JPH0259397A - 厚膜印刷用マスク - Google Patents
厚膜印刷用マスクInfo
- Publication number
- JPH0259397A JPH0259397A JP63210324A JP21032488A JPH0259397A JP H0259397 A JPH0259397 A JP H0259397A JP 63210324 A JP63210324 A JP 63210324A JP 21032488 A JP21032488 A JP 21032488A JP H0259397 A JPH0259397 A JP H0259397A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- printing
- thick film
- thick
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ハイブリットＩＣ用などの厚膜基板の印刷に
用いるマスクに関するものである。
用いるマスクに関するものである。
従来の技術
従来、この種のマスクは第２図に示すような構造であっ
た。第２図において１はステンレス等のメソシュ、２は
厚膜印刷パターンを形成するためにマスキングをするエ
マルジョン、３は印刷されり厚膜パターン、４はアルミ
ナ等の基板である。
た。第２図において１はステンレス等のメソシュ、２は
厚膜印刷パターンを形成するためにマスキングをするエ
マルジョン、３は印刷されり厚膜パターン、４はアルミ
ナ等の基板である。
また、部分的に厚い印刷膜厚を得るための従来のマスク
としては第３図に示すような構造であった。
としては第３図に示すような構造であった。
第３図において、６はステンレス等のメタルマスク、６
は通常のエツチングでの開口部、７は部分エツチングで
の開口部、８は部分エツチング部、９は通常エツチング
の開口部６で印刷された厚膜パターン、１０は部分エツ
チングの開口部７で印刷された厚膜パターンである。
は通常のエツチングでの開口部、７は部分エツチングで
の開口部、８は部分エツチング部、９は通常エツチング
の開口部６で印刷された厚膜パターン、１０は部分エツ
チングの開口部７で印刷された厚膜パターンである。
発明が解決しようとする課題
厚膜印刷において、通常膜厚に比べ部分的に厚い印刷１
漢厚のパターンが必要な場合が多い。このとき、従来例
第２図においては、全体を厚い印刷膜にしなければなら
ず、厚くしなくても良い部分の印刷ペーストが材料ロス
となる。また、第３図においては部分エツチングされた
面は四部であるため、印刷時にスキージが、その四部と
のなじみが悪く、正常な厚膜印刷を形成するのはむずか
しい。
漢厚のパターンが必要な場合が多い。このとき、従来例
第２図においては、全体を厚い印刷膜にしなければなら
ず、厚くしなくても良い部分の印刷ペーストが材料ロス
となる。また、第３図においては部分エツチングされた
面は四部であるため、印刷時にスキージが、その四部と
のなじみが悪く、正常な厚膜印刷を形成するのはむずか
しい。
本発明はこのような課題に鑑み、スキージとマスクとの
なじみが良く、かつ部分的な任意の個所に厚い印刷膜を
形成することを目的とする。
なじみが良く、かつ部分的な任意の個所に厚い印刷膜を
形成することを目的とする。
課題を解決するための手段
この課題を解決するため本発明は、メツシュ状マスクの
スキージが当る面の反対側に、部分的な任意の個所に部
分エマル２１２層を設けたものである。
スキージが当る面の反対側に、部分的な任意の個所に部
分エマル２１２層を設けたものである。
作用
この構成によりスキージの当る面は平面であるので、ス
キージの寿命は通常ストローク数確保でき、かつ部分エ
マルジョンにより１部分的な任意の個所に厚い印刷膜を
形成することができる。
キージの寿命は通常ストローク数確保でき、かつ部分エ
マルジョンにより１部分的な任意の個所に厚い印刷膜を
形成することができる。
実施例
第１図に本発明の一実施例を示す。第１図において、１
１はステンレス等のメツシュであり、１２はマスキング
をするためのエマルジョン層でアリ、１３は部分的な任
意の個所に厚い印刷をするための部分エマルジョン層で
ある。１４は部分エマルジョン層１３により通常の印刷
膜よりも厚く印刷されたパターンであり、１６は通常の
エマルジョン層１２により印刷されたパターンであり、
１６はアルミナ等からなる基板である。部分エマルジョ
ン層１３は所要の膜厚に応じて複数層を設けるものであ
る。
１はステンレス等のメツシュであり、１２はマスキング
をするためのエマルジョン層でアリ、１３は部分的な任
意の個所に厚い印刷をするための部分エマルジョン層で
ある。１４は部分エマルジョン層１３により通常の印刷
膜よりも厚く印刷されたパターンであり、１６は通常の
エマルジョン層１２により印刷されたパターンであり、
１６はアルミナ等からなる基板である。部分エマルジョ
ン層１３は所要の膜厚に応じて複数層を設けるものであ
る。
発明の効果
以上のように本発明によれば、スキージとマスクとのな
じみが良いためマンク印刷孔に対応した滑らかな厚膜が
形成され、かつ−度の印刷で通常の膜厚部分と、必要な
厚い膜厚部分を同時に形成することができる。
じみが良いためマンク印刷孔に対応した滑らかな厚膜が
形成され、かつ−度の印刷で通常の膜厚部分と、必要な
厚い膜厚部分を同時に形成することができる。
第１図に本発明の一実施例による厚膜印刷用マスクとそ
のマスクによる印刷膜を示す断面図、第２図及び第３図
はそれぞれ従来の厚膜印刷用マスクとそのマスクによる
印刷膜を示す断面図である。 １１・・・・・・メツシュ、１２・・・・・・エマルジ
ョン層。 １３・・・・・１部分エマルジョン層。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名菓
２ 図 １ 区 Ｕ−ｍ−メッシュ １２・−エマルジョン層 １３− 部分エマルジョン層 ／１
のマスクによる印刷膜を示す断面図、第２図及び第３図
はそれぞれ従来の厚膜印刷用マスクとそのマスクによる
印刷膜を示す断面図である。 １１・・・・・・メツシュ、１２・・・・・・エマルジ
ョン層。 １３・・・・・１部分エマルジョン層。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名菓
２ 図 １ 区 Ｕ−ｍ−メッシュ １２・−エマルジョン層 １３− 部分エマルジョン層 ／１
Claims (1)
- 厚膜ペーストを基板上に所要の形状に印刷するための印
刷孔を形成し、前記印刷孔を形成するエマルジョンを印
刷厚に対応して複数層で構成した厚膜印刷用マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63210324A JPH0259397A (ja) | 1988-08-24 | 1988-08-24 | 厚膜印刷用マスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63210324A JPH0259397A (ja) | 1988-08-24 | 1988-08-24 | 厚膜印刷用マスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0259397A true JPH0259397A (ja) | 1990-02-28 |
Family
ID=16587540
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63210324A Pending JPH0259397A (ja) | 1988-08-24 | 1988-08-24 | 厚膜印刷用マスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0259397A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022085585A (ja) * | 2020-11-27 | 2022-06-08 | ミタニマイクロニクス株式会社 | スクリーンマスク及び印刷物の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61168340A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-07-30 | コントロン インスツルメンツ ホールディング エヌ．ブイ． | 超音波断面画像作成方法、同装置及び超音波走査器 |
-
1988
- 1988-08-24 JP JP63210324A patent/JPH0259397A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61168340A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-07-30 | コントロン インスツルメンツ ホールディング エヌ．ブイ． | 超音波断面画像作成方法、同装置及び超音波走査器 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022085585A (ja) * | 2020-11-27 | 2022-06-08 | ミタニマイクロニクス株式会社 | スクリーンマスク及び印刷物の製造方法 |
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