JPH0253763A - 含イオウ化合物及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、特に光学材料を与える単量体として有用であ
り、その他塗料、インク、接着剤、ゴムの加硫剤、感光
性樹脂、架橋剤等に有用な新規含イオウ化合物及びその
製造方法に関する。

〔従来の技術〕

現在、広く用いられている光学材料としては、ジエチレ
ングリコールビスアリルカーボネートを注型重合させた
樹脂がある。しかし、この樹脂は屈折率（ｎ、）が１．
５０であり、無機レンズに比べて小さく、無機レンズと
同等の光学特性を得るためには、レンズの中心厚、コバ
厚及び曲率を大きくする必要があり、全体的に肉厚にな
ることが避けられない。

この欠点を改良した高屈折率樹脂も種々提案されている
。例えば、ポリカーボネートやポリスルホン系の高屈折
率樹脂が提案されている。これらの樹脂は屈折率が約１
．６０と高いものの、光透過率が低く、光学的均質性に
欠け、また着色するなどの問題がある。

このため架橋性の高屈折率樹脂が種々提案されている。

例えば、特開昭６１−２８９０１号公報などにフェニル
基をハロゲン原子で置換したフェニルメタクリレートな
どハロゲン原子を多数含んだ樹脂が提案されている。し
かし、これらの樹脂は比重が大きくなり、耐候性も劣る
という問題を有している。

また、特開昭６０−１９７７１１号公報などにα−ナフ
チルメタクリレートを主成分とする高屈折率樹脂用組成
物が提案されている。これから得られる樹脂は高屈折率
を有するものの、ナフチル基を有するために、耐候性が
劣っている。

一方、ビニルベンジルフェニルスルフィドハ公知の化合
物であるが、これから得られる樹脂は、屈折率が十分で
はなく、また、硬度も低いために有機ガラスとして十分
に満足できるものではない。

〔発明が解決しようとする課題〕

以上のような先行技術の下で、特に光学材料に好適に使
用し得る樹脂、即ち、高屈折率、良好な透明性、耐候性
及び比重が小さいなどの諸性質のバランスのとれた樹脂
が強く望まれている。

従って、体発明が解決しようとする課題は、高屈折率で
比重が小さく、透明性、硬度、耐候性等に優れた樹脂を
与える架橋性単量体を提供することである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意研究を
重ねた結果、下記−数式で示される含イオウ化合物を重
合して得た重合体が上記の諸性質を具備した優れた樹脂
であることを見い出し、本発明を完成するに至った。

即ち、本発明は、下記−数式（１） で示される含イオウ化合物である。

前記−数式中（１）中のＸ及びＺで示されるハロゲン原
子は塩素、臭素、ヨウ素の各ハロゲン原子であり、得ら
れる樹脂の耐候性の観点から塩素原子及び臭素原子が好
ましい。

本発明の含イオウ化合物中に含まれるハロゲン原子の数
は、得られる樹脂の屈折率を高くし比重を小さくするた
めにはＯ〜４の範囲であることが好ましくい。

前記−数式（１）中のｎは、２〜６の整数であれば良い
が、ｎが大きくなりすぎると溶解性の低下や着色の問題
が生じる惧れがある為、２又は３が好ましくい。

前記−数式（１）中のｋは０以上の整数、βは１以上の
整数であれば良いが、ｋ及びβが大きくなりすぎると屈
折率を低下させる為、ｋは０又は■、ｐは１〜２の整数
が好ましい。

本発明の前記−数式（１）で示される化合物の構造は次
の手段によって確認することができる。

（イ）赤外吸収スペクトル（ＩＲ）を測定することによ
り、３１５０〜２８００ｃｍ−’付近にＣ−Ｈ結合に基
づく吸収、１６５０〜１６００ｃｎａ−’付近に末端の
不飽和炭化水素基に基づく吸収を観察することができる
。

（１１）’Ｈ−核磁気共鳴スベクトル（’Ｈ−ＮＭＲ）
を測定することにより前記−数式（１）で示される本発
明の化合物中に存在する水素原子の結合様式を知ること
ができる。前記−数式（１）で示される化合物の’Ｈ−
ＮＭＲ（δ、　ｐｐｍ　：テトラメチルシラン基準、重
クロロホルム溶媒）の代表例として１．４−ビス（ｐ−
エチニルベンジルチオ）ベンゼンについて’Ｈ−ＮＭＲ
を第１図に示す。その解析結果を示すと次のとおりであ
る。

すなわち、４．０　ｐｐｍにプロトン２個分に相当する
一重線が認められ、ベンジル基のメチレン（Ｃ）による
ものと帰属できる。５．０〜５．８　ｐｐｍにプロトン
２個分に相当する四重綿が認められエチニル基のメチレ
ン（ａ）によるものと帰属できる。

又６．４〜７．０　ｐｐｍにプロトン１個分に相当する
四重線が認められエチニル基のメチンｆｂ）によるもの
と帰属できる。７．０〜７．５ｐｐｍにプロトン６個分
に相当する多重線が認められフェニル基に置換したプロ
トン（ｄ）、（ｅｌ、（ｆ）、（沿、（ｈｌ、（ｉｌに
よるものと帰属できる。

（ハ）元素分析によって、炭素、水素、イオウ、及びハ
ロゲンの各重量％を求め、さらに認知された各元素の重
量％の和を１００から減じることによって酸素の重量％
を算出することができ、従って該化合物の組成式を決定
することができる。

本発明の前記−数式（Ｉ）で示される製造方法は特に限
定されるものではない。具体例は後述する実施例に詳述
するが代表的な製造方法を詳述すれば以下の様になる。

（ｉ）−数式（ｎ） は＋ＣＩＩ□ＣＩｌ□０）　ｋ（Ｃ０ｚう−（但し、ｋ
は０以上の整数であり、ｐは１以上の整数である。）で
あり、Ｚはハロゲン原子であり、ｉは０〜４の整数であ
り、ｉが２以上のときはＺは同じであっても異っていて
も良い。） で示される化合物とを反応させる方法。

（ｉｉ）−数式（ｒＶ） （但し、Ｍｌは水素原子又はアルカリ金属であり、Ｘは
ハロゲン原子であり、ｍは０〜４の整数であり、ｍが２
以上のときはＸは同じであっても異っていても良く、ｎ
は２〜６の整数であり、２≦ｍ＋ｎ≦６である。） で示される化合物と、 一般式（ＩＩ［） （但し、ｍはＯ〜４の整数であり、Ｍ３は臭素原子又は
ヨウ素原子であり、ｎは２〜６の整数であり、ｎが２以
上のときはＭ３は同じであっても異っていても良く、２
≦ｍ＋ｎ≦６である。）で示される化合物と 一般式（Ｖ） （但し、Ｍ２は塩素原子又は臭素原子であり、Ｒ（但し
、Ｍ４は水素原子又はアルカリ金属であり、Ｒは＋ＣＩ
ｌ□ＣＨ□ｏ）　ｗ　（ＣＩＩ２　＋（但し、ｋは０以
上の整数であり、ｌは１以上の整数である。）であり、
Ｚはハロゲン原子であり、ｉは０〜４の整数であり、ｉ
が２以上のときはＺは同じであっても異っていても良い
、） で示される化合物とを反応させる方法。

（ｉ）及び（１１）によって前記−数式（１）で示され
る化合物を得ることができる。

原料となる前記−数式〔■〕、〔■〕、（ＩＶ）及び（
Ｖ）で示される化合物は如何なる方法で得られたもので
も使用できる。

前記−数式ＣＩ）で示される化合物を得る反応の具体例
を例示すれば以下の通りである。

−数式（ｎ）で示される化合物と一般式（ＩＩ［）で示
される化合物を反応させる方法及び−数式（ｒＶ）で示
される化合物と一般式〔Ｖ〕で示される化合物を反応さ
せる方法は、反応系から脱ハロゲン化水素又は脱ハロゲ
ン化アルカリ金属させる方法である。

両化合物の仕込みモル比は必要に応じて適宜決定すれば
良いが、通常等モル使用するのが一般的である。又、該
反応において、Ｍ、及びＭ２が水素原子の場合には、一
般に脱ハロゲン化水素を反応系から除く為、反応系内に
ハロゲン化水素捕捉剤として塩基を共存させることが好
ましい。該ハロゲン化水素捕捉剤としての塩基は特に限
定されず公知のものを使用することができる。一般に好
適に使用される塩基として、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン等のトリアルキルアミン、ピリジン、テトラ
メチル尿素等があげられる。また、炭酸アルカリ金属、
水酸化アルカリ金属等のアルカリ金属化合物を反応系内
で反応させ、チオラートとし脱ハロゲン化アルカリ金属
させても差しつかえない。

前記反応に際しては、一般に有機溶媒を用いるのが好ま
しい。該溶媒として好適に使用されるものを例示すれば
、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール
類及びＮ、Ｎ’−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ’−ジ
メチルアセトアミド等のＮ、Ｎ’−ジアルキルアミド類
等があげられる。

前記反応における温度は°原料の種類、溶媒の種類によ
って異なるが、一般には０℃〜溶媒を還流させる温度が
好ましい。反応時間も原料の種類によって異なるが、通
常、５分から４０時間、好ましくは３０分から２４時間
の範囲から選べば十分である。また反応中においては攪
拌を行うのが好ましい。

反応系から目的生成物、すなわち前記−数式［３で示さ
れる化合物を単離精製する方法は特に限定されず、公知
の方法が採用できる。

本発明の前記−数式ＣＩ）で示される化合物は、高屈折
率で比重が小さく透明性、硬度、耐候性等に優れた樹脂
を与える架橋性単量体として有用である。また、該化合
物は常温で固体状態であり、重合して得られる樹脂の屈
折率、光学的均質性を保持するため、単独重合体の屈折
率が１．５５以上のラジカル重合可能な液状不飽和単量
体と共重合するのが好ましい。該不飽和単量体の例をあ
げると次の通りである。尚、アクリレート及びメタアク
リレートを総称して（メタ）アクリレートと記す。

フェニル（メタ）アクリレート、モノクロロフェニル（
メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等
の（メタ）アクリレート；スチレン、クロロスチレン、
ブロモスチレン、ジプロモスチレン、ジビニルベンゼン
、メチルスチレン、メトキシスチレン等のスチレン類；
ジアリルイソフタレート、ジアリルテレフタレート等の
アリル化合物類等及びこれらの混合物である。

本発明において光学材料、とりわけレンズ材料を得る際
、該単量体の組成割合は、それぞれの単量体の種類によ
って好適な割合がある為に一概に限定できないが、総じ
て、−数式Ｎ”）で示される化合物が２０〜９０重量％
の範囲が好ましく用いられ、より好ましくは、３０〜８
０重量％の範囲で使用される。前記−数式（Ｉ）で示さ
れる化合物の使用量が２０重量％未満になると、本発明
の目的である高屈折率樹脂が得られに＜＜、また、架橋
が十分に進まない為に耐衝撃性、耐熱性が低下する傾向
がみられる。

前記の単量体組成物を用いて高屈折率樹脂を得る重合方
法は、特に限定的でなく、公知の注型重合方法を採用で
きる。重合開始手段は、種々の過酸化物やアブ化合物等
のラジカル重合開始剤の使用、又は紫外線、α線、β線
、Ｔ線等の照射或いは両者の併用によって行うことがで
きる。代表的な重合方法を例示すると、エラストマーガ
スケットまたはスペーサーで保持されているモールド間
に、ラジカル重合開始剤を含む前記の単量体組成物を注
入し、空気炉中で硬化させた後、取出せばよい。

ラジカル重合開始剤としては、特に限定されず、公知の
ものが使用できるが、代表的なものを例示すると、ベン
ゾイルパーオキサイド、ｐ−クロロベンゾイルパーオキ
サイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオ
キサイド、アセチルパーオキサイド等のジアシルパーオ
キサイド；を−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサネ
ート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカネート、クミルパ
ーオキシネオデカネート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾ
エート等のパーオキシエステル；ジイソプロピルパーオ
キシジカーボネート、ジー２−エチルへキシルパーオキ
シジカーボネート、ジーｓｅｃ　−ブチルパーオキシジ
カーボネート等のパーカーボネート；アゾビスイソブチ
ロニトリル等のアブ化合物である。該ラジカル重合開始
剤の使用量は、重合条件や開始剤の種類、前記の単量体
組成物の組成によって異なり、−概に限定できないが、
般には、単量体組成物１００重量部に対して０．０１〜
１０重量部、好ましくは０．０１〜５重量部の範囲で用
いるのが好適である。

重合条件のうち、特に温度は得られる高屈折率樹脂の性
状に影響を与える。この温度条件は、開始剤の種類や量
や単量体組成物の種類によって影響を受けるので、−概
に限定はできないが、−船釣に比較的低温下で重合を開
始し、ゆっくりと温度をあげて行き、重合終了時に高温
下に硬化させる所謂テーパ型の２段重合を行うのが好適
である。

重合時間も温度と同様に各種の要因によって異なるので
、予めこれらの条件に応じた最適の時間を決定するのが
好適であるが、一般に２〜４０時間で重合が完結するよ
うに条件を選ぶのが好ましい。

勿論、前記重合に際し、離型剤、紫外線吸収剤、酸化防
止剤、着色防止剤、帯電防止剤、ケイ光染料、染料、顔
料等の各種安定剤、添加剤は必要に応じて選択して使用
することが出来る。

さらに、上記の方法で得られる高屈折率樹脂は、その用
途に応じて以下のような処理を施すこともできる。即ち
、分散染料などの染料を用いる染色、シランカップリン
グ剤やケイ素、ジルコニア、アンチモン、アルミニウム
等の酸化物のゾルを主成分とするハードコート剤や、有
機高分子体を主成分とするハートコート剤によるハード
コーティング処理や、５ｉｎ２、Ｔｉ０ｚ　、ＺｒＯ等
の金属酸化物薄膜の蒸着や有機高分子体の薄膜の塗布等
による反射防止処理、帯電防止処理等の加工及び２次処
理を施すことも可能である。

〔効果〕

本発明の含イオウ化合物は、高屈折率で比重が小さく、
透明性、硬度、耐候性等に優れた樹脂を与える架橋性単
量体として有用である。該化合物と不飽和単量体との共
重合により得られる共重合体である高屈折率樹脂は、有
機ガラスとして有用であり、例えば、メガネレンズ、光
学機器レンズ等の光学レンズとして最適であり、さらに
プリズム、光デイスク基板、光ファイバー等の用途に好
適に使用することができる。

（実施例〕 以下、本発明を具体的に説明するために、実施例を挙げ
て説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。

尚、実施例において得られた含イオウ化合物及び高屈折
率樹脂は、下記の試験法によって渚物性を測定した。

（１１屈折率 アツベの屈折計を用いて２０°Ｃにおける屈折率を測定
した。接触液には、ブロモナフタリンを使用した。

尚、含イオウ化合物の屈折率は液状の不飽和単量体に溶
解し外挿法により求めた。

（２）硬度 ロックウェル硬度計を用い、厚さ２鰭の試験片について
Ｌ−スケールでの値を測定した。

（３）外観 目視により判定した。

（４）耐候性 スガ試験機＠製ロングライフキセノンフェー１’　メ−
９−（ＦＡＣ−２５ＡＸ−ＨＣ型）中に試料を設置し、
１００時間キセノン光を露光した後、試料の着色の程度
を目視で観察し、ポリスチレンに比べ着色の程度の低い
ものを○、同等のものを△、高いものを×で評価した。

尚、以下の実施例で使用した不飽和単量体は下記の記号
で表わした。但し〔〕内は単独重合体の屈折率である。

Ｓｔ　　：　スチレン（１，５９０） αＳＬ　：　クロロスチレン（０体、ｍ体の混合物）　
　Ｃ１，６１０） ＤＶＢ　：　　ジビニルベンゼン（１，６１５）ＰｈＭ
Ａ：　　フェニルメタクリレート（１，５７１）ＢｚＭ
Ａ：　　ベンジルメタクリレート　（１，５６８）（Ｊ
　Ｂｚ　Ｍ　Ａ　：モノクロロヘンジルメタクリレート
（０体、ｍ体の混合物）　　Ｃ１，５８２）実施例１ １．４ビス（ｐエチニルヘンシルチオ）ベンゼンの造 １、４−ベンゼンジチオール１．４．２　ｇ　　（０，
１０ｍｏ　／！　）をＮ、Ｎ’−ジメチルホルムアミド
１５０　ｍρに溶解し、ｐ−クロロメチルスチレン３２
．　Ｏｇ　（０，２１ｍｏＥ）を加え、水浴中に設置し
た。次いで炭酸カルシウム２９．０　ｇ　（０，２１ｍ
ｏｆｆ）を徐々に添加した。１時間攪拌した後、該反応
混合物を水３００ｍ１にあけた。３００ｎｌのクロロホ
ルムで抽出した後、クロロホルム層を２Ｎ−塩酸５０ｎ
＋７！で１回洗浄し、次いで水５０ｍｆｆで２回洗浄し
た。

クロロホルム層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、クロ
ロホルムを減圧下で留去した後、残渣をメタノールで再
結晶し、１７．４　ｇの無色針状結晶を得た。

得られた結晶の赤外吸収スペクトル（島津製作所製［Ｒ
−４４０ＩＮＦＲＡＲＥＤ　ＳＰＥＣＴＲＯＰＨＯＴＯ
ＭＥＴＥＲ）を測定した結果は第２図に示すとおりであ
り、３１５０〜２９００ＣＩ１１−’にＣ−Ｈ結合に基
ツ＜吸収、１６４０ｃｍ−’不飽和炭化水素基に基づく
吸収を示した。

その元素分析値はＣ７６，９８％、Ｈ５，８７％、Ｓ　
Ｉ　７．１５％であって、組成式Ｃ１□Ｈ，，Ｓに対す
る計算値であるＣ　７６．９６％、Ｈ５，９２％、３１
７、１２％に良く一致した。

また、’Ｈ−ＮＭＲ（ＴＥＯＬ社製ＪＮＭ−ＰＭＸ６０
ｓ　ＩＮＭＲ−５ＰＥＣＴＲＯＭＥＴＥＲ）　　（δ、
　ｐｐｍ　　；テトラメチルシラン基準、重クロロホル
ム溶媒）の測定結果を第１図に示した。

その解析結果を示すと次のとおりである。

すなわち、４．０ｐｐｍにプロトン２個分に相当する一
重線が認められ、ベンジル基のメチレンｔＪｆ　（Ｃ）
によるものと帰属できる。５．０〜５．８　ｐｐｍにプ
ロトン２個分に相当する四重線が認められエチニル基の
メチレン（ａ）によるものと帰属できる。又６．４〜７
．０　ｐｐｍにプロトンに１個分に相当する四重線が認
められエチニル基のメチン（ｂ）によるものと帰属でき
る。７．０〜７．５　ｐｐｍにプロトン６個分に相当す
る多重線が認められフェニル基に置換したプロトン（ｄ
ｌ、（ｅ）、（ｆｌ、（ｇｌ、（ｈｌ、（１）によるも
のと帰属できる。

上記の結果から単離生成物が１６４−ビス＜ｐ−エチニ
ルベンジルチオ）ベンゼンであることが明らかになった
。

収率は１．４−ベンゼンジチオールに対して４６．５％
（０，０４６５ｍｏｊ！　）であった。

更に屈折率を外挿法により求めたところｎＤｌ、　６５
０であった。

実施例２ １．３．５）ＩＪス（ｐ−エチニルベンジルチオ）ベン
ゼンの製°１ １．３．５−トリブロモベンゼン３１．５　ｇ　（０，
１ｍｏ　Ｉｌ　）をＮ、Ｎ’−ジメチルアセトアミド１
５０ｍ１に？容解し、ｐ−メルカフ゛トメチルスチレン
４５．０　ｇ（０，３ｍｏｆ）と重合禁止剤として、ｔ
−ブチルカテコール１．０ｇを加えた。還流させて３時
間反応させた後、該反応混合物を水３００ｍＡにあけた
。

３００ｍｆｆのクロロホルムで抽出した後、クロロホル
ム層を２Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液５０ｍ１で１回洗
浄し、次いで水５０ｍｊ２で２回洗浄した。

クロロホルム層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、クロ
ロホルムを減圧下で留去した後、残渣をメタノールで再
結晶し、５．３ｇの結晶を得た。

得られた結晶の赤外吸収スペクトルを測定したところ、
３１５０〜２９００（至）−１にＣ−Ｈ結合に基づく吸
収、１６４０ｃｒｎ−’に末端の不飽和炭化水素基に基
づく吸収を示した。

その元素分析値はＣ７５，８４％、Ｈ５，７５％、３１
８、４１％であって組成式ＣＩ　Ｉ　Ｈｌ。Ｓに対する
計算値であるＣ　７５．８２％、Ｈ５，７８％、Ｓ　Ｌ
８．４０％に良く一致した。

また’Ｈ−ＮＭＲ（δ、　ｐｐｍ　　：テトラメチルシ
ラン基準）を測定した。その解析結果を示すと次の通り
である。

し■ すなわち、４．０　ｐｐｍにプロトン２個分に相当する
一重線が認められ、ベンジル基のメチレン鎖（Ｃ）によ
るしのと帰属できる。５．０・・・５．８　ｐｐｍζ３
″：ゾシ第１・２２個分に相当する四重線が認めＣ−）
れ工くｒ・２−、ル基のメチレン（ａｌによるものと帰
属できる。又、６．４〜７．０　ｐｐｍにプロトン１個
分に相当する四重線が認められエチニル基のメチン（ｂ
）によるものと帰属できる。７．０〜７．８　ｐｐｍに
プロトン５個分に相当する多重線が認められフェニル基
に置換したプロトンｆｄｌ、（ｅ）、（ｆ）、（ｇｌ、
（ｈ）によるものと帰属できる。

上記の結果から単離生成物が１．３．５−１−　ＩＪス
（ｐ−エチニルベンジルチオ）ベンゼンであることが明
らかになった。

収率は１．３．５−）リプロモベンゼンに対して１０．
２％（０，０１０２ｍｏｌ）であった。

更に屈折率を外挿法により求めたところｎ。

１、６５５であった。

実施例３ 実施例１及び２において詳細に記述したのと同様な方法
により、第１表に記載した含イオウ化合物を合成した。

尚、第１表には合成した含イオウ化合物の性状、元素分
析結果及び屈折率も併せて８己し人；。

Ｈｚ を＼Ｌ と略す。

実施例４ 実施例１で合成した１、４−ビス（ｐエチニルベンジル
チオ）ベンゼン６０重量部と不飽和単量体としてスチレ
ン４０重量部の混合物１００重量部に対してラジカル重
合開始剤としてｔ−ブチルパーオキシ−２−エチレンヘ
キサネート１重量部を添加しよく混合した。この混合液
をガラス板とエチレン−酢酸ビニル共重合体とから成る
ガスケットで構成された鋳型の中へ注入し、注型重合を
行った。重合は、空気炉を用い、３０°Ｃから９０℃で
１８時間かけ、徐々に温度を上げて行き、９０℃に２時
間保持した。重合終了後、鋳型を空気炉から取出し、放
冷後、重合体を鋳型のガラスからとりはずした。

得られた重合体は無色透明であり、屈折率１．６５１、
比重１．１３、硬度１１５であり、耐候性も０であった
。

比較例１ ｐ−ビニルベンジルフェニルスルフィド６０重量部と不
飽和単量体としてスチレン４０重量部の混合物を用いた
以外、実施例４と全く同様に実施した。

得られた重合体は無色透明であり、比重１．１１、耐候
性はＯであったが、屈折率が１．６２０と低く、硬度も
８４と低かった。

実施例５ 実施例１で合成した１、４−ビス（ｐ−エチニルベンジ
ルチオ）ベンゼン及び第２表に示す不飽和単量体から成
る混合物を用いた以外、実施例４と全く同様に実施した
。得られた重合体の物性を測定して第２表に示した。

実施例６ 第３表に示す含イオン化合物及び不飽和単量体からなる
混合物を用いた以外、実施例４と全く同様に実施した。

得られた重合体の物性を測定して第３表に示した。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は、実施例１で得られた本発明の化合
物の１）（−核磁気共鳴スペクトル及び赤外吸収スペク
トルである。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、Ｒは▲数式、化学式、表等があります▼（但し
   、ｋ は０以上の整数であり、ｌは１以上の整数である。）で
   あり、Ｘ及びＺはハロゲン原子であり、ｉは０〜４の整
   数であり、ｉが２以上のときはＺは同じであっても異っ
   ていても良く、ｍは０〜４の整数であり、ｍが２以上の
   ときはＸは同じであっても異っていても良く、ｎは２〜
   ６のの整数であり、２≦ｍ＋ｎ≦６である。〕 で示される含イオウ化合物。
2. （２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｍ＿１は水素原子又はアルカリ金属であり、Ｘ
   はハロゲン原子であり、ｍは０〜４の整数であり、ｍが
   ２以上のときはＸは同じであっても異なっていても良く
   、ｎは２〜６の整数であり、２≦ｍ＋ｎ≦６である。） で示される化合物と、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｍ＿２は塩素原子又は臭素原子であり、Ｒは▲
   数式、化学式、表等があります▼（但し、ｋは０以上の 整数であり、ｌは１以上の整数である。）であり、Ｚは
   ハロゲン原子であり、ｉは０〜４の整数であり、ｉが２
   以上のときはＺは同じであっても異っていても良い。） で示される化合物とを反応させることを特徴とする特許
   請求の範囲第（１）項記載の含イオウ化合物の製造方法
   。
3. （３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但しｍは０〜４の整数であり、Ｍ＿３は臭素原子又は
   ヨウ素原子であり、ｎは２〜６の整数であり、ｎが２以
   上のときはＭ＿３は同じであっても異なっていても良く
   、２≦ｍ＋ｎ≦６である。）で示される化合物と 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｍ＿４は水素原子又はアルカリ金属であり、Ｒ
   は▲数式、化学式、表等があります▼（但し、ｋは０以 上の整数であり、ｌは１以上の整数である。）であり、
   Ｚはハロゲン原子であり、ｉは０〜４の整数であり、ｉ
   が２以上のときはＺは同じであっても異なっていても良
   い。） で示される化合物とを反応させることを特徴とする特許
   請求の範囲第（１）項記載の含イオン化合物の製造方法
   。