JPH0242826B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0242826B2 JPH0242826B2 JP55181247A JP18124780A JPH0242826B2 JP H0242826 B2 JPH0242826 B2 JP H0242826B2 JP 55181247 A JP55181247 A JP 55181247A JP 18124780 A JP18124780 A JP 18124780A JP H0242826 B2 JPH0242826 B2 JP H0242826B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- acetic acid
- general formula
- phenylthiophenyl
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Landscapes
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は次の一般式（）
で表わされるフエニルチオフエニル酢酸誘導体に
関する。
関する。
本発明化合物から導かれる一般式（）
で表わされるジベンゾチエピンプロピオン酸誘導
体は、すぐれた抗炎症作用ならびに鎮痛作用を有
する。例えば、カラゲニン浮腫法による抗炎症作
用では、２−（10，11−ジヒドロ−10−オキソジ
ベンゾ〔ｂ，ｆ〕チエピン−２−イル）プロピン
酸は、インドメサシンの約２倍の効力を有し、さ
らに酢酸ライジング法による鎮痛作用では、アス
ピリンの20倍もの効力を有する。
体は、すぐれた抗炎症作用ならびに鎮痛作用を有
する。例えば、カラゲニン浮腫法による抗炎症作
用では、２−（10，11−ジヒドロ−10−オキソジ
ベンゾ〔ｂ，ｆ〕チエピン−２−イル）プロピン
酸は、インドメサシンの約２倍の効力を有し、さ
らに酢酸ライジング法による鎮痛作用では、アス
ピリンの20倍もの効力を有する。
また、ラツトにおける急性毒性値、LD50値は
232mgであり安全性の高い有用な抗炎症剤として
期待される（特開昭55−53282）。
232mgであり安全性の高い有用な抗炎症剤として
期待される（特開昭55−53282）。
本発明者らは、すぐれた薬理作用を有する一般
式（）で示される化合物の工業的かつ経済的製
法について鋭意検討した結果、一般式（）で表
わされる化合物が中間原料として有用なことを見
い出し本発明を完成した。
式（）で示される化合物の工業的かつ経済的製
法について鋭意検討した結果、一般式（）で表
わされる化合物が中間原料として有用なことを見
い出し本発明を完成した。
従つて、本発明の目的は一般式（）で表わさ
れるフエニルチオフエニル酢酸誘導体を提供せん
とすることにある。
れるフエニルチオフエニル酢酸誘導体を提供せん
とすることにある。
本発明化合物は、次式で示される方法により容
易に有用な薬理作用を有する一般式（）の化合
物にすることが出来る。
易に有用な薬理作用を有する一般式（）の化合
物にすることが出来る。
従来一般式（）で表わされる化合物は、下記
反応工程により製造されてきた。
反応工程により製造されてきた。
（式中、Ｒは低級アルキル基を示す。）
しかしながら前記公知方法における、化合物
（）から化合物（）への閉環反応にみられる
低収率、さらには、化合物（）を加水分解反応
に付した後、得られる粗生成物から化合物（）
を単離精製するのに必要であつたカラムクロマト
グラフイーによる処理等、工業的製法において重
大な問題点を、本発明化合物を閉環反応に付すこ
とにより改善することが出来る。また、本発明化
合物は、公知中間体化合物、たとえば、一般式
（）あるいは一般式（）の化合物と比較して
容易に結晶化するため、単離および精製操作をた
やすくおこなうことが出来、工業的操作を有利に
おこなうことが可能である。
（）から化合物（）への閉環反応にみられる
低収率、さらには、化合物（）を加水分解反応
に付した後、得られる粗生成物から化合物（）
を単離精製するのに必要であつたカラムクロマト
グラフイーによる処理等、工業的製法において重
大な問題点を、本発明化合物を閉環反応に付すこ
とにより改善することが出来る。また、本発明化
合物は、公知中間体化合物、たとえば、一般式
（）あるいは一般式（）の化合物と比較して
容易に結晶化するため、単離および精製操作をた
やすくおこなうことが出来、工業的操作を有利に
おこなうことが可能である。
例えば、本発明化合物から導かれる特に好まし
い化合物２−（10，11−ジヒドロ−10−オキソジ
ベンゾ〔ｂ，ｆ〕チエピン−２−イル）プロピオ
ン酸は、５−（α−カルボキシ）エチル−２−フ
エニルチオフエニル酢酸をポリリン酸中、閉環反
応に付した後、得られる粗生成物を、従来必要で
あつたカラムクロマトグラフイーによる処理をお
こなうことなく、再結晶により63％以上の収率で
得られる。即ち本発明化合物を閉環することによ
り、前記公知方法による収率を大巾に向上させる
ことに成功した。
い化合物２−（10，11−ジヒドロ−10−オキソジ
ベンゾ〔ｂ，ｆ〕チエピン−２−イル）プロピオ
ン酸は、５−（α−カルボキシ）エチル−２−フ
エニルチオフエニル酢酸をポリリン酸中、閉環反
応に付した後、得られる粗生成物を、従来必要で
あつたカラムクロマトグラフイーによる処理をお
こなうことなく、再結晶により63％以上の収率で
得られる。即ち本発明化合物を閉環することによ
り、前記公知方法による収率を大巾に向上させる
ことに成功した。
本発明化合物は、一般式（）の化合物のエス
テル基とニトリル基を加水分解して得られる。
テル基とニトリル基を加水分解して得られる。
反応は、反応溶媒として、水あるいはアルコー
ル類たとえばメタノール、エタノール等、さらに
は、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチル
ホルムアミド、酢酸など一般に使用される有機溶
媒を水との共存下に用い塩酸、硫酸、臭化水素酸
などの鉱酸あるいは、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等のアルカリ存在下、反応温度は特に限
定されるものではないが、好ましくは室温から加
熱還流の範囲であり、反応時間は、用いる溶媒、
反応温度さらには、酸あるいはアルカリの量によ
つて異なるが、多くは、数時間で行うことが出来
る。
ル類たとえばメタノール、エタノール等、さらに
は、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチル
ホルムアミド、酢酸など一般に使用される有機溶
媒を水との共存下に用い塩酸、硫酸、臭化水素酸
などの鉱酸あるいは、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等のアルカリ存在下、反応温度は特に限
定されるものではないが、好ましくは室温から加
熱還流の範囲であり、反応時間は、用いる溶媒、
反応温度さらには、酸あるいはアルカリの量によ
つて異なるが、多くは、数時間で行うことが出来
る。
以下、実施例によつて本発明を説明する。
実施例 １
５−（α−カルボキシエチル）−２−フエニルチ
オフエニル酢酸： エチル５−（α−シアノエチル）−２−フエニル
チオフエニルアセテート（）11.0ｇに酢酸55
ml、47％臭化水素酸55mlを順次加え、撹拌下に５
時間加熱還流する。反応物を減圧濃縮し、冷水を
加え酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を飽和
食塩水で洗浄後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液と
ともに振とうし、水層を分取する。水層は塩酸酸
性としたのち酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル
層は飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。酢酸エチルを減圧下で留去し、ほぼ
無色の結晶9.6ｇを得た。ベンゼン−ｎ−ヘキサ
ンより再結晶して融点143〜144.5℃の無色結晶と
して５−（α−カルボキシエチル）−２−フエニル
チオフエニル酢酸8.4ｇを得た（収率78.5％）。
オフエニル酢酸： エチル５−（α−シアノエチル）−２−フエニル
チオフエニルアセテート（）11.0ｇに酢酸55
ml、47％臭化水素酸55mlを順次加え、撹拌下に５
時間加熱還流する。反応物を減圧濃縮し、冷水を
加え酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を飽和
食塩水で洗浄後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液と
ともに振とうし、水層を分取する。水層は塩酸酸
性としたのち酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル
層は飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。酢酸エチルを減圧下で留去し、ほぼ
無色の結晶9.6ｇを得た。ベンゼン−ｎ−ヘキサ
ンより再結晶して融点143〜144.5℃の無色結晶と
して５−（α−カルボキシエチル）−２−フエニル
チオフエニル酢酸8.4ｇを得た（収率78.5％）。
IRνKBr naxcm-1：3400〜2400，1690（COOH）
NMR（DMSO−d6）δ：1.36（3H，ｄ，Ｊ＝７
Hz，＝CHCH3） 3.70（3H，ｑ，Ｊ＝０Hz，＝CHCH3＋−
CH2CO2H） 7.10〜7.50（8H，ｍ，芳香族プロトン） 12.20（2H，ｂ，−COOH×２） 参考例 ２−（10，11−ジヒドロ−10−オキソジベンゾ
〔ｂ，ｆ〕チエピン−２−イル）プロピオン酸 ５−（α−カルボキシエチル）−２−フエニルチ
オフエニル酢酸（）1.0ｇにポリリン酸20.6ｇ
を加え、70℃で３時間、加熱、撹拌する。冷水を
加え、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層
を飽和食塩水で洗浄したのち無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。クロロホルムを減圧下に留去して
得られた残渣を放置し、結晶化させ、ベンゼン−
ｎ−ヘキサンより再結晶し、融点130.5〜131.5℃
の微黄色結晶として２−（10，11−ジヒドロ−10
−オキソジベンゾ〔ｂ，ｆ〕チエピン−２−イ
ル）プロピオン酸0.8ｇを得た（収率84.8％）。
Hz，＝CHCH3） 3.70（3H，ｑ，Ｊ＝０Hz，＝CHCH3＋−
CH2CO2H） 7.10〜7.50（8H，ｍ，芳香族プロトン） 12.20（2H，ｂ，−COOH×２） 参考例 ２−（10，11−ジヒドロ−10−オキソジベンゾ
〔ｂ，ｆ〕チエピン−２−イル）プロピオン酸 ５−（α−カルボキシエチル）−２−フエニルチ
オフエニル酢酸（）1.0ｇにポリリン酸20.6ｇ
を加え、70℃で３時間、加熱、撹拌する。冷水を
加え、クロロホルムで抽出した。クロロホルム層
を飽和食塩水で洗浄したのち無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。クロロホルムを減圧下に留去して
得られた残渣を放置し、結晶化させ、ベンゼン−
ｎ−ヘキサンより再結晶し、融点130.5〜131.5℃
の微黄色結晶として２−（10，11−ジヒドロ−10
−オキソジベンゾ〔ｂ，ｆ〕チエピン−２−イ
ル）プロピオン酸0.8ｇを得た（収率84.8％）。
IRνKBr naxcm-1：1710，1675（CO）
NMR（CDCl3）δ：1.46（3H，ｄ，Ｊ＝７Hz，
＝CHCH3） 3.68（1H，ｑ，Ｊ＝７Hz，＝CHCH3） 4.29（2H，ｓ，−CH2CO−） 6.92〜7.64（6H，ｍ，芳香族プロトン） 8.07（1H，dd，Ｊ＝８，２Hz，C9−Ｈ） 10.02（1H，b.s，−COOH） MSm／ｅ：298（M+）
＝CHCH3） 3.68（1H，ｑ，Ｊ＝７Hz，＝CHCH3） 4.29（2H，ｓ，−CH2CO−） 6.92〜7.64（6H，ｍ，芳香族プロトン） 8.07（1H，dd，Ｊ＝８，２Hz，C9−Ｈ） 10.02（1H，b.s，−COOH） MSm／ｅ：298（M+）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（） で表わされるフエニルチオフエニル酢酸誘導体。 ２ （）式中、５−（α−カルボキシエチル）−
２−フエニルチオフエニル酢酸であることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載のフエニルチオ
フエニル酢酸誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18124780A JPS57106656A (en) | 1980-12-23 | 1980-12-23 | Phenylthiophenylacetic acid derivative |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18124780A JPS57106656A (en) | 1980-12-23 | 1980-12-23 | Phenylthiophenylacetic acid derivative |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57106656A JPS57106656A (en) | 1982-07-02 |
| JPH0242826B2 true JPH0242826B2 (ja) | 1990-09-26 |
Family
ID=16097360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18124780A Granted JPS57106656A (en) | 1980-12-23 | 1980-12-23 | Phenylthiophenylacetic acid derivative |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57106656A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5553282A (en) * | 1978-10-17 | 1980-04-18 | Nippon Chemiphar Co Ltd | Dibenzothiepin derivative and its preparation |
-
1980
- 1980-12-23 JP JP18124780A patent/JPS57106656A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57106656A (en) | 1982-07-02 |
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