JPH0246742A - 圧接平型半導体装置 - Google Patents
圧接平型半導体装置Info
- Publication number
- JPH0246742A JPH0246742A JP63198558A JP19855888A JPH0246742A JP H0246742 A JPH0246742 A JP H0246742A JP 63198558 A JP63198558 A JP 63198558A JP 19855888 A JP19855888 A JP 19855888A JP H0246742 A JPH0246742 A JP H0246742A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellet
- cathode
- anode
- post
- electrode post
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W76/00—Containers; Fillings or auxiliary members therefor; Seals
- H10W76/10—Containers or parts thereof
- H10W76/12—Containers or parts thereof characterised by their shape
- H10W76/13—Containers comprising a conductive base serving as an interconnection
- H10W76/138—Containers comprising a conductive base serving as an interconnection having another interconnection being formed by a cover plate parallel to the conductive base, e.g. sandwich type
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D18/00—Thyristors
- H10D18/60—Gate-turn-off devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
Landscapes
- Die Bonding (AREA)
- Thyristors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、センターゲート型サイリスタ等の圧接平型半
導体装置に関するもので、特にシリコンベレッ、トとモ
リブデン板又はタングステン板とを合金接合しないで、
特性の改善と生産性向上が得られる構造の圧接平型半導
体装置に使用される。
導体装置に関するもので、特にシリコンベレッ、トとモ
リブデン板又はタングステン板とを合金接合しないで、
特性の改善と生産性向上が得られる構造の圧接平型半導
体装置に使用される。
(従来の技術)
圧接平型半導体装置は、車両制御、製鉄所の制御或いは
溶接機制御等の産業用大電力の制御に多く使用されてい
る。 このうちセンターゲート型サイリスタに属するG
TO(Gate Turn −0ffThyristo
r)を従来例としてその構造等について説明する。
溶接機制御等の産業用大電力の制御に多く使用されてい
る。 このうちセンターゲート型サイリスタに属するG
TO(Gate Turn −0ffThyristo
r)を従来例としてその構造等について説明する。
第4図は従来の合金接合型のGTOの断面図であるが、
構成部品を見易くするため便宜上加圧方向に沿って各部
品を切り離した状態で示している。
構成部品を見易くするため便宜上加圧方向に沿って各部
品を切り離した状態で示している。
外囲器は底部構体1と頂部構体lとから成る。
銅製カソード@極ボスト1とセラミックの絶縁物筒体1
aの底面とは輪形金属板(ドリングと呼ばれる)lbを
介して銀ローを使用し接合され、セラミック筒体1aの
頂面には溶接輪形金属板(ウェルドリングと呼ばれる)
ICが、又セラミック筒体1aの側面にはゲート電極取
出し用のゲートパイプ1dが、それぞれ銀ロー材けされ
る。 底部構体1は、符号1及び1aないし1dで示す
部材より構成される。 頂部構体スは、銅製アノード電
極ポスト2と、これに銀ロー材けされたウェルドリンク
2aより成る。 この外囲器内に後述の符号3ないし2
0で示す部材を封入する。 封止はウェルドリングIC
とウェルドリンク2aとを溶接により接合し、ゲートリ
ード9のリードワイヤをゲートパイプld内に通し、内
部にN2ガスを満たした状態で溶接し最終封止とする。
aの底面とは輪形金属板(ドリングと呼ばれる)lbを
介して銀ローを使用し接合され、セラミック筒体1aの
頂面には溶接輪形金属板(ウェルドリングと呼ばれる)
ICが、又セラミック筒体1aの側面にはゲート電極取
出し用のゲートパイプ1dが、それぞれ銀ロー材けされ
る。 底部構体1は、符号1及び1aないし1dで示す
部材より構成される。 頂部構体スは、銅製アノード電
極ポスト2と、これに銀ロー材けされたウェルドリンク
2aより成る。 この外囲器内に後述の符号3ないし2
0で示す部材を封入する。 封止はウェルドリングIC
とウェルドリンク2aとを溶接により接合し、ゲートリ
ード9のリードワイヤをゲートパイプld内に通し、内
部にN2ガスを満たした状態で溶接し最終封止とする。
GTO素子のSt ・ペレット16のアノード電極ポ
スト側の主面(図面では上面)には図示していないアノ
ード電極、又カソード電極ポスト側の主面(図面では下
面)にはカソード電極とゲート電極とが形成されている
。 Si ・ペレット16の上面のアノード電極とW・
ディスク(タングステン板)18とは、あらかじめAl
−5iシート17のロー材を使用し、合金接合しておく
、 このSi ・ペレットとW・ディスクの接合体は
、SlとWとの熱膨M係数の違いにより反りが生じ、圧
接に対し障害をきなす、 このなめアノード電極ポスト
2とW・ディスク18との間に軟金属のAg 〈銀)二
シート19を挟み、又カソード電極ポスト1とSi
・ペレット16のカソード電極及びゲートt[!どの間
にAg ・キャップ13及び11をそれぞれ挟み込んで
良好な圧接状態即ちより均一な圧接がされるようにして
いる。 なお、Mo ・フォイル(モリブデン箔)14
は、A(1キヤツプ13がSt ・ペレット16のア
ルミカソードt ’kにくっつかないよう、その間に挿
入され、又カソード電極ボスト1にはゲートリード9を
取り出すための切欠#2Iが設けられているので、やや
厚いMO・ディスク12を介して、Ag−’7ヤツプ1
3の全面をできるだけ均一に加圧できるようにしている
。 シリコーンゴム15及び20は、主としてSi
・ペレット16のアノード電@側とカソード電極側とを
電気絶縁するために用いられる。 Si ・ペレット
16の中央部のゲート電極とカソード電極ボスト1との
間に、マイカ4、テフロン・リング5及びテフロン・チ
ューブ10によりカソードを極ボスト1等と電気絶縁し
た鋼板(1,5t) 6、皿バネ(2枚)7、MO板(
0,3t)8、ゲートリード9及び銀・キャップ11が
設けられ、これら部材によりカソード電極ボスト1は、
鋼板3を介してAQ −キャップ11を81 ・ペレッ
ト16のゲート電極に圧接する。 上記構成のGTOは
、図示していない外部加圧手段によって、アノード電極
ボストとカソード電極ボストとに、対向方向の圧力が加
えられ圧接状態で使用される。
スト側の主面(図面では上面)には図示していないアノ
ード電極、又カソード電極ポスト側の主面(図面では下
面)にはカソード電極とゲート電極とが形成されている
。 Si ・ペレット16の上面のアノード電極とW・
ディスク(タングステン板)18とは、あらかじめAl
−5iシート17のロー材を使用し、合金接合しておく
、 このSi ・ペレットとW・ディスクの接合体は
、SlとWとの熱膨M係数の違いにより反りが生じ、圧
接に対し障害をきなす、 このなめアノード電極ポスト
2とW・ディスク18との間に軟金属のAg 〈銀)二
シート19を挟み、又カソード電極ポスト1とSi
・ペレット16のカソード電極及びゲートt[!どの間
にAg ・キャップ13及び11をそれぞれ挟み込んで
良好な圧接状態即ちより均一な圧接がされるようにして
いる。 なお、Mo ・フォイル(モリブデン箔)14
は、A(1キヤツプ13がSt ・ペレット16のア
ルミカソードt ’kにくっつかないよう、その間に挿
入され、又カソード電極ボスト1にはゲートリード9を
取り出すための切欠#2Iが設けられているので、やや
厚いMO・ディスク12を介して、Ag−’7ヤツプ1
3の全面をできるだけ均一に加圧できるようにしている
。 シリコーンゴム15及び20は、主としてSi
・ペレット16のアノード電@側とカソード電極側とを
電気絶縁するために用いられる。 Si ・ペレット
16の中央部のゲート電極とカソード電極ボスト1との
間に、マイカ4、テフロン・リング5及びテフロン・チ
ューブ10によりカソードを極ボスト1等と電気絶縁し
た鋼板(1,5t) 6、皿バネ(2枚)7、MO板(
0,3t)8、ゲートリード9及び銀・キャップ11が
設けられ、これら部材によりカソード電極ボスト1は、
鋼板3を介してAQ −キャップ11を81 ・ペレッ
ト16のゲート電極に圧接する。 上記構成のGTOは
、図示していない外部加圧手段によって、アノード電極
ボストとカソード電極ボストとに、対向方向の圧力が加
えられ圧接状態で使用される。
上述のGTOについて、従来技術の欠点を以下列記する
。
。
(a)Si ・ペレット16をW・ディスク18にA
I Siシート17を用い合金接合(アロイ接合)をす
るので、接合体には反りが生ずる。
I Siシート17を用い合金接合(アロイ接合)をす
るので、接合体には反りが生ずる。
圧接時に、より均一に圧接されるために、この反りを吸
収できるよう、高価な軟金属である銀を使用したAQ
・キャップ11.13及びAg・シート19を挟み込ま
なければならない。
収できるよう、高価な軟金属である銀を使用したAQ
・キャップ11.13及びAg・シート19を挟み込ま
なければならない。
(b)Si ・ペレット16とW・ディスク18とを
合金接合するので、合金接合しない場合に比ベニ程増と
なる。
合金接合するので、合金接合しない場合に比ベニ程増と
なる。
(c)Si ・ペレット16とW・ディスク18との接
合体に反りが出るので、前述の通りAgキャップ13を
用いる必要があるが、Si ・ペレット16のカソー
ド電極であるアルミ電極とAg・キャップ13とがくっ
つかないために、間にMO・フォイル14を入れている
。
合体に反りが出るので、前述の通りAgキャップ13を
用いる必要があるが、Si ・ペレット16のカソー
ド電極であるアルミ電極とAg・キャップ13とがくっ
つかないために、間にMO・フォイル14を入れている
。
(d ) アノード電極ボスト2とカソード電極ボス
ト1との間に挟み込む部品数が多く、しかも高価である
(第4図において、MO・ディスク12ないしA(]
・シート19まで)。
ト1との間に挟み込む部品数が多く、しかも高価である
(第4図において、MO・ディスク12ないしA(]
・シート19まで)。
(e)Si ・ペレットのアノード側とカソード側と
を電気絶縁するための絶縁用シリコーンゴム15及び2
0の形状が複雑で且つ部品数が多い。
を電気絶縁するための絶縁用シリコーンゴム15及び2
0の形状が複雑で且つ部品数が多い。
(発明が解決しようとする課題)
上述のように従来技術では、Si ・ペレットをW・
ディスク又はMO・ディスクにA1−5tシートを用い
て合金接合した後、合金接合により生ずる接合体の反り
を吸収するために、AQ 、MO等の高価な金属部品を
アノード電極ポストとカソード電極ポストとの間に挟み
込んでいた。 又挟み込む部品数が多いのに対応して電
気絶縁に使用するシリコーンゴムの形状が複雑となり且
つその数も多い。
ディスク又はMO・ディスクにA1−5tシートを用い
て合金接合した後、合金接合により生ずる接合体の反り
を吸収するために、AQ 、MO等の高価な金属部品を
アノード電極ポストとカソード電極ポストとの間に挟み
込んでいた。 又挟み込む部品数が多いのに対応して電
気絶縁に使用するシリコーンゴムの形状が複雑となり且
つその数も多い。
本発明の目的は、圧接平型半導体装置において、Si
・ペレットの反りに起因する前記課題を解決し、より
均一な圧接が得られ、従来より生産性が向上でき、低価
格で且つ長寿命の圧接平型半導体装置を提供することで
ある。
・ペレットの反りに起因する前記課題を解決し、より
均一な圧接が得られ、従来より生産性が向上でき、低価
格で且つ長寿命の圧接平型半導体装置を提供することで
ある。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明は、側面にゲートな極取出部を設けた中空の絶縁
物筒体を挟んで、互いに対向するアノード電極ポストと
カソード電極ポストとを有する外囲器内に、制御電極を
持つシリコン整流素子ペレット(Si ・ペレットと
略記する)を封止する圧接平型半導体装置において、 アノード電極ポストとS; ・ペレット上のアノード電
極との間にモリブデン(MO)又はタングステン(W>
から成る金属板を、 又Si ・ペレット上のカソー
ド電極とカソード電極ポストとの間に、ペレットに近い
側から軟質銅薄板、硬質銅板を挟み込み、それぞれ主面
を互いに合金化等で固着することなく単に接触配置し、
アノード電極ポスト及びカソード電極ポストにより、そ
れぞれを圧接して成ることを特徴とする圧接平型半導体
装置である。
物筒体を挟んで、互いに対向するアノード電極ポストと
カソード電極ポストとを有する外囲器内に、制御電極を
持つシリコン整流素子ペレット(Si ・ペレットと
略記する)を封止する圧接平型半導体装置において、 アノード電極ポストとS; ・ペレット上のアノード電
極との間にモリブデン(MO)又はタングステン(W>
から成る金属板を、 又Si ・ペレット上のカソー
ド電極とカソード電極ポストとの間に、ペレットに近い
側から軟質銅薄板、硬質銅板を挟み込み、それぞれ主面
を互いに合金化等で固着することなく単に接触配置し、
アノード電極ポスト及びカソード電極ポストにより、そ
れぞれを圧接して成ることを特徴とする圧接平型半導体
装置である。
(作用)
本発明の装置では、Si ・ペレットをMO又はW・
ディスクに合金接合しないので、Si ・ペレットの
反りは従来技術に比し大幅に減少し、均一な圧接状態が
得られる。 これによりアノード電極ポストとSi
・ペレット間には、ペレットの反りを吸収するA(+
・シートを省略し、従来より薄いMO又はW・ディス
クを挟み込むだけでよい。
ディスクに合金接合しないので、Si ・ペレットの
反りは従来技術に比し大幅に減少し、均一な圧接状態が
得られる。 これによりアノード電極ポストとSi
・ペレット間には、ペレットの反りを吸収するA(+
・シートを省略し、従来より薄いMO又はW・ディス
クを挟み込むだけでよい。
又S1 ・ペレットのカソード電極とカソード電極ポス
トとの間には、従来のMO・フォイルとAg・キャップ
に代えて、軟らかい展延性に富むアニール処理した銅(
CU )・キャップと、又従来のMO・ディスクに代え
て、カソード電極ポストのゲートリード取出用切欠部に
対向するカソード電極面をも均一に圧接できるよう、十
分な厚さで剛性があり且つアニールしない安価な硬質銅
板を使用する。 又Si ・ペレットをMO又はW・
ディスクに合金接合をしないので、Si ・ペレットの
アノード電極とカソード電極間の耐圧を得るためのベベ
ル加工、絶縁用シリコーンゴムの塗布作業等が容易で簡
単化される。
トとの間には、従来のMO・フォイルとAg・キャップ
に代えて、軟らかい展延性に富むアニール処理した銅(
CU )・キャップと、又従来のMO・ディスクに代え
て、カソード電極ポストのゲートリード取出用切欠部に
対向するカソード電極面をも均一に圧接できるよう、十
分な厚さで剛性があり且つアニールしない安価な硬質銅
板を使用する。 又Si ・ペレットをMO又はW・
ディスクに合金接合をしないので、Si ・ペレットの
アノード電極とカソード電極間の耐圧を得るためのベベ
ル加工、絶縁用シリコーンゴムの塗布作業等が容易で簡
単化される。
これらにより、従来にもまさる均一な圧接状態が得られ
、低価格で長寿命の圧接平型半導体装置を提供できる。
、低価格で長寿命の圧接平型半導体装置を提供できる。
(実施例)
本発明の実施例として、GTOを取り上げ以下説明する
。 第1図及び第2図は、本発明のGToの模式的断面
図であり、第1図は構成部品を見易くするため便宜上加
圧方向に沿って各部品を切り離した状態を、又第2図は
接触圧接された状態を、それぞれ示す、 第4図と同じ
符号は、同じ部分を表わすが、寸法等は、同一とは限ら
ない。
。 第1図及び第2図は、本発明のGToの模式的断面
図であり、第1図は構成部品を見易くするため便宜上加
圧方向に沿って各部品を切り離した状態を、又第2図は
接触圧接された状態を、それぞれ示す、 第4図と同じ
符号は、同じ部分を表わすが、寸法等は、同一とは限ら
ない。
セラミック絶縁物筒体1aの側面にあるゲート電極取出
部22は、筒体1aの側面に銀ロー付けされた取出用ゲ
ートパイプ1d部分である。
部22は、筒体1aの側面に銀ロー付けされた取出用ゲ
ートパイプ1d部分である。
従来の第4図に示すGTOと、特に相異する点は、アノ
ードを極ボスト2とS+ ・ペレット16との間に、
従来のAg・シート19及びAl−3i ・シート1
7によりペレットと合金接合されたW・ディスク18の
代わりに、合金接合されないMO・ディスク(1tXφ
48)118を挟み、又Si ・ペレッI・16のカ
ソード電極とカソード電極ポスト1との間に、従来のM
O・フォイル14、AQ −キャップ13及びMO・デ
ィスク12の代わりに、軟質銅薄板(CLI ・キャッ
プ、Q、1tXφ48) 113及び硬質銅板(3t×
φ48)112を挟み込み、又Si ・ペレット16
のアノード電極側とカソード電極側とを絶縁するための
従来のシリコーンゴム15及び16に代え、シリコーン
ゴム115を使用したことである。
ードを極ボスト2とS+ ・ペレット16との間に、
従来のAg・シート19及びAl−3i ・シート1
7によりペレットと合金接合されたW・ディスク18の
代わりに、合金接合されないMO・ディスク(1tXφ
48)118を挟み、又Si ・ペレッI・16のカ
ソード電極とカソード電極ポスト1との間に、従来のM
O・フォイル14、AQ −キャップ13及びMO・デ
ィスク12の代わりに、軟質銅薄板(CLI ・キャッ
プ、Q、1tXφ48) 113及び硬質銅板(3t×
φ48)112を挟み込み、又Si ・ペレット16
のアノード電極側とカソード電極側とを絶縁するための
従来のシリコーンゴム15及び16に代え、シリコーン
ゴム115を使用したことである。
次にこれら各構成部品について更に詳述する。
MO・ディスク118は、Si ・ペレット16のア
ノード電極面とアノード電極ポスト2とが圧接時に均一
に接触するため挟み込む金属板で、MOに代えてWが使
用される場合もある。 このためMO・ディスクは、面
粗さを2ないし3μl以下に押さえ、平面度も20μm
以下に押さえるため両面を研磨仕上げしておき、平行度
も10μl以下に押さえである。
ノード電極面とアノード電極ポスト2とが圧接時に均一
に接触するため挟み込む金属板で、MOに代えてWが使
用される場合もある。 このためMO・ディスクは、面
粗さを2ないし3μl以下に押さえ、平面度も20μm
以下に押さえるため両面を研磨仕上げしておき、平行度
も10μl以下に押さえである。
Si ・ペレット16には、一方の主面にAIから成
るアノード電極、他方の主面の中央部にAIゲート電極
及びこのゲート電極を囲んでペレット外周に向けて多数
の島状に分割されたメサ型AIカソード電極が配設され
る。 又ペレット外側壁にはアノード側とカソード側の
耐圧を保つため二重正ベベル構造の溝部が設けられる。
るアノード電極、他方の主面の中央部にAIゲート電極
及びこのゲート電極を囲んでペレット外周に向けて多数
の島状に分割されたメサ型AIカソード電極が配設され
る。 又ペレット外側壁にはアノード側とカソード側の
耐圧を保つため二重正ベベル構造の溝部が設けられる。
シリコーンゴム115は、アノード側とカソード側の沿
面耐圧を保つために前記溝部を包み込んで形成される。
面耐圧を保つために前記溝部を包み込んで形成される。
これは液状シリコーン樹脂を型に流し込み、200℃
でキュアすることにより形成される。
でキュアすることにより形成される。
Cu−キャップ(軟質銅板)113はSi ・ペレッ
ト16の前記島状の分割配設された多数のメサ型A1カ
ソード電極と、Cu ・ディスク112との間の接触
を均一にするため500℃×1時間のアニールをして軟
化させた0、1nn厚の銅板であり、外周を折り曲げキ
ャップ状にしたもので、中央部にはゲートリード用穴が
おいている。 特に表面粗さは0,2μを程度とし、板
厚のバラツキを5μm以下にしておく。
ト16の前記島状の分割配設された多数のメサ型A1カ
ソード電極と、Cu ・ディスク112との間の接触
を均一にするため500℃×1時間のアニールをして軟
化させた0、1nn厚の銅板であり、外周を折り曲げキ
ャップ状にしたもので、中央部にはゲートリード用穴が
おいている。 特に表面粗さは0,2μを程度とし、板
厚のバラツキを5μm以下にしておく。
Cu ・ディスク(硬質銅板)112は、Cuキャップ
113とカソード電極ポストとの間に挟み込まれ、ゲー
トリード9を挿通ずるため中央部に穴を開けたドーナツ
状銅板である。 他方カソード電極ポストのペレット側
の一部にはゲートリード9を取り出すための切欠部21
が設けられている。 このため切欠部21と対向するC
u ・キャップ113の部分は直接加圧されない、
Cu・ディスク112は、この直接加圧されないCu・
キャップ部分が出来るだけ均一に圧接されるように、ア
ニールをせず、剛性を持たせるため31II程度の厚さ
としている。 面粗さは、圧延した銅板を用いることに
より容易に0.2ないし0.3μlが得られる。
113とカソード電極ポストとの間に挟み込まれ、ゲー
トリード9を挿通ずるため中央部に穴を開けたドーナツ
状銅板である。 他方カソード電極ポストのペレット側
の一部にはゲートリード9を取り出すための切欠部21
が設けられている。 このため切欠部21と対向するC
u ・キャップ113の部分は直接加圧されない、
Cu・ディスク112は、この直接加圧されないCu・
キャップ部分が出来るだけ均一に圧接されるように、ア
ニールをせず、剛性を持たせるため31II程度の厚さ
としている。 面粗さは、圧延した銅板を用いることに
より容易に0.2ないし0.3μlが得られる。
以上のように、Si ・ペレット16のアノード電極
ポスト側には、硬質の剛性に富んだ、しかもSiに熱膨
脹係数が近いMo ・ディスク118を用い、定盤に相
当するようなこの平面板118を介してSi ・ペレ
ット16のアノード電極をアノード電極ボスト2に重ね
、一方Si ・ペレット16のカソード電極側には、
軟質の展延性に富んだアニールを施した軟質銅薄板11
3及び適度の剛性のある硬質銅板112を介してカソー
ド電極にカソード電極ポスト1を重ねることにより、圧
接時にSi ・ペレット16のアノード電極及びカソ
ード電極は、均一に圧接されるようになる。
ポスト側には、硬質の剛性に富んだ、しかもSiに熱膨
脹係数が近いMo ・ディスク118を用い、定盤に相
当するようなこの平面板118を介してSi ・ペレ
ット16のアノード電極をアノード電極ボスト2に重ね
、一方Si ・ペレット16のカソード電極側には、
軟質の展延性に富んだアニールを施した軟質銅薄板11
3及び適度の剛性のある硬質銅板112を介してカソー
ド電極にカソード電極ポスト1を重ねることにより、圧
接時にSi ・ペレット16のアノード電極及びカソ
ード電極は、均一に圧接されるようになる。
次に、アノード電極ボストとSi ・ペレット(単に
アノード側と呼ぶ)及びSi ・ベレッ1〜とカソー
ド電極ポスト(単にカソード側と呼ぶ)の間に挟み込む
電極材料の組合わせを選ぶにあたって行なった試行につ
いて説明する。 即ちアノード側及びカソード側に挟み
込む電極材料の種類とその組合わせにより、或いは実際
に圧接される圧接力を2トン〈φ60のS(・ペレット
の時)、4トン、6トン及び8トンと変えたことにより
、Si ・ペレットが割れるか割れないかを調べた。
アノード側と呼ぶ)及びSi ・ベレッ1〜とカソー
ド電極ポスト(単にカソード側と呼ぶ)の間に挟み込む
電極材料の組合わせを選ぶにあたって行なった試行につ
いて説明する。 即ちアノード側及びカソード側に挟み
込む電極材料の種類とその組合わせにより、或いは実際
に圧接される圧接力を2トン〈φ60のS(・ペレット
の時)、4トン、6トン及び8トンと変えたことにより
、Si ・ペレットが割れるか割れないかを調べた。
又温度サイクルテスト(TCT、Te1lperatt
lrf3Cycle Te5t)によりSi ・ペレ
ットが割れるか割れないか、Sl ・ペレットのAIi
&に、くっつく材料かくっつかない材料か等を判定し、
更に熱抵抗値の比較をした。
lrf3Cycle Te5t)によりSi ・ペレ
ットが割れるか割れないか、Sl ・ペレットのAIi
&に、くっつく材料かくっつかない材料か等を判定し、
更に熱抵抗値の比較をした。
第1表
(注)
x:Si ・ペレットが割れたもの
△:Si ・ペレットが割れないが、Si ・ペレッ
トのAll電極に固着したもの Q : S i ・ペレットが割れず、Si ・ペ
レットのAI電極に固着しなかったもの *:熱抵抗値が大きいもの これらの試行とその結果の一例を第1表に示す。
トのAll電極に固着したもの Q : S i ・ペレットが割れず、Si ・ペ
レットのAI電極に固着しなかったもの *:熱抵抗値が大きいもの これらの試行とその結果の一例を第1表に示す。
同表の左側の列は、アノード側に挟む金属板(MO・デ
ィスク118に相当するもの)の板厚と材質を示し、即
ちAI <0.5t) 、CLI (0,5t)、M
o[1,Ot)及びFe (LOt)の4種類の金属
板を表わす。 又同表の上側の行は、カソード側に挟む
金属板1枚の場合と、Cu ・ディスク(3t)と、M
O(0,05t ) 、Afll (0,1t) 、
アニールCu (0,1t)及びアニールCu (
0,St)の7.tイルとを組合わせた2枚の場合との
それぞれについて合計8種類の金属板又は金属板の組合
わせを表わす、 圧接力は6トン、TCTの条件は20
0℃1時間−+25℃1時間→−50℃1時間→25°
C1時間を5サイクル実施する。 同表の欄内において
、X印は、Sl ・ペレットが割れたもの、Δ印は、S
i ・ペレットは割れないが、S: ・ペレットのA
I電極にくっついたもの、O印は、Si ・ペレット
が割れず、Si ・ペレットのAI電極にくっつかな
かったもの(使用可)、*印は、熱抵抗値が大きいもの
を示す、 又空欄は、当該組合わせで実施しなかったも
のである。 この結果から、アノード側は、Mo(1t
)、カソード側は、Cu・ディスク(3t)とMO(0
,05t)、アニールCu(0,1t)及びアニールc
u (o、ost ) 7fイルのいずれか1つとの
組合わせが望ましいことがわかる。
ィスク118に相当するもの)の板厚と材質を示し、即
ちAI <0.5t) 、CLI (0,5t)、M
o[1,Ot)及びFe (LOt)の4種類の金属
板を表わす。 又同表の上側の行は、カソード側に挟む
金属板1枚の場合と、Cu ・ディスク(3t)と、M
O(0,05t ) 、Afll (0,1t) 、
アニールCu (0,1t)及びアニールCu (
0,St)の7.tイルとを組合わせた2枚の場合との
それぞれについて合計8種類の金属板又は金属板の組合
わせを表わす、 圧接力は6トン、TCTの条件は20
0℃1時間−+25℃1時間→−50℃1時間→25°
C1時間を5サイクル実施する。 同表の欄内において
、X印は、Sl ・ペレットが割れたもの、Δ印は、S
i ・ペレットは割れないが、S: ・ペレットのA
I電極にくっついたもの、O印は、Si ・ペレット
が割れず、Si ・ペレットのAI電極にくっつかな
かったもの(使用可)、*印は、熱抵抗値が大きいもの
を示す、 又空欄は、当該組合わせで実施しなかったも
のである。 この結果から、アノード側は、Mo(1t
)、カソード側は、Cu・ディスク(3t)とMO(0
,05t)、アニールCu(0,1t)及びアニールc
u (o、ost ) 7fイルのいずれか1つとの
組合わせが望ましいことがわかる。
次に第1図の実施例に示す実際の製品のGTOについて
、温度疲労試験(T F ’T’、Te+lperat
ureFatigue Te5t)を(25℃→125
℃→、ΔTC=100℃)の条件で実施したところ、5
0キロサイクルでもゲート電極とカソード電極間の短絡
(破損)やアノード電極とカソード電極間の耐圧劣化等
が発生していないことが確認された。
、温度疲労試験(T F ’T’、Te+lperat
ureFatigue Te5t)を(25℃→125
℃→、ΔTC=100℃)の条件で実施したところ、5
0キロサイクルでもゲート電極とカソード電極間の短絡
(破損)やアノード電極とカソード電極間の耐圧劣化等
が発生していないことが確認された。
従来の第4図に示すGTOについて、同一条件でTPT
を実施すると、30キロサイクルまでは破損率はほぼ0
%で、それ以上TPTを続けると第3図の実線aで示す
ように破損率が増加することが従来のデータから確めら
れている。 本発明のGTOは前記の通りTPTの50
キロサイクルまで破損率はほぼ0%であるので、更にT
PTを続けるとサイクル数と破損率[%]との関係は破
線すとなることが予測される。 従って本発明の合金接
合をしないGTOは、従来の合金接合型のGTOに対し
約1.6倍以上長寿命化が出来たといえる。
を実施すると、30キロサイクルまでは破損率はほぼ0
%で、それ以上TPTを続けると第3図の実線aで示す
ように破損率が増加することが従来のデータから確めら
れている。 本発明のGTOは前記の通りTPTの50
キロサイクルまで破損率はほぼ0%であるので、更にT
PTを続けるとサイクル数と破損率[%]との関係は破
線すとなることが予測される。 従って本発明の合金接
合をしないGTOは、従来の合金接合型のGTOに対し
約1.6倍以上長寿命化が出来たといえる。
上記の実施例について得られた本発明の効果を以下列記
する。
する。
(a) Si ・ペレットをW・ディスク又はMO
・ディスクに合金接合しないため、Si ・ペレット
の反りが、例えば従来約50μ僧のものが約15μmと
大幅に減少し、合金接合されたものに比しその剛性も減
るため、加圧時の81 ・ペレットの平面精度を上げる
ことができ、より均一な圧接が実現できる。
・ディスクに合金接合しないため、Si ・ペレット
の反りが、例えば従来約50μ僧のものが約15μmと
大幅に減少し、合金接合されたものに比しその剛性も減
るため、加圧時の81 ・ペレットの平面精度を上げる
ことができ、より均一な圧接が実現できる。
(b ) 合金接合をしないため、Si ・ペレッ
トのアノード電極とカソード電極間の耐圧を得るために
設ける二重正ベベル構造の溝部の加工及びその処理、特
に清切り後のエツチング作業及びシリコーンゴムのコー
ティング作業が容易になる。
トのアノード電極とカソード電極間の耐圧を得るために
設ける二重正ベベル構造の溝部の加工及びその処理、特
に清切り後のエツチング作業及びシリコーンゴムのコー
ティング作業が容易になる。
(C) 合金接合しないのでSi ・ペレットの反
りが減り、アノード電極ポストとカソード電極ポスト間
に挟み込む部品数が少なくなり、且つ低価格にできる。
りが減り、アノード電極ポストとカソード電極ポスト間
に挟み込む部品数が少なくなり、且つ低価格にできる。
(d ) 前項(C)の部品数が少ないことにより、
組立てが容易になる。
組立てが容易になる。
(e) Si ・ペレットの反りが大幅に減少し、
電極材料を適当に選んだことにより、第3図に示すTP
Tの結果からも分るように、製品の寿命が約1.6倍に
延びた。
電極材料を適当に選んだことにより、第3図に示すTP
Tの結果からも分るように、製品の寿命が約1.6倍に
延びた。
なお本実施例においてはMO・ディスクを使用したが、
W・ディスクを用いても、はぼ同等の作用、効果が得ら
れる。 又CII ・ディスクには防錆のためNiメツ
キを施しても差支えない。 又Cu ・ディスクの代わ
りにCu ・ディスク相当の剛性を有するMO・ディス
ク又はW・ディスクを用いてもよい。
W・ディスクを用いても、はぼ同等の作用、効果が得ら
れる。 又CII ・ディスクには防錆のためNiメツ
キを施しても差支えない。 又Cu ・ディスクの代わ
りにCu ・ディスク相当の剛性を有するMO・ディス
ク又はW・ディスクを用いてもよい。
本発明は、実施例で述べなGTOに対しては、特にその
効果が発揮されるが、Si ・ペレットとMO・ディス
ク又はW・ディスクとを合金接合しないその他の圧接平
型半導体装置にも適用できることは勿論である。
効果が発揮されるが、Si ・ペレットとMO・ディス
ク又はW・ディスクとを合金接合しないその他の圧接平
型半導体装置にも適用できることは勿論である。
[発明の効果]
これまで詳述したように、本発明により、圧接平型半導
体装置のSi ・ペレットの反りに起因する諸課題は
解決され、より均一な圧接が得られ、従来より生産性が
向上でき、低価格で且つ長寿命の圧接平型半導体装置を
提供することが出来な。
体装置のSi ・ペレットの反りに起因する諸課題は
解決され、より均一な圧接が得られ、従来より生産性が
向上でき、低価格で且つ長寿命の圧接平型半導体装置を
提供することが出来な。
第1図は本発明の実施例のGTOの構成部品を分離した
状態の断面図、第2図は第1図のG T Oの圧接され
た状態の断面図、第3図は本発明及び従来のそれぞれの
GTOについてTPTのサイクル数と破損率との相関を
示す図、第4図は従来のGTOの構成部品を分離した状
態の断面図である。 1・・・カソード電極ポスト、 1a・・・絶縁物筒
体、2・・・アノード電極ポスト、 3,6・・・鋼
板、 4・・・マイカ、 5・・・テフロン・リング
、 7・・・弾性体、 9・・・ゲートリード、 1
1・・・A(J ・キャップ、 16・・・半導体整流
素子ペレット(Si ・ペレット)、 22・・・ゲ
ート電極取出部、 112・・・硬質銅板(CU ・デ
ィスク)、 113・・・軟質銅薄板(CU ・キャッ
プ)、 115・・・シリコーンゴム、 118・・
・MO又はW・金属板(M。 ディスク)。 「−m− 一トー113・軟質銅1板 特許出願人 株式会社 東 芝 代理人 弁理士 諸1)英二 8 : MO板 第1図 第 図 サイクツ1枚(ω) 第 図 「−m− 「−m− m−−1−−14 −トー13 第 図
状態の断面図、第2図は第1図のG T Oの圧接され
た状態の断面図、第3図は本発明及び従来のそれぞれの
GTOについてTPTのサイクル数と破損率との相関を
示す図、第4図は従来のGTOの構成部品を分離した状
態の断面図である。 1・・・カソード電極ポスト、 1a・・・絶縁物筒
体、2・・・アノード電極ポスト、 3,6・・・鋼
板、 4・・・マイカ、 5・・・テフロン・リング
、 7・・・弾性体、 9・・・ゲートリード、 1
1・・・A(J ・キャップ、 16・・・半導体整流
素子ペレット(Si ・ペレット)、 22・・・ゲ
ート電極取出部、 112・・・硬質銅板(CU ・デ
ィスク)、 113・・・軟質銅薄板(CU ・キャッ
プ)、 115・・・シリコーンゴム、 118・・
・MO又はW・金属板(M。 ディスク)。 「−m− 一トー113・軟質銅1板 特許出願人 株式会社 東 芝 代理人 弁理士 諸1)英二 8 : MO板 第1図 第 図 サイクツ1枚(ω) 第 図 「−m− 「−m− m−−1−−14 −トー13 第 図
Claims (1)
- 1側面にゲート電極取出部を設けた中空の絶縁物筒体と
、該絶縁物筒体を挟んで互いに対向するアノード電極ポ
スト及びカソード電極ポストとを有する外囲器内に、ア
ノード電極ポストよりカソード電極ポストに向けて、ア
ノード電極ポスト、モリブデン又はタングステンから成
る金属板、アノード電極がアノード電極ポスト側及びカ
ソード電極がカソード電極ポスト側となる半導体整流素
子ペレット、軟質銅薄板、硬質銅板及びカソード電極ポ
ストを上記順序にそれぞれの主面を互いに固着すること
なく接触配置し、且つ前記半導体整流子ペレット中央部
のゲート電極とカソード電極ポストとの間に、該カソー
ド電極ポストと電気絶縁をしたゲートリード及び弾性体
を配置し、アノード電極ポスト及びカソード電極ポスト
によりそれぞれを圧接して成ることを特徴とする圧接平
型半導体装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19855888A JPH0693468B2 (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | 圧接平型半導体装置 |
| US07/384,801 US4958215A (en) | 1988-08-09 | 1989-07-25 | Press-contact flat type semiconductor device |
| EP19890114223 EP0354454B1 (en) | 1988-08-09 | 1989-08-01 | Press-contact flat type semiconductor device |
| DE68921681T DE68921681T2 (de) | 1988-08-09 | 1989-08-01 | Flache Halbleiteranordnung vom Druckkontakt-Typ. |
| KR1019890011191A KR920006855B1 (ko) | 1988-08-09 | 1989-08-05 | 압접평형 반도체장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19855888A JPH0693468B2 (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | 圧接平型半導体装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0246742A true JPH0246742A (ja) | 1990-02-16 |
| JPH0693468B2 JPH0693468B2 (ja) | 1994-11-16 |
Family
ID=16393179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19855888A Expired - Lifetime JPH0693468B2 (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | 圧接平型半導体装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4958215A (ja) |
| EP (1) | EP0354454B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0693468B2 (ja) |
| KR (1) | KR920006855B1 (ja) |
| DE (1) | DE68921681T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102008000744A1 (de) | 2007-03-19 | 2008-09-25 | Ngk Insulators, Ltd., Nagoya | Wärme speichernder Brenner |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3258200B2 (ja) * | 1995-05-31 | 2002-02-18 | 株式会社東芝 | 圧接型半導体装置 |
| JPH0760893B2 (ja) * | 1989-11-06 | 1995-06-28 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
| JP3137375B2 (ja) * | 1990-09-20 | 2001-02-19 | 株式会社東芝 | 圧接型半導体装置 |
| DE4035846A1 (de) * | 1990-11-10 | 1991-06-06 | Kuntze Angelgeraete Dam | Angelrolle mit spule zur aufnahme der angelschnur |
| JP3588503B2 (ja) * | 1995-06-20 | 2004-11-10 | 株式会社東芝 | 圧接型半導体装置 |
| JP2016062983A (ja) * | 2014-09-16 | 2016-04-25 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
| US10147699B2 (en) * | 2015-05-26 | 2018-12-04 | Mitsubishi Electric Corporation | Pressure contact type semiconductor apparatus |
| US12469127B2 (en) | 2017-07-21 | 2025-11-11 | Dental Monitoring | Method for analyzing an image of a dental arch |
| US12446994B2 (en) | 2017-07-21 | 2025-10-21 | Dental Monitoring | Method for analyzing an image of a dental arch |
| CN116134178B (zh) * | 2020-09-08 | 2025-08-26 | 弗萨姆材料美国有限责任公司 | 电极连接组件、电解池及使用方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53124975A (en) * | 1977-04-06 | 1978-10-31 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor device |
| JPS54107264A (en) * | 1978-02-10 | 1979-08-22 | Toshiba Corp | Semiconductor device |
| JPS60194565A (ja) * | 1984-03-15 | 1985-10-03 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3581160A (en) * | 1968-12-23 | 1971-05-25 | Gen Electric | Semiconductor rectifier assembly having high explosion rating |
| DE2704914C2 (de) * | 1977-02-05 | 1982-03-25 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Anordnung zum Kontaktieren eingehäuster Leistungs-Halbleiterbauelemente |
| US4402004A (en) * | 1978-01-07 | 1983-08-30 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | High current press pack semiconductor device having a mesa structure |
| CH630490A5 (de) * | 1978-06-30 | 1982-06-15 | Bbc Brown Boveri & Cie | Gehaeuse fuer ein halbleiter-hochleistungsbauelement. |
| DE2838997A1 (de) * | 1978-09-07 | 1980-03-20 | Bbc Brown Boveri & Cie | Verfahren zur herstellung eines dichten gehaeuses fuer einen scheibenfoermigen, mindestens einen pn-uebergang aufweisenden halbleiterkoerper |
| DE2940571A1 (de) * | 1979-10-06 | 1981-04-16 | Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim | Modul aus wenigstens zwei halbleiterbauelementen |
| JPS57100737A (en) * | 1980-12-16 | 1982-06-23 | Toshiba Corp | Semiconductor device |
| DE3486256T2 (de) * | 1983-09-29 | 1994-05-11 | Toshiba Kawasaki Kk | Halbleiteranordnung in Druckpackung. |
| GB2162366B (en) * | 1984-07-24 | 1987-09-30 | Westinghouse Brake & Signal | Semiconductor device contact arrangements |
| JP2594278B2 (ja) * | 1986-07-30 | 1997-03-26 | ビービーシー ブラウン ボヴェリ アクチェンゲゼルシャフト | 加圧接続型gtoサイリスタ |
-
1988
- 1988-08-09 JP JP19855888A patent/JPH0693468B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-07-25 US US07/384,801 patent/US4958215A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-08-01 DE DE68921681T patent/DE68921681T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-01 EP EP19890114223 patent/EP0354454B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-08-05 KR KR1019890011191A patent/KR920006855B1/ko not_active Expired
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53124975A (en) * | 1977-04-06 | 1978-10-31 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor device |
| JPS54107264A (en) * | 1978-02-10 | 1979-08-22 | Toshiba Corp | Semiconductor device |
| JPS60194565A (ja) * | 1984-03-15 | 1985-10-03 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102008000744A1 (de) | 2007-03-19 | 2008-09-25 | Ngk Insulators, Ltd., Nagoya | Wärme speichernder Brenner |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0354454A2 (en) | 1990-02-14 |
| EP0354454B1 (en) | 1995-03-15 |
| US4958215A (en) | 1990-09-18 |
| EP0354454A3 (en) | 1990-12-27 |
| JPH0693468B2 (ja) | 1994-11-16 |
| KR900004027A (ko) | 1990-03-27 |
| DE68921681T2 (de) | 1995-07-27 |
| KR920006855B1 (ko) | 1992-08-20 |
| DE68921681D1 (de) | 1995-04-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0012770B1 (en) | Fluid cooled semiconductor device | |
| JP2739970B2 (ja) | 圧接型半導体装置 | |
| JPH098279A (ja) | 圧接型半導体装置 | |
| JPH0246742A (ja) | 圧接平型半導体装置 | |
| JP6580259B2 (ja) | 電力用半導体装置 | |
| JPH0964258A (ja) | 大電力半導体デバイス | |
| JP2000049330A (ja) | 圧接型半導体装置及びそのリング状ゲート端子並びに電力応用装置 | |
| JP3097383B2 (ja) | パワー半導体装置 | |
| JP3394000B2 (ja) | モジュール型半導体装置及びこれを用いた電力変換装置 | |
| JP3353570B2 (ja) | 平型半導体素子 | |
| JPH05267491A (ja) | 圧接型半導体装置及びこれを使用した電力変換装置 | |
| JP3671771B2 (ja) | 平型半導体装置のパッケージ | |
| JPH04355953A (ja) | 半導体装置およびそれに用いられる絶縁積層体並びにその半導体装置の製造方法 | |
| JP3307145B2 (ja) | パワーチップキャリア及びこれを用いたパワー半導体装置 | |
| JP2546178B2 (ja) | リードレスダイオード | |
| JP3117215B2 (ja) | 圧接型半導体装置 | |
| JP2549623B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
| JP2024135891A (ja) | 異種材料の接合方法 | |
| JPH05218397A (ja) | 圧接型半導体素子 | |
| JPH1197463A (ja) | 圧接型半導体装置 | |
| JPS62290163A (ja) | 半導体装置 | |
| JPH0593049U (ja) | 圧接型半導体素子 | |
| JP3313649B2 (ja) | 半導体素子の製造方法、及びその製造方法により製造された半導体素子を組込んだ電力変換装置 | |
| JPS6329408B2 (ja) | ||
| JPS5978539A (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071116 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081116 Year of fee payment: 14 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081116 Year of fee payment: 14 |