JPH0247268A - ディップ溶液 - Google Patents

ディップ溶液

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JPH0247268A
JPH0247268A JP19788488A JP19788488A JPH0247268A JP H0247268 A JPH0247268 A JP H0247268A JP 19788488 A JP19788488 A JP 19788488A JP 19788488 A JP19788488 A JP 19788488A JP H0247268 A JPH0247268 A JP H0247268A
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JP
Japan
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solution
film
dip
alkoxide
acid
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Pending
Application number
JP19788488A
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English (en)
Inventor
Isamu Sato
勇 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Stanley Electric Co Ltd
Original Assignee
Stanley Electric Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0247268A publication Critical patent/JPH0247268A/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1204Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
    • C23C18/1208Oxides, e.g. ceramics
    • C23C18/1216Metal oxides

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、浸漬塗工に関し、特に酸化チタニウム膜作製
用のデイツプ溶液に関する。
[従来の技術] デイツプ法による酸化チタニウム薄膜作製用溶液として
、第1表の組成を使用した報告がある。
策上人 材料      モル比 I  Ti(OC3H7)4  1 2 C2H50H8 3H2O1 4HCI           0.08チタンアルコ
キシドは加水分解性の強い材料で、空気中の水分と反応
し加水分解を進める性質を持つ、しかし、透明な酸化チ
タニウム膜を得るためには、この反応を適当に制御する
ことが非常に重要である。更に、膜層を均一にするには
、塗装後のゲル加速度も重要なものとなっている。
これらを考慮して第1表の組成となっている。
[発明が解決しようする課題] 第1表のデイツプ溶液はその使用寿命が短く、ii間程
度で使用できなくなる。
また特性の変化のため、デイラグ毎に膜厚コントロール
のパラメータを変える必要ある。
これらの結果、材料が高価なものとなり、製品のばらつ
きが大きくなる。
本発明の目的は長寿命で安定した特性のデイツプ溶液を
提供することである。
[課題を解決するための手段] 以下の組成デイツプ溶液を用いる。
星l遣 材料        モル比 I  Ti(QC4Hg)4ネ  1 2  、c3H7oH**     8〜133 H2
O0・3〜1 4  HCI*傘*         0.09〜0.
13*  チタンアルコキシドのアルキル基中、ブチル
基C4のものか、プロピル基 C3の2型詰合のない飽和脂肪族系炭 化水素とする。
**  アルキル基に関しては、飽和脂肪族系炭化水素
とする。
**ネ  塩酸又は硝酸とする。
[実施例] 第2表に示すデイツプ溶液を用い、以下の浸漬塗工を行
った。
(1)浸漬工程 スライドガラスをデイツプ溶液に浸漬する。
(2)引上げ工程 浸漬した状態から、垂直方向にスライドガラスを引き上
げガラス上に液膜を塗布する。
比重、濃度、粘性、引上げ速度が液膜の厚みを決める主
要因となる。なかでも薄液膜となった時点から起こる溶
媒の揮発と加水分解進行によるゲル化は粘性を上げて膜
の固定化を起こす。
(3)乾燥工程 120℃の雰囲気中で2分間、一定の条件で乾燥した。
ゲル状の膜から溶媒等を飛ばす工程である。ここまでの
工程に震動、傾斜はないようにする。ここまでで、膜の
基本構造が決定される。
(4)焼成工程 600℃の雰囲気中で5分間の一定条件で焼成した。固
化した膜中に存在する水酸基、アルコールを膜中から完
全に放出する工程である。
(5)検査 徐冷されたスライドガラスをエリプソメータにかけて、
膜厚と屈折率を測定した。
アルコキシドの加水分解性を利用したデイツプ溶液はそ
の反応を適当に制御することで初めて透明な膜を得るこ
とができる。今回の溶液は通常のデイラグコーティング
操作で透明な薄膜を得るものである。
デイツプ法は池の条件を一定としたとき、浸漬された状
態から引きあげる速度で、膜厚をコントロールできる特
徴を持つ、今回の溶液は、1〜20aII/分の引上げ
速度範囲内で45〜50nlの膜厚を得る溶液である。
一般のアルコキシド溶液がそうであるようにコーテイン
グ液中に単数もしくは複数の物質を溶解させることで生
成膜の組成を自由に変えることが可能な溶液である。
アルコキシドデイツプ溶液で最少限の構成で長期安定性
のある溶液を得た。
成層工程に不要な安定化剤を添加せずに長期間安定性の
ある溶液を得た。
チタンアルコキシドにおけるアルキル基の炭素数が多い
ほど反応性が弱くなることが知られている。さらに、市
販され安価のものとしてプロピル基、ブチル基のものを
使用する。
溶媒として、プロピルアルコール(イソ及びノルマル)
を使用する。これはエチルアルコールにするとチタニウ
ムアルコキシドの力a水分解反応を促進させる作用をも
させるしブチルアルコールにすると溶液の安定性を保つ
ことは出来るがデイラグコーティング後における膜のゲ
ル化が遅くなり均一膜を作製することが困難になる為で
ある。
また、溶媒として使い易く適度の耐久性を与えるモル比
として、チタンアルコキシドのアルコキシド1モルに対
して8〜13モルが適当であった。
水分添加について、実験的に得た結果を第1図に示す、
下記のようにチタンアルコキシド1モルに対して水2モ
ルが完全に反応すると Ti(OR>  +2HO→T i O2+4 ROH
酸化チタニウムになる。透明なコロイド粒子の分散は溶
液中での安定性を向上させ成膜時の反応制御に役立ち適
当な粘性をもならしている。チタニウムアルコキシド1
モルに対して水が0.3モル未満の場合は、溶液中で加
水分解が足りず乾燥工程によってチタン白等の膜になる
ものが発生した。
更に1モルを越える水分の存在では溶液寿命が3ケ月を
越えるものは少なかった。
酸の添加について、実験的に得た結果を第2図に示す、
酸は加水分解を促進させる触媒的作用があるので適量を
越えると反応が促進されゲル化までの時間が短くなって
しまう、tた酸にはアルコキシドのアルコール中での溶
解度を上げる効果とコロイド粒子に界面電気2重層を持
たせ安定性を保つ効果があると思われ、少ない酸濃度の
場合も溶液の寿命は短くなってしまった。結果的に酸の
量は他の材料に比べて範囲の狭いものとなった。
溶液の寿命判定については、引上げ速度2〜10■/分
の範囲内で、12Or++gの酸化チタン透明膜の生成
できる液であることとした。焼成条件としては600℃
5分間一定とした。雰囲気温度は25℃に保ったが湿度
等の制御は特に行わなかった。
チタンアルコキシドアルコール溶液への適量の水と酸の
添加は溶液中で加水分解をコントロールし、デイツプ雰
囲気の影響を余り受けずに透明膜を生成出来るものであ
る。
さらに工業的には、デイツプ溶液自体の寿命及び安定性
の改善が求められる。それは、アルコキシド溶液は高価
なものであり、デイツプ溶液は被コーテイング物を浸す
だけの溶液量が必要なため繰返使用できなければ割高に
なってしまうことによる。又、コーティング毎に液の特
性が変動してしまっては、ロット毎のばらつきが多くな
ってしまうことによる。
溶液の安定性について、各々の液によるデイツプ条件の
差は、引上げ速度のみとし、膜厚が120nnになるよ
うに定めた。それぞれ同じ条件でコーティングをし、膜
厚の時間に対する変動(増加)量が10%になったとき
の時間を測定した。従来の溶液では20時間であった所
が340時間となり、膜厚のロット毎の均一性が向上で
きた。
溶液の寿命について従来のものは4日間の寿命であった
。この溶液作製上で溶媒をプロピルアルコールにするこ
とで、90日の寿命に延ばすことができ、更に組成範囲
を設定することで180日以上の寿命にすることができ
た。
更にこの溶液は、希釈液を添加することによりデイツプ
条件を一定のままでも膜厚を一定にできる。
アルコキシド溶液の特徴である溶液中に添加物を溶かし
こむことで生成膜中に添加物を均一に分散させることが
できる。
キレート化、安定材の添加等の方法を使用していない、
つまり生膜行程に関係のない又は障害となるものがない
、従って、成膜の特性変動が少ない。
プロピルアルコールを使用することによるゲル化速度(
エチルアルコール溶媒と較べて)は遅くなり引き上げら
れてから徐々に起こるものであるので(エチルアルコー
ルの場合は引上げと同時に膜がゲル化する)引上げ速度
の微変動に影響なく均一膜を得る溶液である。
[発明の効果コ 長寿命で安定な特性のデイツプ溶液が得られた。
【図面の簡単な説明】
第1図は、水分の量と寿命との関係を示すグラフ、 第2図は、酸の量と寿命との関係を示すグラフである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)、チタンアルコキシド、アルコール、水、酸を含
    み、チタンアルコキシドのアルキル基はC3又はC4の
    飽和脂肪族系炭化水素であり、アルコールはプロピルア
    ルコールの飽和脂肪族系炭化水素とし、チタンアルコキ
    シドのアルコキシド1モルに対して8〜13モルのモル
    比とし、水分は0.3〜1モル、酸は0.09〜0.1
    3モルの塩酸又は硝酸としたことを特徴とするディップ
    溶液。
JP19788488A 1988-08-10 1988-08-10 ディップ溶液 Pending JPH0247268A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5088768A (en) * 1989-06-27 1992-02-18 Fuji Kiko Company, Limited Structure of impact absorbing steering apparatus
JPH0517153A (ja) * 1991-07-09 1993-01-26 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 光反応促進用チタン酸化物触媒の製造方法
JPH1192946A (ja) * 1997-09-19 1999-04-06 Shinto Paint Co Ltd 金属酸化物膜の形成方法
WO2003078320A1 (en) * 2002-03-19 2003-09-25 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Thin silica film and silica-titania composite film, and method for preparing them
JP2007084671A (ja) * 2005-09-21 2007-04-05 Toyo Seikan Kaisha Ltd 半導体微粒子分散用バインダー組成物
JP2009120872A (ja) * 2007-11-12 2009-06-04 Dainippon Printing Co Ltd 金属酸化物膜の製造方法

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