JPH0248992A - イミダゾール系染料を含む光学的記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、レーザーを用いた光学的記録材料に関し、更
に詳しくはレーザー光用記録媒体として、イミダゾール
系染料を使用した光学的記録材料に関するものである。

発明の背景 近年、レーザーを用いた光学的記録は高密度な情報の記
録、保存および再生を可能とするため、活発な研究開発
がなされている。

光学的記録の一例としては、光ディスクを挙げることが
できる。

一般に、光ディスクは、円形の基体に設けられた薄い記
録層に、１μｍ程度に集束させたレーザー光を照射する
ことにより、高密度の情報記録を行うものである。その
記録は、照射されたレーザー光のもつエネルギーを吸収
した記録層は、分解、蒸発、昇華、溶解等の変化が生じ
ることにより行われる。

また、記録された情報の再生は、記録層に変化を与えな
い程度のレーザー光を照射し、記録層の変化のある部分
とない部分の反射率の差を読みとることにより行われる
。

従って、光学的記録材料としては、レーザー光のエネル
ギーを効率よく吸収する必要があるため、記録に使用す
る特定の波長のレーザー光に対する吸収が大きいこと、
情報の再生を正確に行うため、再生に使用する特定波長
のレーザー光に対する反射率が高いことが必要となる。

この種の光学的記録材料としては、種々のものが知られ
ている１例えば、特開昭５５−９７０３３号には、基板
上にフタロシアニン系色素の単層を設けたものが開示さ
れている。しかしながらフタロシアニン系色素はレーザ
ー光に対する感度が低く、また有機溶媒に対する溶解性
が小さいので、塗布によるコーティングができないとい
う問題点も有している。

また、特開昭５８−８３３４４号にはナフトキノン系色
素を記録層に設けたものが開示されている。しかし、こ
の様な色素は蒸着しやすいという利点を存する反面、反
射率が低く、レーザー光により記録された部分と未記録
部分との反射率に関係するコントラストは低（なり、記
録された情報の再生が困難となる。更に、一般に有機系
色素は保存安定性が劣るという問題点を有している。

そこで、本発明者等は、レーザー光に対する良好な特性
を有する色素を探究すべく、種々研究を続けた結果、多
くの色素の中からレーザー光記録に適した色素として、
イミダゾール系色素を見い出し、本発明をなすに至った
。

発明の目的 本発明の目的は、有機溶媒に対する溶解性が高く、塗布
によるコーティングが可能で、しかも、反射率が高く、
コントラストが良好で保存性に優れた、イミダゾール系
染料を含有する光学的記録材料を提供することである。

発明の構成 したがって、本発明の前記目的は、一般式（１〕で表さ
れるイミダゾール系染料を有する光学的記録材料によっ
て達成された。

一般式（１） 〔式中、Ｒ１およびＲ２は各々水素原子、アルキル基ま
たは置換アルキル基を表し、更にＲ＋とＲ２は互いに結
合して５員環または６員環を形成してもよい。

Ｒ，、Ｒ，、Ｒ，およびＲ４は、各々水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、
置換アルコキシ基、アミノ基または置換アミノ基を表す
。

ＡおよびＢは、炭素原子、窒素原子、酸素原子または硫
黄原子を介してイミダゾール環に結合した有機基を表す
。］ 更に本発明の前記目的は、レーザー光により、状態を変
化させることによって記゛録を行う記録層および基板を
含む光学的記録材料において、該記録層に、前記一般式
〔ｒ〕で表されるイミダゾール系染料を含有させた光学
的記録材料によって達成された。

以下、本発明をさらに詳細に説明する。

一般式（１）で表されるイミダゾール系染料において、
Ｒ５およびＲ２は好ましくは水素原子、アルキル基なら
びにヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、ア
ルコキシアルコキシアルキル基およびアルキルスルホン
アミドアルキル基等の置換アルキル基である。これらの
基の例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、５ｅｃ−ブチル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチ
ル、オクチル、ドデシル、オクタデシル、シクロヘキシ
ル等の炭素数が１〜１８のアルキル基、ヒドロキシエチ
ル、メトキシエチル、メトキシブチル、エトキシエチル
、メトキシエトキシエチル、エトキシエトキシエチル、
β−メタンスルホンアミドエヂル等の置換アルキル基が
挙げられる。

Ｒ１とＲ２とが結合して形成する５員環または６員環と
しては例えばピロリジノ、ピペリジノ、ピペラジノ、モ
ルホリノ等の各基が挙げられる。

Ｒ３、Ｒ，、ＲｓおよびＲ６は互いに同じでも異なって
いてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基
、アルキルスルホンアミドアルキル基、アルコキシ基、
アミノ基、アルキル置換アミノ基、ジアルキル置換アミ
ン基、了り−ル置換アミノ基等である。これらの例とし
ては、塩素原子、臭素原子、メチル、エチル、ヒドロキ
シメチル、ヒドロキシエチル、メトキシエチル、メタン
スルホンアミドエチル、メトキシ、エトキシ、Ｎ−メチ
ルアミノ、Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ、スルホンアミノ、
アセチルアミノ等の基が挙げられる。

Ａは炭素原子、窒素原子、酸素原子または硫黄原子を介
してイミダゾール環に結合した有機基であり、これらＡ
およびＢは、同じであっても異っていてもよい。

炭素原子を介した有機基としては、アルキル基（例えば
、メチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、トリフルオロメ
チル、ベンジル、３−（４−アミノフェニル）プロピル
、アリル、２−ドデシルオキシエチル、３−フェノキシ
プロピル、２−へキシルスルホニルエチル、３−　（４
−（４−ドデシルオキシベンゼン）スルホンアミドフェ
ニル〕プロピル、ｌ−メチル−２−〔（２−オクチルオ
キシ−５−ｔ−オクチルフェニル）スルホンアミドフェ
ニル〕エチル、１−メチル−２＝〔２−オクチルオキシ
−５−（２−オクチルオキシ−５−ｔオクチルフェニル
スルホンアミド）フェニルスルホンアミド〕エチル、２
−〔２−オクチルオキシ−５−（２−オクチルオキシ−
５−ｔ−オクチルフェニルスルホンアミド）フェニルス
ルホンアミド〕エチル等）、。

アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、置換フ
ェニル基、置換ナフチル基が好ましく、この置換基とし
ては、例えばハロゲン原子（好ましくは弗素、塩素、臭
素）、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、それぞれ
置換されていてもよいアルキル基、アルコキシ基、アル
キルアミド基、アリールアミド基、アルキルスルホンア
ミド基、アリールスルホンアミド基、カルバモイル基、
スルファモイル基、ジアルキルカルバモイルアミノ基、
ジアルキルスルファモイルアミノ基；それぞれ置換され
ていてもよいアリールカルバモイルアミノ基、アルキル
オキシカルボニルアミノ基、イミド基、アルキルカルバ
モイル基、アルキルスルファモイル基、アリールカルバ
モイル基、アリールスルファモイル基、アルコキシカル
ボニル基、アルコキシスルホニル基等のような基が挙げ
られる。

これらの各置換基について更に詳しく説明すると、無置
換のアルキル基の例としては、メチル、エチル、５ｅｃ
−ブチル、ｔ−オクチル、ドデシル等で代表される炭素
原子数１〜２２の直鎖もしくは分岐のアルキル基が好ま
しく、置換アルキル基としテハヒドロキジエチル基で代
表されるヒドロキシ置換アルキル基、メトキシエチル、
メトキシエトキシエチル基で代表されるアルコキシ置換
アルキル基が好ましい。

無置換のアルコキシ基の例としては、メトキシ、エトキ
シ、ｎ−ブトキシ、５ｅｃ−ブトキシ、ドデシルオキシ
基、オクタデシルオキシ等で代表される炭素原子数１〜
２２の直鎖もしくは分岐のアルコキシ基が好ましく、置
換アルコキシ基としてはメトキシエトキシ等で代表され
るアルコキシ置換アルコキシ基が好ましい。

無置換のアルキルアミド基としてはアセトアミド、プロ
ピオンアミド、ペンタンアミド、ラウリルアミド、ステ
アリルアミド等で代表された炭素原子数１〜２２のアル
カンのアミド基が好ましく、置換アルキルアミドとして
は、２．４−ジ−ｔ−アミルフェノキシアセトアミド、
２−（ｍ−ペンタデシルフェノキシ）ブタンアミド等で
代表されるフェノキシ置換アルキルアミド基、クロロア
セトアミド、トリフルオロアセトアミド、パーフルオロ
ブタンアミド等のハロゲン置換アルキルアミド基が好ま
しい。

了り−ルアミド基としては、ベンズアミド、ナフトアミ
ドの様な無置換の了り−ルアミド基、〇−テトラデカオ
キシベンズアミドで代表されるアルコキシ置換ベンズア
ミド基、トラウリルアミドベンズアミド、ｔａ−（２−
（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ヘキサンアミド
）ベンズアミド、０−ヘキサデカンスルホンアミドベン
ズアミド等で代表されるアミド、スルホンアミド置換ベ
ンズアミドや０．クロロベンズアミドやパーフルオロベ
ンズアミド等で代表されるハロゲン置換ベンズアミド基
が好ましい。

アルキルスルホンアミド基としてはメタンスルホンアミ
ド、エタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ヘ
キサデカンスルホンアミド等で代表される炭素原子数１
〜２２のアルカンのスルホンアミド基が好ましい。

アリールスルホンアミドの例としてはベンゼンスルホン
アミド、ナフタレンスルホンアミドの様な無置換のアリ
ールアミド基、またｐ−）ルエンスルホンアミド、キシ
レンスルホンアミド、ドデシルベンゼンスルホンアミド
、ｐ−ドデシルオキシベンゼンスルホンアミド等で代表
されるアルキル置換ベンゼンスルホンアミド基、アルコ
キシ置換ベンゼンスルホンアミド基が置換ベンゼンスル
ホンアミド基として好ましい。

また、ジアルキルカルバモイルアミノ基、ジアルキルス
ルファモイルアミノ基のアルキル基としては炭素原子数
１〜８のアルキル基が好ましく、炭素原子数１〜４のメ
チル、エチル、プロピル、ブチルが代表的であり好まし
い。

また、アリールカルバモイルアミノ基としてはフェニル
カルバモイルアミノ基の無置換のフェニルカルバモイル
アミノ基やｐ−シアノフェニルカルバモイルアミノやρ
−クロロフェニルカルバモイルアミノで代表されるハロ
ゲン置換フェニルカルバモイル基等が置換フェニルカル
バモイル基として好ましい。

アルキルオキシカルボニルアミノ基のアルキルとしては
メチル、エチル、ブチル、ドデシル等の炭素原子数１〜
２２の無置換アルキルが好ましく、イミド基としてはコ
ハク酸イミド、フタルイミドやこれらのアルキル置換体
等が好ましい。

アルキルカルバモイル基、アルキルスルファモイル基の
アルキルとしてはブチル、ドデシル等炭素原子数１〜２
２のアルキル基の様な無置換アルキル基を持ったアルキ
ルカルバモイル基やアルキルスルファモイル基、またγ
−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブチルの様な
フェノキシ置換アルキル基、ｎ−ドデシルオキシプロピ
ル等で代表されるアルコキシ置換アルキル基を持った置
換アルキルカルバモイル基や置換アルキルスルファモイ
ル基が好ましい。

アリールカルバモイル、アリールスルファモイル基とし
てはフェニルカルバモイル、フェニルスルファモイル等
の無置換アリールカルバモイル基や無置換アリールスル
ファモイル基、アルキル基やハロゲン原子で置換された
フェニルカルバモイル基やフェニルスルファモイル基等
で代表される置換フェニルカルバモイル基や置換フェニ
ルスルファモイル基が好ましい。

また、それぞれ置換されていてもよいアルコキシカルボ
ニル基およびアルコキシスルホニル基のアルコキシ基と
してはメトキシ、エトキシ、ブトキシ等で代表される炭
素原子数１〜２２の無置換のアルコキシ基が好ましい。

）、複素環基（例えば、４−ピリジル、２−ベンゾイミ
ダゾリル等）、シアノ基、カルボキシル基、アシル基、
カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基等が挙げられる。

窒素原子を介した有機基としては、アシルアミノ基（例
えば、アセトアミド、ベンズアミド、２゜４−ジーｔ−
アミルフェノキシアセトアミド、２．４−ジクロロベン
ズアミド等）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば
、メトキシカルボニルアミノ、プロポキシカルボニルア
ミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ等）、アリールオ
キシ力ルポニルアミノ基（例えば、フェノキシカルボニ
ルアミノ）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホ
ンアミド、オクタンスルホンアミド、ベンゼンスルホン
アミド、４−ドデシルオキシベンゼンスルホンアミド等
）、アニリノ基（例えば、フェニルアミノ、２−クロロ
アニリノ、２−クロロ−４−テトラデカンアミドアニリ
ノ等）、ウレイド基（例えば、Ｎ−メチルウレイド、Ｎ
−ブチルウレイド、Ｎ−フェニルウレイド、Ｎ、Ｎ−ジ
ブチルウレイド等）、スルファモイルアミノ基（例えば
、Ｎ、Ｎ−ジエチルスルファモイルアミノ、Ｎ−フェニ
ルスルファモイルアミノ等）、アミノ基（例えば、無置
換アミノ、Ｎ−メチルアミノ、Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ
等）、複素環基（例えば、３．５−ジメチル−１−ピラ
ゾリル、２．６−ジメチルモルホリノ基）等が挙げられ
る。

酸素原子を介した有機基としては、アルコキシ基（例え
ば、メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ブトキシ、
２．２．２−トリフルオロエトキシ、３．３．３−トリ
フルオロプロポキシ、２−クロロエトキシ、２−シアノ
エトキシ、２−ブタンスルホニルエトキシ等）、アリー
ルオキシ基（例えば、フェノキシ、４−メトキシフェノ
キシ、２．４−ジクロロフェノキシ、４−（２−エチル
ヘキサンアミド）フェノキシ等）、シリルオキシ基（例
えば、トリメチルシリルオキシ、ジメチルフェニルシリ
ルオキシ、ジメチル−ｔ−ブチルシリルオキシ等）、複
素環オキシ基（例えば、テトラヒドロピラニルオキシ、
３−ピリジルオキシ、２−（１，３−ベンゾイミダゾリ
ル）オキシ等）等が挙げられる。

硫黄原子を介した有機基としては、アルキルチオ基（例
えば、メチルチオ、エチルチオ、ブチルチオ、３−（４
−アミノフェニル）プロピルチオ、ヘキサデシルチオ、
ベンジルチオ、４−アミノベンジルチオ、３−　（４−
（４−ドデシルオキシベンゼン）スルホンアミドフェニ
ル〕プロピルチオ、４−（２−ブトキシ−５−ｔ−オク
チルフェニルスルホンアミド）ベンジルチオ等）、アリ
ールチオ等（例えば、フェニルチオ、２−ナフチルチオ
、２．５−ジクロロフェニルチオ、４−ドデシルフェニ
ルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−オクチルフェニルチオ
等）、複素環チオ基（例えば５．２−ピリジルチオ、２
−（１，３−ベンゾオキサシリル）チオ基、■−ヘキサ
デシルー１．２．３．４−テトラゾリル−５−チオ基、
１−（３−Ｎ−オクタデシルカルバモイル）フェニル−
１，２，３，４−テトラゾリル−５チオ等）等が挙げら
れる。

本発明に用いられる光学的記録媒体として用いられる一
般式（１）で表されるイミダゾール系染料は、６００ｎ
ｍ〜８００ｎｍの波長帯域で吸収を有し、しかもモル吸
光係数が１０４〜１０５である。

次に本発明に用いられるイミダゾール系染料の代表的化
合物を例示するが、本発明は、これらのものに限定され
るものではない。

イミダゾール系染料 ＮＨＣｏ　ＣＨｘ 一般式（１）で表されるイミダゾール系染料は、下記の
一般式（ＩＩ）で表される化合物と下記の一般式（ｆｉ
ｒ）で表されるパラフェニレン系化合物を酸化剤の存在
下で反応させることによって合成することができる。

一般式［Ｉ［） （式中、ＡおよびＢは、前述の一般式（１）において記
載されたものと同義である。） 一般式（Ｉ［［） （式中、Ｒ＋　、Ｒｚ　、Ｒ３、Ｒ４、ＲｓおよびＲｈ
は、一般式（１）において記載されたものと同義である
。） この反応、即ちカップリング反応は好ましくは塩基性条
件下で進行させることであり、反応媒体は有機溶媒、水
性有機溶媒あるいは水溶液のいずれでもよい。また、酸
化剤としては有機、無機を問わすｐ−フェニレンジアミ
ンを酸化しうる電位を有するものであればよく、この酸
化剤としては、ハロゲン化銀、過酸化水素、二酸化マン
ガン、過硫酸カリウム、酸素等の無機酸化剤、またＮＢ
Ｓ、クロラミンＴ等の種々の有機酸化剤を用いることが
できる。

本発明で用いられる染料は前述の様にイミダゾール系カ
プラーとｐ−フェニレンジアミン類との酸化カップリン
グにより得られるシアン染料である。

以下に、本発明に用いられる代表的な染料の合成例を示
す。

合成例（イミダゾール系染料５の合成）２−ベンゾイル
アミノ−α−ブロモアセトフェノン６．３８　ｇ　（０
，０２ｏ＋ｏｊりをアセトニトリル１００ｄに懸濁し、
４−アミジノ−ピリジン４．８４　ｇ　（０，０４ｍｏ
ｆ）を加え、室温で３時間撹拌した。溶媒を留去し、残
渣を酢酸エチルで抽出しシリカゲルカラムで処理するこ
とにより、アモルファスの中間体を得た。収量４．４２
ｇ（６５％） 染料の合成 上記中間体３ｇを酢酸エチル３００ｄに溶かし、１０％
炭酸カリウム水溶液３００　ｍｌを加え、室温で撹拌し
なから４−アミノ−３−メチル−Ｎ〜エチル−Ｎ−（β
−メタンスルホンアミドエチル）アニリン硫酸塩ｌｏｇ
を加えた。次に１０％赤血塩水溶液７０−を２時間で滴
下した。滴下終了後２時間室温で反応させた。水層を捨
て、更に２回水洗した後、溶媒を留去した。シリカゲル
カラム（展開溶媒は酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）で
精製しアモルファスの固体を得た。収量４ｇ（７５％）
ＮＭＲ。

Ｆ　Ｄ　−Ｍａｓｓにて構造を確認した。

本発明で用いられるイミダゾール系染料は、光学的記録
用の色素として極めて有用であるばかりでなく、他の用
途、例えば、固体撮影管やカラー液晶テレビ用のフィル
ター染料（例えばイエローあるいはマゼンタ染料と混合
してイエローまたはブルーのフィルターとする。）とし
ても使用することができる。

本発明の光学的記録材料は、基本的には基板とイミダゾ
ール系染料を含む記録層とから構成されるものであるが
、さらに必要に応じて基板上に下引き層をまた記録層上
に保護層を設けることができる。

本発明における基板としては、使用するレーザー光に対
して透明または不透明のいずれでもよい。

基板材料の材質としては、ガラス、プラスチック、紙、
板状または箔状の金属等の一般の記録材料の支持体が挙
げられるが、プラスチックが種々の点から好適である。

プラスチックとしては、アクリル樹脂、メタアクリル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、ニトロセルロー
ス、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリス
ルホン樹脂等が挙げられる。

本発明の光学的記録材料における情報記録層としてイミ
ダゾール系染料を使用する際、膜厚は１００人〜５μｍ
、好ましくは１０００人〜３．　ｐ　ｍである。成膜法
としては真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレ
ード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法など一般に行
なわれている薄膜形成法で成膜することができる。また
、必要に応じてバインダーを使用することもできる。バ
インダーとしてはＰＶＡ、ＰＶＰ、ニトロセルロース、
酢酸セルロース、ポリビニルブチラール、ポリカーボネ
ートなど既知のものが用いられ、樹脂に対するイミダゾ
ール系染料の量は重量比で６．０１以上あることが望ま
しい。スピナー法により成膜の場合、回転数は５００〜
５０００ｒｐｍが好ましく、スピンコードの後、場合に
よっては、加熱あるいは溶媒蒸気にあてる等の処理を行
なってもよい。

また、記録材料の安定性や耐光性向上のために、−重項
酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（たと
えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフエニルジ
チオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−
α−ジケトン等）を含有していてもよい、更に、必要に
応じて他の色素を併用することができる。他の色素とし
ては別の種類のイミダゾール系色素でもよいし、トリア
リールメタン系色素、アゾ染料、シアニン系色素、スク
ワリリウム系色素など他系統の色素でもよい。

ドクターブレード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法
、特に、スピナー法等の塗布方法により記録層を形成す
る場合の塗布溶媒としては、テトラクロロエタン、ブロ
モホルム、ジブロモエタン、エチルセロソルブ、キシレ
ン、クロロベンゼン、シクロヘキサノン等の沸点１２０
〜１６０°Ｃのものが好適に使用される。

本発明の光学的記録材料の記録層は基板の両面に設けて
もよいし、片面だけに設けてもよい。

上記の様にして得られた光学的記録材料への記録は、基
板の両面または、片面に設けた記録層に１μｍ程度に集
束したレーザー光、好ましくは、半導体レーザーの光を
あてる事により行なう。レーザー光の照射された部分に
は、レーザーエネルギーの吸収によって、分解、蒸発、
溶解、昇華等の記録層の熱的変形が起こる。

記録された情報の再生は、レーザー光により、熱的変形
が起きている部分と起きていない部分の反射率の差を読
み取る事により行なう。

本発明の光学的記録材料について使用されるレーザー光
はＮ、　、Ｈｅ−Ｃｄ、Ａｒ、Ｈｅ−Ｎｅ、ルビー、半
導体、色素レーザーなどがあげられるが、特に、軽量性
、取扱いの容易さ、コンパクト性などの点から半導体レ
ーザーが好適である。

実施例 次に実施例を用いて、本発明を更に具体的に説明するが
、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない
。

実施例１ 本発明に用いられる前述の如く合成したイミダゾール系
染料（５）Ｉｇをジブロモエタン５０ｇに溶解した後、
０．２２μのフィルターを用いて濾過し、染料溶液を得
た。

光デイスク用基板として、紫外線硬化樹脂でつくられた
深さ７００人、幅０．７　ｕの溝付きＰＭＭＡ樹脂基板
（５インチ）を用い、この基板上に前記染料溶液２　ｍ
ｌをスピナー法により滴下し、１２０Ｏｒｐｍ＋の回転
数で塗布した。塗布後、６０°Ｃで１０分間乾燥した。

この膜厚を測定するために、同一条件でガラス板を用い
て、α−ステップによる膜厚測定を実施したところ、こ
の膜厚は３７００人であった。またこの塗布膜の最大吸
収波長は６４０ｎｍであった。

このようにして得られた光ディスクに光源としてビーム
径２．４ｕｍＳ波長６３２．８　ｎ　ｍのＨｅ−Ｎｅレ
ーザーを用いて書き込みを行った結果、均一かつ明瞭な
形状のピット（孔）が得られた。Ｃ／Ｎ比および保存安
定性も良好であった。

実施例２ 実施例１で用いた染料（５）にかえて、等モルの染料（
１６）、（２０）、（２２）　、および（２５）を用い
て、実施例１に記載された方法にしたがって、光ディス
クを製造した。得られた光ディスクの塗布膜厚、最大吸
収波長を表に示した。

このうち、本発明に用いられる染料（２２）の吸収スペ
クトルを第１図に示した。

表 機溶媒に対する溶解性が高いので、塗布によるコーティ
ングができ、その上該染料を用いて得られた光学記録材
料は、反射率が高く、コントラストが良好でありかつ保
存安定性にも優れており、極めて有用なものである。

このようにして得られた光ディスクに光源として、ビー
ム径２．４ｐｍ、波長６３２．８　ｎ、　ｍのＨｅＮｅ
レーザーを用いて書き込みを行ったところ、均一かつ明
瞭な形状のピット（孔）が得られた。

またＣ／Ｎ比も良好であり、更に保存安定性も良好であ
った。また光源として、Ｈｅ−Ｎｅレーザーにかえて半
導体レーザーを用いた場合も、本発明の効果を得た。

発明の効果 本発明にＷいられるイミダゾール系染料は、有田願人　
　　　　コニカ株式会社 代理人　弁理士　中　島　幹　雄 外１名 手糸売ネ甫正書（方　式） 昭和６３年１２月１５日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）一般式〔 I 〕で表されるイミダゾール系染料を有
   する光学的記録材料。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１およびＲ＿２は各々水素原子、アルキル
   基または置換アルキル基を表し、更にＲ＿１とＲ＿２は
   互いに結合して５員環または６員環を形成してもよい。 Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５およびＲ＿６は、各々水素原子
   、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アルコ
   キシ基、置換アルコキシ基、アミノ基または置換アミノ
   基を表す。ＡおよびＢは、炭素原子、窒素原子、酸素原
   子または硫黄原子を介してイミダゾール環に結合した有
   機基を表す。〕 ２）レーザー光により、状態を変化させることによって
   記録を行う記録層および基板を含む光学的記録材料にお
   いて、該記録層に前記一般式〔 I 〕で表されるイミダ
   ゾール系染料を含有することを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の光学的記録材料。