JPH0242357U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0242357U JPH0242357U JP12203388U JP12203388U JPH0242357U JP H0242357 U JPH0242357 U JP H0242357U JP 12203388 U JP12203388 U JP 12203388U JP 12203388 U JP12203388 U JP 12203388U JP H0242357 U JPH0242357 U JP H0242357U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charged particle
- permanent magnet
- hole
- charged
- generator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 8
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
第１図は本考案の実施例の構成図、第２図は本
考案の他の実施例の構成図である。 １……プラズマ生成室、２……永久磁石、２ａ
……貫通孔、３……直流電源、Ｂ……磁場、ＩＢ
……イオンビーム。
考案の他の実施例の構成図である。 １……プラズマ生成室、２……永久磁石、２ａ
……貫通孔、３……直流電源、Ｂ……磁場、ＩＢ
……イオンビーム。
Claims (1)
- 荷電粒子発生部と、その荷電粒子発生部で発生
した荷電粒子を導くべき方向に沿う貫通孔が形成
され、かつ、その貫通孔内に上記荷電粒子を導く
向きへの磁場を形成し得る永久磁石と、上記荷電
粒子発生部で発生した荷電粒子を上記永久磁石の
貫通孔内に引き寄せるための電場が形成されるよ
う、上記荷電粒子発生部と上記永久磁石との間に
電位差を付与する電源を備えてなる、荷電粒子ビ
ーム発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12203388U JPH0242357U (ja) | 1988-09-16 | 1988-09-16 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12203388U JPH0242357U (ja) | 1988-09-16 | 1988-09-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0242357U true JPH0242357U (ja) | 1990-03-23 |
Family
ID=31369586
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12203388U Pending JPH0242357U (ja) | 1988-09-16 | 1988-09-16 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0242357U (ja) |
-
1988
- 1988-09-16 JP JP12203388U patent/JPH0242357U/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SI1641327T1 (sl) | Sistem za proizvodnjo električne energije s plazmo | |
| JPH0242357U (ja) | ||
| JPS59107473U (ja) | イオンビ−ム照射装置 | |
| JPS6071112U (ja) | 磁界発生装置 | |
| JPH10146074A (ja) | 超伝導直流発電機 | |
| JPH0165132U (ja) | ||
| JPH0229149U (ja) | ||
| JPS63109433U (ja) | ||
| JPS6377462U (ja) | ||
| JPH0455749U (ja) | ||
| JPH0413048U (ja) | ||
| JPS63112745U (ja) | ||
| JPH0316646U (ja) | ||
| JPS6292550U (ja) | ||
| JPH0355651U (ja) | ||
| JPH0425148U (ja) | ||
| JPS61214399A (ja) | 中性粒子入射装置 | |
| RU98108952A (ru) | Устройство для получения высокотемпературной плазмы и нейтронного излучения | |
| JPH01248954A (ja) | 磁石を使用した動力発生装置と方法 | |
| JPH0374453U (ja) | ||
| JPH0166741U (ja) | ||
| JPS6370700U (ja) | ||
| JPS60166111U (ja) | 磁界発生装置 | |
| JPH0214364U (ja) | ||
| JPS5896700U (ja) | 中性粒子入射装置 |