキシメチル、アセチル、ベンゾイル又は２
−ピリジルチオカルボニルである請求項５記載の化合物
。 - （７）Ｒ＿３が水素、アセチル、トリフルオロアセチル
又は９−フルオレニルメトキシカルボニルである請求項
２〜６の何れか一つの項記載の化合物。 - （８）Ｒ＿４が水素、トリメチルシリル又はトリエチル
シリルである請求項２〜７の何れか一つの項記載の化合
物。 - （９）Ｒ＿１が水素、トリメチルシリル又はトリエチル
シリルであり；Ｒ＿２がヒドロキシカルボニル、メトキ
シカルボニル、ヒドロキシメチル、アセチル、ベンゾイ
ル又は２−ピリジルチオカルボニルであり；Ｒ＿３が水
素、アセチル、トリフルオロアセチル又は９−フルオレ
ニルメトキシカルボニルであり；そしてＲ＿４が水素、
トリメチルシリル又はトリエチルシリルである請求項２
記載の化合物。 - （１０）Ｒ＿２がヒドロキシカルボニル、メトキシカル
ボニル又はヒドロキシメチルであり；そしてＲ＿３が水
素、アセチル又は９−フルオレニルメトキシカルボニル
である請求項３記載の化合物。 - （１１）化合物が、 Ｎ−アセチル−３，５，８，９，１１，１５，３５，２
′，４′−ノナ−０−トリエチルシリル−１３，１４−
アンヒドロアンホテリシンＢ； Ｎ−アセチル−１３，１４−アンヒドロアンホテリシン
Ｂメチルエステル； １３，１４−アンヒドロアンホテリシンＢ；Ｎ−（９−
フルオレニルメトキシカルボニル）−１３，１４−アン
ヒドロアンホテリシンＢ；Ｎ−（９−フルオレニルメト
キシカルボニル）−３，５，８，９，１１，１５，３５
，２′，４′−ノナ−０−トリメチルシリル−１３，１
４−アンヒドロアンホテリシンＢメチルエステル； Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−１３，
１４−アンヒドロアンホテリシンＢメチルエステル； １３，１４−アンヒドロアンホテリシンＢメチルエステ
ル； Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−１６−
デカルボキシ−１６−ヒドロキシメチル−１３，１４−
アンヒドロアンホテリシンＢ；１６−デカルボキシ−１
６−ヒドロキシメチル−１３，１４−アンヒドロアンホ
テリシンＢ；Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニ
ル）−３，５，８，９，１１，１５，３５，２′，４′
−ノナ−０−トリエチルシリル−１３，１４−アンヒド
ロアンホテリシンＢメチルエステル； Ｎ−アセチル−３，５，８，９，１１，１５，３５，２
′，４′−ノナ−０−トリエチルシリル−１３，１４−
アンヒドロアンホテリシンＢ（２−ピリジルチオ）エス
テル； Ｎ−アセチル−１６−アセチル−１６−デカルボキシ−
３，５，８，９，１１，１５，３５，２′，４′−ノナ
−０−トリエチルシリル−１３，１４−アンヒドロアン
ホテリシンＢ； Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−３，５
，８，９，１１，１５，３５，２′，４′−ノナ−０−
トリエチルシリル−１３，１４−アンヒドロアンホテリ
シンＢ； Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−３，５
，８，９，１１，１５，３５，２′，４′−ノナ−０−
トリエチルシリル−１３，１４−アンヒドロアンホテリ
シンＢ（２−ピリジルチオ）エステル；Ｎ−（９−フル
オレニルメトキシカルボニル）−１６−デカルボキシ−
１６−ヒドロキシメチル−３，５，８，９，１１，１５
，３５，２′，４′−ノナ−０−トリエチルシリル−１
３，１４−アンヒドロアンホテリシンＢ； Ｎ−トリフルオロアセチル−３，５，８，９，１１，１
５，３５，２′，４′−ノナ−０−トリエチルシリル−
１３，１４−アンヒドロアンホテリシンＢ； Ｎ−トリフルオロアセチル−３，５，８，９，１１，１
５，３５，２′，４′−ノナ−０−トリエチルシリル−
１３，１４−アンヒドロアンホテリシンＢ（２−ピリジ
ルチオ）エステル； Ｎ−トリフルオロアセチル−１６−ベンゾイル−１６−
デカルボキシ−３，５，８，９，１１，１５，３５，２
′，４′−ノナ−０−トリエチルシリル−１３，１４−
アンヒドロアンホテリシンＢ； 又は １６−ベンゾイル−１６−デカルボキシ−３，５，８，
９，１１，１５，３５，２′，４′−ノナ−０−トリエ
チルシリル−１３，１４−アンヒドロアンホテリシンＢ である請求項１記載の化合物。 - （１２）式（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） （式中、Ｌが脱離基又はそれに転換できる基であり、Ｒ
＿１及びＲ＿２は請求項１の式（ I ）について規定し
た通りであり、Ｒ＿３は水素又はアミン保護基でありそ
してそれぞれのＲ＿４は独立して水素又はシリル保護基
である） の化合物とシリル化剤とを反応させて請求項２で規定し
た式（II）の化合物を得て、そして次に必要に応じて （ａ）Ｒ＿１をＲ＿１の他の基に、Ｒ＿２をＲ＿２の他
の基に、Ｒ＿３をＲ＿３の他の基に又はＲ＿４をＲ＿４
の他の基に転換する工程； （ｂ）糖類の部分を任意に開裂して、Ｘ及びＹがそれら
が結合している炭素原子とともにカルボニル基である化
合物を得る工程； （ｃ）形成した１９−位のカルボニル基を任意に還元し
て、Ｘ及びＹの一つが水素でありそして他がヒドロキシ
ルである化合物を得る工程；そして（ｄ）形成した１９
−ヒドロキシル官能基を任意に誘導基にする工程 よりなる請求項１に規定した式（ I ）の化合物を製造
する方法。 - （１３）Ｌがヒドロキシル又はメトキシである請求項１
２記載の方法。 - （１４）式（Ｖａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖａ） 〔式中、Ｒ＿２は請求項１の式（ I ）について規定し
た通りであり；Ｘ及びＹの一つは水素であつて他はヒド
ロキシル；Ｃ＿１〜＿４アルコキシ又はＣ＿３〜＿６シ
クロアルコキシであつて任意にカルボキシ、アルコキシ
カルボニル、ヒドロキシル、アルキル、アルコキシ、ハ
ロゲン、又は任意にＣ＿１〜＿６アルキルにより置換さ
れていてもよいアミノにより置換されていてもよく；フ
ェノキシ及びベンジルオキシであつてそのベンゼン環の
それぞれは任意にカルボキシ、アルコキシカルボニル、
ヒドロキシル、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、又は
任意にＣ＿１〜＿６アルキルにより置換されていてもよ
いアミノにより置換されていてもよく；又は糖類の残基
；▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿３は水素又はアミン保護基である）であるか
又はＸ及びＹはそれらが結合している炭素原子とともに
カルボニル基である〕 の化合物又はその製薬上許容しうる塩及び製薬上許容し
うる希釈剤又は担体を含む製薬組成物。 - （１５）治療物質として用いられる請求項１４に規定し
た式（Ｖａ）の化合物又はその製薬上許容しうる塩。 - （１６）かびの感染の治療に用いられる請求項１４に規
定した式（Ｖａ）の化合物又はその製薬上許容しうる塩
。 - （１７）ヒトを含む動物のかびの感染の治療用薬剤の製
造に用いられる請求項１４に規定した式（Ｖａ）の化合
物又はその製薬上許容しうる塩の用途。
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