JPH05384B2 - - Google Patents
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- JPH05384B2 JPH05384B2 JP2336948A JP33694890A JPH05384B2 JP H05384 B2 JPH05384 B2 JP H05384B2 JP 2336948 A JP2336948 A JP 2336948A JP 33694890 A JP33694890 A JP 33694890A JP H05384 B2 JPH05384 B2 JP H05384B2
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D477/00—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring
- C07D477/10—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 4, and with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2
- C07D477/12—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 4, and with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2 with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, attached in position 6
- C07D477/16—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 4, and with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2 with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, attached in position 6 with hetero atoms or carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 3
- C07D477/20—Sulfur atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D205/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D477/00—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring
- C07D477/02—Preparation
- C07D477/04—Preparation by forming the ring or condensed ring systems
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は既知抗生物質チエナマイシン(1)
の全合成用の中間体に関する。
L−アスパラギン酸から出発し、下記の中間体
,, を経由して立体選択的に合成を進行させる。式
中、Xは通常の脱離基であり、Rは水素、通常の
容易に除去される保護基又は塩陽イオンである。
全合成の詳細は以下に記すとおりである。
,, を経由して立体選択的に合成を進行させる。式
中、Xは通常の脱離基であり、Rは水素、通常の
容易に除去される保護基又は塩陽イオンである。
全合成の詳細は以下に記すとおりである。
本発明の方法は、以下の反応図式により都合良
くまとめることができる。
くまとめることができる。
上述の図式に関して云えば、L−アスパラギン
酸1は良く知られている方法によつてエステル化
される。典型的には、ベンゼン、トルエン、クロ
ロホルム等の溶媒中の1を、p−トルエンスルホ
ン酸、Hcl,HBr等の存在下ベンジルアルコール、
メタノール、エタノール、イソプロパノール等の
エステル化剤により0から110℃の温度で1ない
し24時間処理して所望する反応を逐行し、カルボ
キシル官能基を保護する。得られた2をエーテ
ル、THF,DME等の溶媒中トリメチルクロロシ
ラン等で、次いでEtMgBr,MeMgI,φMgBr,
t−BuMgcl等で−40から50℃の温度に於て1な
いし72時間処理し、アゼチジノン3を得る。3を
NaBH4等の還元剤で、メタノール、エタノール、
イソプロパノール等の溶媒中−10から40℃の温度
で1ないし6時間還元すると4が得られる。(こ
こでの目的のために記号Es,Me,φ,iPr及びt−
Buはそれぞれエチル、メチル、フエニル、イソ
プロピル、3級ブチルを表す。) 4を塩化メチレン、CHcl3等の溶媒中、メタン
スルホニルクロリド、無水メタンスルホン酸等に
よりEt3N,iPr2NEt等の塩基の存在下処理し、次
いで化学量論的にアセトン中の5倍過剰量のヨウ
化ナトリウムで処理すると4aを経由して5が得
られる。
酸1は良く知られている方法によつてエステル化
される。典型的には、ベンゼン、トルエン、クロ
ロホルム等の溶媒中の1を、p−トルエンスルホ
ン酸、Hcl,HBr等の存在下ベンジルアルコール、
メタノール、エタノール、イソプロパノール等の
エステル化剤により0から110℃の温度で1ない
し24時間処理して所望する反応を逐行し、カルボ
キシル官能基を保護する。得られた2をエーテ
ル、THF,DME等の溶媒中トリメチルクロロシ
ラン等で、次いでEtMgBr,MeMgI,φMgBr,
t−BuMgcl等で−40から50℃の温度に於て1な
いし72時間処理し、アゼチジノン3を得る。3を
NaBH4等の還元剤で、メタノール、エタノール、
イソプロパノール等の溶媒中−10から40℃の温度
で1ないし6時間還元すると4が得られる。(こ
こでの目的のために記号Es,Me,φ,iPr及びt−
Buはそれぞれエチル、メチル、フエニル、イソ
プロピル、3級ブチルを表す。) 4を塩化メチレン、CHcl3等の溶媒中、メタン
スルホニルクロリド、無水メタンスルホン酸等に
よりEt3N,iPr2NEt等の塩基の存在下処理し、次
いで化学量論的にアセトン中の5倍過剰量のヨウ
化ナトリウムで処理すると4aを経由して5が得
られる。
5→6の変換によつて保護基R1を結合させる。
この保護基は例えばt−ブチルジメチルシリル、
t−ブチルジフエニルシリル、トリフエニルシリ
ル、イソプロピルジメチルシリル等のトリオルガ
ノシリル基、又は例えば3,4−ジメトキシベン
ジル等であることができる。シリル基による保護
が好ましく、典型的には、ジメチルホルムアミ
ド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホラミ
ド、テトラヒドロフラン等の溶媒中5をt−ブチ
ルジメチルクロロシラン、t−ブチルジフエニル
クロロシラン、トリフエニルクロロシラン等のシ
リル化剤により−20℃から25℃の温度で、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミンまたは
イミダゾール等の塩基の存在下0.5ないし24時間
処理することによつてR1を結合させる。
この保護基は例えばt−ブチルジメチルシリル、
t−ブチルジフエニルシリル、トリフエニルシリ
ル、イソプロピルジメチルシリル等のトリオルガ
ノシリル基、又は例えば3,4−ジメトキシベン
ジル等であることができる。シリル基による保護
が好ましく、典型的には、ジメチルホルムアミ
ド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホラミ
ド、テトラヒドロフラン等の溶媒中5をt−ブチ
ルジメチルクロロシラン、t−ブチルジフエニル
クロロシラン、トリフエニルクロロシラン等のシ
リル化剤により−20℃から25℃の温度で、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミンまたは
イミダゾール等の塩基の存在下0.5ないし24時間
処理することによつてR1を結合させる。
6→7の変換は6をテトラヒドロラン、ジメト
キシエタン、ジエチルエーテル等の溶媒中総括的
に次式 で表されるカルバニオンで処理することによつて
行われる。式中Mは、例えばリチウム、カリウ
ム、銅、マグネシウム等の金属カチオンであり、
R2,R3及びR4は例えばメチル、エチル、ベンジ
ル、メトキシベンジル、トリチル及びフエニルの
ようなアルキル、アリール又はアルアルキルの中
から選ばれ、温度は−100°から0℃の間であり、
時間は0.5から4時間の間である。典型的にはカ
ルバニオン試薬は、基質6を添加する直前にトリ
オルガノチオメタンをn−ブチルリチウム、t−
ブチルリチウム、フエニルリチウム、リチウムジ
イソプロピルアミド(LDA)等の強塩基で処理
することによつて調整する。
キシエタン、ジエチルエーテル等の溶媒中総括的
に次式 で表されるカルバニオンで処理することによつて
行われる。式中Mは、例えばリチウム、カリウ
ム、銅、マグネシウム等の金属カチオンであり、
R2,R3及びR4は例えばメチル、エチル、ベンジ
ル、メトキシベンジル、トリチル及びフエニルの
ようなアルキル、アリール又はアルアルキルの中
から選ばれ、温度は−100°から0℃の間であり、
時間は0.5から4時間の間である。典型的にはカ
ルバニオン試薬は、基質6を添加する直前にトリ
オルガノチオメタンをn−ブチルリチウム、t−
ブチルリチウム、フエニルリチウム、リチウムジ
イソプロピルアミド(LDA)等の強塩基で処理
することによつて調整する。
アルキル化7→8は、7をテトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、ヘキ
サメチルホスホラミド等の溶媒中、−100°から−
20℃の温度でリチウムジイソプロピルアミド、リ
チウムヘキサメチルジシラジド、リチウム、2,
2,6,6−テトラメチルピペリジド、水素化カ
リウム等の強塩基で処理し、次いで当量ないし10
倍過剰量のアセトアルデヒドを添加することによ
つて行う。この反応は異性体の混合物を与え、こ
れから所望するトランス−R型はクロマトグラフ
イー又は結晶化によつて都合良く分離することが
できる。
ン、ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、ヘキ
サメチルホスホラミド等の溶媒中、−100°から−
20℃の温度でリチウムジイソプロピルアミド、リ
チウムヘキサメチルジシラジド、リチウム、2,
2,6,6−テトラメチルピペリジド、水素化カ
リウム等の強塩基で処理し、次いで当量ないし10
倍過剰量のアセトアルデヒドを添加することによ
つて行う。この反応は異性体の混合物を与え、こ
れから所望するトランス−R型はクロマトグラフ
イー又は結晶化によつて都合良く分離することが
できる。
8→9の変換は、8をメタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、水などの溶媒中、0から
80℃の温度に於て塩化水銀、テトラフルオロホウ
酸銀3硝酸タリウム等のルイス酸で処理すること
によつて行う。R5の価は反応に用いたアルコー
ルが何であるかによつて決まる。
ル、イソプロパノール、水などの溶媒中、0から
80℃の温度に於て塩化水銀、テトラフルオロホウ
酸銀3硝酸タリウム等のルイス酸で処理すること
によつて行う。R5の価は反応に用いたアルコー
ルが何であるかによつて決まる。
9→10の変換により水酸基の保護基R2を結
合させる。最も好ましい保護基R2はt−ブチル
ジメチルシリル、t−ブチルジフエニルシリル、
トリフエニルシリル等のトリオルガノシリル基で
ある。典型的にはシリル化は、ジメチルホルムア
ミド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等の
溶媒中、9を相当するトリオルガノシリルクロリ
ドで−20から80℃の温度に於て0.5ないし24時間
処理することにより行う。
合させる。最も好ましい保護基R2はt−ブチル
ジメチルシリル、t−ブチルジフエニルシリル、
トリフエニルシリル等のトリオルガノシリル基で
ある。典型的にはシリル化は、ジメチルホルムア
ミド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等の
溶媒中、9を相当するトリオルガノシリルクロリ
ドで−20から80℃の温度に於て0.5ないし24時間
処理することにより行う。
10→11の還元はトルエン、塩化メチレン、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の溶媒
中で10をジイソブチルアルミニウムヒドリド、
ナトリウムビス(2−メトキシエトキシ)アルミ
ニウムヒドリド等の還元剤で−100°から40℃の温
度に於て1ないし10時間処理することによつて行
う。
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の溶媒
中で10をジイソブチルアルミニウムヒドリド、
ナトリウムビス(2−メトキシエトキシ)アルミ
ニウムヒドリド等の還元剤で−100°から40℃の温
度に於て1ないし10時間処理することによつて行
う。
11→12の付加はテトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテル、ジメトキシエタン等の溶媒中11
を−100°から0℃の温度に於て15分間ないし2時
間、LiCH2CO2R6(R6はベンジル、p−メトキシ
ベンジル、2,4−ジメトキシベンジル等であ
り、この試薬は典型的には適当なR6アセテート
をLDA、リチウムヘキサメチルジシラジド、リ
チウム2,2,6,6−テトラメチルピペリジド
等の強塩基で処理して反応液中に発生させてその
まま使う)の存在下に処理することにより行う。
チルエーテル、ジメトキシエタン等の溶媒中11
を−100°から0℃の温度に於て15分間ないし2時
間、LiCH2CO2R6(R6はベンジル、p−メトキシ
ベンジル、2,4−ジメトキシベンジル等であ
り、この試薬は典型的には適当なR6アセテート
をLDA、リチウムヘキサメチルジシラジド、リ
チウム2,2,6,6−テトラメチルピペリジド
等の強塩基で処理して反応液中に発生させてその
まま使う)の存在下に処理することにより行う。
もし所望するならば、最初に導入した基R6を
カルボキシル保護基R7によつて置換し、カルボ
キシル保護基をより容易に除去し得る保護基に変
えることも可能である。この変換12→13→1
4は水素添加又は加水分解によつて選択的に12
を脱保護化して13をつくることによつて行う。
典型的には、メタノール、エタノール、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、水等の溶媒中、1ない
し4気圧の水素化圧のもとで、パラジウム付チヤ
コール、Pd(OH)2等の触媒の存在下0.1ないし10
時間12を処理することによつて反応を行う。中
間13(MはH,Na,K又は例えばEt3NH等の
アンモニウムであれば良い)を単離する必要はな
い。中間体14はジメチルホルムアミド、アセト
ニトリル、ヘキサメチルホスホラミド等の溶媒
中、R7を結合させることのできると思われる選
ばれた試薬(例えばアルアルキルハライド)を用
い、0°から50℃の温度に於て0.5ないし18時間処
理することにより水素添加反応混合物から得られ
る。R7の典型的なものは、例えばp−ニトロベ
ンジルまたはo−ニトロベンジルのようなアルア
ルキル基である。
カルボキシル保護基R7によつて置換し、カルボ
キシル保護基をより容易に除去し得る保護基に変
えることも可能である。この変換12→13→1
4は水素添加又は加水分解によつて選択的に12
を脱保護化して13をつくることによつて行う。
典型的には、メタノール、エタノール、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、水等の溶媒中、1ない
し4気圧の水素化圧のもとで、パラジウム付チヤ
コール、Pd(OH)2等の触媒の存在下0.1ないし10
時間12を処理することによつて反応を行う。中
間13(MはH,Na,K又は例えばEt3NH等の
アンモニウムであれば良い)を単離する必要はな
い。中間体14はジメチルホルムアミド、アセト
ニトリル、ヘキサメチルホスホラミド等の溶媒
中、R7を結合させることのできると思われる選
ばれた試薬(例えばアルアルキルハライド)を用
い、0°から50℃の温度に於て0.5ないし18時間処
理することにより水素添加反応混合物から得られ
る。R7の典型的なものは、例えばp−ニトロベ
ンジルまたはo−ニトロベンジルのようなアルア
ルキル基である。
酸化14→15は、塩化メチレン、アセトニト
リル等の溶媒中、14をジピリジンクロミウム
オキシド、3,5−ジメチルピラゾールクロミウ
ムMオキシド、ピリジニウムクロロクロメート、
ピリジニウムジクロメート、無水トリフルオロ酢
酸−ジメチルスルホキシド、無水酢酸−ジメチル
スルホキシド等の酸化系を用い−78℃から25℃の
温度に於て5分間ないし8時間処理することによ
り行う。
リル等の溶媒中、14をジピリジンクロミウム
オキシド、3,5−ジメチルピラゾールクロミウ
ムMオキシド、ピリジニウムクロロクロメート、
ピリジニウムジクロメート、無水トリフルオロ酢
酸−ジメチルスルホキシド、無水酢酸−ジメチル
スルホキシド等の酸化系を用い−78℃から25℃の
温度に於て5分間ないし8時間処理することによ
り行う。
保護基R1及びR2の除去(15→16)は、メ
タノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン等の溶媒中、塩酸、硫酸、酢酸等の存在
下0ないし100℃の温度に於て、2ないし18時間
15を酸性で水性加水分解することによつて行
う。
タノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン等の溶媒中、塩酸、硫酸、酢酸等の存在
下0ないし100℃の温度に於て、2ないし18時間
15を酸性で水性加水分解することによつて行
う。
ジアゾ化合物17は、CH3CN,CH2cl2,THE
等の溶媒中、トリエチルアミン、ピリジン(C2
H5)2NH等の塩基の存在下に16をp−カルボキ
シベンゼンスルホニルアジド、トルエンスルホニ
ルアジド、メタンスルホニルアジド等のアジドで
1ないし50時間0〜25℃で処理することにより1
6から調整される。
等の溶媒中、トリエチルアミン、ピリジン(C2
H5)2NH等の塩基の存在下に16をp−カルボキ
シベンゼンスルホニルアジド、トルエンスルホニ
ルアジド、メタンスルホニルアジド等のアジドで
1ないし50時間0〜25℃で処理することにより1
6から調整される。
環化(17→18)がベンゼン、トルエン、
THF等の溶媒中、50〜110℃の温度に於て1〜5
時間、ビス(アセチルアセトナート)Cu()
〔Cu(acac)2〕、CuSO4,Cu粉、Rh(OAc)又はPd
(OAc)2等の触媒の存在下に17を処理すること
によつて行う。別法として、この環化はベンゼ
ン、CCl4ジエチルエーテル等の溶媒中、0〜25℃
の温度に於て0.5ないし2時間パイレツクスフイ
ルター(波長300nm以上)を通して17を照射す
ることによつても行うことができる。〔”OAc”
はアセテートのことである〕 脱離基Xの結合(18→19)はケトエステル
18を無水p−トルエンスルホン酸、無水p−ニ
トロフエニルスルホン酸、無水2,4,6−トリ
イソプロピルフエニルスルホン酸、無水メタンス
ルホン酸、トルエンスルホニルクロリド、p−ブ
ロモフエニルスルホニルクロリド等のアシル化剤
R0Xでアシル化することによつて行う。ここで
Xはトルエンスルホニルオキシ、p−ニトロフエ
ニルスルホニルオキシ、メタンスルホニルオキ
シ、p−ブロモフエニルスルホニルオキシ等の相
当する脱離基及び常法によつて結合させることが
でき、更に当業界で良く知られている他の脱離基
である。典型的には、脱離基Xを結合させるため
の上述のアシル化は、塩化メチレン、アセトニト
リル又はジメチルホルムアミド等の溶媒中、ジイ
ソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、4
−ジメチルアミノ−ピリジン等の塩基の存在下、
−20ないし40℃の温度に於て0.5ないし5時間行
う。中間体19の脱離基Xはハロゲンであつても
良い。ハロゲン脱離基はφ3PCl2,φPBr2,(φO)3
PBr2、オキザ(リルクロリド等のハロゲン化剤
を用いて、CH2Cl2,CH3CN,THF等の溶媒中、
ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミ
ン、又は4−ジメチルアミノピリジン等の塩基の
存在下18を処理することによつて結合させる。
〔φはフエニルである〕 反応19〜20は、ジオキサン、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル、ヘキサメチルホスホラミド等の溶媒中、ほぼ
当量ないし過剰のメルカプタン試薬HSCH2
NHR8(式中、R8は、水素又はp−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、o−ニトロベンジルオキシ
カルボニル等の容易に除去し得るN−保護基であ
る)の存在下、そして炭酸水素ナトリウム、炭酸
カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミン等の塩基の存在下、−40ないし25℃の
温度に於て1ないし72時間19を処理することに
よつて行う。メルカプタン試薬HSCH2CH2
NHR8は典型的には所望する酸クロリドの存在
下、重炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等の塩
基の存在下水性ジエチルエーテル、水性ジオキサ
ン、水性アセトン等の溶媒中0から25℃の温度に
於て、0.5ないし4時間アミノエチルメルカプタ
ンを処理することによつて調整される。最終脱保
護段階20→1は加水分解又は水素添加等の常法
に従つて行う。典型的には、ジオキサン−水−エ
タノール、テトラヒドロフラン−水性リン酸水素
2カリウム−イソプロパノール等の溶媒中20を
1ないし4気圧の水素圧のもとで、パラジウム付
チヤコール、水酸化パラジウム等の水素添加触媒
の存在下0ないし50℃の温度に於て0.5ないし4
時間処理して1を供給する。
THF等の溶媒中、50〜110℃の温度に於て1〜5
時間、ビス(アセチルアセトナート)Cu()
〔Cu(acac)2〕、CuSO4,Cu粉、Rh(OAc)又はPd
(OAc)2等の触媒の存在下に17を処理すること
によつて行う。別法として、この環化はベンゼ
ン、CCl4ジエチルエーテル等の溶媒中、0〜25℃
の温度に於て0.5ないし2時間パイレツクスフイ
ルター(波長300nm以上)を通して17を照射す
ることによつても行うことができる。〔”OAc”
はアセテートのことである〕 脱離基Xの結合(18→19)はケトエステル
18を無水p−トルエンスルホン酸、無水p−ニ
トロフエニルスルホン酸、無水2,4,6−トリ
イソプロピルフエニルスルホン酸、無水メタンス
ルホン酸、トルエンスルホニルクロリド、p−ブ
ロモフエニルスルホニルクロリド等のアシル化剤
R0Xでアシル化することによつて行う。ここで
Xはトルエンスルホニルオキシ、p−ニトロフエ
ニルスルホニルオキシ、メタンスルホニルオキ
シ、p−ブロモフエニルスルホニルオキシ等の相
当する脱離基及び常法によつて結合させることが
でき、更に当業界で良く知られている他の脱離基
である。典型的には、脱離基Xを結合させるため
の上述のアシル化は、塩化メチレン、アセトニト
リル又はジメチルホルムアミド等の溶媒中、ジイ
ソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、4
−ジメチルアミノ−ピリジン等の塩基の存在下、
−20ないし40℃の温度に於て0.5ないし5時間行
う。中間体19の脱離基Xはハロゲンであつても
良い。ハロゲン脱離基はφ3PCl2,φPBr2,(φO)3
PBr2、オキザ(リルクロリド等のハロゲン化剤
を用いて、CH2Cl2,CH3CN,THF等の溶媒中、
ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミ
ン、又は4−ジメチルアミノピリジン等の塩基の
存在下18を処理することによつて結合させる。
〔φはフエニルである〕 反応19〜20は、ジオキサン、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル、ヘキサメチルホスホラミド等の溶媒中、ほぼ
当量ないし過剰のメルカプタン試薬HSCH2
NHR8(式中、R8は、水素又はp−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、o−ニトロベンジルオキシ
カルボニル等の容易に除去し得るN−保護基であ
る)の存在下、そして炭酸水素ナトリウム、炭酸
カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミン等の塩基の存在下、−40ないし25℃の
温度に於て1ないし72時間19を処理することに
よつて行う。メルカプタン試薬HSCH2CH2
NHR8は典型的には所望する酸クロリドの存在
下、重炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等の塩
基の存在下水性ジエチルエーテル、水性ジオキサ
ン、水性アセトン等の溶媒中0から25℃の温度に
於て、0.5ないし4時間アミノエチルメルカプタ
ンを処理することによつて調整される。最終脱保
護段階20→1は加水分解又は水素添加等の常法
に従つて行う。典型的には、ジオキサン−水−エ
タノール、テトラヒドロフラン−水性リン酸水素
2カリウム−イソプロパノール等の溶媒中20を
1ないし4気圧の水素圧のもとで、パラジウム付
チヤコール、水酸化パラジウム等の水素添加触媒
の存在下0ないし50℃の温度に於て0.5ないし4
時間処理して1を供給する。
ヒドロキシエチル側鎖を導入するための上述の
アルドール反応7→8に於て、反応式は直接に異
性体の混合物(トランス−R、トランス−S及び
シス−R)を与えるように進行し、この混合物か
ら所望するトランス−R異性体をクロマトグラフ
イーにより、或は結晶化により分離することがで
きる。次式の反応により、間接的なアルドール反
応は立体選択的に所望するトランス−R異性体を
与える: 式中すべての記号は前に定義した通りである。
アルドール反応7→8に於て、反応式は直接に異
性体の混合物(トランス−R、トランス−S及び
シス−R)を与えるように進行し、この混合物か
ら所望するトランス−R異性体をクロマトグラフ
イーにより、或は結晶化により分離することがで
きる。次式の反応により、間接的なアルドール反
応は立体選択的に所望するトランス−R異性体を
与える: 式中すべての記号は前に定義した通りである。
上述の反応図式に関していえば、段階Aは既に
上で説明してある。直接のアセチル化、段階Bは
例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル又
はジメトキシエタン等の溶媒中、リチウムジイソ
プロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラジ
ド、リチウム2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジド等の塩基2当量以上を用いて7を−100°か
ら20℃の温度に於てN−アセチルイミダゾール等
のアシル化剤と共に処理することによつて行う。
7と塩基の混合物をアジル化剤に添加するのが好
ましい。
上で説明してある。直接のアセチル化、段階Bは
例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル又
はジメトキシエタン等の溶媒中、リチウムジイソ
プロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラジ
ド、リチウム2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジド等の塩基2当量以上を用いて7を−100°か
ら20℃の温度に於てN−アセチルイミダゾール等
のアシル化剤と共に処理することによつて行う。
7と塩基の混合物をアジル化剤に添加するのが好
ましい。
酸化段階Cはジピリジンクロミウムオキシ
ド、無水トリフルオロ酢酸−ジメチルスルホキシ
ド−トリエチルアミン、ピリジニウムジクロメー
ト、無水酢酸−ジメチルスルホキシド等の酸化剤
を用い、塩化メチレン、アセトニトリル等の溶媒
中、−78°から25℃の温度に於て5分間ないし5時
間行う。
ド、無水トリフルオロ酢酸−ジメチルスルホキシ
ド−トリエチルアミン、ピリジニウムジクロメー
ト、無水酢酸−ジメチルスルホキシド等の酸化剤
を用い、塩化メチレン、アセトニトリル等の溶媒
中、−78°から25℃の温度に於て5分間ないし5時
間行う。
還元段階Dは、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、トルエン等の溶媒中、カリウムトリ
(二級−ブチル)ボロヒドリド、リチウムトリ
(二級−ブチル)ボロヒドリド、ナトリウムボロ
ヒドリド、ナトリウムトリス(メトキシエトキ
シ)アルミニウムヒドリド、リチウムアルミニウ
ムヒドリド等の還元剤とケトンを−20から25℃の
温度で接触させることによつて行う。この反応は
ヨウ化カリウム、臭化マグネシウム等の添加複合
塩の存在下都合良く行うことが可能である。
ロフラン、トルエン等の溶媒中、カリウムトリ
(二級−ブチル)ボロヒドリド、リチウムトリ
(二級−ブチル)ボロヒドリド、ナトリウムボロ
ヒドリド、ナトリウムトリス(メトキシエトキ
シ)アルミニウムヒドリド、リチウムアルミニウ
ムヒドリド等の還元剤とケトンを−20から25℃の
温度で接触させることによつて行う。この反応は
ヨウ化カリウム、臭化マグネシウム等の添加複合
塩の存在下都合良く行うことが可能である。
チエナマイシン全合成の上述した反応図式の記
述に於て、正確な反応パラメーターを選択する
際、かなりの許容範囲があることが理解されなけ
ればならない。この許容範囲及びその広さの指示
は、同等の溶媒系、温度範囲、保護基の列挙、使
用する試薬の同一性の範囲によつて一般的に示さ
れる。更に、一定の順序の異なる段階からなる合
成図式の表示は、その性質に於て必然的なもので
あるよりは便宜的に記述したものであるというこ
とが理解されるべきである。従つて、機械的に分
割された図式は合成の統一した図式を表すもので
あり、実際の施行に於ては、あるいくつかの段階
は併合したり、同時に行つたり或は、物質的に合
成の進行を変えることなく反応順序を変えること
が可能であるということが認められるであろう。
述に於て、正確な反応パラメーターを選択する
際、かなりの許容範囲があることが理解されなけ
ればならない。この許容範囲及びその広さの指示
は、同等の溶媒系、温度範囲、保護基の列挙、使
用する試薬の同一性の範囲によつて一般的に示さ
れる。更に、一定の順序の異なる段階からなる合
成図式の表示は、その性質に於て必然的なもので
あるよりは便宜的に記述したものであるというこ
とが理解されるべきである。従つて、機械的に分
割された図式は合成の統一した図式を表すもので
あり、実際の施行に於ては、あるいくつかの段階
は併合したり、同時に行つたり或は、物質的に合
成の進行を変えることなく反応順序を変えること
が可能であるということが認められるであろう。
以下の実施例は全合成の正確な図式を列挙して
いる。この詳細な説明の目的は全合成を更に詳し
く図示するものであり、何らの制約をおしつける
ものではないことが理解されなければならない。
いる。この詳細な説明の目的は全合成を更に詳し
く図示するものであり、何らの制約をおしつける
ものではないことが理解されなければならない。
実施例 1
本発明の中間体の製造段階14(S)−4−ヨード
メチルアゼチジン−2−オンの製造 ベンジル(S)−アゼチジン−2−オン−カルボ
キシレート 1000mlの分液ロートにベンジル(S)−アスパ
ラギン酸−p−トルエンスルホン酸塩(48.6g,
0.1モル)、氷冷したジエチルエーテル(300ml)、
氷冷水(100ml)及び氷冷した飽和炭酸カリウム
水溶液(50ml)を加える。この混合物を激しく攪
拌し、2層を分離する。水層をさらにジエチルエ
ーテル(2×100ml)で抽出する。エーテル溶液
を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧濃縮することにより、ジベンジ
ルS−アスパラギン酸(31.4g,0.1モル)を無色の
液体として得る。
メチルアゼチジン−2−オンの製造 ベンジル(S)−アゼチジン−2−オン−カルボ
キシレート 1000mlの分液ロートにベンジル(S)−アスパ
ラギン酸−p−トルエンスルホン酸塩(48.6g,
0.1モル)、氷冷したジエチルエーテル(300ml)、
氷冷水(100ml)及び氷冷した飽和炭酸カリウム
水溶液(50ml)を加える。この混合物を激しく攪
拌し、2層を分離する。水層をさらにジエチルエ
ーテル(2×100ml)で抽出する。エーテル溶液
を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧濃縮することにより、ジベンジ
ルS−アスパラギン酸(31.4g,0.1モル)を無色の
液体として得る。
無水ジエチルエーテル中、このジベンジルS−
アスパアラギン酸を窒素気流下、氷浴中で冷却す
る。この溶液を攪拌しながらトリメチルクロロシ
ラン(12.7ml,0.1モル)を加えると白色の沈殿
が得られる。次に、この混合物にトリエチルアミ
ン(14.0ml、0.1モル)を加える。氷浴を除去し、
混合物を室温(22〜25℃)、2時間攪拌する。こ
の混合物を焼結ガラスロート、マグネチツクスタ
ーラー及び窒素−真空導入口を付けた1.0リツト
ルの三つの口丸底フラスコに直接、過する。こ
の操作は窒素のブランケツト中で行ない、大気中
の湿気を除くように注意する。次に焼結ガラスロ
ートを共栓に換え、エーテルを攪拌しながら、除
去することにより、ベンジル(S)−N−トリメ
チルシリル−アスパルテート(35.5g、0.092モ
ル)を油状物質として得る。
アスパアラギン酸を窒素気流下、氷浴中で冷却す
る。この溶液を攪拌しながらトリメチルクロロシ
ラン(12.7ml,0.1モル)を加えると白色の沈殿
が得られる。次に、この混合物にトリエチルアミ
ン(14.0ml、0.1モル)を加える。氷浴を除去し、
混合物を室温(22〜25℃)、2時間攪拌する。こ
の混合物を焼結ガラスロート、マグネチツクスタ
ーラー及び窒素−真空導入口を付けた1.0リツト
ルの三つの口丸底フラスコに直接、過する。こ
の操作は窒素のブランケツト中で行ない、大気中
の湿気を除くように注意する。次に焼結ガラスロ
ートを共栓に換え、エーテルを攪拌しながら、除
去することにより、ベンジル(S)−N−トリメ
チルシリル−アスパルテート(35.5g、0.092モ
ル)を油状物質として得る。
次に無水ジエチルエーテル(250ml)を、シリ
ル誘導体を含むフラスコに加え、マグネチツクス
ターラーをメカニカルスターラーと換える。得ら
れた溶液を、窒素気流下、氷浴で冷却しながら、
攪拌する。次に、エチルマグネシウムブロマイド
のエーテル溶液(2.94M溶液を34ml、0.1モル)
を40分間にわたつて、滴下することにより、クリ
ーム色をした、さらさらの沈殿が得られる。次に
氷浴を除去し、混合物を室温で攪拌する。1.5時
間後に粘性のあるガム状物質が生成する。この混
合物を室温で1晩放置する。次にこの混合物を冷
却したメタノール浴で冷却し、塩化アンモニウム
で飽和した2規定塩酸(100ml)を攪拌しながら
ゆつくり加える。得られた混合物を酢酸エチル
(100ml)と水(100ml)で希釈し、2層を分離す
る。水層はさらに酢酸エチル(3×100ml)で抽
出する。有機層を集め、水(200ml)、5%炭酸水
素ナトリウム水溶液(100ml)水(100ml)及び飽
和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後
別する。溶媒を減圧することにより細かい粒状の
沈殿が混ざつた赤褐色の油状物質(25.3g)が得
られる。この物質を温クロロホルム(75ml)に溶
解し、石油エーテル(125ml)で希釈し、結晶の
たねを植え、容器の壁をこすり、氷浴で冷却す
る。得られた沈殿を集め石油エーテルで洗浄し、
真空下、乾燥することにより、ベンジル−(S)
−アゼチジン−2−オン−4−カルボキシレート
(3.85g)を、白色の固体として得る。次に母液、
及び洗浄液を合わせ、石油エーテルで希釈して全
量を500mlとし、結晶の種を植え、冷蔵庫中に数
日間放置する。得られた沈殿を集め、石油エーテ
ルで洗浄し、真空下、乾燥することによりさらに
生成物(0.82g)淡黄色の結晶として得られる。
試料をクロロホルム−石油エーテルで再結晶する
ことにより、生成物が小さな白色の板状晶として
得られる:融点141〜143°;〔a〕D=−43.4°
(c3.275,CHCl3);IR(CHCl3)3425,1778,1746
cm-1;1HNMR(CDCl3)δ3.00(ddd,1,J=1.9,
3.2及び14.6Hz,H−3a),δ3.35(ddd,1,J=
1.5,5.4及び14.6Hz,H−3b),δ4.20(dd,1,J
=3.2及び5.4Hz,H−4)、δ5.22(s,2,OCH2
Ph),δ6,48(m,1,NH),δ7.38(8,5,フエ
ニル); マススペクトルm/e 205(M +)、163,91,
70,43。
ル誘導体を含むフラスコに加え、マグネチツクス
ターラーをメカニカルスターラーと換える。得ら
れた溶液を、窒素気流下、氷浴で冷却しながら、
攪拌する。次に、エチルマグネシウムブロマイド
のエーテル溶液(2.94M溶液を34ml、0.1モル)
を40分間にわたつて、滴下することにより、クリ
ーム色をした、さらさらの沈殿が得られる。次に
氷浴を除去し、混合物を室温で攪拌する。1.5時
間後に粘性のあるガム状物質が生成する。この混
合物を室温で1晩放置する。次にこの混合物を冷
却したメタノール浴で冷却し、塩化アンモニウム
で飽和した2規定塩酸(100ml)を攪拌しながら
ゆつくり加える。得られた混合物を酢酸エチル
(100ml)と水(100ml)で希釈し、2層を分離す
る。水層はさらに酢酸エチル(3×100ml)で抽
出する。有機層を集め、水(200ml)、5%炭酸水
素ナトリウム水溶液(100ml)水(100ml)及び飽
和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後
別する。溶媒を減圧することにより細かい粒状の
沈殿が混ざつた赤褐色の油状物質(25.3g)が得
られる。この物質を温クロロホルム(75ml)に溶
解し、石油エーテル(125ml)で希釈し、結晶の
たねを植え、容器の壁をこすり、氷浴で冷却す
る。得られた沈殿を集め石油エーテルで洗浄し、
真空下、乾燥することにより、ベンジル−(S)
−アゼチジン−2−オン−4−カルボキシレート
(3.85g)を、白色の固体として得る。次に母液、
及び洗浄液を合わせ、石油エーテルで希釈して全
量を500mlとし、結晶の種を植え、冷蔵庫中に数
日間放置する。得られた沈殿を集め、石油エーテ
ルで洗浄し、真空下、乾燥することによりさらに
生成物(0.82g)淡黄色の結晶として得られる。
試料をクロロホルム−石油エーテルで再結晶する
ことにより、生成物が小さな白色の板状晶として
得られる:融点141〜143°;〔a〕D=−43.4°
(c3.275,CHCl3);IR(CHCl3)3425,1778,1746
cm-1;1HNMR(CDCl3)δ3.00(ddd,1,J=1.9,
3.2及び14.6Hz,H−3a),δ3.35(ddd,1,J=
1.5,5.4及び14.6Hz,H−3b),δ4.20(dd,1,J
=3.2及び5.4Hz,H−4)、δ5.22(s,2,OCH2
Ph),δ6,48(m,1,NH),δ7.38(8,5,フエ
ニル); マススペクトルm/e 205(M +)、163,91,
70,43。
元素分析:C11H11NO3に対する
計算値:C64.34,H5.40,N6.83
実験値:C64.10,H5.70,N6.77
4−(S)−4−ヒドロキシメチルアゼチジン−
2−オン 0℃に於て、300mlの無水メタノールに懸濁し
たベンジル4(S)−アゼチジン−2−オン−4
−カルボキシレート(20.0g,97.5ミリモル)に
水素化ホウ素ナトリウム(3.69g,97.5ミリモル)
を一度に加える。この混合物を、30℃以下になる
ように周期的に冷却しながら、ゆつくり加温す
る。2時間、攪拌した後、氷酢酸(23.4g,390ミ
リモル)を加え反応混合物を真空下濃縮する。残
渣を500mlのクロロホルムに溶解し過する。
液を真空下濃縮し、残渣を250gのシリカゲル
(4:1、クロロホルム:メタノール)によりク
ロマトを行なうことにより4(S)−ヒドロキシ
メチルアゼチジン−2−オンを白色の固体として
得る: 融点51〜53℃;〔a〕D=68.0° (c2.676,CHCl3);IR(CHCl3)3410,1765cm-1,1
H−NMR(CDCl3)δ7.07(1H,br.S,NH),
δ4.05(1H,br.S,OH),δ3.77(2H,m,H4,
H−5a又はb),δ3.58(1H,dd,J=11,6,H
−5a又は5b),δ2.97(1H,ddd,J=14.5,4.8,
1.3,H3b),δ2.7(1H,br.d,J=14.5,H3a);
マススペクトルm/e101(M+),83。
2−オン 0℃に於て、300mlの無水メタノールに懸濁し
たベンジル4(S)−アゼチジン−2−オン−4
−カルボキシレート(20.0g,97.5ミリモル)に
水素化ホウ素ナトリウム(3.69g,97.5ミリモル)
を一度に加える。この混合物を、30℃以下になる
ように周期的に冷却しながら、ゆつくり加温す
る。2時間、攪拌した後、氷酢酸(23.4g,390ミ
リモル)を加え反応混合物を真空下濃縮する。残
渣を500mlのクロロホルムに溶解し過する。
液を真空下濃縮し、残渣を250gのシリカゲル
(4:1、クロロホルム:メタノール)によりク
ロマトを行なうことにより4(S)−ヒドロキシ
メチルアゼチジン−2−オンを白色の固体として
得る: 融点51〜53℃;〔a〕D=68.0° (c2.676,CHCl3);IR(CHCl3)3410,1765cm-1,1
H−NMR(CDCl3)δ7.07(1H,br.S,NH),
δ4.05(1H,br.S,OH),δ3.77(2H,m,H4,
H−5a又はb),δ3.58(1H,dd,J=11,6,H
−5a又は5b),δ2.97(1H,ddd,J=14.5,4.8,
1.3,H3b),δ2.7(1H,br.d,J=14.5,H3a);
マススペクトルm/e101(M+),83。
4(S)−4−メタンスルホニルオキシメチルア
ゼチジン−2−オン 0℃に於て、無水塩化メチレン(15ml)中の4
−(S)−4−ヒドロキシメチルアゼチジン−2
−オン(10.1g,100ミリモル)とトリエチルアミ
ン(10.1g,100ミリモル)の溶液に、メタンスル
ホニルクロリド(11.46g,100ミリモル)を注射
器で滴下する。(アルコールを溶解させる為に、
加熱することが必要であるが、その他の試薬を加
える前までに溶液は0℃に下げる。)このように
して得られた溶液を0℃、1時間攪拌し、この間
に、大量の沈殿が生成する。1時間後、反応混合
物を過し、液は真空下濃縮する。2つの残渣
を合わせ、これに500mlのクロロホルムを加える。
得られた混合物を過することにより殆んど純粋
な4(S)−4−メタンスルホニルオキシメチル
アゼジン−2−オンを白色の固体として得る。
液は殆んどのトリエチルアミン塩酸塩が含まれて
いるが、これを真空下濃縮を行ない、200gのシ
リカゲル(4:1、クロロホルム:メタノール)
でクロマトを行なうことによりさらにメシル化物
が得られる。ここで得られた物質と前に得られた
物質を合わせ、クロロホルムから再結晶すると
15.57g(87%)の4−(S)−4−メタンスルホニル
オキシメチルアゼチジン−2−オンを無色針状結
晶として得る:融点109.5〜110.5℃〔a〕D25.8
(c1.025,H2O);NMR(D2O)δ4.62(1H,dd,
J=11.2,3,0,H−5a又はb),δ4.43(1H,
dd,J=11.2,6,H−5a又はb),δ4.12(1H,
m,H4), δ3.26(3H,s,−O ‐ S ‐ 0CH3), δ3.19(1H,dd,J=15,4.5,H3a);マススペクト
ルm/e179M+),136; b),S2.88(1H,dd,J=15,2.5,H3 元素分析: 計算値:C33.51,H5.06,N7.82,S17.89 実験値:C33.54,H5.08,N7.72,S17.93 4(S)−4−ヨウ化メチルアゼチジン−2−オ
ン 130mlのアセトン中の4(S)−メタンスルホ
ニルオキシアゼチジン2−オン(11.8g,65.9ミ
リモル)とヨウ化ナトリウム(19.8g,132ミリモ
ル)粉末の混合物を6時間加熱還流する。得られ
た混合物を真空下濃縮し、200mlのクロロホルム
を加え、過する。液を50mlの水で2回洗浄
し、硫酸マグネシウム上で乾燥する。有機層を
過し、真空下濃縮し、250gのシリカゲル(酢酸
エチル)でクロマトすることにより、11.94g(86
%)の4(S)−4−ヨウ化メチル−アゼチジン
−2−オンを白色の固体として得る。この物質を
エーテル−石油エーテルから再結晶すること白色
の結晶が得られる:融点91〜92℃;〔a〕D=23.7°
(c1.354,CHCl3);IR(CHCl3)3450,1765cm-1.1
HNMR(CHCl3)δ6.13(br.s,H−H),δ3.94(m,
1H,H−C),δ3.36(m,2H,Hd及びe),δ3.16
(ddd,1H,J=14.9,5.4,2.3,Ha),δ2.72(ddd
,
1H,J=14.9,2.1,2,Hb)、マススペクトル
m/e211(M+),168,142,127,84。
ゼチジン−2−オン 0℃に於て、無水塩化メチレン(15ml)中の4
−(S)−4−ヒドロキシメチルアゼチジン−2
−オン(10.1g,100ミリモル)とトリエチルアミ
ン(10.1g,100ミリモル)の溶液に、メタンスル
ホニルクロリド(11.46g,100ミリモル)を注射
器で滴下する。(アルコールを溶解させる為に、
加熱することが必要であるが、その他の試薬を加
える前までに溶液は0℃に下げる。)このように
して得られた溶液を0℃、1時間攪拌し、この間
に、大量の沈殿が生成する。1時間後、反応混合
物を過し、液は真空下濃縮する。2つの残渣
を合わせ、これに500mlのクロロホルムを加える。
得られた混合物を過することにより殆んど純粋
な4(S)−4−メタンスルホニルオキシメチル
アゼジン−2−オンを白色の固体として得る。
液は殆んどのトリエチルアミン塩酸塩が含まれて
いるが、これを真空下濃縮を行ない、200gのシ
リカゲル(4:1、クロロホルム:メタノール)
でクロマトを行なうことによりさらにメシル化物
が得られる。ここで得られた物質と前に得られた
物質を合わせ、クロロホルムから再結晶すると
15.57g(87%)の4−(S)−4−メタンスルホニル
オキシメチルアゼチジン−2−オンを無色針状結
晶として得る:融点109.5〜110.5℃〔a〕D25.8
(c1.025,H2O);NMR(D2O)δ4.62(1H,dd,
J=11.2,3,0,H−5a又はb),δ4.43(1H,
dd,J=11.2,6,H−5a又はb),δ4.12(1H,
m,H4), δ3.26(3H,s,−O ‐ S ‐ 0CH3), δ3.19(1H,dd,J=15,4.5,H3a);マススペクト
ルm/e179M+),136; b),S2.88(1H,dd,J=15,2.5,H3 元素分析: 計算値:C33.51,H5.06,N7.82,S17.89 実験値:C33.54,H5.08,N7.72,S17.93 4(S)−4−ヨウ化メチルアゼチジン−2−オ
ン 130mlのアセトン中の4(S)−メタンスルホ
ニルオキシアゼチジン2−オン(11.8g,65.9ミ
リモル)とヨウ化ナトリウム(19.8g,132ミリモ
ル)粉末の混合物を6時間加熱還流する。得られ
た混合物を真空下濃縮し、200mlのクロロホルム
を加え、過する。液を50mlの水で2回洗浄
し、硫酸マグネシウム上で乾燥する。有機層を
過し、真空下濃縮し、250gのシリカゲル(酢酸
エチル)でクロマトすることにより、11.94g(86
%)の4(S)−4−ヨウ化メチル−アゼチジン
−2−オンを白色の固体として得る。この物質を
エーテル−石油エーテルから再結晶すること白色
の結晶が得られる:融点91〜92℃;〔a〕D=23.7°
(c1.354,CHCl3);IR(CHCl3)3450,1765cm-1.1
HNMR(CHCl3)δ6.13(br.s,H−H),δ3.94(m,
1H,H−C),δ3.36(m,2H,Hd及びe),δ3.16
(ddd,1H,J=14.9,5.4,2.3,Ha),δ2.72(ddd
,
1H,J=14.9,2.1,2,Hb)、マススペクトル
m/e211(M+),168,142,127,84。
段階 2
(4S)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−4
−ヨウドメチル−アゼチジン−2−オンの製造 (4S)−4−ヨウ化メチル−アゼチジン−2−
オン(10g,47.4ミリモル)とトリエチルアミン
(5.04g,49.8ミリモル)の無水ジメチルホルムア
ミド(100ml)溶液を氷冷、攪拌しこれにt−ブ
チルジメチルクロロシラン(7.51g.49.8ミリモル)
を一度に加える。大量の白色の沈殿がすぐに析出
する。反応混合物を0〜5°で1時間攪拌し、次
に、室温まで暖める。真空下、大部分の溶媒を除
くことにより、残渣が得られ、これを、ジエチル
エーテル(250ml)と水の間で分配する。エーテ
ル層を2.5規定塩酸(50ml)、水(3×50ml)及び
飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、過後、真空下濃縮することにより、(4S)
−1−(t−ブチルジメチルシリル)−4−ヨウド
メチル−アゼチジン−2−オン(15.1g)を白色
の固体として得る。石油エーテル−エーテルによ
る再結晶により無色板状結晶が得られる。融点71
〜72°;NMR(CDCl3)δ3.8(m,1),δ2.6〜3.6
(AB型のdが重なつている,4),δ1.0(s,9),
S0.3(s,6),δ0.25(s,6)。
−ヨウドメチル−アゼチジン−2−オンの製造 (4S)−4−ヨウ化メチル−アゼチジン−2−
オン(10g,47.4ミリモル)とトリエチルアミン
(5.04g,49.8ミリモル)の無水ジメチルホルムア
ミド(100ml)溶液を氷冷、攪拌しこれにt−ブ
チルジメチルクロロシラン(7.51g.49.8ミリモル)
を一度に加える。大量の白色の沈殿がすぐに析出
する。反応混合物を0〜5°で1時間攪拌し、次
に、室温まで暖める。真空下、大部分の溶媒を除
くことにより、残渣が得られ、これを、ジエチル
エーテル(250ml)と水の間で分配する。エーテ
ル層を2.5規定塩酸(50ml)、水(3×50ml)及び
飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、過後、真空下濃縮することにより、(4S)
−1−(t−ブチルジメチルシリル)−4−ヨウド
メチル−アゼチジン−2−オン(15.1g)を白色
の固体として得る。石油エーテル−エーテルによ
る再結晶により無色板状結晶が得られる。融点71
〜72°;NMR(CDCl3)δ3.8(m,1),δ2.6〜3.6
(AB型のdが重なつている,4),δ1.0(s,9),
S0.3(s,6),δ0.25(s,6)。
段階 3
(4S)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−4
−(2,2,2−トリ(メチルチオ)−エーチル)
アゼチジン−2−オンの製造 −78℃に於て、蒸留したばかりのTHF(150ml)
に溶解したトリ(メチルチオ)メタン(7.47g,
48.5ミリモル)にn−ブチルリチウム(2.5Mヘキ
サン溶液19.4ml,48.5ミリモル)を注射器でゆつ
くり加える。次に得られた溶液を−78℃で30分攪
拌し、続いて50mlのTHF中の(4S)−1−(t
−ブチルジメチルシリル)−4−ヨウドメチルア
ゼチジン−2−オン(15.0g,46.15ミリモル)を
加える。この溶液を−78℃30分攪拌し、次に飽和
塩化アンモニウム水溶液を加え、反応を終了させ
る。反応混合物を室温迄、暖め、次に、これを
250mlのエーテルに注ぎ、水(2×150ml)、飽和
食塩水(100ml)で洗浄し、硫酸マグネシウム上
で乾燥する。真空下、溶媒を除去することにより
油状物質が得られ、これを石油エーテルから再結
晶することにより、13.3g(82%)の(4S)−1
−(t−ブチルジメチルシリル)−4−(2,2,
2,−トリ(メチルチオ)エチル)アゼチジン−
2−オンを無色柱状結晶として得る:融点61〜62
℃;IR(CHCl3)2918,2850,1730cm-1;NMR
(CDCl3)δ4.0(m,1),δ3.55(dd,1,J=5.5
,
16),δ2.83(dd,1,J=3.16),δ2.5(ABq2),
δ2.15(s,9),δ0.98(s,9),δ0.25(s,6
)。
−(2,2,2−トリ(メチルチオ)−エーチル)
アゼチジン−2−オンの製造 −78℃に於て、蒸留したばかりのTHF(150ml)
に溶解したトリ(メチルチオ)メタン(7.47g,
48.5ミリモル)にn−ブチルリチウム(2.5Mヘキ
サン溶液19.4ml,48.5ミリモル)を注射器でゆつ
くり加える。次に得られた溶液を−78℃で30分攪
拌し、続いて50mlのTHF中の(4S)−1−(t
−ブチルジメチルシリル)−4−ヨウドメチルア
ゼチジン−2−オン(15.0g,46.15ミリモル)を
加える。この溶液を−78℃30分攪拌し、次に飽和
塩化アンモニウム水溶液を加え、反応を終了させ
る。反応混合物を室温迄、暖め、次に、これを
250mlのエーテルに注ぎ、水(2×150ml)、飽和
食塩水(100ml)で洗浄し、硫酸マグネシウム上
で乾燥する。真空下、溶媒を除去することにより
油状物質が得られ、これを石油エーテルから再結
晶することにより、13.3g(82%)の(4S)−1
−(t−ブチルジメチルシリル)−4−(2,2,
2,−トリ(メチルチオ)エチル)アゼチジン−
2−オンを無色柱状結晶として得る:融点61〜62
℃;IR(CHCl3)2918,2850,1730cm-1;NMR
(CDCl3)δ4.0(m,1),δ3.55(dd,1,J=5.5
,
16),δ2.83(dd,1,J=3.16),δ2.5(ABq2),
δ2.15(s,9),δ0.98(s,9),δ0.25(s,6
)。
段階 4
(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−
3−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−〔2,
2,2−トリ(メチルチオ)エチル〕−アゼチジ
ン−2−オンの製造 −78℃に於て、蒸留したばかりのテトラヒドロ
フラン(THF)(180ml)に溶解したジイソプロ
ピルアミン(3.74g,37.0ミリモル)にn−ブチ
ルリチウム(2.5Nヘキサン溶液を14.8ml,37.0ミ
リモル)を注射器により加える。この溶液を−78
℃で15分攪拌し、続いて35ml中のTHF中の(4S)
−1−(t−ブチルジメチルシリル)−4−〔2,
2,2−トリ(メチルチオ)エチル〕アゼチジン
−2−オン(12.34g,35.16ミリモル)を加える。
この溶液を−78℃で10分間攪拌した後、アセトア
ルデヒド(4.62g,105ミリモル)を加える。この
溶液をさらに−78℃で5分間攪拌した後、飽和塩
化アンモニウム水溶液を加えることにより、反応
を終了せしめ、次に、溶液を室温まで暖める。こ
の混合物を250mlのエーテル中に注ぎ、水(2×
100ml及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。真空下で溶媒を除去することによ
り油状物質が得られ、これをシリカゲルカラム
(1:1、エーテル:石油エーテル)でクロマト
を行なうことにより(3S,4R)−1−(t−ブチ
ルジメチルシリル)−3−〔(R)−1−ヒドロキシ
エチル〕−4−〔2,2,2−トリ(メチルチオ)
エチル〕−アゼチジン−2−オン(7.0g,0.54%
をRf=0.2で得る。生成物は石油エーテルから再
結晶され得る。一方、トランス−Rの生成物は粗
反応混合物を直接石油エーテルから結晶化するこ
とにより得られる。
3−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−〔2,
2,2−トリ(メチルチオ)エチル〕−アゼチジ
ン−2−オンの製造 −78℃に於て、蒸留したばかりのテトラヒドロ
フラン(THF)(180ml)に溶解したジイソプロ
ピルアミン(3.74g,37.0ミリモル)にn−ブチ
ルリチウム(2.5Nヘキサン溶液を14.8ml,37.0ミ
リモル)を注射器により加える。この溶液を−78
℃で15分攪拌し、続いて35ml中のTHF中の(4S)
−1−(t−ブチルジメチルシリル)−4−〔2,
2,2−トリ(メチルチオ)エチル〕アゼチジン
−2−オン(12.34g,35.16ミリモル)を加える。
この溶液を−78℃で10分間攪拌した後、アセトア
ルデヒド(4.62g,105ミリモル)を加える。この
溶液をさらに−78℃で5分間攪拌した後、飽和塩
化アンモニウム水溶液を加えることにより、反応
を終了せしめ、次に、溶液を室温まで暖める。こ
の混合物を250mlのエーテル中に注ぎ、水(2×
100ml及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。真空下で溶媒を除去することによ
り油状物質が得られ、これをシリカゲルカラム
(1:1、エーテル:石油エーテル)でクロマト
を行なうことにより(3S,4R)−1−(t−ブチ
ルジメチルシリル)−3−〔(R)−1−ヒドロキシ
エチル〕−4−〔2,2,2−トリ(メチルチオ)
エチル〕−アゼチジン−2−オン(7.0g,0.54%
をRf=0.2で得る。生成物は石油エーテルから再
結晶され得る。一方、トランス−Rの生成物は粗
反応混合物を直接石油エーテルから結晶化するこ
とにより得られる。
段階 5
(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−
3−(1−オキソエチル)−4−〔2,2,2−ト
リ(メチルチオ)エチル〕アゼチジン−2−オン
の製造 A.−78℃に於て蒸留したばかりのTHF(25ml)
に溶解したジイソプロピルアミン(591mg,5.84
ミリモルノにn−ブチルリチウム(2.4M溶液を
2.43ml、5.84ミリモル)を注射器で加える。この
溶液を−78℃で15分間攪拌した後、テトラヒドロ
フラン(5ml)中の(4R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリル)−4−〔2,2,2−トリ(メチル
チオ)エチル〕アゼチジン−2−オン(1.00g,
2.85ミリモル〕を加える。この溶液を−78℃、15
分間攪拌した後、−78℃で、25mlのTHF中のN−
アセチルイミダゾール(642mg,5.84ミリモル)
をテフロン管を通して加える。得られた黄色の反
応混合物を−78℃、10分間、攪拌し、続いて、飽
和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止さ
せる。この混合物をエーテル(200ml)で希釈し、
2.5規定塩酸(50ml)、水(50ml)及び飽和食塩水
(50ml)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。
真空下で溶媒を除去し、得られた黄色の油状物質
をシリカゲル(石油エーテル中30%エーテル)で
クロマトを行なうことにより(3S,4R)−1
−(t−ブチル−ジメチルシリル)−3−(1−オ
キソエチル)−4−〔2,2,2−トリ(メチルチ
オ)エチル〕アゼチジン−2−オンを得る:
NMR(CDCl3)δ4.42(m,1),δ4.32(d,1),
δ2.35(m,2),δ2.32(s,3),δ2.2(s,9
),
δ0.98(s,9),δ0.3(2s,6)。
3−(1−オキソエチル)−4−〔2,2,2−ト
リ(メチルチオ)エチル〕アゼチジン−2−オン
の製造 A.−78℃に於て蒸留したばかりのTHF(25ml)
に溶解したジイソプロピルアミン(591mg,5.84
ミリモルノにn−ブチルリチウム(2.4M溶液を
2.43ml、5.84ミリモル)を注射器で加える。この
溶液を−78℃で15分間攪拌した後、テトラヒドロ
フラン(5ml)中の(4R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリル)−4−〔2,2,2−トリ(メチル
チオ)エチル〕アゼチジン−2−オン(1.00g,
2.85ミリモル〕を加える。この溶液を−78℃、15
分間攪拌した後、−78℃で、25mlのTHF中のN−
アセチルイミダゾール(642mg,5.84ミリモル)
をテフロン管を通して加える。得られた黄色の反
応混合物を−78℃、10分間、攪拌し、続いて、飽
和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止さ
せる。この混合物をエーテル(200ml)で希釈し、
2.5規定塩酸(50ml)、水(50ml)及び飽和食塩水
(50ml)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。
真空下で溶媒を除去し、得られた黄色の油状物質
をシリカゲル(石油エーテル中30%エーテル)で
クロマトを行なうことにより(3S,4R)−1
−(t−ブチル−ジメチルシリル)−3−(1−オ
キソエチル)−4−〔2,2,2−トリ(メチルチ
オ)エチル〕アゼチジン−2−オンを得る:
NMR(CDCl3)δ4.42(m,1),δ4.32(d,1),
δ2.35(m,2),δ2.32(s,3),δ2.2(s,9
),
δ0.98(s,9),δ0.3(2s,6)。
B.−78℃に於て、無水塩化メチレン(2ml)
中のジメチルスルホキシド(2.53ミリモル)に無
水トリフルオロ酢酸(400mg,1.905ミリモル)を
注射器で加える。この混合物を−78℃で30分攪拌
し、続いて、無水塩化メチレン(1ml)中の
(3,RS,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリ
ル)−3−〔(RS)−1−ヒドロキシエチル〕−4−
〔2,2,2−トリ(メチルチオ)エチル〕アゼ
チジン−2−オン(500mg,1.27ミリモル)を加
える。得られた溶液を30分攪拌し、続いてトリエ
チルアミン(360mg、3,56ミリモル)を加える。
次に冷却浴を除く。40分後、反応混合物を塩化メ
チレンで希釈し、水及び飽和食塩水で希釈し、硫
酸マグネシウムで乾燥する。真空下で溶媒を除去
することにより油状物質が得られ、これを上述と
同様に精製する。収量432mg(86%)。
中のジメチルスルホキシド(2.53ミリモル)に無
水トリフルオロ酢酸(400mg,1.905ミリモル)を
注射器で加える。この混合物を−78℃で30分攪拌
し、続いて、無水塩化メチレン(1ml)中の
(3,RS,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリ
ル)−3−〔(RS)−1−ヒドロキシエチル〕−4−
〔2,2,2−トリ(メチルチオ)エチル〕アゼ
チジン−2−オン(500mg,1.27ミリモル)を加
える。得られた溶液を30分攪拌し、続いてトリエ
チルアミン(360mg、3,56ミリモル)を加える。
次に冷却浴を除く。40分後、反応混合物を塩化メ
チレンで希釈し、水及び飽和食塩水で希釈し、硫
酸マグネシウムで乾燥する。真空下で溶媒を除去
することにより油状物質が得られ、これを上述と
同様に精製する。収量432mg(86%)。
段階 6
(3S,4S)1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−〔2,
2,2−トリ(メチルチオ)エチル〕アゼチジン
−2−オンの製造 室温に於て、蒸留したばかりのエチルエーテル
(8ml)中のヨウ化カリウム(126mg,10.758ミリ
モル)と(3S,4S)−1−(t−ブチルジメチ
ルシリル)−3−(1−オキソエチル)−4−〔2,
2,2−トリ(メチルチオ)エチル〕アゼチジン
−2−オン(298mg,0.758ミリモル)の混合物中
にK−セレクトライド(0.5M溶液を3.64ml,1.82
ミリモル)を注射器で加える。この溶液を室温、
2.5時間攪拌し、次に酢酸(218mg,3.64ミリモ
ル)を加えて反応を終了する。得られた混合物を
酢酸エチル(25ml)で希釈し、セライトで過す
る。真空下、溶媒を除去し、得られた油状物質を
シリカゲル(エーテル:石油エーテル)でクロマ
トを行なうことにより、252mgの(3S,4R)−
1−(t−ブチルジメチルシリル)−3−〔(R)−
1−ヒドロキシエチル〕−4−〔2,2,2−トリ
(メチルチオ)エチル〕アゼチジン−2−オンを
得る:NMR(R−異性体、CDCl3+D2O)δ4.15
(dq,1)δ3.95(ddd,J=9.5,23),δ3.26(dd,
1H,J=8.23),δ2.37(m,2),δ2.16(s,9)
,
δ1.37(d,3,J=6.6),δ1.0(s,9),δ0.26
(s,6)。
−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−〔2,
2,2−トリ(メチルチオ)エチル〕アゼチジン
−2−オンの製造 室温に於て、蒸留したばかりのエチルエーテル
(8ml)中のヨウ化カリウム(126mg,10.758ミリ
モル)と(3S,4S)−1−(t−ブチルジメチ
ルシリル)−3−(1−オキソエチル)−4−〔2,
2,2−トリ(メチルチオ)エチル〕アゼチジン
−2−オン(298mg,0.758ミリモル)の混合物中
にK−セレクトライド(0.5M溶液を3.64ml,1.82
ミリモル)を注射器で加える。この溶液を室温、
2.5時間攪拌し、次に酢酸(218mg,3.64ミリモ
ル)を加えて反応を終了する。得られた混合物を
酢酸エチル(25ml)で希釈し、セライトで過す
る。真空下、溶媒を除去し、得られた油状物質を
シリカゲル(エーテル:石油エーテル)でクロマ
トを行なうことにより、252mgの(3S,4R)−
1−(t−ブチルジメチルシリル)−3−〔(R)−
1−ヒドロキシエチル〕−4−〔2,2,2−トリ
(メチルチオ)エチル〕アゼチジン−2−オンを
得る:NMR(R−異性体、CDCl3+D2O)δ4.15
(dq,1)δ3.95(ddd,J=9.5,23),δ3.26(dd,
1H,J=8.23),δ2.37(m,2),δ2.16(s,9)
,
δ1.37(d,3,J=6.6),δ1.0(s,9),δ0.26
(s,6)。
段階 7
(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−
3−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−カルボ
メトキシメチル−アゼチジン−2−オンの製造 0℃に於て、250mlの無水メタノールに溶解し
た(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−〔2,
2,2−トリ(メチルチオ)−エチル〕アゼチジ
ン−2−オン(6.0g,15.2ミリモル)に塩化第二
水銀(12.37g,45.6ミリモル)を一度に加える。
得られた混合物(白色沈殿)を0℃3分、攪拌し
た後、炭酸水素ナトリウム(8.99g,107ミリモ
ル)を加え反応を停止させる。この混合物を過
し、固体残渣をメタノールで洗浄する。過と洗
浄液を合わせ、真空下濃縮し、得られた残渣を酢
酸エチルと飽和塩化アンモニウム水溶液で分配を
行なう。有機層を分離し、飽和塩化アンモニウ
ム、水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を真空下除去することにより
油状物質が得られ、これを、シリカゲルカラム
(3:2、シクロヘキサン:酢酸エチル)でクロ
マトを行なうと(3R,4R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリル)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチ
ル〕−4−カルボメトキシメチルアゼチジン−2
−オンが得られる。
3−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−カルボ
メトキシメチル−アゼチジン−2−オンの製造 0℃に於て、250mlの無水メタノールに溶解し
た(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−〔2,
2,2−トリ(メチルチオ)−エチル〕アゼチジ
ン−2−オン(6.0g,15.2ミリモル)に塩化第二
水銀(12.37g,45.6ミリモル)を一度に加える。
得られた混合物(白色沈殿)を0℃3分、攪拌し
た後、炭酸水素ナトリウム(8.99g,107ミリモ
ル)を加え反応を停止させる。この混合物を過
し、固体残渣をメタノールで洗浄する。過と洗
浄液を合わせ、真空下濃縮し、得られた残渣を酢
酸エチルと飽和塩化アンモニウム水溶液で分配を
行なう。有機層を分離し、飽和塩化アンモニウ
ム、水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を真空下除去することにより
油状物質が得られ、これを、シリカゲルカラム
(3:2、シクロヘキサン:酢酸エチル)でクロ
マトを行なうと(3R,4R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリル)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチ
ル〕−4−カルボメトキシメチルアゼチジン−2
−オンが得られる。
段階 8
(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−
3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル〕−4−カルボメトキシメチル−アゼ
チジン−2−オンの製造 0℃に於て、15mlの無水ジメチルホルムアミド
に溶解した(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチル
シリル)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエル〕−4
−カルボメトキシメチルアゼチジン−2−オン
(1.88g,6.25ミリモル)にt−ブチルジメチルク
ロロシラン(940mg,6.25ミリモル)を一度に加
える。15分0℃に放置した後、冷却浴を除去し、
反応混合物を室温で24時間、攪拌する。次にエー
テル(100ml)を加え、この混合物を過後、2.5
規定塩酸(20ml)、水(3×20ml)及び飽和食塩
水で洗浄する。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥
後、真空下で濃縮する。得られた残渣をシリカゲ
ル7:3、石油エーテル:エーテル)でクロマト
を行なうことにより、(3S,4R)−1−(t−ブチ
ルジメチルシリル)−3−〔(R)−1−(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)エチル〕−4−カルボ
メトキシメチルアゼチジン−2−オンを得る:
NMR(CDCl3)δ4.1(m,2),δ3.68(s,3),
δ3.03(dd,1,J=4.3,2.7),δ2.8(ABq,2),
δ1.17(d,3,J=6.6),δ0.98(s,9),δ0.8
9
(s,9),δ0.23(s,6),δ0.1(s,6)。
3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル〕−4−カルボメトキシメチル−アゼ
チジン−2−オンの製造 0℃に於て、15mlの無水ジメチルホルムアミド
に溶解した(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチル
シリル)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエル〕−4
−カルボメトキシメチルアゼチジン−2−オン
(1.88g,6.25ミリモル)にt−ブチルジメチルク
ロロシラン(940mg,6.25ミリモル)を一度に加
える。15分0℃に放置した後、冷却浴を除去し、
反応混合物を室温で24時間、攪拌する。次にエー
テル(100ml)を加え、この混合物を過後、2.5
規定塩酸(20ml)、水(3×20ml)及び飽和食塩
水で洗浄する。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥
後、真空下で濃縮する。得られた残渣をシリカゲ
ル7:3、石油エーテル:エーテル)でクロマト
を行なうことにより、(3S,4R)−1−(t−ブチ
ルジメチルシリル)−3−〔(R)−1−(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)エチル〕−4−カルボ
メトキシメチルアゼチジン−2−オンを得る:
NMR(CDCl3)δ4.1(m,2),δ3.68(s,3),
δ3.03(dd,1,J=4.3,2.7),δ2.8(ABq,2),
δ1.17(d,3,J=6.6),δ0.98(s,9),δ0.8
9
(s,9),δ0.23(s,6),δ0.1(s,6)。
段階 9
(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル〕−4−(2−オキソエチル)アゼチ
ジン−2−オンの製造 −78℃に於て、蒸留したばかりのトルエン(25
ml)に溶解した(3S,4R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリル)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−4−カルボメトキ
シメチル−アゼチジン−2−オン(936mg,2.26
ミリモル)に水素化ジイソブチルアルミニウム
(0.91Mヘキサン溶液を3.72ml、3.38ミリモル)
を、注射器でゆつくり加える。得られた溶液を−
78℃、3時間攪拌し、次に25規定塩酸(5ml)を
加えて、反応を終了させる。得られた混合物を2
分間、攪拌した後100mlのエーテル、及び酒石酸
で飽和した1.25N塩酸が入つた分液ロート中に注
ぐ。有機層を分離し、水層をエーテル(2×50
ml)で抽出する。有機層を合わせ、飽和食塩水で
洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を真空下、除去することにより白色の固体が得ら
れ、これをエーテル−石油エーテルから再結晶す
ることにより、(3S,4R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリル)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−4−(2−オキソエ
チル)−アゼチジン−2−オンを得る:融点115〜
116℃;NMR(CDCl3)δ4.1(m,1),δ4.03(m,
1),δ2.7〜3.2(m,3)、δ1.23(d,3,J=
6.4),δ1.08(s,9),δ0.9(s,9),δ0.25(
s,
6),δ0.1(s,6),δ9.83(t,1H,J=1.4)。
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル〕−4−(2−オキソエチル)アゼチ
ジン−2−オンの製造 −78℃に於て、蒸留したばかりのトルエン(25
ml)に溶解した(3S,4R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリル)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−4−カルボメトキ
シメチル−アゼチジン−2−オン(936mg,2.26
ミリモル)に水素化ジイソブチルアルミニウム
(0.91Mヘキサン溶液を3.72ml、3.38ミリモル)
を、注射器でゆつくり加える。得られた溶液を−
78℃、3時間攪拌し、次に25規定塩酸(5ml)を
加えて、反応を終了させる。得られた混合物を2
分間、攪拌した後100mlのエーテル、及び酒石酸
で飽和した1.25N塩酸が入つた分液ロート中に注
ぐ。有機層を分離し、水層をエーテル(2×50
ml)で抽出する。有機層を合わせ、飽和食塩水で
洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を真空下、除去することにより白色の固体が得ら
れ、これをエーテル−石油エーテルから再結晶す
ることにより、(3S,4R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリル)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−4−(2−オキソエ
チル)−アゼチジン−2−オンを得る:融点115〜
116℃;NMR(CDCl3)δ4.1(m,1),δ4.03(m,
1),δ2.7〜3.2(m,3)、δ1.23(d,3,J=
6.4),δ1.08(s,9),δ0.9(s,9),δ0.25(
s,
6),δ0.1(s,6),δ9.83(t,1H,J=1.4)。
段階 10
(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル〕−4−(3−ベンジルオキシカルボ
ニル−2−ヒドロキシプロピル)アゼチジン−2
−オンの製造 −78℃に於て、9mlの蒸留したばかりのTHF
に溶解したジイソプロピルアミン(1.81ミリモ
ル)にn−ブチルリチウム(1.81ミリモル)を注
射器で加える。この溶液を−78℃、15分間攪拌す
る。次にベンジルアセテート(1.81ミリモル)を
注射器で滴下し、得られた溶液を−78℃20分間攪
拌する。次にこの溶液に、3mlのTHFに溶解し
た(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル〕−4−(2−オキソエチル)アゼチ
ジン−2−オン(1.64ミリモル)を注射器でゆつ
くり加える。反応混合物を−78℃でさらに15分攪
拌し、次に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、
反応を終了させる。次に酢酸エチル(50ml)を加
え、有機層を分離し、水(2×10ml)、飽和食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を真空下除去することにより得られた白色固体
を、短かいシリカゲルカラム(石油エーテル中40
%エーテル)でクロマトを行なうことにより、
(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−3
−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル〕−4−(3−ベンジルオキシカルボニ
ル−2−ヒドロキシプロピル)−アゼチジン−2
−オンを得る: NMR(CDCl3)δ7.32(s,5),δ5.1(s,2),
δ4.0(m,3),δ2.4〜3.8(m,4),δ2.0(m,
2),δ1.25(重さなり合つたd,3),δ0.95(s,
9),δ0.9(s,9),δ0.3(s,6),δ0.18(s
,
6)。
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル〕−4−(3−ベンジルオキシカルボ
ニル−2−ヒドロキシプロピル)アゼチジン−2
−オンの製造 −78℃に於て、9mlの蒸留したばかりのTHF
に溶解したジイソプロピルアミン(1.81ミリモ
ル)にn−ブチルリチウム(1.81ミリモル)を注
射器で加える。この溶液を−78℃、15分間攪拌す
る。次にベンジルアセテート(1.81ミリモル)を
注射器で滴下し、得られた溶液を−78℃20分間攪
拌する。次にこの溶液に、3mlのTHFに溶解し
た(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル〕−4−(2−オキソエチル)アゼチ
ジン−2−オン(1.64ミリモル)を注射器でゆつ
くり加える。反応混合物を−78℃でさらに15分攪
拌し、次に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、
反応を終了させる。次に酢酸エチル(50ml)を加
え、有機層を分離し、水(2×10ml)、飽和食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を真空下除去することにより得られた白色固体
を、短かいシリカゲルカラム(石油エーテル中40
%エーテル)でクロマトを行なうことにより、
(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−3
−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル〕−4−(3−ベンジルオキシカルボニ
ル−2−ヒドロキシプロピル)−アゼチジン−2
−オンを得る: NMR(CDCl3)δ7.32(s,5),δ5.1(s,2),
δ4.0(m,3),δ2.4〜3.8(m,4),δ2.0(m,
2),δ1.25(重さなり合つたd,3),δ0.95(s,
9),δ0.9(s,9),δ0.3(s,6),δ0.18(s
,
6)。
段階 11
(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジル)
オキシカルボニル−2−ヒドロキシプロピル〕ア
ゼチジン−2−オンの製造 20mlの4:1、THF−H2O中の、(3S,4R)
−1−(t−ブチルジメチルシリル)−3−〔(R)
−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチ
ル〕−4−(3−ベンジルオキシカルボニル−2−
ヒドロキシプロピル)−アゼチジン−2−オン
(1.00ミリモル)、炭酸水素ナトリウム(1.00ミリ
モル)及び10%Pd/Cの混合物をパーシエーカ
ー(Parr shaker)中、30分、40psiで水素添加
を行なう。この混合物をセライトで過を行な
い、触媒を10mlの水で洗浄する。液と洗浄液を
合わせ、2ml迄濃縮し、凍結乾燥する。得られた
ふんわりした白色の固体を5mlのジメチルホルム
アミドに溶解し、臭化p−ニトロベンジル(216
mg,1.00ミリモル)を一度に加える。得られた溶
液を室温、3時間攪拌し、次にエーテル(50ml)
で希釈し、水(3×10ml)及び飽和食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を真空下
除去し、得られた残渣をシリカゲルでクロマトす
ることにより、(3S,4R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリル)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔3−(4−ニ
トロベンジル)オキシカルボニル−2−ヒドロキ
シプロピル〕アゼチジン−2−オンを得る:
NMR(CDCl3)δ7.85(2d−芳香族、4),δ5.26
(s,2),δ4.2(m,3),δ2.5〜3.6(m,4)
,
δ2.0(m,2),δ1.4(2つの重さなり合つたd,
3),δ1.0(2s,18),δ0.25(2s,12)。
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジル)
オキシカルボニル−2−ヒドロキシプロピル〕ア
ゼチジン−2−オンの製造 20mlの4:1、THF−H2O中の、(3S,4R)
−1−(t−ブチルジメチルシリル)−3−〔(R)
−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチ
ル〕−4−(3−ベンジルオキシカルボニル−2−
ヒドロキシプロピル)−アゼチジン−2−オン
(1.00ミリモル)、炭酸水素ナトリウム(1.00ミリ
モル)及び10%Pd/Cの混合物をパーシエーカ
ー(Parr shaker)中、30分、40psiで水素添加
を行なう。この混合物をセライトで過を行な
い、触媒を10mlの水で洗浄する。液と洗浄液を
合わせ、2ml迄濃縮し、凍結乾燥する。得られた
ふんわりした白色の固体を5mlのジメチルホルム
アミドに溶解し、臭化p−ニトロベンジル(216
mg,1.00ミリモル)を一度に加える。得られた溶
液を室温、3時間攪拌し、次にエーテル(50ml)
で希釈し、水(3×10ml)及び飽和食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を真空下
除去し、得られた残渣をシリカゲルでクロマトす
ることにより、(3S,4R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリル)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル〕−4−〔3−(4−ニ
トロベンジル)オキシカルボニル−2−ヒドロキ
シプロピル〕アゼチジン−2−オンを得る:
NMR(CDCl3)δ7.85(2d−芳香族、4),δ5.26
(s,2),δ4.2(m,3),δ2.5〜3.6(m,4)
,
δ2.0(m,2),δ1.4(2つの重さなり合つたd,
3),δ1.0(2s,18),δ0.25(2s,12)。
段階 12
(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジル)
オキシカルボニル−2−オキソプロピル〕アゼチ
ジン−2−オンの製造 30mlの無水塩化メチレンに溶解した無水ピリジ
ン(20ミリモル)に無水3酸化クロム(10ミリモ
ル)を加える。15分室温で攪拌後、反応混合物を
無水塩化メチレン(8ml)に溶解した。(3S,4R)
−1−(t−ブチルジメチルシリル)−3−〔(R)
−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチ
ル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジル)オキシカ
ルボニル−2−ヒドロキシプロピル〕、アゼチジ
ン−2−オンに、一度に加える。得られた混合物
を室温5分間攪拌する。塩化メチレン層を黒いタ
ール状の残渣から傾斜法で分離し、残渣は塩化メ
チレンで洗浄する。次にこれらの塩化メチレン層
を真空下濃縮する。得られた残渣をエーテルで抽
出し、このエーテル抽出物を別する。得られた
液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液、
2.5NHCl3,5%Na,HCO3及び飽和食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、真空下濃縮する
ことにより、(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチ
ルシリル)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)エチル〕−4−〔3−(4−ニト
ロベンジル)オキシカルボニル−2−オキソプロ
ピル〕アゼチジン−2−オンを得る:NMR
(CDCl3)δ7.85(2d−芳香族、4),δ5.27(s,2
),
δ4.05(m,2),δ3.6(s,2),δ2.4〜3.2(dd
が
ABqと重なり合つている、3),δ1.2(d,3,J
=6.6),δ0.9(2s,18),δ0.22(s,6),δ0.05
(s,
6)。
−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジル)
オキシカルボニル−2−オキソプロピル〕アゼチ
ジン−2−オンの製造 30mlの無水塩化メチレンに溶解した無水ピリジ
ン(20ミリモル)に無水3酸化クロム(10ミリモ
ル)を加える。15分室温で攪拌後、反応混合物を
無水塩化メチレン(8ml)に溶解した。(3S,4R)
−1−(t−ブチルジメチルシリル)−3−〔(R)
−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチ
ル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジル)オキシカ
ルボニル−2−ヒドロキシプロピル〕、アゼチジ
ン−2−オンに、一度に加える。得られた混合物
を室温5分間攪拌する。塩化メチレン層を黒いタ
ール状の残渣から傾斜法で分離し、残渣は塩化メ
チレンで洗浄する。次にこれらの塩化メチレン層
を真空下濃縮する。得られた残渣をエーテルで抽
出し、このエーテル抽出物を別する。得られた
液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液、
2.5NHCl3,5%Na,HCO3及び飽和食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、真空下濃縮する
ことにより、(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチ
ルシリル)−3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)エチル〕−4−〔3−(4−ニト
ロベンジル)オキシカルボニル−2−オキソプロ
ピル〕アゼチジン−2−オンを得る:NMR
(CDCl3)δ7.85(2d−芳香族、4),δ5.27(s,2
),
δ4.05(m,2),δ3.6(s,2),δ2.4〜3.2(dd
が
ABqと重なり合つている、3),δ1.2(d,3,J
=6.6),δ0.9(2s,18),δ0.22(s,6),δ0.05
(s,
6)。
段階 13
(3S,4R)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチ
ル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジル)オキシカ
ルボニル−2−オキシプロピル〕−アゼチジン−
2−オンの製造 (3S,4R)−1−(t−ブチルメチルシリル)−
3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジル)
オキシカルボニル−2−オキソプロピル〕アゼチ
ジン−2−オン(7.9ミリモル)を160mlの9:1
(V/V)メタノール−水に溶解し、0℃に冷却
する。この溶液に濃塩酸(2.75ml)を加え、0℃
15分間攪拌し、次に室温まで暖める。この溶液を
室温2.5時間攪拌し、次に、酢酸エチルで希釈し、
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、真空下
濃縮することにより、(3S,4R)−3−〔(R)−1
−ヒドロキシエチル〕−4−〔3−(4−ニトロベ
ンジル)オキシカルボニル−2−オキソプロピ
ル〕−アゼチジン−2−オンを得る: 段階 14 (3S,4R)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕
−4−〔3−(4−ニトロベンジル)オキシカルボ
ニル−2−オキソ−3−ジアゾプロピル〕アゼチ
ジン−2−オンの製造 0℃に於て、無水アセトニトリル中の(3S,
4R)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−
〔3−(4−ニトロベンジル)オキシカルボニル−
2−オキソプロピル〕−アゼチジン−2−オン
(253mg,0.72ミリモル)及びp−カルボキシベン
ゼンスルホニルアジド(196mg,0.84ミリモル)
にトリエチルアミン(263mg,2.6ミリモル)を注
射器で加える。添加を終了した時、冷却浴を除去
し、反応混合物を室温、1時間攪拌する。次に混
合物を酢酸エチル(50ml)で希釈し、過する。
液を真空下濃縮し、残渣を短かいシリカゲルカ
ラム(酢酸エチル)でクロマトを行なうことによ
り、(3S,4R)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチ
ル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジル)オキシカ
ルボニル−2−オキソ−3−ジアゾプロピル〕−
アゼチジン−2−オンを収量222mg((3S,4R)−
1−(t−ブチルジメチルシリル)−3−〔(R)−
1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕
−4−〔3−(4−ニトロベンジル)オキシカルボ
ニル−2−オキソプロピル〕アゼチジン−2−オ
ンから81%の収率)で白色の固体として得る:融
点(分解)163℃;IR(CHCl3,cm-1)3410,
2132,1756,1718,1650,1350,1280,1120;
NMR(CDCl3)δ7.9(2d−芳香族,4),δ5.4(s,
2),δ6,2(br,s,1),δ4.1(m,2),δ2.
6
〜3.6(m,4),δ1.32(d,3,J=6.2)。
ル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジル)オキシカ
ルボニル−2−オキシプロピル〕−アゼチジン−
2−オンの製造 (3S,4R)−1−(t−ブチルメチルシリル)−
3−〔(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジル)
オキシカルボニル−2−オキソプロピル〕アゼチ
ジン−2−オン(7.9ミリモル)を160mlの9:1
(V/V)メタノール−水に溶解し、0℃に冷却
する。この溶液に濃塩酸(2.75ml)を加え、0℃
15分間攪拌し、次に室温まで暖める。この溶液を
室温2.5時間攪拌し、次に、酢酸エチルで希釈し、
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、真空下
濃縮することにより、(3S,4R)−3−〔(R)−1
−ヒドロキシエチル〕−4−〔3−(4−ニトロベ
ンジル)オキシカルボニル−2−オキソプロピ
ル〕−アゼチジン−2−オンを得る: 段階 14 (3S,4R)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕
−4−〔3−(4−ニトロベンジル)オキシカルボ
ニル−2−オキソ−3−ジアゾプロピル〕アゼチ
ジン−2−オンの製造 0℃に於て、無水アセトニトリル中の(3S,
4R)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−
〔3−(4−ニトロベンジル)オキシカルボニル−
2−オキソプロピル〕−アゼチジン−2−オン
(253mg,0.72ミリモル)及びp−カルボキシベン
ゼンスルホニルアジド(196mg,0.84ミリモル)
にトリエチルアミン(263mg,2.6ミリモル)を注
射器で加える。添加を終了した時、冷却浴を除去
し、反応混合物を室温、1時間攪拌する。次に混
合物を酢酸エチル(50ml)で希釈し、過する。
液を真空下濃縮し、残渣を短かいシリカゲルカ
ラム(酢酸エチル)でクロマトを行なうことによ
り、(3S,4R)−3−〔(R)−1−ヒドロキシエチ
ル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジル)オキシカ
ルボニル−2−オキソ−3−ジアゾプロピル〕−
アゼチジン−2−オンを収量222mg((3S,4R)−
1−(t−ブチルジメチルシリル)−3−〔(R)−
1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕
−4−〔3−(4−ニトロベンジル)オキシカルボ
ニル−2−オキソプロピル〕アゼチジン−2−オ
ンから81%の収率)で白色の固体として得る:融
点(分解)163℃;IR(CHCl3,cm-1)3410,
2132,1756,1718,1650,1350,1280,1120;
NMR(CDCl3)δ7.9(2d−芳香族,4),δ5.4(s,
2),δ6,2(br,s,1),δ4.1(m,2),δ2.
6
〜3.6(m,4),δ1.32(d,3,J=6.2)。
実施例 2
本発明の中間体の使用(チエナマイシンの製
造) 段階 1 .5R,6S)p−ニトロベンジル6−〔(R)−1−
ヒドロキシエチル〕−1−アザビシクロ〔3,2,
0〕ヘプタン−3,7−ジオン−2−カルボキシ
レートの製造 無水ベンゼン(3ml)中(3S,4R)−3−〔(R)
−1−ヒドロキシエチル〕−4−〔3−(4−ニト
ロベンジル)オキシカルボニル−2−オキソ−3
−ジアゾプロピル〕−アゼチジン−2−オン
(56.4mg,0.15ミリモル)及びロジウム()ア
セテート(0.1mg)の懸濁液を窒素ガスを通しな
がら10分間、脱酸素を行なう。次に、この混合物
を78℃、1時間、加熱する。加熱中に固体である
出発物質は徐々に溶液となる。次にこの混合物冷
却し、過することにより触媒を除き、液を真
空下濃縮することにより、(5R,6S)−p−ニトロ
ベンジル6−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−
1−アザビシクロ〔3,2,0〕ヘプタン−3,
7−ジオン−2−カルボキシレート(51mg,98
%)を無色、油状物質として得、これは、室温
(22℃)でゆつくり結晶化する。
造) 段階 1 .5R,6S)p−ニトロベンジル6−〔(R)−1−
ヒドロキシエチル〕−1−アザビシクロ〔3,2,
0〕ヘプタン−3,7−ジオン−2−カルボキシ
レートの製造 無水ベンゼン(3ml)中(3S,4R)−3−〔(R)
−1−ヒドロキシエチル〕−4−〔3−(4−ニト
ロベンジル)オキシカルボニル−2−オキソ−3
−ジアゾプロピル〕−アゼチジン−2−オン
(56.4mg,0.15ミリモル)及びロジウム()ア
セテート(0.1mg)の懸濁液を窒素ガスを通しな
がら10分間、脱酸素を行なう。次に、この混合物
を78℃、1時間、加熱する。加熱中に固体である
出発物質は徐々に溶液となる。次にこの混合物冷
却し、過することにより触媒を除き、液を真
空下濃縮することにより、(5R,6S)−p−ニトロ
ベンジル6−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−
1−アザビシクロ〔3,2,0〕ヘプタン−3,
7−ジオン−2−カルボキシレート(51mg,98
%)を無色、油状物質として得、これは、室温
(22℃)でゆつくり結晶化する。
物理的性質:
NMR:(300MH2,CDCl3)δ8.26,δ7.54(芳香族
水素、4),δ5.29(AB,2),δ4.77(s,1),
δ4.32(dq,1,J=6.6,7),δ4.16(ddd,1,
J=7.,7.5,2.2),δ3.21(dd,1,J=7,2.2)
,
δ2.94(dd,1,J=19.5,7),δ2.50(dd,1,
J=19.5,7.5)δ2.2(br,s,1),δ1.37(d,
3,J=6.6)。IR:(CHCl3,cm-1)1770,1758,
1610,1522,1353。融点110〜111℃ 段階 2 p−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノエ
タンチオールの製造 氷浴中600mlのジエチルエーテル(Et2O)75ml
のH2Oを攪拌し、これに3.2gのシステアミン塩
酸塩(MW=114;28.1ミリモル)を加える。こ
れに、75mlH2O中の7.14gNaHCO3(MW=84;
85ミリモル)溶液を加える。氷溶を除き、室温に
於て、270mlEt2Oに溶解した6.75gのp−ニトロ
ベンジルクロロホルメート(MW=21631.3ミリ
モル)を1時間に渡つて滴下する。その後10分、
経過すると2層が分離する。エーテル層を150ml
の0.25NHCl。続いて200mlの飽和食塩水で抽出す
る。次にこれらの水層を100mlのEt2Oで十分に洗
浄する。得られたEt2O層を合わせ、無水MgSO4
で乾燥し、過後、窒素気流下で濃縮する。結晶
性の残渣を少量のエーテルに懸濁し、過を行な
い得られる淡黄色の結晶を高真空で乾燥すること
により4.7gのp−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルアミノエタンチオールを得る(収率65%)。
水素、4),δ5.29(AB,2),δ4.77(s,1),
δ4.32(dq,1,J=6.6,7),δ4.16(ddd,1,
J=7.,7.5,2.2),δ3.21(dd,1,J=7,2.2)
,
δ2.94(dd,1,J=19.5,7),δ2.50(dd,1,
J=19.5,7.5)δ2.2(br,s,1),δ1.37(d,
3,J=6.6)。IR:(CHCl3,cm-1)1770,1758,
1610,1522,1353。融点110〜111℃ 段階 2 p−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノエ
タンチオールの製造 氷浴中600mlのジエチルエーテル(Et2O)75ml
のH2Oを攪拌し、これに3.2gのシステアミン塩
酸塩(MW=114;28.1ミリモル)を加える。こ
れに、75mlH2O中の7.14gNaHCO3(MW=84;
85ミリモル)溶液を加える。氷溶を除き、室温に
於て、270mlEt2Oに溶解した6.75gのp−ニトロ
ベンジルクロロホルメート(MW=21631.3ミリ
モル)を1時間に渡つて滴下する。その後10分、
経過すると2層が分離する。エーテル層を150ml
の0.25NHCl。続いて200mlの飽和食塩水で抽出す
る。次にこれらの水層を100mlのEt2Oで十分に洗
浄する。得られたEt2O層を合わせ、無水MgSO4
で乾燥し、過後、窒素気流下で濃縮する。結晶
性の残渣を少量のエーテルに懸濁し、過を行な
い得られる淡黄色の結晶を高真空で乾燥すること
により4.7gのp−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルアミノエタンチオールを得る(収率65%)。
NMR(CDCl3):8.18(d,J=8Hz,ニトロに対
し、オルトの芳香族水素)、5.27(−NH−)、5.20
(s,−CH 2−NH−),2.67(m,−CH 2−SH),
1.35(t,J=8.5Hz,−SH;IR(CHCl3溶液):
1725cm-1(カルボニル)。MS;分子イオンピーク
256,209(M−47),120(M−136),136(+CH2〓
PNO2) 段階 3 (5R,6S)−p−ニトロベンジル−3−〔2−(p
−ニトロベンジルオキシカルボニル)アミノエチ
ルチオ〕−6−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−
1−アザ−ビシクロ〔3,2,0〕−ヘプタ−2
−エン−7−オン−2−カルボキシレートの製造 (5R,6S)−p−ニトロベンジル−6−〔(R)−
1−ヒドロキシエチル〕−1−アザビシクロ〔3,
2,0〕−ヘプタン−3,7−ジオン−2−カル
ボキシレート(51mg,0.147ミリモル)をアセト
ニトリル(3ml)に溶解し、この溶液を0℃に冷
却する。ジイソプロピルエチルアミン(22mg,
0.17ミリモル)を注射器により加え、得られた溶
液を0℃、1分攪拌し、続いて無水アセトニトリ
ル中の無水p−トルエンスルホン酸(51mg、
0.156ミリモル、再結したてのもの)を加える。
得られた単離できる中間体、 (5R,6S)p−ニトロベンジル−3−(p−トル
エンスルホニルオキシ−6〔(R)−1−ヒドロキ
シエチル〕−1−アザビシクロ〔3,2,0〕ヘ
プタ−2−エン−7−オン−2−カルボキシレー
トを含む溶液を0℃、1時間攪拌し、−25℃に冷
却する。ジイソプロピルアミン(80.5mg,0.624
ミリモル)を注射器で加え、そのすぐ後に1mlの
無水アセトニトリルに溶解したN−p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルシステアミン(40mg,
0.156ミリモル)を加える。この反応混合物を、
次に70時間、冷蔵庫中に放置する。この混合物を
25mlの酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を真空下
除去することにより黄色油状物質が得られ、これ
をシリカゲルの薄層クロマトグラフイー(酢酸エ
チル、Rf=0.4)で精製することにより、(5R,6S)
p−ニトロベンジル−3〔2−(p−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)アミノエチルチオ〕−6−
〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−1−アザビシク
ロ〔3,2,0〕ヘプタ−2−エン−7−オン−
2−カルボキシレートを黄色固体として得る:融
点167〜169℃;IR(又はジヨール)1773及び1690
cm-1;NMR(CDCl3)S7.54〜8.26(重なりあつた
ABq,4),δ5.40(ABq,2),δ5.22(s,2),
δ4.27(m,2),δ3.47(m)δ3.23(dd,1),δ
3.14
(dd,1),δ3.40(dd,1),δ3.04(m,2),
δ1.37(d,3)。
し、オルトの芳香族水素)、5.27(−NH−)、5.20
(s,−CH 2−NH−),2.67(m,−CH 2−SH),
1.35(t,J=8.5Hz,−SH;IR(CHCl3溶液):
1725cm-1(カルボニル)。MS;分子イオンピーク
256,209(M−47),120(M−136),136(+CH2〓
PNO2) 段階 3 (5R,6S)−p−ニトロベンジル−3−〔2−(p
−ニトロベンジルオキシカルボニル)アミノエチ
ルチオ〕−6−〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−
1−アザ−ビシクロ〔3,2,0〕−ヘプタ−2
−エン−7−オン−2−カルボキシレートの製造 (5R,6S)−p−ニトロベンジル−6−〔(R)−
1−ヒドロキシエチル〕−1−アザビシクロ〔3,
2,0〕−ヘプタン−3,7−ジオン−2−カル
ボキシレート(51mg,0.147ミリモル)をアセト
ニトリル(3ml)に溶解し、この溶液を0℃に冷
却する。ジイソプロピルエチルアミン(22mg,
0.17ミリモル)を注射器により加え、得られた溶
液を0℃、1分攪拌し、続いて無水アセトニトリ
ル中の無水p−トルエンスルホン酸(51mg、
0.156ミリモル、再結したてのもの)を加える。
得られた単離できる中間体、 (5R,6S)p−ニトロベンジル−3−(p−トル
エンスルホニルオキシ−6〔(R)−1−ヒドロキ
シエチル〕−1−アザビシクロ〔3,2,0〕ヘ
プタ−2−エン−7−オン−2−カルボキシレー
トを含む溶液を0℃、1時間攪拌し、−25℃に冷
却する。ジイソプロピルアミン(80.5mg,0.624
ミリモル)を注射器で加え、そのすぐ後に1mlの
無水アセトニトリルに溶解したN−p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルシステアミン(40mg,
0.156ミリモル)を加える。この反応混合物を、
次に70時間、冷蔵庫中に放置する。この混合物を
25mlの酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を真空下
除去することにより黄色油状物質が得られ、これ
をシリカゲルの薄層クロマトグラフイー(酢酸エ
チル、Rf=0.4)で精製することにより、(5R,6S)
p−ニトロベンジル−3〔2−(p−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)アミノエチルチオ〕−6−
〔(R)−1−ヒドロキシエチル〕−1−アザビシク
ロ〔3,2,0〕ヘプタ−2−エン−7−オン−
2−カルボキシレートを黄色固体として得る:融
点167〜169℃;IR(又はジヨール)1773及び1690
cm-1;NMR(CDCl3)S7.54〜8.26(重なりあつた
ABq,4),δ5.40(ABq,2),δ5.22(s,2),
δ4.27(m,2),δ3.47(m)δ3.23(dd,1),δ
3.14
(dd,1),δ3.40(dd,1),δ3.04(m,2),
δ1.37(d,3)。
段階 4
チエナマイシンの製造
テトラヒドロフラン(2ml)、0.1Mリン酸2カ
リ溶液(1.4ml)及び2−プロパノール(0.2ml)
の混合液中のN−p−ニトロベンジルオキシカル
ボニルチエナマイシンp−ニトロベンジルエステ
ル(10mg,0.017ミリモル)及び10%Pd/C−ボ
ルホフアー型(Bolhofer type)の混合物をパー
シエーカー(Parr shaker)中、40paiで30分、
水素添加を行なう。次にこの混合物を過し、触
媒を水(3×3ml)で洗浄する。液と洗浄液を
合わせ、酢酸エチル−エチルエーテルで抽出し、
次に3mlに濃縮し、凍結乾燥する。得られた白色
の粉末は天然のチエナマイシンと全ての点で同一
である。
リ溶液(1.4ml)及び2−プロパノール(0.2ml)
の混合液中のN−p−ニトロベンジルオキシカル
ボニルチエナマイシンp−ニトロベンジルエステ
ル(10mg,0.017ミリモル)及び10%Pd/C−ボ
ルホフアー型(Bolhofer type)の混合物をパー
シエーカー(Parr shaker)中、40paiで30分、
水素添加を行なう。次にこの混合物を過し、触
媒を水(3×3ml)で洗浄する。液と洗浄液を
合わせ、酢酸エチル−エチルエーテルで抽出し、
次に3mlに濃縮し、凍結乾燥する。得られた白色
の粉末は天然のチエナマイシンと全ての点で同一
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次式 で示される化合物(式中、Rは保護基)。 2 次式 で示される化合物(式中、Rは保護基)を塩基の
存在下にアジドで処理することを特徴とする、 次式 で示される化合物(式中、Rは保護基)の製造方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/933,323 US4174316A (en) | 1978-08-14 | 1978-08-14 | 4-Iodomethylazetidin-2-one |
| US933,323 | 1978-08-14 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63208472A Division JPS6479182A (en) | 1978-08-14 | 1988-08-24 | Thienamycin synthesis intermediate and manufacture |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03184954A JPH03184954A (ja) | 1991-08-12 |
| JPH05384B2 true JPH05384B2 (ja) | 1993-01-05 |
Family
ID=25463739
Family Applications (4)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5353279A Granted JPS5527169A (en) | 1978-08-14 | 1979-05-02 | Manufacture of thienamycin and intermediate |
| JP63208472A Granted JPS6479182A (en) | 1978-08-14 | 1988-08-24 | Thienamycin synthesis intermediate and manufacture |
| JP2336948A Granted JPH03184954A (ja) | 1978-08-14 | 1990-11-30 | チエナマイシン合成中間体及びその製造方法 |
| JP2336947A Expired - Lifetime JPH0780884B2 (ja) | 1978-08-14 | 1990-11-30 | チエナマイシン合成中間体及びその製造方法 |
Family Applications Before (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5353279A Granted JPS5527169A (en) | 1978-08-14 | 1979-05-02 | Manufacture of thienamycin and intermediate |
| JP63208472A Granted JPS6479182A (en) | 1978-08-14 | 1988-08-24 | Thienamycin synthesis intermediate and manufacture |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2336947A Expired - Lifetime JPH0780884B2 (ja) | 1978-08-14 | 1990-11-30 | チエナマイシン合成中間体及びその製造方法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4174316A (ja) |
| EP (1) | EP0007973B1 (ja) |
| JP (4) | JPS5527169A (ja) |
| DE (1) | DE2966598D1 (ja) |
| DK (1) | DK169971B1 (ja) |
| ES (2) | ES480127A1 (ja) |
| FI (1) | FI66001C (ja) |
| IE (1) | IE48728B1 (ja) |
Families Citing this family (51)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4275207A (en) * | 1978-08-14 | 1981-06-23 | Merck & Co., Inc. | Process for preparing 7-(1-hydroxyethyl)-3-(2-aminoethylthio)-1-carbadethiaceph-3-em-3-carboxylic acid and intermediate therefor |
| JPS55147284A (en) * | 1979-04-17 | 1980-11-17 | Sanraku Inc | Novel beta-lactam derivative and its preparation |
| ATE15039T1 (de) * | 1979-04-27 | 1985-09-15 | Merck & Co Inc | Verfahren zur herstellung von 3-(1-hydroxyaethyl)- azetidinonen. |
| US4400323A (en) * | 1979-07-23 | 1983-08-23 | Merck & Co., Inc. | 3-[1-Hydroxyethyl]-4-carboxymethyl-azetidin-2-one |
| PT71553B (en) * | 1979-07-23 | 1981-12-14 | Merck & Co Inc | Process for the preparation of thienamycin and intermediates |
| PT71552B (en) * | 1979-07-23 | 1981-12-14 | Merck & Co Inc | Process for preparation of thienamycin and intermediates |
| EP0028151A1 (en) * | 1979-10-29 | 1981-05-06 | Beecham Group Plc | Process for the preparation of antibiotics |
| GR72296B (ja) * | 1979-12-03 | 1983-10-18 | Merck & Co Inc | |
| US4262010A (en) * | 1979-12-03 | 1981-04-14 | Merck & Co., Inc. | 6-(1-Hydroxyethyl)-2-(2-aminoethylthio)-1,1-disubstituted-1-carbadethiapen-2-em-3-carboxylic acids |
| ATE10838T1 (de) * | 1980-02-28 | 1985-01-15 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | 4-substituierte 2-oxoazetidin-verbindungen, verfahren zu deren herstellung und ihre verwendung zur antibiotika-herstellung. |
| DE3169321D1 (en) * | 1980-03-27 | 1985-04-25 | Merck & Co Inc | Process for the preparation of 1-carbapenems and intermediates via silyl-substituted dithioacetals |
| US4309346A (en) * | 1980-03-27 | 1982-01-05 | Merck & Co., Inc. | Process for the preparation of 1-carbapenems and intermediates via trithioorthoacetates |
| IE52147B1 (en) * | 1980-03-27 | 1987-07-08 | Merck & Co Inc | 4-(3-carboxy-2-oxopropyl)-azetidin-2-ones and process for their preparation |
| EP0038869A1 (en) * | 1980-04-30 | 1981-11-04 | Merck & Co. Inc. | Process for the preparation of 1-carbapenems, and intermediates for their preparation |
| JPS56154484A (en) * | 1980-05-01 | 1981-11-30 | Merck & Co Inc | 1-carbapenems derived from-4azetidinone and manufacture of intermediate therefor |
| JPS5777670A (en) * | 1980-10-31 | 1982-05-15 | Microbial Chem Res Found | Preparation of 2-azetidinone derivative |
| JPS57123182A (en) * | 1980-12-18 | 1982-07-31 | Merck & Co Inc | 6- and 4-substituted-1-azabicyclo(3,1,2,0)heptane- 3,7-dione-2-carboxylate |
| US4348325A (en) * | 1981-03-30 | 1982-09-07 | Merck & Co., Inc. | Methyl 3-azido-4-C-cyano-2,3,4,6-tetradeoxy-α-D-arabino-hexopyranoside |
| EP0073451B1 (en) * | 1981-08-27 | 1987-05-13 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | Carbapenam compound and processes for the preparation thereof |
| WO1983002614A1 (fr) * | 1982-02-02 | 1983-08-04 | Takeda Chemical Industries Ltd | Derives de l'acide 5,6-cis-carbapenem-3-carboxylique et leur procede de preparation |
| JPS5865291A (ja) * | 1981-10-14 | 1983-04-18 | Sankyo Co Ltd | カルバペネム−3−カルボン酸誘導体およびその製法 |
| CA1190236A (en) * | 1981-10-23 | 1985-07-09 | Edward J.J. Grabowski | Antibiotic synthesis |
| JPS58103391A (ja) * | 1981-12-11 | 1983-06-20 | Meiji Seika Kaisha Ltd | 1−オキサデチア−セフエム誘導体の製造法 |
| US4683301A (en) * | 1982-04-08 | 1987-07-28 | Bristol-Myers Company | Carbapenem antibiotics |
| US4710568A (en) * | 1982-04-09 | 1987-12-01 | Bristol-Myers Company | Carbapenem antibiotics |
| US4642341A (en) * | 1982-04-09 | 1987-02-10 | Bristol-Myers Company | Carbapenem antibiotics |
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