JPH0248556B2 - - Google Patents

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JPH0248556B2
JPH0248556B2 JP54053532A JP5353279A JPH0248556B2 JP H0248556 B2 JPH0248556 B2 JP H0248556B2 JP 54053532 A JP54053532 A JP 54053532A JP 5353279 A JP5353279 A JP 5353279A JP H0248556 B2 JPH0248556 B2 JP H0248556B2
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mmol
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butyldimethylsilyl
ethyl
mixture
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JP54053532A
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JPS5527169A (en
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Guranto Kurisutensen Baaton
Uiriamu Ratokurifu Ronarudo
Noosu Sarutsuman Toomasu
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Merck and Co Inc
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Publication of JPH0248556B2 publication Critical patent/JPH0248556B2/ja
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07D477/00Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring
    • C07D477/10Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 4, and with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2
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    • C07D205/08Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
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    • C07D477/04Preparation by forming the ring or condensed ring systems
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は既知抗生物チエナマイシン() の全合成に関する。 L−アスパラギン酸から出発し、下記の中間体
、、 【式】 【式】 【式】 を経由して立体選択的に合成を進行させる。式
中、Xは通常の脱離基、例えば
HSCH2CH2NHR1(R1除去可能なN−保護基であ
る)との反応で脱離する基であり、Rは水素、通
常の容易に除去されるカルボキシル保護基又は塩
陽イオンである。全合成の詳細は以下に記すとお
りである。 本発明の方法は、以下の反応図式により都合良
くまとめることができる。 上述の図式に関して云えば、L−アスパラギン
酸1〜は良く知られている方法によつてエステル化
される。典型的には、ベンゼン、トルエン、クロ
ロホルム等の溶媒中の1〜を、p−トルエンスルホ
ン酸、HCl、HBr等の存在下ベンジルアルコー
ル、メタノール、エタノール、イソプロパノール
等のエステル化剤により0から110℃の温度で1
ないし24時間処理して所望する反応を遂行し、カ
ルボキシル官能基を保護する。得られた2〜をエー
テル、THF、DME等の溶媒中トリメチルクロロ
シラン等で、次いでEtMgBr、MeMgI、
φMgBr、t−BuMgCl等で−40から50℃の温度
に於て1ないし72時間処理し、アゼチジノン3〜を
得る。3〜をNaBH4等の還元剤で、メタノール、
エタノール、イソプロパノール等の溶媒中−10か
ら40℃の温度で1ないし6時間還元すると4〜が得
られる。(ここでの目的のために記号Et、Me、
φ、iPr及びt−Buはそれぞれエチル、メチル、
フエニル、イソプロピル、3級ブチルを表す。) 4〜を塩化メチレン、CHCl3等の溶媒中、メタン
スルホニルクロリド、無水メタンスルホニン酸等
によりEt3N、iPr2NEt等の塩基の存在下処理し、
次いで化学量論的にアセトン中の5倍過剰量のヨ
ウ化ナトリウムで処理すると4a〜を経由して5〜が
得られる。 5〜→6〜の変換によつて保護基R1を結合させる。
この保護基は例えばt−ブチルジメチルシリル、
t−ブチルジフエニルシリル、トリフエニルシリ
ル、イソプロピルジメチルシリル等のトリオルガ
ノシリル基、又は例えば3,4−ジメトキシベン
ジル等であることができる。シリル基による保護
が好ましく、典型的には、ジメチルホルムアミ
ド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホラミ
ド、テトラヒドロフラン等の溶媒中5〜をt−ブチ
ルジメチルクロロシラン、t−ブチルジフエニル
クロロシラン、トリフエニルクロロシラン等のシ
リル化剤により−20゜から25℃の温度で、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミンまたは
イミダゾール等の塩基の存在下0.5ないし24時間
処理することによつてR1を結合させる。 6〜→7〜の変換は6〜をテトラヒドロラン、ジメト
キシエタン、ジエチルエーテル等の容媒中総括的
に次式 で表されるカルバニオンで処理することによつて
行われる。式中Mは、例えばリチウム、カリウ
ム、銅、マグネシウム等の金属カチオンであり、
R2、R3及びR4は例えばメチル、エチル、ベンジ
ル、メトキシベンジル、トリチル及びフエニルの
ようなアルキル、アリール又はアルアルキルの中
から選ばれ、温度は−100゜から0℃の間であり、
時間は0.5から4時間の間である。典型的にはカ
ルバニオン試薬は、基質6〜を添加する直前にトリ
オルガノチオメタンをn−ブチルリチウム、t−
ブチルリチウム、フエニルリチウム、リチウムジ
イソプロピルアミド(LDA)等の強塩基で処理
することによつて調製する。 アルキル化7〜→8〜は、7〜をテトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、ヘキ
サメチルホスホラミド等の溶媒中、−100゜から−
20℃の温度でリチウムジイソプロピルアミド、リ
チウムヘキサメチルジシラジド、リチウム、2,
2,6,6−テトラメチルピペリジド、水素化カ
リウム等の強塩基で処理し、次いで当量ないし10
倍過剰量のアセトアルデヒドを添加することによ
つて行う。この反応は異性体の混合物を与え、こ
れから所望するトランス−R型はクロマトグラフ
イー又は結晶化によつて都合良く分離することが
できる。 8〜→9〜の変換は、8〜をメタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、水などの溶媒中、0から
80℃の温度に於て塩化水銀、テトラフルオロホウ
酸銀3硝酸タリウム等のルイス酸で処理すること
によつて行う。R5の価は反応に用いたアルコー
ルの同一性によつて決まる。 9〜→10〜の変換により水酸基の保護基R2を結合
させる。最も好ましい保護基R2はt−ブチルジ
メチルシリル、t−ブチルジフエニルシリル、ト
リフエニルシリル等のトリオルガノシリル基であ
る。典型的にはシリル化は、ジメチルホルムアミ
ド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等の溶
媒中、9〜を相当するトリオルガノシリルクロリド
で−20から80℃の温度に於て0.5ないし24時間処
理することにより行う。 10〜→11〜の還元はトルエン、塩化メチレン、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン等の溶媒中で
10〜をジイソブチルアルミニウムヒドリド、ナトリ
ウムビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウム
ヒドリド等の還元剤で−100゜から−40℃の温度に
於て1ないし10時間処理することによつて行う。 11〜→12〜の付加はテトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル、ジメトキシエタン等の溶媒中11〜を−
100゜から0℃の温度に於て15分間ないし2時間、
LiCH2CO2R6(R6はベンジル、p−メトキシベン
ジル、2,4−ジメトキシベンジル等であり、こ
の試薬は典型的には適当なR6アセテートをLDA、
リチウムヘキサメチルジシラジド、リチウム2,
2,6,6−テトラメチルピペリド等の強塩基で
処理して反応液中に発生させてそのまま使う)の
存在下に処理することにより行う。 もし所望するならば、最初に導入した基R6
カルボキシル保護基R7によつて置換し、カルボ
キシル保護基をより容易に除去し得る保護基に変
えることも可能である。この変換12〜→13〜→14〜は水
素添加又は加水分解によつて選択的に12〜を脱保護
化して13〜をつくることによつて行う。典型的に
は、メタノール、エタノール、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、水等の溶媒中、1ないし4気圧
の水素化圧のもとで、パラジウム付チヤコール、
Pd(OH)2等の触媒の存在下0.1ないし10時間12〜を
処理することによつて反応を行う。中間体13〜(M
はH、Na、K又は例えばEt3NH等のアンモニウ
ムであれば良い)を単離する必要はない。中間体
14〜はジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ヘ
キサメチルホスホラミド等の溶媒中、R7を結合
させることのできると思われる選ばれた試薬(例
えばアルアルキルハライド)を用い、0゜から50℃
の温度に於て0.5ないし18時間処理することによ
り本素添加反応混合物から得られる。R7の典型
的なものは、例えばp−ニトロベンジルまたはo
−ニトロベンジルのようなアルアルキル基であ
る。 酸化14〜→15〜は、塩化メチレン、アセトニトリル
等の溶媒中14〜をジピリジンクロミウム()オキ
シド、3,5−ジメチルピラゾールクロミニウム
()オキシド、ピリジウムクロロクロメート、
ピリジニウムジクロメート、無水トリフルオロ酢
酸−ジメチルスルホキシド、無水酢酸−ジメチル
スルホキシド等の酸化系を用い−78℃から25℃の
温度に於て5分間ないし8時間処理することによ
り行う。 保護基R1及びR2の除去(15〜→16〜)は、メタノ
ール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等の溶媒中、塩酸、硫酸、酢酸等の存在下0
ないし100℃の温度に於て、2ないし18時間15〜を
酸性で水性加水分解することによつて行う。 ジアゾ化合物17〜は、CH3CN、CH2Cl2、THF
等の溶媒中、トリエチルアミン、ピリジン、
(C2H52NH等の塩基の存在下に16〜をp−カルボ
キシベンゼンスルホニルアジド、トルエンスルホ
ニルアジド、メタンスルホニルアジド等のアジド
で1ないし50時間0〜25℃で処理することにより
16〜から調製される。 環化(17〜→18〜)はベンゼン、トルエン、THF
等の溶媒中、50〜110℃の温度に於て1〜5時間、
ビス(アセチルアセトナート)Cu()〔Cu
(acac)2〕、CuSO4、Cu粉、Rh(OAc)2又はPd
(OAc)2等の触媒の存在下に17〜を処理することに
よつて行う。別法として、この環化はベンゼン、
CCl4、ジエチルエーテル等の溶媒中、0〜25℃
の温度に於て0.5ないし2時間パイレツクスフイ
ルター(波長300nm以上)を通して17〜を照射す
ることによつても行うことができる。〔“OAc”
はアセテートのことである〕 脱離基Xの結合(18〜→19〜)はケトエステル18〜を
無水p−トルエンスルホン酸、無水p−ニトロフ
エニルスルホン酸、無水2,4,6−トリイソプ
ロピルフエニルスルホン酸、無水メタンスルホン
酸、トルエンスルホニルクロリド、p−ブロモフ
エニルスルホニルクロリド等のアシル化剤R0Xで
アシル化することによつて行う。ここでXはトル
エンスルホニル、p−ニトロフエニルスルホニル
オキシ、メタンスルホニルオキシ、p−ブロモフ
エニルスルホニルオキシ等の相当する脱離基及び
常法によつて結合させることができ、更に当業界
で良く知られている他の脱離基である。そのよう
な脱離基Xの代表的な例は、前述したものも含め
て以下に示すものがある。 (1) 硫酸及びスルホン酸の残基(X=OSO2OH、
OSO2OR′、OSO2R′): 【式】 OSO2C4F9 【式】 OSO2CH2CF3 【式】 OSO2(CH2)nN (CH33 OSO2CH3 OSO2F OSO2CF3 【式】 (2) リン酸及び亜リン酸の残基(X=OPO
(OR′)2、OPO(OR′)R″): (a) ジアリールホスフエート類(OPO
(OAr)2): 【式】 【式】 (b) 置換ジアリールホスフエート類: 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】及び (c) ジアルキルホスフエート類(OPO
(OAl)1): (3) ハロゲン(X=Cl、Br、l): (4) カルボン酸の残基(X=OCOR): 【式】 (F、Cl、NO2で置換 可) 【式】 (F、Clで置換可) (5) ピリジニウムオキシ誘導体残基 【式】 典型的には、脱離基Xを結合させるための上述
のアシル化は、塩化メチレン、アセトニトリル又
はジメチルホルムアミド等の溶媒中、ジイソプロ
ピルエチルアミン、トリエチルアミン、4−ジメ
チルアミノ−ピリジン等の温基の存在下、−20な
いし40℃の温度に於て0.5ないし5時間行う。中
間体19〜の脱離基Xはハロゲンであつても良い。ハ
ロゲン脱離基はφ3PCl2、φPBr2、(φO)3PBr2
オキガリルクロリド等のハロゲン化剤を用いて、
CH2Cl2、CH3CN、THF等の溶媒中、ジイソプ
ロピルエチルアミン、トリエチルアミン、又は4
−ジメチルアミノピリジン等の塩基の存在下18〜を
処理することによつて結合させる。〔φはフエニ
ルである〕 反応19〜→20〜は、ジオキサン、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、
ヘキサメチルホスホラミド等の溶媒中、ほぼ当量
ないし過剰のメルカプタン試薬HSCH2NHR8(式
中、R8は、水素又はp−ニトロベンジルオキシ
カルボニル、o−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル等の容易に除去し得るN−保護基である)の存
在下、そして炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウ
ム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルア
ミン等の塩基の存在下、−40℃ないし25℃の温度
に於て1ないし72時間19〜を処理することによつて
行なう。メルカプタン試薬HSCH2CH2NHR8
典型的には所望する酸クロリドの存在下、重炭酸
ナトリウム、水酸化ナトウム等の塩基の存在下水
性ジエチルエーテル、水性ジオキサン、水性アセ
トン等の溶媒中0から25℃の温度に於て、0.5な
いし4時間アミノエチルメルカプタンを処理する
ことによつて調製される。最終脱保護段階20〜→
は加水分解又は水素添加等の常法に従つて行う。
典型的には、ジオキサン−水−エタノール、テト
ラヒドロフラン−水性リン酸水素2カリウム−イ
ソプロパノール等の溶媒中20〜を1ないし4気圧の
水素圧のもとで、パラジウム付チヤコール、水酸
化パラジウム等の水素添加触媒の存在下0ないし
50℃の温度に於て0.5ないし4時間処理して1を
供給する。 ヒドロキシエチル側鎖を導入するための上述の
アルドール反応7〜→8〜に於て、反応式は直接に異
性体の混合物(トランス−R、トランス−S及び
シス−R)を与えるように進行し、この混合物か
ら所望するトランス−R異性体をクロマトグラフ
イーにより、或は結晶化により分離することがで
きる。次式の反応により、間接的なアルドール反
応は立体選択的に所望するトランス−R異性体を
与える: 式中すべての記号は前に定義した通りである。 上述の反応図式に関していえば、段階Aは既に
上で説明してある。直接のアセチル化、段階Bは
例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル又
はジメトキシエタン等の溶媒中、リチウムジイソ
プロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラジ
ド、リチウム2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジド等の塩基2当量以上を用いて7を−100゜か
ら−20℃の温度に於てN−アセチルイミダゾール
等のアシル化剤と共に処理することによつて行
う。7と塩基の混合物をアシル化剤に添加するの
が好ましい。 酸化段階Cはジピリジンクロミウム()オキ
シド、無水トリフルオロ酢酸−ジメチルスルホキ
シド−トリエチルアミン、ピリジニウムジクロメ
ート、無水酢酸−ジメチルスルホキシド等の酸化
剤を用い、塩化メチレン、アセトニトリル等の溶
媒中、−78゜から25℃の温度に於て5分間ないし5
時間行う。 還元段階Dは、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、トルエン等の溶媒中、カリウムトリ
(二級−ブチル)ボロヒドリド、リチウムトリ
(二級−ブチル)ボロヒドリド、ナトリウムボロ
ヒドリド、ナトリウムトリス(メトキシエトキ
シ)アルミニウムヒドリド、リチウムアルミニウ
ムヒドリド等の還元剤とケトンを−20から25℃の
温度で接触させることによつて行う。この反応は
ヨウ化カリウム、臭化マグネシウム等の添加複合
塩の存在下都合良く行うことが可能である。 チエナマイシン全合成の上述した反応図式の記
述に於て、正確な反応パラメーターを選択する
際、かなりの許容範囲があることが理解されなけ
ればならない。この許容範囲及びその広さの指示
は、同等の溶媒系、温度範囲、保護基の列挙、使
用する試薬の同一性の範囲によつて一般的に示さ
れる。更に、一定の順序の異なる段階からなる合
成図式の表示は、その性質に於て必然的なもので
あるよりは硬宜的に記述したものであるというこ
とが理解されるべきである。述つて、機械的に分
割された図式は合成の統一した図式を表すもので
あり、実際の施行に於ては、あるいくつかの段階
は併合したり、同時に行つたり或は、物質的に合
成の進行を変えることなく反応順序を変えること
が可能であるということが認められるであろう。 以下の実施例は全合成の正確な図式を列挙して
いる。この詳細な説明の目的は全合成を更に詳し
く図示するものであり、何らの制約をおしつける
ものではないことが理解されなければならない。 参考例 1 4(S)−4−ヨードメチルアゼチジン−2−オ
ンの製造 工程A ベンジル(S)−アセチジン−2−オン−カル
ボキシレート 1000mlの分液ロートにベンジル(S)−アスパ
ラギン酸−p−トルエンスルホン酸塩(48.6g、
0.1モル)、氷冷したジエチルエーテル(300ml)、
氷冷水(100ml)及び氷冷した飽和炭酸カリウム
水溶液(50ml)を加える。この混合物を激しく撹
拌し、2層を分離する。水層をさらにジエチルエ
ーテル(2×100ml)で抽出する。エーテル溶液
を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧濃縮することにより、ジベンジ
(S)−アスパラギン酸(31.4g、0.1モル)
を、無色の液体として得る。 無水ジエチルエーテル中、このジベンジル
(S)−アスパラギン酸を窒素気流下、氷浴中で
冷却する。この溶液を撹拌しながらトリメチルク
ロロシラン(12.7ml、0.1モル)を加えると白色
の沈澱が得られる。次に、この混合物にトリエチ
ルアミン(14.0ml、0.1モル)を加える。氷浴を
除去し、混合物を室温(22〜25℃)、2時間撹拌
する。この混合物を焼結ガラスロート、マグネチ
ツクスターラー及び窒素−真空導入口を付けた
1.0リツトルの三つ口丸底フラスコに直接、過
する。この操作は窒素のブランケツト中で行な
い、大気中の湿気を除くように注意する。次に焼
結カラスロートを共栓に換え、エーテルを撹拌し
ながら、除去することにより、ベンジル(S)
N−トリメチルシリル−アスパルテート(35.5
g、0.092モル)を油状物質として得る。 次に無水ジエチルエーテル(250ml)を、シリ
ル誘導体を含むフラスコに加え、マグネチツクス
ターラーをメカニカルスターラーと換える。得ら
れた溶液を、窒素気流下、氷浴で冷却しながら、
撹拌する。次に、エチルマグネシウムブロマイド
のエーテル溶液(2.94M溶液を34ml、0.1モル)
を40分間にわたつて、滴下することにより、クリ
ーム色をした、さらさらの沈澱が得られる。次に
氷浴を除去し、混合物を室温で撹拌する。1.5時
間後に粘性のあるガム状物質が生成する。この混
合物を室温で1晩放置する。次にこの混合物を冷
却したメタノール浴で冷却し、塩化アンモニウム
で飽和した2規定塩酸(100ml)を撹拌しながら
ゆつくり加える。得られた混合物を酢酸エチル
(100ml)と水(100ml)で希釈し、2層を分離す
る。水層はさらに酢酸エチル(3×100ml)で抽
出する。有機層を集め、水(200ml)、5%炭酸水
素ナトリウム水溶液(100ml)水(100ml)及び飽
和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後
別する。溶媒を減圧することにより細かい粒状の
沈澱が混ざつた赤褐色の油状物質(25.3g)が得
られる。この物質を温クロロホルム(75ml)に溶
解し、石油エーテル(125ml)で希釈し、結晶の
たねを植え、容器の壁をこすり、氷浴で冷却す
る。得られた沈澱を集め石油エーテルで洗浄し、
真空下、乾燥することにより、ベンジル−(S)
−アゼチジン−2−オン−4−カルボキシレート
(3.85g)を、白色の固体として得る。次に母液、
及び洗浄液を合わせ、石油エーテルで希釈して全
量を500mlとし、結晶の種を植え、冷蔵庫中に数
目間放置する。得られた沈澱を集め、石油エーテ
ルで洗浄し、真空下、乾燥することによりさらに
生成物(0.82g)淡黄色の結晶として得られる。
試料をクロロホルム−石油エーテルで再結晶する
ことにより、生成物が小さな白色の板状晶として
得られる:融点141〜143゜;〔α〕D=−43.4゜
(c3.275、CHCl3);IR(CHCl3)3425、1778、
1746cm-11HNMR(CDCl3)δ3.00(ddd、1、
J=1.9、3.2及び14.6Hz、H−3a)、δ3.35(ddd、
1、J=1.5、5.4及び14.6Hz、H−3b)、δ4.20
(dd、1、J=3.2及び5.4Hz、H−4)、δ5.22(s、
2、OCH2Ph)、δ6.48(m、1、NH)、δ7.38(s、
5、フエニル);マススペクトルm/e205(M+)、
163、91、70、43。 元素分折:C11H11NO3に対する 計算値:C64.38、H5.40、N6.83 実験値:C64.10、H5.70、N6.77 工程B 4−(S)−4−ヒドロキシメチルアゼチジン
−2−オン 0℃に於て、300mlの無水メタノールに懸濁し
たベンジル4(S)−アゼチジン−2−オン−4
−カルボキシレート(20.0g、97.5ミリモル)に
水素化ホウ素ナトリウム(3.69g、97.5ミリモ
ル)を一度に加える。この混合物を、30℃以下に
なるように周期的に冷却しながら、ゆつくり加温
する。2時間、撹拌した後、氷酢酸(23.4g、
390ミリモル)を加え反応混合物を真空下濃縮す
る。残渣を500mlのクロロホルムに溶解し過す
る。液を真空下濃縮し、残渣を250gのシリカ
ゲル(4:1、クロロホルム:メタノール)によ
りクロマトを行なうことにより4(S)−ヒドロ
キシメチルアゼチジン−2−オンを白色の固体と
して得る:融点51〜53℃;〔α〕D=+68.0゜
(c2.676、CHCl3);IR(CHCl3)3410、1765cm-1
1H−NMR(CDCl3)δ7.07(1H、br.S、N)、
δ4.05(1H、br.s、O)、δ3.77(2H、m、H4、H
−5a又はb)、δ3.58(1H、dd、J=11、6、H−
5a又は5b)、δ2.97(1H、ddd、J=14.5、4.8、
1.3、H3b)、δ2.7(1H、br.d、J=14.5、H3a);
マススペクトルm/e101(M+)、83。 工程C (S)−4−メタンスルホニルオキシメチル
アゼチジン−2−オン 0℃に於て、無水塩化メチレン(15ml)中の4
(S)−4−ヒドロキシメチルアゼチジン−2
−オン(10.1g、100ミリモル)とトリエチルア
ミン(10.1g、100ミリモル)の溶液に、メタン
スルホニルクロリド(11.46g、100ミリモル)を
注射器で滴下する。(アルコールを溶解させる為
に、加熱することが必要であるが、その他の試薬
を加える前までに溶液は0℃に下げる。)このよ
うにして得られた溶液を0℃、1時間撹拌し、こ
の間に、大量の沈澱が生成する。1時間後、反応
混合物を過し、液は真空下濃縮する。2つの
残渣を合わせ、これに500mlのクロロホルムを加
える。得られた混合物を過することにより殆ん
ど純粋な4(S)−4−メタンスルホニルオキシ
メチルアゼチジン−2−オンを白色の固体として
得る。液は殆んどのトリエチルアミン塩酸塩が
含まれているが、これを真空下濃縮を行ない、
200gのシリカゲル(4:1、クロロホルム:メ
タノール)でクロマトを行なうことによりさらに
メシル化物が得られる。ここで得られた物質と前
に得られた物質を合わせ、クロロホルムから再結
晶すると15.5g(87%)の4(S)−4−メタン
スルホニルオキシメチルアゼチジン−2−オンを
無色針状結晶として得る:融点109.5〜110.5℃
〔α〕D25.8゜(c1.025、H2O);NMR(D2O)δ4.62
(1H、dd、J=11.2、3.0、H−5a又はb)、δ4.43
(1H、dd、J=11.2、6、H−5a又はb)、δ4.12
(1H、m、H4)、δ3.26(3H、s、【式】)、 δ3.19(1H、dd、J=15、4.5、H3b)、δ2.88(1H、
dd、J=15、2.5、H3a);マススペクトルm/
e179(M+)、136; 元素分析: 計算値:C33.51、H5.06、N7.82、S17.89 実験値:C33.54、H5.08、N7.72、S17.93 工程D (S)−4−ヨウ化メチルアゼチジン−2−
オン 130mlのアセトン中の4(S)−4−メタンス
ルホニルオキシアゼチジン2−オン(11.8g、
65.9ミリモル)とヨウ化ナトリウム((19.8g、
132ミリモル)粉末の混合物を6時間加熱還流す
る。得られた混合物を真空下濃縮し、200mlのク
ロロホルムを加え、過する。液を50mlの水で
2回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥する。有
機層を過し、真空下濃縮し、250gのシリカゲ
ル(酢酸エチル)でクロマトすることにより、
11.94g(86%)の4(S)−4−ヨウ化メチル
−アゼチジン−2−オンを白色の固体として得
る。この物質をエーテル−石油エーテルから再結
晶すること白色の結晶が得られる:融点91〜92
℃;〔α〕D=−23.7゜(c1.354、CHCl3);IR
(CHCl3)3450、1765cm-11HNMR(CHCl3
δ6.13(br.s、N−H)、δ3.94(m、1H、H−C)、
δ3.36(m、2H、Hd及びe)、δ3.16(ddd、1H、J
=14.9、5.4、2.3、Ha)、δ2.72(ddd、1H、J=
14.9、2.1、2、Hb)マススペクトルm/e211
(M+)、168、142、127、84。 参考例 2 (4)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−
4−ヨウドメチル−アゼチジン−2−オンの製
(4)−4−ヨウ化メチル−アゼチジン−2
−オン(10g、47.4ミリモル)とトリエチルアミ
ン(5.04g、49.8ミリモル)の無水ジメチルホル
ムアミド(100ml)溶液を氷冷、撹拌しこれにt
−ブチルジメチルクロロシラン(7.51g、49.8ミ
リモル)を一度に加える。大量の白色の沈澱がす
ぐに析出する。反応混合物を0〜5゜で1時間撹拌
し、次に、室温まで暖める。真空下、大部分の溶
媒を除くことにより、残渣が得られ、これを、ジ
エチルエーテル(250ml)と水の間で分配する。
エーテル層を2.5規定塩酸(50ml)、水(3×50
ml)及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、過後、真空下濃縮することにより、
(4)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−4−
ヨウドメチル−アゼチジン−2−オン(15.1g)
を白色の固体として得る。石油エーテル−エーテ
ルによる再結晶により無色板状結晶が得られる。
融点71〜72゜;NMR(CDCl3)δ3.8(m、1)、δ2.6
〜3.6(AB型のdが重なつている、4)、δ1.0(s、
9)、δ0.3(s、6)、δ0.25(s、6)。 参考例 3 (4S)−1−(t−ブチルジメチルシリル)4
−(2,2,2−トリ(メチルチオ)−エチル)
アゼチジン−2−オンの製造 −78℃に於て、蒸留したばかりのTHF(150ml)
に溶解したトリ(メチルチオ)メタン(7.47g、
48.5ミリモル)にn−ブチルリチウム(2.5Mヘ
キサン溶液19.4ml、48.5ミリモル)を注射器でゆ
つくり加える。次に得られた溶液を−78℃で30分
撹拌し、続いて50mlのTHF中の(4)−1−
(t−ブチルジメチルシリル)−4−ヨウドメチル
アゼチジン−2−オン(15.0g、46.15ミリモル)
を加える。この溶液を−78℃30分撹拌し、次に飽
和塩化アンモニウム水溶液を加え、反応を終了さ
せる。反応混合物を室温迄、暖め、次に、これを
250mlのエーテルに注ぎ、水(2×150ml)、飽和
食塩水(100ml)で洗浄し、硫酸マグネシウム上
で乾燥する。真空下、溶媒を除去することにより
油状物質が得られ、これを石油エーテルから再結
晶することにより、13.3g(82%)の(4S)−1
−(t−ブチルジメチルシリル)−4−(2,2,
2−トリ(メチルチオ)エチル)アゼチジン−2
−オンを無色柱状結晶として得る:融点61〜62
℃;IR(CHCl3)2918、2850、1730cm-1;NMR
(CDCl3)δ4.0(m、1)、δ3.55(dd、1、J=5.5

16)、δ2.83(dd、1、J=3、16)、δ2.5(ABq2)

δ2.15(s、9)、δ0.98(s、9)、δ0.25(s、6
)。 参考例 4 (3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−
〔2,2,2−トリ(メチルチオ)エチル〕−ア
ゼチジン−2−オンの製造 −78℃に於て、蒸留したばかりのテトラヒドロ
フラン(THF)(180ml)に溶解したジイソプロ
ピルアミン(3.74g、37.0ミリモル)にn−ブチ
ルリチウム(2.5Nヘキサン溶液を14.8ml、37.0ミ
リモル)を注射器より加える。この溶液を−78℃
で15分撹拌し、続いて35ml中のTHF中の(4S)−
1−(t−ブチルジメチルシリル)−4−〔2,2,
2−トリ(メチルチオ)エチル〕アゼチジン−2
−オン(12.34g、35.16ミリモル)を加える。こ
の溶液を−78℃で10分間撹拌した後、アセトアル
デヒド(4.62g、105ミリモル)を加える。この
溶液をさらに−78℃で5分撹拌した後、飽和塩化
アンモニウム水溶液を加えることにより、反応を
終了せしめ、次に、溶液を室温まで暖める。この
混合物を250mlのエーテル中に注ぎ、水(2×100
ml及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥する。真空下で溶媒を除去することにより油
状物質が得られ、これをシリカゲルカラム(1:
1、エーテル:石油エーテル)でクロマトを行な
うことにより(3S,4R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリル)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチ
ル〕−4−〔2,2,2−トリ(メチルチオ)エチ
ル〕−アゼチジン−2−オン(7.0g、50.4%)を
Rf=0.2で得る。生成物は石油エーテルから再結
晶され得る。一方、トランス−Rの生成物は粗反
応混合物を直接石油エーテルから結晶化すること
により得られる。 参考例 5 (3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−(1−オキソエチル)−4−〔2,2,2
−トリ(メチルチオ)エチル〕アゼチジン−2
−オンの製造 A −78℃に於て蒸留したばかりのTHF(25ml)
に溶解したジイソプロピルアミン(591mg、
5.84ミリモル)にn−ブチルリチウム(2.4M
溶液を2.43ml、5.84ミリモル)を注射器で加え
る。この溶液を−78℃で15分間撹拌した後、テ
トラヒドロフラン(5ml)中の(4)−1−
(t−ブチルジメチルシリル)−4−〔2,2,
2−トリ(メチルチオ)エチル〕アゼチジン−
2−オン(1.00g、2.85ミリモル)を加える。
この溶液を−78℃、15分間撹拌した後、−78℃
で、25mlのTHF中のN−アセチルイミダゾー
ル(642mg、5.84ミリモル)をテフロン管を通
して加える。得られた黄色の反応混合物を−78
℃、10分間、撹拌し、続いて、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液を加えて反応を停止させる。この
混合物をエーテル(200ml)で希釈し、2.5規定
塩酸(50ml)、水(50ml)及び飽和食塩水(50
ml)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。
真空下で溶媒を除去し、得られた黄色の油状物
質をシリカゲル(石油エーテル中30%エーテ
ル)でクロマトを行なうことにより(3,4
R)−1−(t−ブチル−ジメチルシリル)−3
−(1−オキソエチル)−4−〔2,2,2−ト
リ(メチルチオ)エチル〕アゼチジン−2−オ
ンを得る:NMR(CDCl3)δ4.42(m、1)、
δ4.32(d、1)、δ2.35(m、2)、δ2.32(s、
3)、δ2.2(s、9)、δ0.98(s、9)、δ0.3(2s

6)。 B −78℃に於て、無水塩化メチレン(2ml)中
のジメチルスルホキシド(2.53ミリモル)に無
水トリフルオロ酢酸(400mg、1.905ミリモル)
を注射器で加える。この混合物を−78℃で30分
撹拌し、続いて、無水塩化メチレン(1ml)中
の(3,RS,4R)−1−(t−ブチルジメチル
シリル)−3−〔(RS)−1−ヒドロキシエチル〕
−4−〔2,2,2−トリ(メチルチオ)エチ
ル〕アゼチジン−2−オン(500mg、1.27ミリ
モル)を加える。得られた溶液を30分撹拌し、
続いてトリエチルアミン(360mg、3.56ミリモ
ル)を加える。次に冷却浴を除く。40分後、反
応混合物を塩化メチレンで希釈し、水及び飽和
食塩水で希釈し、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。真空下で溶媒を除去することにより油状物
質が得られ、これを上述と同様に精製する。収
量432mg(86%)。 参考例 6 (3,4)−1−(t−ブチルジメチルシリ
ル)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−4
−〔2,2,2−トリ(メチルチオ)エチル〕
アゼチジン−2−オンの製造 室温に於て、蒸留したばかりのエチルエーテル
(8ml)中のヨウ化カリウム(126mg、10.758ミリ
モル)と(3,4)−1−(t−ブチルジメチ
ルシリル)−3−(1−オキソエチル)−4−〔2,
2,2−トリ(メチルチオ)エチル〕アゼチジン
−2−オン(298mg、0.758ミリモル)混合物中に
K−セレクトライド(0.5M溶液を3.64ml、1.82ミ
リモル)を注射器で加える。この溶液を室温、
2.5時間撹拌し、次に酢酸(218mg、3.64ミリモ
ル)を加えて反応を終了する。得られた混合物を
酢酸エチル(25ml)で希釈し、セライトで過す
る。真空下、溶媒を除去し、得られた油状物質を
シリカゲル(エーテル:石油エーテル)でクロマ
トを行なうことにより、252mgの(3,4)−
1−(t−ブチルジメチルシリル)−3−〔(R)−
1−ヒドロキシエチル〕−4−〔2,2,2−トリ
(メチルチオ)エチル〕アゼチジン−2−オンを
得る:NMR(R−異性体、CDCl3+D2O)δ4.15
(dq、1)δ3.95(ddd、J=9.5、2.3)、δ3.26(dd

1H、J=8、2.3)、δ2.37(m、2)、δ2.16(s、
9)、δ1.37(d、3、J=6.6)、δ1.0(s、9)、
δ0.26(s、6)。 参考例 7 (3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−カ
ルボメトキシメチル−アゼチジン−2−オンの
製造 0℃に於て、250mlの無水メタノールに溶解し
た(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−〔2,
2,2−トリ(メチルチオ)−エチル〕アゼチジ
ン−2−オン(6.0g、15.2ミリモル)に塩化第
二水銀(12.37g、45.6ミリモル)を一度に加え
る。得られた混合物(白色沈澱)を0℃3分、撹
拌した後、炭酸水素ナトリウム(8.99g、107ミ
リモル)を加え反応を停止させる。この混合物を
過し、固体残渣をメタノールで洗浄する。液
と洗浄液を合わせ、真空下濃縮し、得られた残渣
を酢酸エチルと飽和塩化アンモニウム水溶液で分
配を行なう。有機層を分離し、飽和塩化アンモニ
ウム、水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。溶媒を真空下除去することによ
り油状物質が得られ、これを、シリカゲルカラム
(3:2、シクロヘキサン:酢酸エチル)でクロ
マトを行なうと(3S,4R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリル)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチ
ル)〕−4−カルボメトキシメチルアゼチジン−2
−オンが得られる。 参考例 8 (3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリル
オキシ)エチル〕−4−カルボメトキシメチル
−アゼチジン−2−オンの製造 0℃に於て、15mlの無水ジメチルホルムアミド
に溶解した(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチ
ルシリル)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエル〕−
4−カルボメトキシメチルアゼチジン−2−オン
(1.88g、6.25ミリモル)にt−ブチルジメチル
クロロシラン(940mg、6.25ミリモル)を一度に
加える。15分0℃に放置した後、冷却浴を除去
し、反応混合物を室温で24時間、撹拌する。次に
エーテル(100ml)を加え、この混合物を過後、
2.5規定塩酸(20ml)、水(3×20ml)及び飽和食
塩水で洗浄する。有機層を硫酸マグネシウムで乾
燥後、真空下で濃縮する。得られた残渣をシリカ
ゲル(7:3、石油エーテル:エーテル)でクロ
マトを行なうことにより、(3S,4R)−1−(t−
ブチルジメチルシリル)−3−〔(R)−1−(t−
ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕−4−カ
ルボメトキシメチルアゼチジン−2−オンを得
る:NMR(CDCl3)δ4.1(m、2)、δ3.68(s、
3)、δ3.03(dd、1、J=4.3、2.7)、δ2.8(ABq、
2)、δ1.17(d、3、J=6.6)、δ0.98(s、9)

δ0.89(s、9)、δ0.23(s、6)、δ0.1(s、6
)。 参考例 9 (3s,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリル
オキシ)エチル〕−4−(2−オキソエチル)ア
ゼチジン−2−オンの製造 −78℃に於て、蒸留したばかりのトルエン(25
ml)に溶解した(3S,4R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリル)−3−〔(R)−1−((t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル〕−4−カルボメト
キシメチル−アゼチジン−2−オン(936mg、
2.26ミリモル)に水素化ジイソブチルアルミニウ
ム(0.91Mヘキサン溶液を3.72ml、3.38ミリモル)
を、注射器でゆつくり加える。得られた溶液を−
78℃、3時間撹拌し、次に2.5規定塩酸(5ml)
を加えて、反応を終了させる。得られた混合物を
2分間、撹拌した後100mlのエーテル、及び酒石
酸で飽和した1.25N塩酸が入つた分液ロート中に
注ぐ。有機層を分離し、水層をエーテル(2×50
ml)で抽出する。有機層を合わせ、飽和食塩水で
洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を真空下、除去することにより白色の固体が得ら
れ、これをエーテル−石油エーテルから再結晶す
ることにより、(3S,4R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリル)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−4−(2−オキソエ
チル)−アゼチジン−2−オンを得る:融点115〜
116℃:NMR(CDCl3)δ4.1(m、1)、δ4.03(m、
1)、δ2.7〜3.2(m、3)、δ1.23(d、3、J=
6.4)、δ1.08(s、9)、δ0.9(s、9)、δ0.25(
s、
6)、δ0.1(s、6)、δ9.83(t、1H、J=1.4)。 参考例 10 (3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリル
オキシ)エチル〕−4−(3−ベンジルオキシカ
ルボニル−2−ヒドロキシプロピル)アゼチジ
ン−2−オンの製造 −78℃に於て、9mlの蒸留したばかりのTHF
に溶解したジイソプロピルアミン(1.81ミリモ
ル)にn−ブチルリチウム(1.81ミリモル)を注
射器で加える。この溶液を−78℃、15分間撹拌す
る。次にベンジルアセテート(1.81ミリモル)を
注射器で滴下し、得られた溶液を−78℃20分間撹
拌する。次にこの溶液に、3mlのTHFに溶解し
た(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル〕−4−(2−オキソエチル)アゼチ
ジン−2−オン(1.64ミリモル)を注射器でゆつ
くり加える。反応混合物を−78℃でさらに15分撹
拌し、次に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、
反応を終了させる。次に酢酸エチル(50ml)を加
え、有機層を分離し、水(2×10ml)、飽和食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムでで乾燥する。溶
媒を真空下除去することにより得られた白色固体
を、短かいシリカゲルカラム(石油エーテル中
440%エーテル)でクロマトを行なうことにより、
(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−
3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル〕−4−(3−ベンジルオキシカルボニ
ル−2−ヒドロキシプロピル)−アゼチジン−2
−オンを得る:NMR(CDCl3)δ7.32(s、5)、
δ5.1(s、2)、δ4.0(m、3)、δ2.4〜3.8(m、
4)、δ2.0(m、2)、δ1.25(重さなり合つたd、
3)、δ0.95(s、9)、δ0.9(s、9)、δ0.3(s

6)、δ0.18(s、6)。 参考例 11 (3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリル
オキシ)エチル〕−4−〔3−(4−ニトロベン
ジル)オキシカルボニル−2−ヒドロキシプロ
ピル〕アゼチジン−2−オンの製造 20mlの4:1、THF−H2O中の、(3S,4R)−
1−(t−ブチルジメチルシリル)−3−〔(R)−
1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕
−4−(3−ベンジルオキシカルボニル−2−ヒ
ドロキシプロピル)−アゼチジン−2−オン
(1.00ミリモル)、炭酸水素ナトリウム(1.00ミリ
モル)及び10%Pd/Cの混合物をパーシエーカ
ー(Parr shaker)中、30分、40psiで水素添加
を行なう。この混合物をセライトで過を行な
い、触媒を10mlの水で洗浄する。液と洗浄液を
合わせ、2ml迄濃縮し、凍結乾燥する。得られた
ふんわりした白色の固体を5mlのジメチルホルム
アミドに溶解し、臭化p−ニトロベンジル(216
mg、1.00ミリモル)を一度に加える。得られた溶
液を室温3時間撹拌し、次にエーテル(50ml)で
希釈し、水(3×10ml)及び飽和食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を真空下
除去し、得られた残渣をシリカゲルでクロマトす
ることにより、(3S,4R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリル)−3−〔(R)−1−((tブチルジメチ
ルシリルオキシ)エチル〕−4−〔3−(4−ニト
ロベンジル)−オキシカルボニル−2−ヒドロキ
シプロピル〕アゼチジン−2−オンを得る:
NMR(CDCl3)δ7.85(2d−芳香族、4)、δ5.26
(s、2)、δ4.2(m、3)、δ2.5〜3.6(m、s)

δ2.0(m、2)、δ1.4(2つの重さなり合つたd、
3)、δ1.0(2s、18)、δ0.25(2s、12)。 参考例 12 (3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリル
オキシ)エチル〕−4−〔3−(4−ニトロベン
ジル)オキシカルボニル−2−オキソプロピ
ル〕−アゼチジン−2−オンの製造 30mlの無水塩化メチレンに溶解した無水ピリジ
ン(20ミリモル)に無水3酸化クロム(10ミリモ
ル)を加える。15分室温で撹拌後、反応混合物を
無水塩化メチレン(8ml)に溶解した。(3S,
4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−3−
〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)
エチル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジル)オキ
シカルボニル−2−ヒドロキシプロピル〕−アゼ
チジン−2−オンに、一度に加える。得られた混
合物を室温5分間撹拌する。塩化メチレン層を黒
いタール状の残渣から傾斜法で分離し、残渣は塩
化メチレンで洗浄する。次にこれらの塩化メチレ
ン層を真空下濃縮する。得られた残渣をエーテル
で抽出し、このエーテル抽出物を別する。得ら
れた液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液、
2.5NHCl、5%NaHCO3及び飽和食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、真空下濃縮する
ことにより、(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチ
ルシリル)−3−〔(R)−1(t−ブチルジメチル
シリルオキシ)エチル〕−4−〔3−(4−ニトロ
ベンジル)オキシカルボニル−2−オキソプロピ
ル〕−アゼチジン−2−オンを得る:NMR
(CDCl3)δ7.85(2d−芳香族、4)、δ5.27(s、
2)、δ4.05(m、2)、δ3.6(s、2)、δ2.4〜3.
2
(ddがABqと重なり合つている、3)、δ1.2(d、
3、J=6.6)、δ0.9(2s、18)、δ0.22(s、6)、
δ0.05(s、6)。 参考例 13 (3S,4R)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチ
ル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジル)オキシ
カルボニル−2−オキシプロピル〕−アゼチジ
ン−2−オンの製造 (3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジル)
オキシカルボニル−2−オキソプロピル〕アゼチ
ジン−2−オン(7.9ミリモル)を160mlの9:1
(V/V)メタノール−水に溶解し、0℃に冷却
する。この溶液に濃塩酸(2.75ml)を加え、0℃
15分間撹拌し、次に室温まで暖める。この溶液を
室温2.5時間撹拌し、次に、酢酸エチルで希釈し、
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、真空下
濃縮することにより、(3S,4R)−3−〔(R)−1
−ヒドロキシエチル〕−4−〔3−(4−ニトロベ
ンジル)オキシカルボニル−2−オキソプロピ
ル〕−アゼチジン−2−オンを得る: 参考例 14 (3S,4R)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチ
ル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジル)オキシ
カルボニル−2−オキソ−3−ジアゾプロピ
ル〕アゼチジン−2−オンの製造 0℃に於て、無水アセトニトリル中の(3S,
4R)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−
〔3−(4−ニトロベンジル)〕オキシカルボニル
−2−オキソプロピル〕−アゼチジン−2−オン
(253mg、0.72ミリモル)及びp−カルボキシベン
ゼンスルホニルアジド(196mg、0.84ミリモル)
にトリエチルアミン(263mg、2.6ミリモル)を注
射器で加える。添加を終了した時、冷却浴を除去
し、反応混合物を室温、1時間撹拌する。次に混
合物を酢酸エチル(50ml)で希釈し、過する。
液を真空下濃縮し、残渣を短かいシリカゲルカ
ラム(酢酸エチル)でクロマトを行なうことによ
り、(3S,4R)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチ
ル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジル)オキシカ
ルボニル−2−オキソ−3−ジアゾプロピル〕−
アゼチジン−2−オンを収量222mg((3S,4R)−
1−(t−ブチルジメチルシリル)−3−〔(R)−
1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕
−4−〔3−(4−ニトロベンジル)オキシカルボ
ニル−2−オキソプロピル〕アゼチジン−2−オ
ンから81%の収率)で白色の固体として得る:融
点(分解)163℃;1R(CHCl3、cm-1)3410、
2132、1756、1718、1650、1350、1280、1120;
NMR(CDCl3)δ7.9(2d−芳香族、4)、δ5.4(s、
2)、δ6.2(br.s、1)、δ4.1(m、2)、δ2.6〜3
.6
(m、4)、δ1.32(d、3、J=6.2)。 実施例 1 (5R,6S)p−ニトロベンジル6−〔(R)−1
−ヒドロキシエチル〕−1−アザビシクロ〔3,
2,0〕ヘプタン−3,7−ジオン−2−カル
ボキシレートの製造 無水ベンゼン(3ml)中(3S,4R)−3−
〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−〔3−(4−
ニトロベンジル)オキシカルボニル−2−オキソ
−3−ジアゾプロピル〕アゼチジン−2−オン
(56.4mg、0.15ミリモル)及びロジウム()ア
セテート(0.1mg)の懸濁液を窒素ガスを通しな
がら10分間、脱酸素を行なう。次に、この混合物
を78℃、1時間、加熱する。加熱中に固体である
出発物質は徐々に溶液となる。次にこの混合物冷
却し、過することにより触媒を除き、液を真
空下濃縮することにより、(5R,6S)−p−ニト
ロベンジル−6−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕
−1−アザビシクロ〔3,2,0〕−ヘプタン−
3,7−ジオン−2−カルボキシレート(51mg、
98%)を無色、油状物質として得、これは、室温
(22℃)でゆつくり結晶化する。 物理的性質: PNB=p−ニトロベンジル NMR:(300MHz、CDCl3)δ8.26、δ7.54(芳香
族水素、4)、δ5.29(AB、2)、δ4.77(s、1)、
δ4.32(dq、1、J=6.6、7)、δ4.16(ddd、1、
J=7.、7.5、2.2)、δ3.21(dd、1、J=7、2.2)

δ2.94(dd、1、J=19.5、7)、δ2.50(dd、1、
J=19.5、7.5)δ2.2(br.s、1)、δ1.37(d、3、
J=6.6)。IR:(CHCl3、cm-1)1770、1858、
1610、1522、1353。融点110〜111℃。 参考例 15 p−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノエ
タンチオールの製造 氷浴中600mlのジエチルエーテル(Et2O)−75
mlのH2Oを撹拌し、これに3.2gのシステアミン
塩酸塩(MW=114;28.1ミリモル)を加える。
これに、75mlH2O中の7.14gNaHCO3(MW=
84;85ミリモル)溶液を加える。氷浴を除き、室
温に於て、270mlEt2Oに溶解した6.75gのp−ニ
トロベンジルクロロホルメート(MW=21631.3
ミリモル)を1時間に渡つて滴下する。その後10
分、経過すると2層が分離する。エーテル層を
150mlの0.25NHCl、続いて200mlの飽和食塩水で
抽出する。次にこれらの水層を100mlのEt2Oで十
分に洗浄する。得られたEt2O層を合わせ、無水
MgSO4で乾燥し、過後、窒素気流下で濃縮す
る。結晶性の残渣を少量のエーテルに懸濁し、
過を行ない得られる淡黄色の結晶を高真空で乾燥
することにより4.7gのp−ニトロベンジルオキ
シカルボニルアミノエタンチオールを得る(収率
65%)。 NMR(CDCl3):8.18(d、J=8Hz、ニトロに
対し、オルトの芳香族水素)、5.27(−NH−)、
5.20(、−C 2−NH−)、2.67(m、−C 2
SH)、1.35(t、J=8.5Hz、−S);IR(CHCl3
溶液):1725cm-1(カルボニル)。MS;分子イオン
ピーク256、209(M−47)、120(M−136)、136
+CH2φPNO2) 実施例 2 (5R,6S)−p−ニトロベンジル−3−〔2−
(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)アミ
ノエチルチオ〕−6−〔(R)−1−ヒドロキシエ
チル〕−1−アザ−ビシクロ〔3,2,0〕−ヘ
プタ−2−エン−7−オン−2−カルボキシレ
ートの製造 (5R,6S)−p−ニトロベンジル−6−〔(R)
−1−ヒドロキシエチル〕−1−アザビシクロ
〔3,2,0〕−ヘプタン−3,7−ジオン−2−
カルボキシレート(51mg、0.147ミリモル)をア
セトニトリル(3ml)に溶解し、この溶液を0℃
に冷却する。ジイソプロピルエチルアミン(22
mg、0.17ミリモル)を注射器により加え、得られ
た溶液を0℃、1分撹拌し、続いて無水アセトニ
トリル中の無水p−トルエンスルホン酸(51mg、
0.156ミリモル、再結したてのもの)を加える。
得られた単離できる中間体、(5S,6R)p−ニト
ロベンジル−3−(p−トルエンスルホニルオキ
シ−6〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−1−アザ
ビシクロ〔3,2,0〕ヘプタ−2−エン−7−
オン−2−カルボキシレートを含む溶液を0℃、
1時間撹拌し、−25℃に冷却する。ジイソプロピ
ルアミン(80.5mg、0.624ミリモル)を注射器で
加え、そのすぐ後に1mlの無水アセトニトリルを
溶解したN−p−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルシステアミン(40mg、0.156ミリモル)を加え
る。この反応混合物を、次に70時間、冷蔵庫中に
放置する。この混合物を25mlの酢酸エチルで希釈
し、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾
燥する。溶媒を真空下除去することにより黄色状
物質が得られ、これをシリカゲルの薄層クロマト
グラフイー(酢酸エチル、Rf=0.4)で精製する
ことにより、(5R,6S)p−ニトロベンジル−3
〔2−p−ニトロベンジルオキシカルボニル)ア
ミノエチルチオ〕−6−〔(R)−1−ヒドロキシエ
チル〕−1−アザビシクロ〔3,2,0〕−ヘプタ
−2−エン−7−オン−2−カルボキシレートを
黄色固体として得る:融点167〜169℃;IR(又ジ
ヨール)1773及び1690cm-1;NMR(CDCl3
δ7.54〜8.26(重なりあつたABq、4)、δ5.40
(ABq、2)、δ5.22(s、2)、δ4.27(m、2)、
δ3.47(m)δ3.23(dd、1)、δ3.14(dd、1)、δ
3.40
(dd、1)、δ3.04(m、2)、δ1.37(d、3)。 実施例 3 チエナマイシンの製造 テトラヒドロフラン(2ml)、0.1Mリン酸2カ
リ溶液(1.4ml)及び2−プロパノール(0.2ml)
の混合液中のN−p−ニトロベンジルオキシカル
ボニルチエナマイシンp−ニトロベンジルエステ
ル(10mg、0.017ミリモル)及び10%Pd/C−ボ
ルホフアー型(Bolhofer type)の混合物をパー
シエーカー(Parr shaker)中、40psiで30分、
水素添加を行なう。次にこの混合物を過し、触
媒を水(3×3ml)で洗浄する。液と洗浄液を
合わせ、酢酸エチル−エチルエーテルで抽出し、
次に3mlに濃縮し、凍結乾燥する。得られた白色
の粉末は天然のチエナマイシンと全ての点で同一
である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 次式: の化合物(式中、Rは除去可能なカルボキシル保
    護基、XはHSCH2CH2NHR1との反応で脱離し
    うる基である)をHSCH2CH2NHR1(式中、R1
    水素或いは除去可能なN−保護基)と反応させる
    ことを特徴とする次式: の化合物及びその薬学的に許容される塩及びエス
    テル誘導体の製法。 2 次式: の化合物(式中、Rは除去可能なカルボキシル保
    護基)を、HS〓〓〓NHR1(式中、R1は水素或
    は除去可能なN−保護基)と反応して脱離しうる
    基Xを有する活性化剤と反応させて、次式: の化合物を調整し、次に該化合物をHS〓〓〓
    NHR1と反応させることを特徴とする次式: の化合物及びその薬学的に許容される塩、及びエ
    ステル誘導体の製法。 3 次式: の化合物(式中、Rは除去可能なカルボキシル保
    護基)を環化させ、次式: の化合物を調整し、次に、HS〓〓〓NHR1(式中
    R1は水素、或は除去可能なN−保護基)と反応
    して脱離しうる基Xを有する活性化剤と反応させ
    て、次式: の化合物を調整し、次に、この化合物をHS〓〓
    〓NHR1と反応させることを特徴とする次式: の化合物及びその薬学的に許容される塩、及びエ
    ステル誘導体の製法。
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