JPH024238A - 硬調写真要素 - Google Patents
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- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の分野
本発明は写真要素、特に、非常に硬調（ｈｉｇｈｃｏｎ
ｔｒａｓｔ、 ）な写真要素に関し、°そしてより詳し
くは、かかる硬調写真要素のうぎラドアクセス処理にお
ける不均一現像の軽減に関する。
ｔｒａｓｔ、 ）な写真要素に関し、°そしてより詳し
くは、かかる硬調写真要素のうぎラドアクセス処理にお
ける不均一現像の軽減に関する。
発明の背景
高コントラストのリソグラフィツク像を形成するために
写真乳剤中または現像浴中にヒドラジンを使用すること
は相当以前から知られてお抄、その最初のものは米国特
許第２，４１９，９７５号に開示された。この写真シス
テムは現像のために非常に高レベルの−を必要とし、そ
して現像浴は短命であり、かつ空気中で不安定であった
。
写真乳剤中または現像浴中にヒドラジンを使用すること
は相当以前から知られてお抄、その最初のものは米国特
許第２，４１９，９７５号に開示された。この写真シス
テムは現像のために非常に高レベルの−を必要とし、そ
して現像浴は短命であり、かつ空気中で不安定であった
。
米国特許第４，２６９．９２９号は乳剤中の改善された
ヒドラジドと共に現像剤とアルカノールアミンとの混合
物からなる現像液中での高スルフイツト含量を用いるこ
とを開示しており、このシステムは高コントラスト黒白
リソグラフィツク像を形成するのにもつと中間の一範囲
（例えば、１０．５〜１２．３ ）で使用できる。
ヒドラジドと共に現像剤とアルカノールアミンとの混合
物からなる現像液中での高スルフイツト含量を用いるこ
とを開示しており、このシステムは高コントラスト黒白
リソグラフィツク像を形成するのにもつと中間の一範囲
（例えば、１０．５〜１２．３ ）で使用できる。
米国特許第４，５６０，６３８号は網点高コントラスト
像における網点品質の改善および斑点カブリの減少をも
たらすのに特に有効である非バラスト化了り−ルヒドラ
ジドの使用を開示している。乳剤が現像主薬を含有して
いてもよいことが付随的に開示されている（１１欄６４
行〜１２欄８行）。
像における網点品質の改善および斑点カブリの減少をも
たらすのに特に有効である非バラスト化了り−ルヒドラ
ジドの使用を開示している。乳剤が現像主薬を含有して
いてもよいことが付随的に開示されている（１１欄６４
行〜１２欄８行）。
米国特許第４，６１８，５７４号には、斑点カプリを減
少させることができる硬調なアリールヒドラジド含有ハ
ロゲン化銀乳剤用の添加剤が記載されている。そこＫも
、ハロゲン化銀乳剤中に現像主薬を使用することが付随
的に開示されている（１４欄６〜１９行）。
少させることができる硬調なアリールヒドラジド含有ハ
ロゲン化銀乳剤用の添加剤が記載されている。そこＫも
、ハロゲン化銀乳剤中に現像主薬を使用することが付随
的に開示されている（１４欄６〜１９行）。
欧州特許出願筒１５５．６９０号および米国特許第４，
６９３．９５６号はヒＰラジＹを含有する硬調なハロゲ
ン化銀写真乳剤と共に使用するだめのコントラスト促進
剤（ｃｏｎｔｒａｓｔ ｐｒｏｍｏｔｉｎｇ ａｇｅｎ
ｔ ）としてのアルコールおよびカルビノールの使用を
教示している。
６９３．９５６号はヒＰラジＹを含有する硬調なハロゲ
ン化銀写真乳剤と共に使用するだめのコントラスト促進
剤（ｃｏｎｔｒａｓｔ ｐｒｏｍｏｔｉｎｇ ａｇｅｎ
ｔ ）としてのアルコールおよびカルビノールの使用を
教示している。
１９８６年２月４日に出願された米国特許出願第１０７
０７号はヒドラジ−を含有する硬調なハロゲン化銀写真
乳剤の像様露光に先だって写真乳剤中にコントラスト促
進剤を使用することを教示している。これは現像浴の必
要−をさらに低下さするために硬調なヒドラジド含有ハ
ロゲン化銀乳剤または現像液の中に分子量束なくとも６
００のポリアルキレンオキシドを使用することを開示し
ている。有効な添加剤の一例は である。
０７号はヒドラジ−を含有する硬調なハロゲン化銀写真
乳剤の像様露光に先だって写真乳剤中にコントラスト促
進剤を使用することを教示している。これは現像浴の必
要−をさらに低下さするために硬調なヒドラジド含有ハ
ロゲン化銀乳剤または現像液の中に分子量束なくとも６
００のポリアルキレンオキシドを使用することを開示し
ている。有効な添加剤の一例は である。
硬調なラピッドアクセス型リスフィルムは像形成された
処理写真シートを横切るランダムにムラのある濃度を特
にもたらしやすい。この欠陥は網点生成用スクリーンま
たは電子スキャナーからの低濃度のスクリーンされた７
０％淡調露光においては特に顕著である。欠陥の範囲は
シートを横切るムラのある濃度から、本願明細書中では
渦状（５ｗ１ｒｌ ）パターンと呼んでいる木目のよう
な外観を幾分化じるシート全体に沿ったランダムなスト
リークまである。
処理写真シートを横切るランダムにムラのある濃度を特
にもたらしやすい。この欠陥は網点生成用スクリーンま
たは電子スキャナーからの低濃度のスクリーンされた７
０％淡調露光においては特に顕著である。欠陥の範囲は
シートを横切るムラのある濃度から、本願明細書中では
渦状（５ｗ１ｒｌ ）パターンと呼んでいる木目のよう
な外観を幾分化じるシート全体に沿ったランダムなスト
リークまである。
ムラのある濃度は限定されるわけではないが主に自動プ
ロセッサーにおいて発生する。この問題の複雑なところ
は自動プロセッサーがこの欠陥パターンを成る規則性を
もって発生させるわけではないことである。これ等パタ
ーンとしては現像槽域中の現像剤の流れまたは循環によ
って起こるエツジパターンのタイプ、ローラーの円周に
沿って生じるニップローラー人ロバターン、処理フィル
それが起こる一因は処理されるフィルムが通過する対の
ロール間に泡が取り込まれることによると考えられる。
ロセッサーにおいて発生する。この問題の複雑なところ
は自動プロセッサーがこの欠陥パターンを成る規則性を
もって発生させるわけではないことである。これ等パタ
ーンとしては現像槽域中の現像剤の流れまたは循環によ
って起こるエツジパターンのタイプ、ローラーの円周に
沿って生じるニップローラー人ロバターン、処理フィル
それが起こる一因は処理されるフィルムが通過する対の
ロール間に泡が取り込まれることによると考えられる。
このタイプの欠陥パターンは多数の様々な商業的＆Ｃ入
手できるフィルム忙おいて観察され、最終製品をして高
品質用に役立たなくさせる。
手できるフィルム忙おいて観察され、最終製品をして高
品質用に役立たなくさせる。
これ等タイプの加工物の問題はヒドラジドの使用および
それによる現像剤環境との相互作用に固有のものである
と考えられる。バラスト化ヒドラジドの使用は問題をい
くらが軽減する傾向があるが、ヒドラジドのバラスト化
はその反応性を減少させ処理時間を増大させるので写真
スピードを犠牲にする。今まで知られている開示はこの
タイプの問題の出現または解答に有効でない。
それによる現像剤環境との相互作用に固有のものである
と考えられる。バラスト化ヒドラジドの使用は問題をい
くらが軽減する傾向があるが、ヒドラジドのバラスト化
はその反応性を減少させ処理時間を増大させるので写真
スピードを犠牲にする。今まで知られている開示はこの
タイプの問題の出現または解答に有効でない。
発明の概要
被覆層中への特定成分の添加を単独でまたは組み合わせ
で相乗効果をもって行うとヒドラジン（ヒドラジド）含
有写真要素の現像処理のための誘導時間が変更されるこ
とが判明した。特に、乳剤層へのフェニドン型現像剤（
３−ピラゾリジノン現像剤、特に、１−フェニルへ−３
−ピラゾリジノン現像剤）および２−ピラゾリン型現像
剤特に１−フェニル−２−ぎラゾリン現像剤の添加、お
よびトップコート層へのアルコキシル化アルコールおよ
びフッ素化界面活性剤の界面活性剤クラスの添加は渦状
パターンを減少させることが判明した。これ等添加剤は
伺らかの悪影響を与える機械的処理力が働く前に写真要
素における十分な現像を開始させるので均一濃度フィル
ムおよび加工作業をもたらすと考えられる。
で相乗効果をもって行うとヒドラジン（ヒドラジド）含
有写真要素の現像処理のための誘導時間が変更されるこ
とが判明した。特に、乳剤層へのフェニドン型現像剤（
３−ピラゾリジノン現像剤、特に、１−フェニルへ−３
−ピラゾリジノン現像剤）および２−ピラゾリン型現像
剤特に１−フェニル−２−ぎラゾリン現像剤の添加、お
よびトップコート層へのアルコキシル化アルコールおよ
びフッ素化界面活性剤の界面活性剤クラスの添加は渦状
パターンを減少させることが判明した。これ等添加剤は
伺らかの悪影響を与える機械的処理力が働く前に写真要
素における十分な現像を開始させるので均一濃度フィル
ムおよび加工作業をもたらすと考えられる。
この手法が、特に高スピードの配合物に応用された場合
に、非常にセンシティブなより低濃度のスクリーンされ
た淡調露光領域において実際に欠陥のない材料を生じる
ことは驚異である。
に、非常にセンシティブなより低濃度のスクリーンされ
た淡調露光領域において実際に欠陥のない材料を生じる
ことは驚異である。
発明の詳細
硬調なヒｒラジド含有ノ・ロデン化銀写真乳剤の被覆層
中に、６−ピラゾリジノンまたは２−ピラゾリン現像剤
からなるノ・ロデン化銀現像促進剤を、渦状パターンを
減少させるのシζ有効な量で、および／または分子量１
０００未満のアルコキシル化アルコールおよびフッ素化
界面活性剤のクラスからの界面活性剤を、高濃度で、添
加すると、硬調フィルムの不均一現像を減少させる。特
に、高スピーｒの、非バラスト化または短鎖バラスト化
ヒドラジドを含有する乳剤では、そうである。
中に、６−ピラゾリジノンまたは２−ピラゾリン現像剤
からなるノ・ロデン化銀現像促進剤を、渦状パターンを
減少させるのシζ有効な量で、および／または分子量１
０００未満のアルコキシル化アルコールおよびフッ素化
界面活性剤のクラスからの界面活性剤を、高濃度で、添
加すると、硬調フィルムの不均一現像を減少させる。特
に、高スピーｒの、非バラスト化または短鎖バラスト化
ヒドラジドを含有する乳剤では、そうである。
本発明に使用するためのノ・ロデン化銀乳剤は塩化銀、
塩臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩化銀、ヨウ塩臭化銀、ま
たはこれ等の混合物であってもよい。
塩臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩化銀、ヨウ塩臭化銀、ま
たはこれ等の混合物であってもよい。
一般に、ハロゲン化銀乳剤のヨーシト含有量はノ・ロデ
ン化銀全体を基準にして約１０％未満のヨウ化銀である
。ノ・ロデン化銀乳剤は、例えば、米国特許明細書簡４
．１６６，７４２号、第４，１６８，９７７号、第４，
２２４，４０１号、第４，２３７．２１４号、第４，２
４１．１６４号、第４，２７２．６１４号、および第４
．３１１．８７１号に記載されているように、通常、単
分散または狭い粒子サイズ分布の乳剤である。ハロゲン
化銀乳剤は異なる粒子の組み合わせを有する乳剤の混合
物、例えば、特願昭５７−５８１３７号に記載されてい
るように、０．４μ未満の平均粒子サイズを有する乳剤
と０．７μ以上の平均粒子サイズを有する乳剤との組み
合わせ；または両方共０．４μ未満の粒子サイズを有す
る２種類の乳剤の組み合わせ、例えば、１９８６年７月
２８に出願された米国特許出願第８８１，０８１号に記
載されているように０．１〜０．４μの平均粒子サイズ
を有する第一ハロゲン化銀乳剤とこの第一乳剤の粒子の
Ａ未満の平均粒子容積を有する粒子の第二ハロゲン化銀
乳剤との組み合わせから構成されてもよい。
ン化銀全体を基準にして約１０％未満のヨウ化銀である
。ノ・ロデン化銀乳剤は、例えば、米国特許明細書簡４
．１６６，７４２号、第４，１６８，９７７号、第４，
２２４，４０１号、第４，２３７．２１４号、第４，２
４１．１６４号、第４，２７２．６１４号、および第４
．３１１．８７１号に記載されているように、通常、単
分散または狭い粒子サイズ分布の乳剤である。ハロゲン
化銀乳剤は異なる粒子の組み合わせを有する乳剤の混合
物、例えば、特願昭５７−５８１３７号に記載されてい
るように、０．４μ未満の平均粒子サイズを有する乳剤
と０．７μ以上の平均粒子サイズを有する乳剤との組み
合わせ；または両方共０．４μ未満の粒子サイズを有す
る２種類の乳剤の組み合わせ、例えば、１９８６年７月
２８に出願された米国特許出願第８８１，０８１号に記
載されているように０．１〜０．４μの平均粒子サイズ
を有する第一ハロゲン化銀乳剤とこの第一乳剤の粒子の
Ａ未満の平均粒子容積を有する粒子の第二ハロゲン化銀
乳剤との組み合わせから構成されてもよい。
本発明の乳剤のハロゲン化銀粒子は内部潜像を形成する
乳剤のものと違って表面潜像を形成することができる。
乳剤のものと違って表面潜像を形成することができる。
表面潜像形成性ハロゲン化銀粒子は最も普通にはネガ型
ハロゲン化銀乳剤に使用され、他方、内部潜像形成性ハ
ロゲン化銀粒子は内部現像剤で現像されるときにはネガ
像を形成することができるが、通常は、ダイレクトポジ
像を形成するために表面現像剤と共に使用される。表面
潜像形成性ハロゲン化銀粒子と内部潜像形成性ハロゲン
化銀粒子の区別は周知である。一般に、表面潜像のかわ
りに内部潜像を優先的に形成することができるハロゲン
化銀乳剤の調製には成る種の追加成分または工程が要求
される。
ハロゲン化銀乳剤に使用され、他方、内部潜像形成性ハ
ロゲン化銀粒子は内部現像剤で現像されるときにはネガ
像を形成することができるが、通常は、ダイレクトポジ
像を形成するために表面現像剤と共に使用される。表面
潜像形成性ハロゲン化銀粒子と内部潜像形成性ハロゲン
化銀粒子の区別は周知である。一般に、表面潜像のかわ
りに内部潜像を優先的に形成することができるハロゲン
化銀乳剤の調製には成る種の追加成分または工程が要求
される。
本発明のハロゲン化銀乳剤においては、ハロゲン化銀粒
子の沈澱または成長は場合によっては、ロジウムやイリ
ジウムの塩またはそれ等の錯塩のような金属塩やその錯
塩の存在下で行われてもよい。本発明によれば、ロジウ
ムまたはイリジウムの存在は高コントラストを得るため
に必ずしも必要ない。本発明には、ロジウムまたはイリ
ジウムの存在下で生成または熟成されたハロゲン化銀粒
子同様、ロジウムまたはイリジウム無しの八ロデン化銀
粒子も使用できる。
子の沈澱または成長は場合によっては、ロジウムやイリ
ジウムの塩またはそれ等の錯塩のような金属塩やその錯
塩の存在下で行われてもよい。本発明によれば、ロジウ
ムまたはイリジウムの存在は高コントラストを得るため
に必ずしも必要ない。本発明には、ロジウムまたはイリ
ジウムの存在下で生成または熟成されたハロゲン化銀粒
子同様、ロジウムまたはイリジウム無しの八ロデン化銀
粒子も使用できる。
本発明のノ゛ロデン化銀乳剤は化学増感される必要はな
いが、好ましくは化学増感されている。・・ロダン化銀
乳剤の化学増感法としては、硫黄化合物を使用する既知
の硫黄増感、穏やかな還元剤を使用する還元増感、およ
び貴金属増感が単独または組み合わせで使用できる。
いが、好ましくは化学増感されている。・・ロダン化銀
乳剤の化学増感法としては、硫黄化合物を使用する既知
の硫黄増感、穏やかな還元剤を使用する還元増感、およ
び貴金属増感が単独または組み合わせで使用できる。
ハロゲン化銀乳剤はシアニンや、メロシアニンヤ、コン
プレックスシアニンヤ、コンプレックスメロシアニン（
すなわち、トリー テトラ−およびポリー核−シアニン
およびメロシアニン）のようなポリメチン色素クチス、
オキソノール、ヘミオキソノール、スチリル、メロスチ
リル、およびストレプトシアニンを含む様々なりラスか
らのあらゆる分光増感色素によって分光増感できる。
プレックスシアニンヤ、コンプレックスメロシアニン（
すなわち、トリー テトラ−およびポリー核−シアニン
およびメロシアニン）のようなポリメチン色素クチス、
オキソノール、ヘミオキソノール、スチリル、メロスチ
リル、およびストレプトシアニンを含む様々なりラスか
らのあらゆる分光増感色素によって分光増感できる。
写真要素のノ・ロダン化銀層（単数および複数）のため
のバインダーまたは保護コロイドは好ましくはゼラチン
であるが、その他の親水性コロイドや、ラテックス形態
の合成の水不溶性ポリマーでゼラチンを部分的ｋまたは
完全に置き換えて使用することもできる。
のバインダーまたは保護コロイドは好ましくはゼラチン
であるが、その他の親水性コロイドや、ラテックス形態
の合成の水不溶性ポリマーでゼラチンを部分的ｋまたは
完全に置き換えて使用することもできる。
加えて、本発明の写真要素は当分針で知られているあら
ゆる写真用添加剤、例えば、安定剤、カプリ防止剤、硬
膜剤、可塑剤、その他の現像促進剤、ゼラチン増量剤、
マット化剤などを含有していてもよい。
ゆる写真用添加剤、例えば、安定剤、カプリ防止剤、硬
膜剤、可塑剤、その他の現像促進剤、ゼラチン増量剤、
マット化剤などを含有していてもよい。
本発明の利点を達成するには、露光済み要素の現像中に
ヒドラジン化合物が存在していなければならない。写真
要素は現像液全体と接触させられる前に３−ピラゾリジ
ノンまたは２−ピラゾリン現像剤ｐよび界面活性剤の一
方または両方を含有していることが必要である。「現像
液全体との接触」が意味するところは露光済み要素が必
要な現像剤成分の全部と接触させられることである。現
像剤成分の多数の様々な組み合わせが有効であシ、通常
の現像液は最低２つの現像剤（勿論、本発明の上記現像
剤を考慮に入れないで）、酸化防止剤（アスコルビン酸
も記載されてはいるが、例えば、亜硫酸塩）、およびコ
ントラスト増進剤（例えば、アルカノール−アミン、ア
ルコール、またはカルビノール）を有する。
ヒドラジン化合物が存在していなければならない。写真
要素は現像液全体と接触させられる前に３−ピラゾリジ
ノンまたは２−ピラゾリン現像剤ｐよび界面活性剤の一
方または両方を含有していることが必要である。「現像
液全体との接触」が意味するところは露光済み要素が必
要な現像剤成分の全部と接触させられることである。現
像剤成分の多数の様々な組み合わせが有効であシ、通常
の現像液は最低２つの現像剤（勿論、本発明の上記現像
剤を考慮に入れないで）、酸化防止剤（アスコルビン酸
も記載されてはいるが、例えば、亜硫酸塩）、およびコ
ントラスト増進剤（例えば、アルカノール−アミン、ア
ルコール、またはカルビノール）を有する。
ヒドラジン化合物は写真要素中にまたは現像液中にまた
は現像液と写真要素の両方に組み入れることができる。
は現像液と写真要素の両方に組み入れることができる。
少なくとも写真要素自体の中に存在することが好ましい
。
。
ヒドラジンおよび水溶性ヒドラジン誘導体は写真要素中
に組み入れられたジアリールメタノール化合物との組み
合わせで現像液中に組み入れられたときにはコントラス
トを増加するのに有効である。本発明の現像液または乳
剤中に使用されるのに好ましいヒドラジン誘導体は式 （式中、Ｒ５は有機基であシ、そしてＲ，、Ｒ？、およ
びＲ８は各々、水素、または有機基である）の化合物を
包含する。Ｒ５、’Ｒ，、Ｒ，、およびＲ８によって表
わされる有機基はアルキル基や、アリール基や、アリー
ルアルキル基や、脂肪族基のような炭化水素基を包含し
、そしてかかる基はアルコキシ基や、カルボキシ基や、
スルホンアミド基や、ハロゲン原子のような置換基で置
換されることができる。
に組み入れられたジアリールメタノール化合物との組み
合わせで現像液中に組み入れられたときにはコントラス
トを増加するのに有効である。本発明の現像液または乳
剤中に使用されるのに好ましいヒドラジン誘導体は式 （式中、Ｒ５は有機基であシ、そしてＲ，、Ｒ？、およ
びＲ８は各々、水素、または有機基である）の化合物を
包含する。Ｒ５、’Ｒ，、Ｒ，、およびＲ８によって表
わされる有機基はアルキル基や、アリール基や、アリー
ルアルキル基や、脂肪族基のような炭化水素基を包含し
、そしてかかる基はアルコキシ基や、カルボキシ基や、
スルホンアミド基や、ハロゲン原子のような置換基で置
換されることができる。
現像液中に組み入れることができるヒドラジン縛導体の
その他の例はヒドラジド（アリールヒドラジドやホルミ
ルヒドラジドを包含する）、アシルヒドラジン、セミカ
ルバジド、力／Ｉ／ホヒドラジド、訃よびアミノビュー
レット化合物である。
その他の例はヒドラジド（アリールヒドラジドやホルミ
ルヒドラジドを包含する）、アシルヒドラジン、セミカ
ルバジド、力／Ｉ／ホヒドラジド、訃よびアミノビュー
レット化合物である。
本発明の現像液中に組み入れられることができるヒドラ
ジン誘導体の具体例は米国特許明細書簡２．４１９．５
７５号に開示されている。
ジン誘導体の具体例は米国特許明細書簡２．４１９．５
７５号に開示されている。
本発明の好ましい形態においては、ヒドラジン化合物は
写真要素の中に、例えば、ハロゲン化銀乳剤層少に、ま
たは親水性コロイド層中に、好ましくは、ヒドラジン化
合物の効果が必要とされる乳剤層に隣接する親水性コロ
イド層中に、組み入れられている。勿論、ヒドラジン化
合物は乳剤層と、下塗シ層や中間層や保護層のような親
水性コロイド層との間に分布されて写真要素中に存在す
ることもできる。
写真要素の中に、例えば、ハロゲン化銀乳剤層少に、ま
たは親水性コロイド層中に、好ましくは、ヒドラジン化
合物の効果が必要とされる乳剤層に隣接する親水性コロ
イド層中に、組み入れられている。勿論、ヒドラジン化
合物は乳剤層と、下塗シ層や中間層や保護層のような親
水性コロイド層との間に分布されて写真要素中に存在す
ることもできる。
本発明による写真要素中に組み入れられるのに適するヒ
ドラジン化合物は英国特許明細書筒５ｇ８．１０８号お
よび米国特許筒２，４１９，９７４号に開示されている
：それ等はヒドラジド、セミヒドラジド、およびアミノ
ビューレット化合物ばかシでなく、水溶性のアルキル、
アリール、および複素環式ヒドラゾン化合物も包含する
。
ドラジン化合物は英国特許明細書筒５ｇ８．１０８号お
よび米国特許筒２，４１９，９７４号に開示されている
：それ等はヒドラジド、セミヒドラジド、およびアミノ
ビューレット化合物ばかシでなく、水溶性のアルキル、
アリール、および複素環式ヒドラゾン化合物も包含する
。
写真要素中に組み入れられて本発明に従って使用される
のに特に好ましいヒドラジン化合物は式（ＩＴ）Ｋ相当
するホルミルヒドラジン化合物である：式中、Ｒ４は置
換または非置換芳香族基を表わし、そしてＲ２０は水素
、脂肪族基（例えば、炭素原子１〜２０個のアルキルま
たは置換アルキル）、および芳香族基（炭素原子３０個
までの、アルキル、アルコキシ、カルボキシ、ヒドロキ
シ、カルボキシアルキルなどで置換されたフェニルのよ
うな置換芳香族基も含む）から選択される。Ｒ１によっ
て表わされる芳香族基の例はフェニル基およびナフチル
基である。かかる芳香族基は、米国特許筒４．１６８，
９７７号およびカナダ特許第１．１４（５，００１号に
開示されているように、直鎖または枝分れ鎖アルキル基
（例えば、メチル、エチル、プロぎル、インプロピル、
ｎ−エチル、イソエチル、ｎ−オクチル、ｎ−ヘキシル
、ｔｅｒｔ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシル々ど
）、アリールアルキル基（例えば、ベンジル、フェネチ
ルなど）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ
、２−メチル−プロピルオキシなど）、アルキル基でモ
ノ−またはジー置換されているアミノ基、アシルアミノ
脂肪族基（例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ
など）などのような、電子吸引性でない置換基１個以上
で置換されていてもよい。かかる芳香族基は米国特許筒
４．３２３．６４３号に記載されているように式 ％式％ 〔式中、Ｒ９およびＲＩＯは同一であってもよいし又は
異なっていてもよく、各々、水素、脂肪族基（直鎖また
は枝分れ鎖アルキル基、シクロアルキル基、置換シクロ
アルキル基、アルケニル基、およびアルキニル基のよう
な）、芳香族基（フェニル基およびナフチル基のような
）、または複素環式基を表わす：Ｒ□１は水素または脂
肪族基（上に挙げたもののような）を表わす〕 のウレイド基によって置換されていてもよい。
のに特に好ましいヒドラジン化合物は式（ＩＴ）Ｋ相当
するホルミルヒドラジン化合物である：式中、Ｒ４は置
換または非置換芳香族基を表わし、そしてＲ２０は水素
、脂肪族基（例えば、炭素原子１〜２０個のアルキルま
たは置換アルキル）、および芳香族基（炭素原子３０個
までの、アルキル、アルコキシ、カルボキシ、ヒドロキ
シ、カルボキシアルキルなどで置換されたフェニルのよ
うな置換芳香族基も含む）から選択される。Ｒ１によっ
て表わされる芳香族基の例はフェニル基およびナフチル
基である。かかる芳香族基は、米国特許筒４．１６８，
９７７号およびカナダ特許第１．１４（５，００１号に
開示されているように、直鎖または枝分れ鎖アルキル基
（例えば、メチル、エチル、プロぎル、インプロピル、
ｎ−エチル、イソエチル、ｎ−オクチル、ｎ−ヘキシル
、ｔｅｒｔ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシル々ど
）、アリールアルキル基（例えば、ベンジル、フェネチ
ルなど）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ
、２−メチル−プロピルオキシなど）、アルキル基でモ
ノ−またはジー置換されているアミノ基、アシルアミノ
脂肪族基（例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ
など）などのような、電子吸引性でない置換基１個以上
で置換されていてもよい。かかる芳香族基は米国特許筒
４．３２３．６４３号に記載されているように式 ％式％ 〔式中、Ｒ９およびＲＩＯは同一であってもよいし又は
異なっていてもよく、各々、水素、脂肪族基（直鎖また
は枝分れ鎖アルキル基、シクロアルキル基、置換シクロ
アルキル基、アルケニル基、およびアルキニル基のよう
な）、芳香族基（フェニル基およびナフチル基のような
）、または複素環式基を表わす：Ｒ□１は水素または脂
肪族基（上に挙げたもののような）を表わす〕 のウレイド基によって置換されていてもよい。
写真要素忙組み入れられて本発明に従って使用するため
のその他のヒドラジン化合物は式％式％ 〔式中、Ｒ１□は先の式の芳香族と同じもの表わし、そ
してＲ１３は直鎖アルキル基であってもよいし又は枝分
れ鎖アルキル基であってもよい炭素原子１〜３個のアル
キル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、およ
びイソプロピル）、またはフェニル基を表わす〕 によって表わされるものである。ここで、フェニル基は
、ハロゲン原子（塩素、臭素など）、シアノ基、トリフ
ルオロメチル基、カルボキシ基、またはスルホ基などの
ような好ましくは電子吸引基である置換基１個以上によ
って置換されていてもよい。上記式によって表わされる
ヒドラジン化合物の具体例は米国特許第４，２２４，４
０１号に開示されている。
のその他のヒドラジン化合物は式％式％ 〔式中、Ｒ１□は先の式の芳香族と同じもの表わし、そ
してＲ１３は直鎖アルキル基であってもよいし又は枝分
れ鎖アルキル基であってもよい炭素原子１〜３個のアル
キル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、およ
びイソプロピル）、またはフェニル基を表わす〕 によって表わされるものである。ここで、フェニル基は
、ハロゲン原子（塩素、臭素など）、シアノ基、トリフ
ルオロメチル基、カルボキシ基、またはスルホ基などの
ような好ましくは電子吸引基である置換基１個以上によ
って置換されていてもよい。上記式によって表わされる
ヒドラジン化合物の具体例は米国特許第４，２２４，４
０１号に開示されている。
写真要素に組み入れられて本発明に従って使用するため
のその他のヒドラジン化合物の例は式〔式中、Ｒ１４は
水素、置換されていてもよい脂肪族基を表わす；Ｙは二
価の結合基を表わす；ｍは０または１を表わす；Ｘは二
価の芳香族基（例えば、フェニレン基、ナフチレン基、
およびそれ等の類似の置換された基）を表わす；Ｒ１５
は水素原子、置換されていてもよい脂肪族基を表わす；
そして２は５員または６員複素環式環を形成するのに必
要な非金属原子基を表わす〕 に相当するものである。この式によって表わされるとｒ
ラジン化合物の具体例は米国特許第４．２７２．６１４
号に開示されている。
のその他のヒドラジン化合物の例は式〔式中、Ｒ１４は
水素、置換されていてもよい脂肪族基を表わす；Ｙは二
価の結合基を表わす；ｍは０または１を表わす；Ｘは二
価の芳香族基（例えば、フェニレン基、ナフチレン基、
およびそれ等の類似の置換された基）を表わす；Ｒ１５
は水素原子、置換されていてもよい脂肪族基を表わす；
そして２は５員または６員複素環式環を形成するのに必
要な非金属原子基を表わす〕 に相当するものである。この式によって表わされるとｒ
ラジン化合物の具体例は米国特許第４．２７２．６１４
号に開示されている。
特に好ましい一態様においては、写真要素中に組み入れ
られるヒドラジン化合物は組み込まれたカラーカプラー
のバラスト基やその他の非拡散性写真乳剤付加物のよう
なバラスト基で置換されていてもよい。前記バラスト基
は少なくとも８個の炭素原子を有しておシ、アルキル、
アルコキシ、アルキルフェニル、フェノキシ、アルキル
フェノキシ基などのような相対的に非反応性の脂肪族基
および芳香族基から選択できる。本発明の実施に最も好
ましい、最高速度の現像が好まれる場合には、ヒドラジ
ドは炭素原子８個未満の、好ましくは炭素原子４個以下
の、最も好ましくは炭素原子無しのまたはせいぜい１個
の懸垂基を有するべきである。
られるヒドラジン化合物は組み込まれたカラーカプラー
のバラスト基やその他の非拡散性写真乳剤付加物のよう
なバラスト基で置換されていてもよい。前記バラスト基
は少なくとも８個の炭素原子を有しておシ、アルキル、
アルコキシ、アルキルフェニル、フェノキシ、アルキル
フェノキシ基などのような相対的に非反応性の脂肪族基
および芳香族基から選択できる。本発明の実施に最も好
ましい、最高速度の現像が好まれる場合には、ヒドラジ
ドは炭素原子８個未満の、好ましくは炭素原子４個以下
の、最も好ましくは炭素原子無しのまたはせいぜい１個
の懸垂基を有するべきである。
かかるヒドラジン化合物は写真分野で周知の様様な方法
で写真要素中に組み入れられることができる。最も普通
の方法は゛例えば米国特許第２．５２２，０２７号に記
載されているようにヒドラジン化合物を高沸点結晶状溶
媒中に溶解し、そしてその混合物を乳剤中に分散させる
方法である。
で写真要素中に組み入れられることができる。最も普通
の方法は゛例えば米国特許第２．５２２，０２７号に記
載されているようにヒドラジン化合物を高沸点結晶状溶
媒中に溶解し、そしてその混合物を乳剤中に分散させる
方法である。
本発明の実施において現像液中に組み入れられるヒドラ
ジン化合物は低濃度で有効である。例えば、ヒドラジン
化合物は現像液中で約０．００１モル／ノ約０．１モル
／Ｊｏ量で、好ましくは、約０．００２モル／勇〜約０
．０１モル／Ｊ３の量で有効な結果を与える。写真要素
中に組み入れられるヒドラジン化合物は代表的には銀１
モル轟たシ約５ｘ ｉ ｏ−’〜約５ Ｘ １０−”モ
ルの範囲の濃度で使用され、好ましくは、銀１モル当た
シ約８ Ｘ １０−’〜約５ Ｘ １０−３モルの量で
ある。
ジン化合物は低濃度で有効である。例えば、ヒドラジン
化合物は現像液中で約０．００１モル／ノ約０．１モル
／Ｊｏ量で、好ましくは、約０．００２モル／勇〜約０
．０１モル／Ｊ３の量で有効な結果を与える。写真要素
中に組み入れられるヒドラジン化合物は代表的には銀１
モル轟たシ約５ｘ ｉ ｏ−’〜約５ Ｘ １０−”モ
ルの範囲の濃度で使用され、好ましくは、銀１モル当た
シ約８ Ｘ １０−’〜約５ Ｘ １０−３モルの量で
ある。
アルカノールアミンやジアリールカルビノール化合物の
ようなコントラスト促進剤、好ましくは、ここに記載さ
れているジアリールメタノール化合物のようなジアリー
ルカルビノールは現像浴中に、又は好ましくは、現像液
全体と接触する前の写真要素中に（よシ好ましくは、写
真要素自体の露光以前Ｋ）組み入れられる。例えば、ジ
アリールカルビノール化合物は乳剤層の被覆以前に又は
被覆と同時に写真要素中に導入される。例えば、それ等
は写真要素のハロゲン化銀乳剤層少に又は写真要素の親
水性コロイド層中に、特に、ジアリールカルビノール化
合物の効果が必要とされる乳剤層に隣接した親水性コロ
イド層中に組み入れられることができる。例えば、それ
等は乳剤層と、例えば下塗層や中間層や保護層のような
親水性コロイド層との間に分布されて写真要素中に存在
することもできる。
ようなコントラスト促進剤、好ましくは、ここに記載さ
れているジアリールメタノール化合物のようなジアリー
ルカルビノールは現像浴中に、又は好ましくは、現像液
全体と接触する前の写真要素中に（よシ好ましくは、写
真要素自体の露光以前Ｋ）組み入れられる。例えば、ジ
アリールカルビノール化合物は乳剤層の被覆以前に又は
被覆と同時に写真要素中に導入される。例えば、それ等
は写真要素のハロゲン化銀乳剤層少に又は写真要素の親
水性コロイド層中に、特に、ジアリールカルビノール化
合物の効果が必要とされる乳剤層に隣接した親水性コロ
イド層中に組み入れられることができる。例えば、それ
等は乳剤層と、例えば下塗層や中間層や保護層のような
親水性コロイド層との間に分布されて写真要素中に存在
することもできる。
上記式（Ｉ） 、（ＩＩ） 、および（［）のＲ，、Ｒ
２、およびＲ３によって表わされる芳香族基としてはナ
フチル基、および、好ましくはフェニル基が挙げられる
。上記式（１）および（ＩＩ）のＲ３によって表わされ
るアルキル基としては枝分れ鎖または直鎖のアルキル基
、好ましくは低級アルキル基（炭素原子１個〜５個）が
挙げられる。かかる基は置換基を含有していてもよく、
かかる置換基は本発明に従う挙動に負の影響を与えない
ような特性およ、びサイズをもって選択される。その特
性に関していうと、かかる置換基は例えば、アルキル基
、アルコキシ基、シアン基、ジアルキルアミノ基、アル
コキシカルボニル基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキ
ルチオ基、ヒドロキシ基、スルホキシ基、カルバモイル
基、スルファモイル基、ハロゲンＩＩ子ｆｋトである。
２、およびＲ３によって表わされる芳香族基としてはナ
フチル基、および、好ましくはフェニル基が挙げられる
。上記式（１）および（ＩＩ）のＲ３によって表わされ
るアルキル基としては枝分れ鎖または直鎖のアルキル基
、好ましくは低級アルキル基（炭素原子１個〜５個）が
挙げられる。かかる基は置換基を含有していてもよく、
かかる置換基は本発明に従う挙動に負の影響を与えない
ような特性およ、びサイズをもって選択される。その特
性に関していうと、かかる置換基は例えば、アルキル基
、アルコキシ基、シアン基、ジアルキルアミノ基、アル
コキシカルボニル基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキ
ルチオ基、ヒドロキシ基、スルホキシ基、カルバモイル
基、スルファモイル基、ハロゲンＩＩ子ｆｋトである。
そのサイズに関していうと、かかる置換基は好ましくは
炭素原子１〜１０個、よフ好ましくは炭素原子１〜５個
を有する。
炭素原子１〜１０個、よフ好ましくは炭素原子１〜５個
を有する。
適切に考慮されるべきパラメーターは本発明のジアリー
ルカルビノール化合物の溶解度および沸点である。本発
明による写真要素の層を形成するために使用される水性
被覆性組成物中に該化合物を導入するためには、該化合
物は水中に又は水混和性溶剤中に実質的に可溶性である
べきである。
ルカルビノール化合物の溶解度および沸点である。本発
明による写真要素の層を形成するために使用される水性
被覆性組成物中に該化合物を導入するためには、該化合
物は水中に又は水混和性溶剤中に実質的に可溶性である
べきである。
水中に「実質的に可溶性である」とは水中に少なくとも
１重量％の量で溶解することを意味し、そして水混和性
溶剤中Ｋｒ実質的に可溶性である」とは水混和性溶剤中
に少なくとも５重量％の没で溶解することを意味する。
１重量％の量で溶解することを意味し、そして水混和性
溶剤中Ｋｒ実質的に可溶性である」とは水混和性溶剤中
に少なくとも５重量％の没で溶解することを意味する。
前記ジアリールカルビノール化合物は層形成性被覆性組
成物の乾燥中に蒸発しないように十分高い沸点を有する
必要がある。該沸点は好ましくは１５０℃よシ高く、よ
シ好ましくは２００℃よシ高い。
成物の乾燥中に蒸発しないように十分高い沸点を有する
必要がある。該沸点は好ましくは１５０℃よシ高く、よ
シ好ましくは２００℃よシ高い。
本発明のこの観点に従うジアリールカルビノール化合物
の具体例を次に挙げる： １）ジフェニルメタノール（ａ、に、ａ、 ベンズヒ
ドロール） ２）４．４’−ジメトキシジフェニルメタノール３）４
．４’−ジメチルジフェニルメタノール４）２．２’−
ジブロモジフェニルメタノール５）４．４’−ジブロモ
ジフェニルメタノール６）２．２’−ジニトロジフェニ
ルメタノール７）４．４’−ジニトロジフェニルメタノ
ール８）２．３’−ジメトキシジフェニルメタノール９
）２．４’−ジヒドロキシジフェニルメタノール１０）
４−メチルジフェニルメタノール１１） ４−エチル
ジフェニルメタノール１２） ２ 、２’ 、 ４ 、
４’−テトラメチルジフェニルメタノール ジアリールカルビノール化合物は好ましくは、銀１モル
当たシ約１０−４〜約１０−１モルの量で、そしてよシ
好ましくは、銀１モル当たシ約１０−３〜約５ Ｘ １
０”−”モルの量で写真要素中に組み入れられて本発明
に使用される。
の具体例を次に挙げる： １）ジフェニルメタノール（ａ、に、ａ、 ベンズヒ
ドロール） ２）４．４’−ジメトキシジフェニルメタノール３）４
．４’−ジメチルジフェニルメタノール４）２．２’−
ジブロモジフェニルメタノール５）４．４’−ジブロモ
ジフェニルメタノール６）２．２’−ジニトロジフェニ
ルメタノール７）４．４’−ジニトロジフェニルメタノ
ール８）２．３’−ジメトキシジフェニルメタノール９
）２．４’−ジヒドロキシジフェニルメタノール１０）
４−メチルジフェニルメタノール１１） ４−エチル
ジフェニルメタノール１２） ２ 、２’ 、 ４ 、
４’−テトラメチルジフェニルメタノール ジアリールカルビノール化合物は好ましくは、銀１モル
当たシ約１０−４〜約１０−１モルの量で、そしてよシ
好ましくは、銀１モル当たシ約１０−３〜約５ Ｘ １
０”−”モルの量で写真要素中に組み入れられて本発明
に使用される。
本発明の方法によれば、像様露光されたノ・ロデン化銀
写真要素は高コントラストのネガ像を形成するために安
定な水性アルカリ性現像液によって処理されることがで
きる。このコントラスト促進剤的なセンシトメトリー曲
線の直線部分の勾配（「平均コントラスト」と称される
）でアシ、それはカプリから０．１０と２．５０の濃度
のところに位置する２点の間で測定される。本発明によ
れば、像様露光された要素をヒドラジン化合物の存在下
で現像することによって、１０より高い平均コントラス
トを得ることができる。現像浴中のよシ低い−、写真要
素中の現像剤および／または界面活性剤、および写真要
素中のジアリールカルビノール化合物の好ましい存在の
結果として、プロセスは上記米国特許筒４，２６９．９
２９号および欧州特許出願第１５５．６９０号に記載さ
れているタイプの現像液中のコントラスト促進剤の存在
に関係なく空気酸化に至る時間の間中安定である通常の
ラピッドアクセス型現像液（周知のように、−が高い程
、現像液の安定性が低い）を使用して所望の高いコント
ラスト特性を得るために実施できる。
写真要素は高コントラストのネガ像を形成するために安
定な水性アルカリ性現像液によって処理されることがで
きる。このコントラスト促進剤的なセンシトメトリー曲
線の直線部分の勾配（「平均コントラスト」と称される
）でアシ、それはカプリから０．１０と２．５０の濃度
のところに位置する２点の間で測定される。本発明によ
れば、像様露光された要素をヒドラジン化合物の存在下
で現像することによって、１０より高い平均コントラス
トを得ることができる。現像浴中のよシ低い−、写真要
素中の現像剤および／または界面活性剤、および写真要
素中のジアリールカルビノール化合物の好ましい存在の
結果として、プロセスは上記米国特許筒４，２６９．９
２９号および欧州特許出願第１５５．６９０号に記載さ
れているタイプの現像液中のコントラスト促進剤の存在
に関係なく空気酸化に至る時間の間中安定である通常の
ラピッドアクセス型現像液（周知のように、−が高い程
、現像液の安定性が低い）を使用して所望の高いコント
ラスト特性を得るために実施できる。
これは現像像上に観察される渦状パターンの減少を伴っ
て実施できる。
て実施できる。
本発明の実施に使用するための水性アルカリ性現像液中
に用いられるジヒドロキシベンゼン現像主薬は周知であ
シ、広く写真現像処理に使用されている。このクラスの
好ましい現像主薬はハイドロキノンである。その他の有
効なジヒドロキシベンゼン現像主薬はクロロハイド筒キ
ノン、ブロモハイドロキノン、インゾロビルハイｒロキ
ノン、トリルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、
２．３−ジクロロハイドロキノン、２．５−ジメチルハ
イドロキノン、２．５−ジブロモハイトロキノン、１．
４−ジヒドロキシ−２−アセトフェノン−２，５−ジメ
チルハイドロキノン、２，５−ジエチルハイドロキノン
、２，５−ジ−ｐ−７エネチルハイドロキノン、２．５
−ジベンゾイルハイドロキノン、２，５−ジアセトアミ
ノハイドロキノンなどである。
に用いられるジヒドロキシベンゼン現像主薬は周知であ
シ、広く写真現像処理に使用されている。このクラスの
好ましい現像主薬はハイドロキノンである。その他の有
効なジヒドロキシベンゼン現像主薬はクロロハイド筒キ
ノン、ブロモハイドロキノン、インゾロビルハイｒロキ
ノン、トリルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、
２．３−ジクロロハイドロキノン、２．５−ジメチルハ
イドロキノン、２．５−ジブロモハイトロキノン、１．
４−ジヒドロキシ−２−アセトフェノン−２，５−ジメ
チルハイドロキノン、２，５−ジエチルハイドロキノン
、２，５−ジ−ｐ−７エネチルハイドロキノン、２．５
−ジベンゾイルハイドロキノン、２，５−ジアセトアミ
ノハイドロキノンなどである。
本発明の実施例おいて乳剤中に使用される（そして水性
アルカリ性現像液中に存在してもしなくてもよい）３−
ピラゾリドン現像主薬もまた周知であり、広く写真現像
処理に使用されている。最も普遍的に使用されているこ
のクラスの現像主薬は１−フェニル−５−ヒラゾリドン
、１−フェニル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン
、１−フェニル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−
３−ピラゾリドン、および１−フェニル−４，４−ジヒ
ドロキシーメ・チル−６−ヒラゾリドンである。その他
の有効な６−ピラゾリドン現像主薬は１−フェニル−５
−メチル−３−ｆうｆリドン、１−ｐ−７ミノフエニル
ー４−メチル−４−７’ロビルー３−ピラゾリドン、１
−ｐ−クロロフェニル−４−メチル−４−エチル−３−
ピラゾリドン、１−ｐ−アセト−アミドフェニル−４，
４−ジエチル−６−ピラゾリドン、１−ｐ−β−ヒドロ
キシ−エチルフェニル−４，４−ジメチル−３−ビ５ｆ
’）トン、１−ｐ−ヒドロキシ−フェニル−４゜４−ジ
メチル−６−ヒラゾリドン、１−ｐ−メトキシフェニル
−４，４−ジエチル−３−ｆ 、ｙ ｆ ！ｊトン、１
−ｐ−）クルー４，４−ジメチルー３−−ラゾリドンな
どである。
アルカリ性現像液中に存在してもしなくてもよい）３−
ピラゾリドン現像主薬もまた周知であり、広く写真現像
処理に使用されている。最も普遍的に使用されているこ
のクラスの現像主薬は１−フェニル−５−ヒラゾリドン
、１−フェニル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン
、１−フェニル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−
３−ピラゾリドン、および１−フェニル−４，４−ジヒ
ドロキシーメ・チル−６−ヒラゾリドンである。その他
の有効な６−ピラゾリドン現像主薬は１−フェニル−５
−メチル−３−ｆうｆリドン、１−ｐ−７ミノフエニル
ー４−メチル−４−７’ロビルー３−ピラゾリドン、１
−ｐ−クロロフェニル−４−メチル−４−エチル−３−
ピラゾリドン、１−ｐ−アセト−アミドフェニル−４，
４−ジエチル−６−ピラゾリドン、１−ｐ−β−ヒドロ
キシ−エチルフェニル−４，４−ジメチル−３−ビ５ｆ
’）トン、１−ｐ−ヒドロキシ−フェニル−４゜４−ジ
メチル−６−ヒラゾリドン、１−ｐ−メトキシフェニル
−４，４−ジエチル−３−ｆ 、ｙ ｆ ！ｊトン、１
−ｐ−）クルー４，４−ジメチルー３−−ラゾリドンな
どである。
本発明の実施に使用するための好ましい水性アルカリ性
写真現像組成物は空気酸化から現像主薬を保護すること
によって良好な安定特性を確保するのに十分なレベルの
亜硫酸塩系保恒剤を含有している。有効な亜硫酸塩系保
恒剤は亜硫酸塩、重亜硫酸塩、メタ重亜硫酸塩、および
カルビニル重亜硫酸塩付加物である。亜硫酸塩系保恒剤
の代表例は亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸
リチウム、亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、
メタ重亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナト
リウム塩などである。アスコルビン酸もまた本発明に従
って浴中釦使用するための現像剤の空気酸化を防ぐ既知
の保恒剤である。
写真現像組成物は空気酸化から現像主薬を保護すること
によって良好な安定特性を確保するのに十分なレベルの
亜硫酸塩系保恒剤を含有している。有効な亜硫酸塩系保
恒剤は亜硫酸塩、重亜硫酸塩、メタ重亜硫酸塩、および
カルビニル重亜硫酸塩付加物である。亜硫酸塩系保恒剤
の代表例は亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸
リチウム、亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、
メタ重亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナト
リウム塩などである。アスコルビン酸もまた本発明に従
って浴中釦使用するための現像剤の空気酸化を防ぐ既知
の保恒剤である。
本発明の実施において使用するための水性アルカリ性現
像液はそこに含有される各種成分の濃度に関しては広く
変動可能である。代表的には、ジヒドロベンゼン系現像
主薬は０．０４０〜約０．７０モル／ノの量で、好まし
くは０．０８〜約０．４０モル／沼の量で使用される：
３−ピラゾリドン系現像主薬は約ｏ、ｏ ｏ ｉ〜約０
．０５モル／Ｊ３の量で、よシ好ましくは約０．００−
５〜約０．０１モル／ノの量で使用される：亜硫酸塩系
保恒剤は約０．０６〜約１．０ ／Ｊｊ ｆ）ｉｋテ、
よシ好ましくは約０．１０〜約０．７０モル／Ｉ！Ｊ（
Ｄ量で使用される。
像液はそこに含有される各種成分の濃度に関しては広く
変動可能である。代表的には、ジヒドロベンゼン系現像
主薬は０．０４０〜約０．７０モル／ノの量で、好まし
くは０．０８〜約０．４０モル／沼の量で使用される：
３−ピラゾリドン系現像主薬は約ｏ、ｏ ｏ ｉ〜約０
．０５モル／Ｊ３の量で、よシ好ましくは約０．００−
５〜約０．０１モル／ノの量で使用される：亜硫酸塩系
保恒剤は約０．０６〜約１．０ ／Ｊｊ ｆ）ｉｋテ、
よシ好ましくは約０．１０〜約０．７０モル／Ｉ！Ｊ（
Ｄ量で使用される。
亜硫酸イオンの低レベルを必要とする「リス」現像剤と
は対照的に、本発明の現像液は高レベルの亜硫酸イオン
を利用でき、従って、亜硫酸イオンの高レベルは空気酸
化からの防護を増大させるので、安定性の増大という効
果が達成される。
は対照的に、本発明の現像液は高レベルの亜硫酸イオン
を利用でき、従って、亜硫酸イオンの高レベルは空気酸
化からの防護を増大させるので、安定性の増大という効
果が達成される。
本発明の方法を実施するに際しては、現像処理された写
真要素におけるカプリ生成を最小にするために有機系の
カプリ防止剤を使用することが好ましい。有機系のカプ
リ防止剤は写真要素中に組み入れられてもよいし、又は
現像液中に組み入れられてもよいし、又は写真要素と現
像液の両方の中に組み入れられてもよい。本発明によれ
ば、現像液中に特に使用するためによシ好ましい有機系
カプリ防止剤はベンゾトリアゾールおよび／またはベン
ゾイミダゾール系のカプリ防止剤であることが判明した
。それ等はコントラスト増加に対して有益な効果を有す
ることが証明された。有効な化合物は置換および非置換
のベンゾトリアゾールおよびベンゾイミダゾール化合物
である。但し、それ等は少なくともニトロ基のような強
さの電子吸引性置換基を含有していないことを条件とす
る。
真要素におけるカプリ生成を最小にするために有機系の
カプリ防止剤を使用することが好ましい。有機系のカプ
リ防止剤は写真要素中に組み入れられてもよいし、又は
現像液中に組み入れられてもよいし、又は写真要素と現
像液の両方の中に組み入れられてもよい。本発明によれ
ば、現像液中に特に使用するためによシ好ましい有機系
カプリ防止剤はベンゾトリアゾールおよび／またはベン
ゾイミダゾール系のカプリ防止剤であることが判明した
。それ等はコントラスト増加に対して有益な効果を有す
ることが証明された。有効な化合物は置換および非置換
のベンゾトリアゾールおよびベンゾイミダゾール化合物
である。但し、それ等は少なくともニトロ基のような強
さの電子吸引性置換基を含有していないことを条件とす
る。
実際には、置換されているベンゾトリアゾールおよびベ
ンゾイミダゾールはカプリを防止するのに良好ではある
が、コントラスト増加に関しては有益な効果を与えるも
のではない。種類としては、ベンゾイミダゾール類およ
びベンゾトリアゾール類は本発明の実施に有効であると
考えられる。いずれＫしても、上記のように、強い電子
吸引性の基を有するベンゾトリアゾールおよびベンゾイ
ミダゾールによって有意に改善された性能を得ることは
困難であった。従って、ベンゾトリアゾールおよびベン
ゾイミダゾールはニトロ基と同程度に強い又はそれより
強い電子吸引性基である置換基を芳香族環上に有しない
ことが好ましい。低級アルキル基（炭素原子１〜５個の
）やハロゲン置換基（塩素）のようなその他の既知の置
換基は本発明のためには良好な置換基であることが証明
された。上記のベンゾトリアゾールおよびベンゾイミダ
ゾール系カプリ防止剤およびコントラスト促進剤はカプ
リを防止するのに有効な量で普通使用される。しかしな
がら、それ等の量はフントラストの観点から最良の結果
を得るように最適化されることができる。有効な量は、
それ等が乳剤中に含有される場合には乳剤１００ｇ当た
シ１ダから１００ｍ９まで変動可能であシ、現像浴中に
含有される場合（この方が好ましい）には１１当たり０
．０１ ｇから５ｇまで変動可能である。
ンゾイミダゾールはカプリを防止するのに良好ではある
が、コントラスト増加に関しては有益な効果を与えるも
のではない。種類としては、ベンゾイミダゾール類およ
びベンゾトリアゾール類は本発明の実施に有効であると
考えられる。いずれＫしても、上記のように、強い電子
吸引性の基を有するベンゾトリアゾールおよびベンゾイ
ミダゾールによって有意に改善された性能を得ることは
困難であった。従って、ベンゾトリアゾールおよびベン
ゾイミダゾールはニトロ基と同程度に強い又はそれより
強い電子吸引性基である置換基を芳香族環上に有しない
ことが好ましい。低級アルキル基（炭素原子１〜５個の
）やハロゲン置換基（塩素）のようなその他の既知の置
換基は本発明のためには良好な置換基であることが証明
された。上記のベンゾトリアゾールおよびベンゾイミダ
ゾール系カプリ防止剤およびコントラスト促進剤はカプ
リを防止するのに有効な量で普通使用される。しかしな
がら、それ等の量はフントラストの観点から最良の結果
を得るように最適化されることができる。有効な量は、
それ等が乳剤中に含有される場合には乳剤１００ｇ当た
シ１ダから１００ｍ９まで変動可能であシ、現像浴中に
含有される場合（この方が好ましい）には１１当たり０
．０１ ｇから５ｇまで変動可能である。
上記に特定された必〜須成分の他に、現像液は、周知の
ように、写真現像液に有効な広く様々な添加剤のいずれ
を任意に含有することも可能である。
ように、写真現像液に有効な広く様々な添加剤のいずれ
を任意に含有することも可能である。
例えば、それは溶剤、緩衝剤、金属イオン封鎖剤、現像
促進剤、乳剤層のセル化を減少させるための薬剤などを
含有することができる。
促進剤、乳剤層のセル化を減少させるための薬剤などを
含有することができる。
界面活性剤
本発明の実施に有効な界面活性剤は米国特許第２，７５
ｇｊ０１９号および第２，９１５．５５４号に開示され
ているもののような、エトキシル化またはプロポキシル
化アルコール、およびフッ素化界面活性剤のクラスに限
定されることが判明した。
ｇｊ０１９号および第２，９１５．５５４号に開示され
ているもののような、エトキシル化またはプロポキシル
化アルコール、およびフッ素化界面活性剤のクラスに限
定されることが判明した。
エトキシル化またはプロポキシル化アルコールが好まし
い。最も好ましい界面活性剤の例はＣ！１ｌＨａ４０□
の複合分子式および約５ｇ６の分子量（商品カタログは
ＭＷ５８２と示されている）を有するエトキシル化（お
よび多分プロポキシル化もなされているであろう）混成
オクチル／デシルアルコールであるＡｎｔａｒｏｘＴＭ
ＢＬ−２４０である。平均式はであるらしい。これ等化
合物は実際に界面活性剤として作用しなければならず、
そしてこのことは一般に少なくとも１個の界面活性官能
基（例えば、ヒドロキシル基）を、界面活性官能基尚た
シ分子中の全エトキシおよびプロポキシ基２０個未満（
好ましくは１６個未満、よシ好ましくは１０個未満）の
比で、必要とする。界面活性剤は１，０００未満、よシ
好ましくは８００未満の分子量を有すＭ ルコとが好摩しい。Ｅｍｕｌｐｈｏｒ ％Ｔ’ｅｒｇ
ｉｔｏｌＴＭＶｏｌｐｏＴＭなどのような多数のその他
の市販のエトキシル化アルコール界面活性剤も本発明の
実施に使用できる。その他の有効な界面活性剤は米国特
許第３．７６９，０２２号および第２，８３１，７６６
号に被援助剤として及び米国特許第４，０１０〜０．５
ｇ１．６４１号に界面活性剤として示されている。本発
明を認識する場合、渦状パターンは被覆欠陥ではなく現
像欠陥であるということに留意すべきである。現像前の
又はよシ活性でない現像時の層の分析はこれ等渦状パタ
ーンを示さない。ということは、それが被覆欠陥の結果
でないことを意味している。
い。最も好ましい界面活性剤の例はＣ！１ｌＨａ４０□
の複合分子式および約５ｇ６の分子量（商品カタログは
ＭＷ５８２と示されている）を有するエトキシル化（お
よび多分プロポキシル化もなされているであろう）混成
オクチル／デシルアルコールであるＡｎｔａｒｏｘＴＭ
ＢＬ−２４０である。平均式はであるらしい。これ等化
合物は実際に界面活性剤として作用しなければならず、
そしてこのことは一般に少なくとも１個の界面活性官能
基（例えば、ヒドロキシル基）を、界面活性官能基尚た
シ分子中の全エトキシおよびプロポキシ基２０個未満（
好ましくは１６個未満、よシ好ましくは１０個未満）の
比で、必要とする。界面活性剤は１，０００未満、よシ
好ましくは８００未満の分子量を有すＭ ルコとが好摩しい。Ｅｍｕｌｐｈｏｒ ％Ｔ’ｅｒｇ
ｉｔｏｌＴＭＶｏｌｐｏＴＭなどのような多数のその他
の市販のエトキシル化アルコール界面活性剤も本発明の
実施に使用できる。その他の有効な界面活性剤は米国特
許第３．７６９，０２２号および第２，８３１，７６６
号に被援助剤として及び米国特許第４，０１０〜０．５
ｇ１．６４１号に界面活性剤として示されている。本発
明を認識する場合、渦状パターンは被覆欠陥ではなく現
像欠陥であるということに留意すべきである。現像前の
又はよシ活性でない現像時の層の分析はこれ等渦状パタ
ーンを示さない。ということは、それが被覆欠陥の結果
でないことを意味している。
本発明の現像主薬は有効であるためには０．００１〜０
．０５０ ｇ／ Ｒ”の量でハロゲン化銀乳剤層少に添
加されるべきであることが判明した。好ましくは一現像
剤は０．００５〜０．０４０ｇ／Ｆ７１２の量で使用さ
れるべきであシ、最も好ましくは０．００５〜０・０５
０ｇ１Ｉｎ２である。界面活性剤はトップコート層中に
０．０１０〜０．０１０〜０．５ｇ１７扉２の範囲で、
好ましくは０．０２０〜０．４１１／ＩＩＬ２の範囲で
、最も好ましくは０．−０５０〜０．５０ ｇ／ ｍ”
の範囲で使用されるべきである。
．０５０ ｇ／ Ｒ”の量でハロゲン化銀乳剤層少に添
加されるべきであることが判明した。好ましくは一現像
剤は０．００５〜０．０４０ｇ／Ｆ７１２の量で使用さ
れるべきであシ、最も好ましくは０．００５〜０・０５
０ｇ１Ｉｎ２である。界面活性剤はトップコート層中に
０．０１０〜０．０１０〜０．５ｇ１７扉２の範囲で、
好ましくは０．０２０〜０．４１１／ＩＩＬ２の範囲で
、最も好ましくは０．−０５０〜０．５０ ｇ／ ｍ”
の範囲で使用されるべきである。
ハロゲン化銀乳剤層少の補助現像薬とトップコート層中
の界面活性剤との両者の組み合わせは個情材料の加算効
果よシも優れてフィルム性能を改善する。特に、初期の
認め得る現像を得るための誘導時間はこれ等添加剤の組
み合わせによって減少できる。
の界面活性剤との両者の組み合わせは個情材料の加算効
果よシも優れてフィルム性能を改善する。特に、初期の
認め得る現像を得るための誘導時間はこれ等添加剤の組
み合わせによって減少できる。
乳剤中での現像主薬の使用に到るヒドラジド高コントラ
スト技術忙は一般的な資料が存在する（例えば、米国特
許第４．５６０．６３８号および第４，６１８，５７４
号）が、特に乳剤層中のフェニドン型現像剤についての
開示は存在しない。米国特許第４．６１９，８８６号、
第４，６５０，７４６号、および第４．１６８．９７７
号、さらに特開昭６０−１２９７４６号は現像浴中での
６−ピラゾリドン型（フェニドン型）現像主薬・の一般
的利用を教示しているが、これ等刊行物は乳剤中でのこ
れ等現像剤の使用を示唆しているわけではない。渦状パ
ターン減少効果はフェニドン現像剤が乳剤中に（直接に
又は他の層からの移行によって）存在する場合にのみ認
められ、現像剤が現像浴中にのみ存在する場合には効果
は認められない。
スト技術忙は一般的な資料が存在する（例えば、米国特
許第４．５６０．６３８号および第４，６１８，５７４
号）が、特に乳剤層中のフェニドン型現像剤についての
開示は存在しない。米国特許第４．６１９，８８６号、
第４，６５０，７４６号、および第４．１６８．９７７
号、さらに特開昭６０−１２９７４６号は現像浴中での
６−ピラゾリドン型（フェニドン型）現像主薬・の一般
的利用を教示しているが、これ等刊行物は乳剤中でのこ
れ等現像剤の使用を示唆しているわけではない。渦状パ
ターン減少効果はフェニドン現像剤が乳剤中に（直接に
又は他の層からの移行によって）存在する場合にのみ認
められ、現像剤が現像浴中にのみ存在する場合には効果
は認められない。
本発明のこれ等およびその他の特徴は次の実施例によっ
ても明らかになろう。
ても明らかになろう。
実施例１
被覆層
乳剤
臭化カリウム
分光増感色素
Ｂｒ１ｊ５８（分子量１
化アルコール）
Ｈｏｓｔａｐｕｒ ５Ａ８−９３
０．０４９
Ａｇ ３．１ ｇ／ｍ”
０．０３４ Ｆ！Ｚｒ１Ｌ”
０．００７
０．０４３
０００超のエトキシル
ヒドロキシメチルペンゾイルヒｒラジドを含有〕
ベンズヒドロール
アスコルビン酸
０．０４１
０．００３
トリアジン
被覆層
不活性ゼラチン
Ｈｏａｔａｐｕｒ Ｓｉ２−９５ （被覆助剤）シリカ
（マット化剤） ０．１０２ ０．７０４ｆｉ／ｍ２ ０．０６１ ０．０２９ 背面に予めノ・レーション防止層を被覆されている標準
的なプライム処理および下塗シされたポリエステルベー
ス上に層Ａを被覆した。層Ａの硬度を増加させるために
６日おいてから、層Ａの上に層Ｂを適用し、そして硬度
を増加させるためにさらに３日おいてからフィルムを包
装加工した。これは下記表中で被覆体す１と呼ばれてい
る。
（マット化剤） ０．１０２ ０．７０４ｆｉ／ｍ２ ０．０６１ ０．０２９ 背面に予めノ・レーション防止層を被覆されている標準
的なプライム処理および下塗シされたポリエステルベー
ス上に層Ａを被覆した。層Ａの硬度を増加させるために
６日おいてから、層Ａの上に層Ｂを適用し、そして硬度
を増加させるためにさらに３日おいてからフィルムを包
装加工した。これは下記表中で被覆体す１と呼ばれてい
る。
上記層Ａ用液優性配合物に次の現像剤化合物も添加した
。これ等のうち、６−ピラゾリジノン類（被覆体す２〜
５）および２−ぎラブリン類（被覆体す８〜９）だけが
本発明の効果をもたらし、それ等り ラスの特異性を示した。
。これ等のうち、６−ピラゾリジノン類（被覆体す２〜
５）および２−ぎラブリン類（被覆体す８〜９）だけが
本発明の効果をもたらし、それ等り ラスの特異性を示した。
１、無添加
２．７二二ｒンＡ
６、フェニドンＡ
４、ジメテン
５、ジメテン
６、メトール
ア、メトール
８、ピラゾリン（Ｃ１０Ｈ１ＯＮ２０）９、〃
１０、テトラクロロハイドロキノ
１１、 〃
１２、スピロビイントン
１６、〃
１４、没食子酸ゾロぎル
１５．１
メトールはｐ−メチルアミ
ある。
０、’０００ｇｍ／ｍ２５ ５
０．００４ ４ １．５
０．０１０ ３．５ １．５
０．００４ ４ ２．５
０．０１０ ４ ２
０．００４ ４．５ ３
０．０１０ ４ ３．５
０．００４ ４．５ ２．５
０．０１０ ４．５ ２．２
０．００４ ５ ３
０．０１０ ５ ５．５
０．００４ ４．５ ４
０．０１０ ４ ３
０．００４ ４ ４
０．０１０ ４．５ ４
ノフエノール硫酸塩で
フェニドンｈｉｉ１−フェニル−３−ピラｆ ＩＪ シ
／ンである。
／ンである。
キラゾリンは３−メチル−１−フェニル−２−ピラゾリ
ン−５−オンである。
ン−５−オンである。
ジメテンＳは４−ヒドロキシルメチル−１−４−メチル
−１−フェニル−３−ピラゾリドンである。
−１−フェニル−３−ピラゾリドンである。
ジメテンは
である。
アミトールは２．４−ジアミノフェノールジヒドロクロ
ルである。
ルである。
露光方法の例：
現像処理後に約７０チの網点濃度を生じさせるオーバー
レイド・コグツク１３３線マゼンタコンタクりスクリー
ンを真空付着されているフィルムサンプルに、点光源か
らコダック・ラツテンシリ−ズ００フィルターを通った
適切な電磁波を照射した。
レイド・コグツク１３３線マゼンタコンタクりスクリー
ンを真空付着されているフィルムサンプルに、点光源か
らコダック・ラツテンシリ−ズ００フィルターを通った
適切な電磁波を照射した。
代表的なフッ素化界面活性剤は界面活性剤基〔例えば、
末端ヒドロキシまたはメトキシ基などを有する−０（Ｃ
Ｈ２）ｎ−（但し、ｎは２または６である）のようなポ
リオキソアルキル基〕Ｋ結合した高度にフッ素化された
（その基の部分の炭素上の全ての置換基の少なくとも２
／３がフッ素化された）または完全フッ素化された基を
有する。代表例は （但し、Ｒ７は高フツ素化または完全フッ素化基であシ
、ＲはＨまたは炭素原子１〜４個のアルキル基であシ、
ｍおよびｐは２または６であシ、そしてＲ１は水素また
はメチルである）である。
末端ヒドロキシまたはメトキシ基などを有する−０（Ｃ
Ｈ２）ｎ−（但し、ｎは２または６である）のようなポ
リオキソアルキル基〕Ｋ結合した高度にフッ素化された
（その基の部分の炭素上の全ての置換基の少なくとも２
／３がフッ素化された）または完全フッ素化された基を
有する。代表例は （但し、Ｒ７は高フツ素化または完全フッ素化基であシ
、ＲはＨまたは炭素原子１〜４個のアルキル基であシ、
ｍおよびｐは２または６であシ、そしてＲ１は水素また
はメチルである）である。
その他のフッ素化界面活性剤は式
〔式中、Ｒ２は先の定義通シであシ、ｑは２〜６であ’
ｐ、Ｒ”およびＲ２およびＲ３はそれぞれ独立に炭素原
子１〜８個（好ましくは炭素原子１〜３個）のアルキル
基であシ、そしてＡは隘イオンである〕 によって表わされる。
ｐ、Ｒ”およびＲ２およびＲ３はそれぞれ独立に炭素原
子１〜８個（好ましくは炭素原子１〜３個）のアルキル
基であシ、そしてＡは隘イオンである〕 によって表わされる。
現像処理液および条件の例：
現像剤例（１００’Ｆに於ける現像剤）１８００．００
ｇ １９５．００ ｇ １２４．００ 、！ｉ’ ｉｏ、ｏｏ ｇ ７．５０９ ６０．００ｇ ５．００１１ ０．２０１１ ９．２５．ｌｉ’ 水 水酸化カリウム メタ重亜硫酸カリウム ＤＴＰＡ （４０チ） ピルビン酸 ハイドロキノン メトール ５−メチルベンゾトリアゾール 臭化カリウム 塩化カリウム 燐酸 最終容量 パートＡワーキング液（ ２，７０ｇ ９０．００ ｇ ２．００） １１．００Ｐ）］ １００’Ｆにかける定着 液） 水 ０．１
２５３０ Ｊ３チオ硫酸アンモニウム ０．
７７９９０−ｅ亜硫酸ナトリウム ６５．９
０９６Ｅｌホウ酸 ２９．２３８０
１０〜０．５ｇ１酢酸ナトリウム ５２
．８６５４ ９酢酸（氷酢酸） ４２
．３．５ｇ９ ｇ合計 １、ＯＪ 露光済み要素を上記現像剤中で３０秒間マシン現像処理
した後、定着剤中に３０秒間浸漬し、そして乾燥前に水
浴中に浸漬した。均一なよシ低いスクリーンされた淡調
濃度のせいで、機械的処理力によって起こる何らかの異
常または変動濃度欠陥は大きく強調され評価のための方
法をもたらした。この欠陥に対して内輪で付与した用語
は「渦状」であり、それは０〜５０等級を与えた。０は
何らかの欠陥の観測が零に近いものであシ、５は目に見
える木目型欠陥またはその他の酷い処理パターンである
。上記被覆添加剤の結果は上記表中に渦評価体１の欄の
下に包含されている。
ｇ １９５．００ ｇ １２４．００ 、！ｉ’ ｉｏ、ｏｏ ｇ ７．５０９ ６０．００ｇ ５．００１１ ０．２０１１ ９．２５．ｌｉ’ 水 水酸化カリウム メタ重亜硫酸カリウム ＤＴＰＡ （４０チ） ピルビン酸 ハイドロキノン メトール ５−メチルベンゾトリアゾール 臭化カリウム 塩化カリウム 燐酸 最終容量 パートＡワーキング液（ ２，７０ｇ ９０．００ ｇ ２．００） １１．００Ｐ）］ １００’Ｆにかける定着 液） 水 ０．１
２５３０ Ｊ３チオ硫酸アンモニウム ０．
７７９９０−ｅ亜硫酸ナトリウム ６５．９
０９６Ｅｌホウ酸 ２９．２３８０
１０〜０．５ｇ１酢酸ナトリウム ５２
．８６５４ ９酢酸（氷酢酸） ４２
．３．５ｇ９ ｇ合計 １、ＯＪ 露光済み要素を上記現像剤中で３０秒間マシン現像処理
した後、定着剤中に３０秒間浸漬し、そして乾燥前に水
浴中に浸漬した。均一なよシ低いスクリーンされた淡調
濃度のせいで、機械的処理力によって起こる何らかの異
常または変動濃度欠陥は大きく強調され評価のための方
法をもたらした。この欠陥に対して内輪で付与した用語
は「渦状」であり、それは０〜５０等級を与えた。０は
何らかの欠陥の観測が零に近いものであシ、５は目に見
える木目型欠陥またはその他の酷い処理パターンである
。上記被覆添加剤の結果は上記表中に渦評価体１の欄の
下に包含されている。
表は乳剤層へのフェニドン添加が０．０１ ｆｉ／ＩＩ
Ｌ２の最適レベルで使用された場合には「渦状」欠陥レ
ベルを１−１／２単位分だけ改善したことを明瞭に立証
している。この好ましい改善に加えて、フェニドンを含
有する材料は現像処理フィルムのシートにおける全体の
濃度がよシバラツキのないものであることも目視上立証
した。その他の補助現像剤はどれもこれ等問題の領域に
対して認め得る正の効果を有しなかった。
Ｌ２の最適レベルで使用された場合には「渦状」欠陥レ
ベルを１−１／２単位分だけ改善したことを明瞭に立証
している。この好ましい改善に加えて、フェニドンを含
有する材料は現像処理フィルムのシートにおける全体の
濃度がよシバラツキのないものであることも目視上立証
した。その他の補助現像剤はどれもこれ等問題の領域に
対して認め得る正の効果を有しなかった。
表中の渦評価体１に比べて渦評価体２の欄の下に示され
ているものは層ｓ Ｋ ＡｎｔａｒＯＸＴＭｆ３ＩＪ−
２４０を最適レベルで添加したことによって欠陥レベル
が減少されたことを立証している。
ているものは層ｓ Ｋ ＡｎｔａｒＯＸＴＭｆ３ＩＪ−
２４０を最適レベルで添加したことによって欠陥レベル
が減少されたことを立証している。
フェニドンとエトキシル化アルコール（ＢＬ−２４０の
ような）とを組み合わせて使用した場合には相乗効果が
認められ、「渦」改善に対する全効果が少なくとも６．
５単位分になった。
ような）とを組み合わせて使用した場合には相乗効果が
認められ、「渦」改善に対する全効果が少なくとも６．
５単位分になった。
相乗効果は、例えば、実施例１の被覆体す２に２いては
層Ａの上に次の層Ｃを被覆したときに達成される。
層Ａの上に次の層Ｃを被覆したときに達成される。
不活性ゼラチン ０−７０４ ｇ／ｍ
”Ｈｏ５ｔａｐｕｒ ８Ａ８−９５ ０
．０（０１０〜０．５ｇシリカ
０．０２９Ａｎｔ＋ａｒＯＸ ＢＬ−２４０［］−１
４１トリアジン ０．０９５
納果は表中に渦評価体２の下に示されておシ、欠陥結果
は２単位よシ小さい。各材料は実施例１に従って露光し
現像処理した。バラツキのない欠陥パターンを発生させ
るためには、プロセッサーの第一の入口ローラ一対に泡
を供給する小さな空気ポンプが必要であることも判明し
た。
”Ｈｏ５ｔａｐｕｒ ８Ａ８−９５ ０
．０（０１０〜０．５ｇシリカ
０．０２９Ａｎｔ＋ａｒＯＸ ＢＬ−２４０［］−１
４１トリアジン ０．０９５
納果は表中に渦評価体２の下に示されておシ、欠陥結果
は２単位よシ小さい。各材料は実施例１に従って露光し
現像処理した。バラツキのない欠陥パターンを発生させ
るためには、プロセッサーの第一の入口ローラ一対に泡
を供給する小さな空気ポンプが必要であることも判明し
た。
実施例２
６つの主要な変数をもって設計された複合体を被覆した
。フェニドンをよシ広い範囲の添加量で層中に晧加し、
かつＨＡ −２２を削除した以外は実施例１の乳剤最終
物に準じた乳剤層であった。残シの２つの変数／範囲は
いまやＨＡ −２２を０．１６２３ｇ／Ｆｆｉ”の量で
含有しているトップコート１−中に含まれるものであっ
た。これ等被覆も実施例１０層Ｃとは異なる。何故なら
ば、２つの層を同時忙被覆したからである。これ等材料
を「渦」評価の等級化の前に実施ｎｌＫおけるように露
光し現像処理した。
。フェニドンをよシ広い範囲の添加量で層中に晧加し、
かつＨＡ −２２を削除した以外は実施例１の乳剤最終
物に準じた乳剤層であった。残シの２つの変数／範囲は
いまやＨＡ −２２を０．１６２３ｇ／Ｆｆｉ”の量で
含有しているトップコート１−中に含まれるものであっ
た。これ等被覆も実施例１０層Ｃとは異なる。何故なら
ば、２つの層を同時忙被覆したからである。これ等材料
を「渦」評価の等級化の前に実施ｎｌＫおけるように露
光し現像処理した。
変数の設計レベルは次の通シである：
十α０．０４８２ ０．５６０
１．０４０４ｇ／ｎ”＋ ０．０５ｇ９
０．２Ｂ２０ ０．９４７９Ｃｐ Ｏ，０２
６２０，２１１５０，８１２３−０，０１３１０，１４
１００，６７６７−α０．００３１８ ０
．０９２９ ０．５８４２設計平均値１．６９
の「渦」応答に対する上記設計変数の静的分析は単位変
化当たシ次のような効果を子側する。
１．０４０４ｇ／ｎ”＋ ０．０５ｇ９
０．２Ｂ２０ ０．９４７９Ｃｐ Ｏ，０２
６２０，２１１５０，８１２３−０，０１３１０，１４
１００，６７６７−α０．００３１８ ０
．０９２９ ０．５８４２設計平均値１．６９
の「渦」応答に対する上記設計変数の静的分析は単位変
化当たシ次のような効果を子側する。
フェニドンについては −０，６９６ＢＬ−２４０Ｉ
Ｃついては −０、８２４ゼラチンについては
０．０ この設計分析はやはシ、ワンパス被覆操作における相乗
効果のみならず変数の単独効果をも立証している。
Ｃついては −０、８２４ゼラチンについては
０．０ この設計分析はやはシ、ワンパス被覆操作における相乗
効果のみならず変数の単独効果をも立証している。
Claims (10)
- （１）ネガ作用の表面潜像型ハロゲン化銀乳剤層少なく
とも１層とヒドラジン化合物とを含む、活性電磁波によ
る感現像性付与用露光を受けていないハロゲン化銀写真
要素であつて、 （ａ）前記ハロゲン化銀と反応可能に組み合わされてい
る３−ピラゾリジノンまたは２−ピラゾリン現像主薬、
および （ｂ）トップコート層中のアルコキシル化アルコールお
よびフッ素化界面活性剤からなるクラスから選択された
界面活性剤、から選択された少なくとも一方の添加剤が
渦状パターンを減少させる量存在していることを特徴と
する、前記ハロゲン化銀写真要素。 - （２）ネガ作用の表面潜像型ハロゲン化銀乳剤層少なく
とも１層とヒドラジン化合物とを含む、活性電磁波によ
る感現像性付与用露光を受けていないハロゲン化銀写真
要素であつて、前記要素がコントラスト促進量のジアリ
ールカルビノール系コントラスト促進剤を前記ハロゲン
化銀乳剤層と反応可能な組み合わせで有しており〔但し
、前記ジアリールカルビノール化合物は式（ I ）また
は（II）Ｒ＿１Ｒ＿２Ｒ＿３ＣＯＨ（ I ） Ｒ＿１Ｒ＿２Ｒ＿３Ｃ（ＣＨ＿２）＿ｎＯＨ（II）（式
中、Ｒ＿１およびＲ＿２は各々、置換または非置換芳香
族基を表わし、Ｒ＿３は水素原子、置換または非置換ア
ルキル基を表わし、そしてｎは０〜４の正の整数を表わ
す） を有し、かつ前記ジアリールカルビノールはハロゲン化
銀乳剤層中にハロゲン化銀１モル当たり約１０＾−＾４
〜１０＾−＾１モルの量で組み入れられている〕；かつ
前記要素が渦状パターン軽減量の、 （ａ）乳剤中の３−ピラゾリジノンまたは２−ピラゾリ
ン現像剤、および （ｂ）トップコート層中のアルコキシル化アルコールお
よびフッ素化界面活性剤からなる群から選択された界面
活性剤、からなる群から選択された添加剤を有している
ことを特徴とする、前記ハロゲン化銀写真要素。 - （３）前記トツプコート層中にアルコキシル化アルコー
ルが存在し、そして前記アルコールがエトキシル化アル
コールおよびプロポキシル化アルコールからなる群から
選択される、請求項（１）の要素。 - （４）各界面活性剤基に対するエトキシおよびプロポキ
シ基の比が２０未満である、請求項（３）の要素。 - （５）前記界面活性剤基がヒドロキシル基を含有してい
る、請求項（４）の要素。 - （６）さらに前記乳剤層中に前記現像剤を含有しており
、前記現像剤が３−ピラゾリジノン現像剤からなる、請
求項（１）〜（５）の要素。 - （７）前記ヒドラジンが式 Ｒ−ＮＨＮＨ−ＣＲ＾１ （式中、Ｒは芳香族基であり、そしてＲ＾１は水素、ア
ルキル、および芳香族基から選択される）を有する、請
求項（１）〜（５）の要素。 - （８）前記ヒドラジンが式 Ｒ−ＮＨＮＨ−ＣＲ＾１ （式中、Ｒは芳香族基であり、そしてＲ＾１は水素、ア
ルキル、および芳香族基から選択される）を有する、請
求項（６）の要素。 - （９）ネガ作用の表面潜像型ハロゲン化銀乳剤層少なく
とも１層とコントラスト化促進用ヒドラジン化合物とを
含む、活性電磁波による感現像性付与用露光を受けてい
ないハロにン化銀写真要素であつて、 （ａ）前記銀と反応可能に組み合わされている補助現像
薬、および （ｂ）トツプコート層中のアルコキシル化アルコールお
よびフッ素化界面活性剤からなるクラスから選択された
界面活性剤、から選択された少なくとも一方の添加剤が
渦状パターンを減少させる量存在することを特徴として
おり、前記界面活性剤は前記トップコート層中に、０．
０１０〜０．５ｇ／ｍ＾２の量で存在し、かつ前記界面
活性剤はヒドロキシル界面活性剤基に対するエトキシお
よびプロポキシ基の比が１６未満であるエトキシル化ま
たはプロポキシル化アルコールからなり、そして前記乳
剤層は３−ピラゾリジノン補助現像剤を０．００１〜０
．５ｇ／ｍ＾２の量で含有する、前記ハロゲン化銀写真
要素。 - （１０）ネガ作用の表面潜像型ハロゲン化銀乳剤層少な
くとも１層とコントラスト化促進用ヒドラジン化合物と
を含む、活性電磁波による感現像性付与用露光を受けて
いないハロゲン化銀写真要素であつて、前記要素がコン
トラスト促進量のジアリールカルビノール系コントラス
ト促進剤を前記ハロゲン化銀乳剤層と反応可能に組み合
わせて有しており〔但し、前記アリールカルビノール化
合物は式（ I ）または（II） Ｒ＿１Ｒ＿２Ｒ＿３ＣＯＨ（ I ） Ｒ＿１Ｒ＿２Ｒ＿３Ｃ（ＣＨ＿２）＿ｎＯＨ（II） （式中、Ｒ＿１およびＲ＿２は各々、置換または非置換
芳香族基を表わし、Ｒ＿３は水素原子、置換または非置
換アルキル基を表わし、そしてｎは０〜４の正の整数を
表わす） を有しており、かつ前記ジアリールカルビノールはハロ
ゲン化銀乳剤層中にハロゲン化銀１モル当たり約１０＾
−＾４〜１０＾−＾１モルの量で組み入れられている〕
；かつ前記要素が渦状パターン軽減量の、 （ａ）乳剤中の３−ピラゾリジノン現像剤、および （ｂ）トップコート層中のアルコキシル化アルコールお
よびフッ素化界面活性剤からなる群から選択された界面
活性剤、からなる群から選択された添加剤を有している
〔但し、前記界面活性剤は前記トツプコート層中に０．
０１０〜０．５ｇ／ｍ＾２の量で存在し、かつ前記界面
活性剤はヒドロキシル界面活性剤基に対するエトキシお
よびプロポキシ基の比が１６未満であるエトキシル化ま
たはプロポキシル化アルコールからなり、そして前記乳
剤層は３−ピラゾリジノン補助現像剤を０．００１〜０
．５ｇ／ｍ＾２の量で含有する〕ことを特徴とする、前
記ハロゲン化銀写真要素。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US15525888A | 1988-02-12 | 1988-02-12 | |
| US155258 | 1988-02-12 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH024238A true JPH024238A (ja) | 1990-01-09 |
Family
ID=22554686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3257489A Pending JPH024238A (ja) | 1988-02-12 | 1989-02-10 | 硬調写真要素 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0329335A3 (ja) |
| JP (1) | JPH024238A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0622670A1 (en) * | 1993-04-26 | 1994-11-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photographic silver halide developer compositions and process for forming photographic silver images |
| US5702864A (en) * | 1996-08-30 | 1997-12-30 | Sun Chemical Corporation | Reduced scratch sensitization in nucleated photographic film |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2915554A (en) * | 1957-07-23 | 1959-12-01 | Minnesota Mining & Mfg | Non-ionic surfactant derivatives of perfluoro alkane-sulfonamides |
| US4137190A (en) * | 1977-04-04 | 1979-01-30 | Gaf Corporation | Detergent composition comprising synergistic hydrotrope mixture of two classes of organic phosphate esters |
| JPS589412B2 (ja) * | 1977-08-30 | 1983-02-21 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料の現像方法 |
| IT1188549B (it) * | 1986-02-07 | 1988-01-14 | Minnesota Mining & Mfg | Procedimento per la formazione di immagini negative ad alto contrasto ed elemento fotografico agli alogenuri d'argento |
| JPS6325644A (ja) * | 1986-07-18 | 1988-02-03 | Konica Corp | 現像処理条件変化に対応できるハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1989
- 1989-02-09 EP EP19890301254 patent/EP0329335A3/en not_active Withdrawn
- 1989-02-10 JP JP3257489A patent/JPH024238A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0329335A3 (en) | 1991-01-09 |
| EP0329335A2 (en) | 1989-08-23 |
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