JPH0244326U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0244326U JPH0244326U JP12304188U JP12304188U JPH0244326U JP H0244326 U JPH0244326 U JP H0244326U JP 12304188 U JP12304188 U JP 12304188U JP 12304188 U JP12304188 U JP 12304188U JP H0244326 U JPH0244326 U JP H0244326U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas injection
- electrode
- magnetic field
- chamber
- electrodes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は本考案装置の一実施例の構成を示す説
明図、第２図ａ，ｂはそれぞれ本考案におけるホ
ロー放電用ガス注入電極部の断面図及びその底面
図、第３図は本考案における磁界発生用コイル部
の説明図、第４図は当該磁界発生用コイルによる
磁界分布の説明図、第５図は従来装置の第１例を
示す説明図、第６図は従来装置の第２例を示す説
明図である。 １……チヤンバ、２……ウエーハ載置用電極、
３……ガス注入口、４……ホロー放電用ガス注入
電極、５……ウエーハ、６……ガス注入筒、７ａ
，７ｂ……磁界発生用コイル、１３……高周波電
源、ｅ……高周波電圧、１５……直流電源。
明図、第２図ａ，ｂはそれぞれ本考案におけるホ
ロー放電用ガス注入電極部の断面図及びその底面
図、第３図は本考案における磁界発生用コイル部
の説明図、第４図は当該磁界発生用コイルによる
磁界分布の説明図、第５図は従来装置の第１例を
示す説明図、第６図は従来装置の第２例を示す説
明図である。 １……チヤンバ、２……ウエーハ載置用電極、
３……ガス注入口、４……ホロー放電用ガス注入
電極、５……ウエーハ、６……ガス注入筒、７ａ
，７ｂ……磁界発生用コイル、１３……高周波電
源、ｅ……高周波電圧、１５……直流電源。
Claims (1)
- チヤンバ１内にウエーハ載置用電極２と多数の
ガス注入口３を有するガス注入電極４とを対向配
置し、磁界中で、多数のガス注入口３より反応ガ
スをチヤンバ１内に注入しつつ排気して両電極２
，４間に、高周波電圧ｅを印加して放電させるこ
とによりプラズマを発生させ、ウエーハ載置用電
極２上のウエーハ５をエツチングする装置におい
て、上記各ガス注入口３にこれを取囲みウエーハ
載置用電極２側に突出するガス注入筒６を付設し
てホロー放電用ガス注入電極４を構成すると共に
、両電極２，４と同心状に、直流電流を流す２つ
の磁界発生用コイル７ａ，７ｂを並設せしめてな
るプラズマエツチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12304188U JPH0244326U (ja) | 1988-09-19 | 1988-09-19 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12304188U JPH0244326U (ja) | 1988-09-19 | 1988-09-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0244326U true JPH0244326U (ja) | 1990-03-27 |
Family
ID=31371533
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12304188U Pending JPH0244326U (ja) | 1988-09-19 | 1988-09-19 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0244326U (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6094725A (ja) * | 1983-10-28 | 1985-05-27 | Hitachi Ltd | ドライエツチング装置 |
| JPS61226925A (ja) * | 1985-04-01 | 1986-10-08 | Anelva Corp | 放電反応装置 |
| JPS62299031A (ja) * | 1986-06-18 | 1987-12-26 | Nec Corp | 平行平板型エツチング装置の電極構造 |
-
1988
- 1988-09-19 JP JP12304188U patent/JPH0244326U/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6094725A (ja) * | 1983-10-28 | 1985-05-27 | Hitachi Ltd | ドライエツチング装置 |
| JPS61226925A (ja) * | 1985-04-01 | 1986-10-08 | Anelva Corp | 放電反応装置 |
| JPS62299031A (ja) * | 1986-06-18 | 1987-12-26 | Nec Corp | 平行平板型エツチング装置の電極構造 |