JPH0260667B2 - - Google Patents
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- JPH0260667B2 JPH0260667B2 JP54086249A JP8624979A JPH0260667B2 JP H0260667 B2 JPH0260667 B2 JP H0260667B2 JP 54086249 A JP54086249 A JP 54086249A JP 8624979 A JP8624979 A JP 8624979A JP H0260667 B2 JPH0260667 B2 JP H0260667B2
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- JP
- Japan
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- cyano
- acetonitrile
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
- C07D233/54—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D233/64—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms, e.g. histidine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/12—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
- C07D233/54—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D233/56—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, attached to ring carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D249/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
- C07D249/08—1,2,4-Triazoles; Hydrogenated 1,2,4-triazoles
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は一般式
K0337
（式中、R1およびR4は低級アルキル基、R2およ
びR3は低級アルキレン基をそれぞれ意味する） で示されるイミダゾール誘導体またはその塩の新
規な製造法に関するものであり、これを式で示す
と次の通りである。
びR3は低級アルキレン基をそれぞれ意味する） で示されるイミダゾール誘導体またはその塩の新
規な製造法に関するものであり、これを式で示す
と次の通りである。
製造法１：
K0338
K0339
〔式中、R1、R2、R3およびR4は前と同じ意味で
あり、X1はハロゲン、メルカプト基、窒素含有
５員芳香複素環−Ｎ−イル基または式−Ｓ（Ｏ）
ｎ−Ｚ（ここでＺはヒドロキシ基またはアルキル
基、ｎは１または２ををそれぞれ意味する） で示される基意味する〕 この発明の方法は化合物（）に化合物（）
を作用させることにより行なわれる。
あり、X1はハロゲン、メルカプト基、窒素含有
５員芳香複素環−Ｎ−イル基または式−Ｓ（Ｏ）
ｎ−Ｚ（ここでＺはヒドロキシ基またはアルキル
基、ｎは１または２ををそれぞれ意味する） で示される基意味する〕 この発明の方法は化合物（）に化合物（）
を作用させることにより行なわれる。
原料化合物（）において、R1で表わされる
低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第３
級ブチル、ペンチル、ヘキシル等の直鎖状もしく
は分枝鎖状のアルキル基が挙げられ、またR2お
よびR3で表わされる低級アルキレン基としては
メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチ
レン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、６−メ
チルトリメチレン、２，２−ジメチルトリメチレ
ン等の直鎖状もしくは分枝鎖状の低級アルキレン
基が挙げられ、R2およびR3の低級アルキレン基
は同一であつても異なつていてもよい。
低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第３
級ブチル、ペンチル、ヘキシル等の直鎖状もしく
は分枝鎖状のアルキル基が挙げられ、またR2お
よびR3で表わされる低級アルキレン基としては
メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチ
レン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、６−メ
チルトリメチレン、２，２−ジメチルトリメチレ
ン等の直鎖状もしくは分枝鎖状の低級アルキレン
基が挙げられ、R2およびR3の低級アルキレン基
は同一であつても異なつていてもよい。
もう一方の原料化合物（）においてR4で表
わされる低級アルキル基としては、前記R1のの
低級アルキル基と同様な基が例示される。また、
X1で表わされるハロゲンとしてはクロル、ブロ
ム、ヨード等が窒素含有５員芳香複素環−Ｎ−イ
ル基としては１−ピラリゾル、１−イミダゾリ
ル、１−ピロリル、１，２，３−トリアゾール−
１−イル、３，５ジメチル−１−ピラゾリル、
１，２，４−トリアゾール−４−イル等が、式−
Ｓ（Ｏ）ｎ−Ｚで表わされる基としてはスルフイ
ノ基、スルホ基、メチルスルフイニル、エチルス
ルフイニル、プロピルスルフイニル、イソプロピ
ルスルフイニル、ブチルスルフイニル、イソブチ
ルスルフイニル、第３級ブチルスルフイニル、ペ
ンチルスルフイニル、ヘキシルスルフイニル等の
アルキルスルフイニル基およびメチルスルホニ
ル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イ
ソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソ
ブチルスルホニル、第３級ブチルスルホニル、ペ
ンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル基が例示
される。
わされる低級アルキル基としては、前記R1のの
低級アルキル基と同様な基が例示される。また、
X1で表わされるハロゲンとしてはクロル、ブロ
ム、ヨード等が窒素含有５員芳香複素環−Ｎ−イ
ル基としては１−ピラリゾル、１−イミダゾリ
ル、１−ピロリル、１，２，３−トリアゾール−
１−イル、３，５ジメチル−１−ピラゾリル、
１，２，４−トリアゾール−４−イル等が、式−
Ｓ（Ｏ）ｎ−Ｚで表わされる基としてはスルフイ
ノ基、スルホ基、メチルスルフイニル、エチルス
ルフイニル、プロピルスルフイニル、イソプロピ
ルスルフイニル、ブチルスルフイニル、イソブチ
ルスルフイニル、第３級ブチルスルフイニル、ペ
ンチルスルフイニル、ヘキシルスルフイニル等の
アルキルスルフイニル基およびメチルスルホニ
ル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イ
ソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソ
ブチルスルホニル、第３級ブチルスルホニル、ペ
ンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル基が例示
される。
この反応は通常溶媒中で行なわれ、溶媒として
はメタノール、エタノール、プロパノー、ブタノ
ール、イソプロピルアルコール等のアルコール、
アセトニトリル、塩化メチレン、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキサイド、ジオキサン、
テトラヒドロフラン等が例示される。反応温度は
特に限定されないが、通常室温ないし溶媒の沸点
程度の温度で反応が行なわれる。
はメタノール、エタノール、プロパノー、ブタノ
ール、イソプロピルアルコール等のアルコール、
アセトニトリル、塩化メチレン、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキサイド、ジオキサン、
テトラヒドロフラン等が例示される。反応温度は
特に限定されないが、通常室温ないし溶媒の沸点
程度の温度で反応が行なわれる。
なお、前記の一般式（）においてX1がハロ
ゲン、スルフイノ基またはスルホ基である化合物
を原料物質として使用する場合には、トリエチル
アミン、ピリジン、Ｎ−メチルアニリン、１，５
ジアザビジクロ〔5.4.0〕−５−ウンデセン等の塩
基の存在下に反応を行なうのが好ましく、また、
前記の一般式（）においてX1がメルカプト基
である化合物を原料物質として使用する場合に
は、水銀、銀、鉛等の重金属化合物の存在下に反
応を行なうのが好ましい。また、原料化合物
（）のうち、X1がスルフイノ基またはスルホ基
である化合物は塩の形で使用することもでき、そ
のような塩としてはナトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属塩、１，５−ジアザビシクロ〔５，
４，０〕−５−ウンデセン塩等がその代表例とし
て挙げられる。
ゲン、スルフイノ基またはスルホ基である化合物
を原料物質として使用する場合には、トリエチル
アミン、ピリジン、Ｎ−メチルアニリン、１，５
ジアザビジクロ〔5.4.0〕−５−ウンデセン等の塩
基の存在下に反応を行なうのが好ましく、また、
前記の一般式（）においてX1がメルカプト基
である化合物を原料物質として使用する場合に
は、水銀、銀、鉛等の重金属化合物の存在下に反
応を行なうのが好ましい。また、原料化合物
（）のうち、X1がスルフイノ基またはスルホ基
である化合物は塩の形で使用することもでき、そ
のような塩としてはナトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属塩、１，５−ジアザビシクロ〔５，
４，０〕−５−ウンデセン塩等がその代表例とし
て挙げられる。
この発明の方法により生成するイミダゾール誘
導体（）は常法により反応混合物から単離し、
精製することができ、また遊離の化合物（）は
常法により塩酸塩の如き所望の塩に導いてもよ
い。
導体（）は常法により反応混合物から単離し、
精製することができ、また遊離の化合物（）は
常法により塩酸塩の如き所望の塩に導いてもよ
い。
なお、この発明の方法で使用される原料化合物
はいずれも実施例に記載の方法またはそれらと同
様の方法により製造することができる。
はいずれも実施例に記載の方法またはそれらと同
様の方法により製造することができる。
次に、この発明の方法を実施例により説明す
る。
る。
実施例 １
(1) 塩素（82.6ｇ）およびクロロホルム（500ml）
からなる溶液をＮ−シアノ−N′，Ｓ−ジメチ
ルイソチオ尿素（60ｇ）およびクロロホルム
（600ml）からなる溶液に０〜５℃で30分間を要
して加え、同温度で1.5時陥撹拌したのち、減
圧下に溶媒留去する。残渣をを乾燥ベンゼンで
洗浄し、減圧下に乾燥する。得られる白色粉末
状物質を乾燥アセトン（250ml）に熱時溶解す
る。不溶物を去したのち、液をシリカゲル
（60ｇ）のカラムに通し、塩化メチレンで溶出
する。溶出液を減圧下に濃縮し、残渣をアセト
ン−石油エーテルから再結晶すると、Ｎ−シア
ノ−N′−メチルクロロホルムアミジン（36.8
ｇ）を得る。収率67.4％。本品をベンゼン−ア
セントから２回再結晶をくり返すと、mp130.5
〜131.5℃の白色結晶を得る。
からなる溶液をＮ−シアノ−N′，Ｓ−ジメチ
ルイソチオ尿素（60ｇ）およびクロロホルム
（600ml）からなる溶液に０〜５℃で30分間を要
して加え、同温度で1.5時陥撹拌したのち、減
圧下に溶媒留去する。残渣をを乾燥ベンゼンで
洗浄し、減圧下に乾燥する。得られる白色粉末
状物質を乾燥アセトン（250ml）に熱時溶解す
る。不溶物を去したのち、液をシリカゲル
（60ｇ）のカラムに通し、塩化メチレンで溶出
する。溶出液を減圧下に濃縮し、残渣をアセト
ン−石油エーテルから再結晶すると、Ｎ−シア
ノ−N′−メチルクロロホルムアミジン（36.8
ｇ）を得る。収率67.4％。本品をベンゼン−ア
セントから２回再結晶をくり返すと、mp130.5
〜131.5℃の白色結晶を得る。
元素分析：C3H4ClN3
計算値：C30.60、H3.43、N35.75、Cl30.16
実験値：C30.69、H3.25、N35.63、Cl29.82
IR（ヌジヨール）
υmax：3240、3020、2220、1625、1540、
1403、1318、1272、1257、1172、1095、
1048、1020、733、722cm-1 1H−NMR（CD3OD） δ：2.92（Ｓ、Me） (2) 上記で得たＮ−シアノ−N′−メチルクロロ
ホルムアミジン（0.82ｇ）を２−（５−メチル
イミダゾール−４−イルメチルチオ）エチルア
ミン（1.0ｇ）およびトリエチルアミン（0.71
ｇ）のメタノール溶液（20ml）に加え、50〜55
℃で7.5時間撹拌する。溶媒を留去したのち、
残渣をシリカゲル・クロマトグラフイに付し、
クロロホルムメタノール（10：１）で溶出す
る。得られる粗生成物を水（３ml）に加え、酢
酸エチルでくり返し抽出する。酢酸エチル抽出
液を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮
する。濃縮液中に析出する結晶を取し、酢酸
エチルで洗浄すると、mp134〜137℃のN″−シ
アノ−Ｎ−メチル−N′−〔２−（５−メチルイ
ミダゾール−４−イルメチルチオ）エチル〕グ
アニジン（0.33ｇ）を得る。収率22.4％。
1403、1318、1272、1257、1172、1095、
1048、1020、733、722cm-1 1H−NMR（CD3OD） δ：2.92（Ｓ、Me） (2) 上記で得たＮ−シアノ−N′−メチルクロロ
ホルムアミジン（0.82ｇ）を２−（５−メチル
イミダゾール−４−イルメチルチオ）エチルア
ミン（1.0ｇ）およびトリエチルアミン（0.71
ｇ）のメタノール溶液（20ml）に加え、50〜55
℃で7.5時間撹拌する。溶媒を留去したのち、
残渣をシリカゲル・クロマトグラフイに付し、
クロロホルムメタノール（10：１）で溶出す
る。得られる粗生成物を水（３ml）に加え、酢
酸エチルでくり返し抽出する。酢酸エチル抽出
液を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮
する。濃縮液中に析出する結晶を取し、酢酸
エチルで洗浄すると、mp134〜137℃のN″−シ
アノ−Ｎ−メチル−N′−〔２−（５−メチルイ
ミダゾール−４−イルメチルチオ）エチル〕グ
アニジン（0.33ｇ）を得る。収率22.4％。
実施例 ２
Ｎ−シアノ−N′−メチルイソチオ尿素１，５
−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−５−ウンデセン塩
（0.534ｇ）、２−（５−メチルイミダゾール−４−
イルメチルチオ）エチルアミン（1.03ｇ）、酸化
水銀（0.868ｇ）および無水硫酸ナトリウム（２
ｇ）をアセトニトリル（20ml）に懸濁し、これを
厳しく撹拌しながら20時間加熱還流する。反応液
を熱時過し、液を減圧下に濃縮する。残渣を
シリカゲル・クロマトグラフイに付し、アセトニ
トリルとメタノールとの混液（４：１）で溶出す
ると、粗生成物を得る。これを酢酸エチルとメタ
ノールと28％アンモニア水溶液との混液（10：
１：１）を展開溶媒するシリカゲル薄膜クロマト
グラフイにより精製し、アセトニトリルから再結
晶すると、mp136〜138℃のN″−シアノ−Ｎ−メ
チル−N′−〔２−（５−メチルイミダゾール−４
−イルメチルチオ）エチル〕グアニジン（38.4
mg）を得る。収率7.6％。
−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−５−ウンデセン塩
（0.534ｇ）、２−（５−メチルイミダゾール−４−
イルメチルチオ）エチルアミン（1.03ｇ）、酸化
水銀（0.868ｇ）および無水硫酸ナトリウム（２
ｇ）をアセトニトリル（20ml）に懸濁し、これを
厳しく撹拌しながら20時間加熱還流する。反応液
を熱時過し、液を減圧下に濃縮する。残渣を
シリカゲル・クロマトグラフイに付し、アセトニ
トリルとメタノールとの混液（４：１）で溶出す
ると、粗生成物を得る。これを酢酸エチルとメタ
ノールと28％アンモニア水溶液との混液（10：
１：１）を展開溶媒するシリカゲル薄膜クロマト
グラフイにより精製し、アセトニトリルから再結
晶すると、mp136〜138℃のN″−シアノ−Ｎ−メ
チル−N′−〔２−（５−メチルイミダゾール−４
−イルメチルチオ）エチル〕グアニジン（38.4
mg）を得る。収率7.6％。
実施例 ３
(1) ｍ−クロロ過安息香酸（純度80％、38.8ｇ）
のアセトン溶液（120ml）Ｎ−シアノ−N′S−
ジメチルイソチオ尿素（19.4ｇ）およびアセト
ン（700ml）からなる懸濁液に20〜25℃で滴下
する。同温度で１時間撹拌したのち、反応混合
物を氷浴中で１時間冷却する。析出物を取
し、アセトンで洗浄すると、mp115.5〜116℃
のＮ−シアノ−N′−メチル−メチルスルフイ
ニルホルムアミジン（13.65ｇ）を得る。収率
62.8％。
のアセトン溶液（120ml）Ｎ−シアノ−N′S−
ジメチルイソチオ尿素（19.4ｇ）およびアセト
ン（700ml）からなる懸濁液に20〜25℃で滴下
する。同温度で１時間撹拌したのち、反応混合
物を氷浴中で１時間冷却する。析出物を取
し、アセトンで洗浄すると、mp115.5〜116℃
のＮ−シアノ−N′−メチル−メチルスルフイ
ニルホルムアミジン（13.65ｇ）を得る。収率
62.8％。
元素分析：C4H7N3OS
計算値：C33.09、H4.86、N28.94、S22.07
実験値：C33.08、H4.78、N28.79、S22.14
IR（ヌジヨール）
υmax：3240、2220、1621、1512、1418、
1393、1282、1173、1073、1033、833、743cm
-1 NMR（CDSO−d6） δ：2.82（Ｓ）、2.84（Ｓ） なお、母液からもmp112〜112.5℃の本品
（2.60ｇ）を得る。
1393、1282、1173、1073、1033、833、743cm
-1 NMR（CDSO−d6） δ：2.82（Ｓ）、2.84（Ｓ） なお、母液からもmp112〜112.5℃の本品
（2.60ｇ）を得る。
(2) 上記で得たＮ−シアノ−N′−メチル−メチ
ルスルフイニルホルムアミジン（493mg）およ
び２−（５−メチルイミダゾール−４−イルメ
チルチオ）メチルアミン（684mg）アセトニト
リル（20ml）に溶解し、室温で４時間撹拌す
る。反応液を減圧下に濃縮したのち、残渣をシ
リカゲル・クロマトグラフイに付し、アセトニ
トリルとメタノールとの混液（４：１）で溶出
する。溶出液を常法により処理し、得られる生
成物をアセトニトリルから再結晶すると、
mp136〜138℃のN″−シアノ−Ｎ−メチル−
N′−〔２−（５−メチルイミダゾール−４−イ
ルメチルチオ）エチル〕グアニジン（634mg）
を得る。収率79.7％。
ルスルフイニルホルムアミジン（493mg）およ
び２−（５−メチルイミダゾール−４−イルメ
チルチオ）メチルアミン（684mg）アセトニト
リル（20ml）に溶解し、室温で４時間撹拌す
る。反応液を減圧下に濃縮したのち、残渣をシ
リカゲル・クロマトグラフイに付し、アセトニ
トリルとメタノールとの混液（４：１）で溶出
する。溶出液を常法により処理し、得られる生
成物をアセトニトリルから再結晶すると、
mp136〜138℃のN″−シアノ−Ｎ−メチル−
N′−〔２−（５−メチルイミダゾール−４−イ
ルメチルチオ）エチル〕グアニジン（634mg）
を得る。収率79.7％。
実施例 ４
(1) ピラゾール（5.84ｇ）を50％油性水素化ナト
リウムのテトラヒドロフラン懸濁液に室温以下
温度で加え、１時間撹拌する。この混合物に実
施例３−(1)と同様にして得たＮ−シアノ−
N′−メチル−メチルスルフイニルホルムアミ
ジン（8.32ｇ）を加え、室温で３時間撹拌す
る。反応液から減圧下に溶媒を留去したのち、
残渣を水に溶解し、エーテルで洗浄する。水層
を10％塩酸で氷冷下にPH４に調整し、析出物を
取し、水洗、乾燥すると、１−（Ｎ−シアノ
−N′−メチルアミジノ）ピラゾール（7.52ｇ）
を得る。液からも本品（0.2ｇ）を得る。こ
れを合わせ、酢酸エチルから再結晶すると、
mp166.5〜168℃の精製品（6.12ｇ）を得る。収
率71.7％。
リウムのテトラヒドロフラン懸濁液に室温以下
温度で加え、１時間撹拌する。この混合物に実
施例３−(1)と同様にして得たＮ−シアノ−
N′−メチル−メチルスルフイニルホルムアミ
ジン（8.32ｇ）を加え、室温で３時間撹拌す
る。反応液から減圧下に溶媒を留去したのち、
残渣を水に溶解し、エーテルで洗浄する。水層
を10％塩酸で氷冷下にPH４に調整し、析出物を
取し、水洗、乾燥すると、１−（Ｎ−シアノ
−N′−メチルアミジノ）ピラゾール（7.52ｇ）
を得る。液からも本品（0.2ｇ）を得る。こ
れを合わせ、酢酸エチルから再結晶すると、
mp166.5〜168℃の精製品（6.12ｇ）を得る。収
率71.7％。
元素分析：C6H7N5
計算値：C48.31、H4.73、N46.96
実験値：C48.40、H4.69、N46.81
IR（ヌジヨール）
υmax：3280、2220、1660、1645、1540、
1421、1387、1348、1268、1207、1173、
1084、1040、985、922、908、838、765、702
cm-1 NMR（CDSO−d6） δ：3.13（3H、ｓ）、6.65（1H、dd、Ｊ＝２Hz、
３Hz）、7.95（1H、ｄ、Ｊ＝２Hz）、8.53（1H、
ｄ、Ｊ＝３Hz） (2) 上記で得た１−（Ｎ−シアノ−N′−メチルア
ミジノ）ピラゾール（373mg）および２−（５−
メチルイミダゾール−４−イルメチルチオ）エ
チルアミン（503mg）をアセトニトリル（15ml）
に溶解し、24時間加熱する。反応混合物を減圧
下に濃縮し、残渣をシリカゲル・クロマトグラ
フイに付し、アセトニトリルとメタノールとの
混液（４：１）で溶出する。粗生成物をアセト
ニトリルから再結晶すると、mp137〜138.5℃
のN″−シアノ−Ｎ−メチル−N′−〔２−（５−
メチルイミダゾール−４−イルメチルチオ）エ
チル〕グアニジン（359mg）を得る。収率56.9
％。
1421、1387、1348、1268、1207、1173、
1084、1040、985、922、908、838、765、702
cm-1 NMR（CDSO−d6） δ：3.13（3H、ｓ）、6.65（1H、dd、Ｊ＝２Hz、
３Hz）、7.95（1H、ｄ、Ｊ＝２Hz）、8.53（1H、
ｄ、Ｊ＝３Hz） (2) 上記で得た１−（Ｎ−シアノ−N′−メチルア
ミジノ）ピラゾール（373mg）および２−（５−
メチルイミダゾール−４−イルメチルチオ）エ
チルアミン（503mg）をアセトニトリル（15ml）
に溶解し、24時間加熱する。反応混合物を減圧
下に濃縮し、残渣をシリカゲル・クロマトグラ
フイに付し、アセトニトリルとメタノールとの
混液（４：１）で溶出する。粗生成物をアセト
ニトリルから再結晶すると、mp137〜138.5℃
のN″−シアノ−Ｎ−メチル−N′−〔２−（５−
メチルイミダゾール−４−イルメチルチオ）エ
チル〕グアニジン（359mg）を得る。収率56.9
％。
実施例 ５
(1) Ｎ−シアノ−N′−メチルイソチオ尿素１，
５−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−５−ウンデセン
塩（10ｇ）および水（20ml）からなる溶液を、
35％過酸化水素水（21.8ｇ）、タングステン酸
ナトリウム・２水和物（0.1ｇ）および水（40
ml）からなる溶液に氷冷下に加え、室温で1.5
時間撹拌する。反応液中の析出物を去し、
液を減圧下に濃縮し、残渣を非イオン性吸着樹
脂、ダイヤイオンHP−20（商標、三菱化成工
業株式会社製）のカラムクロマトグラフイに付
して精製すると、シアノイミノーメチルアミノ
メタンスルホン酸の1.5−ジアザビシクロ
〔5.4.0〕−５−ウンデセン塩（1.5ｇ）を得る。
収率12.7％。
５−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−５−ウンデセン
塩（10ｇ）および水（20ml）からなる溶液を、
35％過酸化水素水（21.8ｇ）、タングステン酸
ナトリウム・２水和物（0.1ｇ）および水（40
ml）からなる溶液に氷冷下に加え、室温で1.5
時間撹拌する。反応液中の析出物を去し、
液を減圧下に濃縮し、残渣を非イオン性吸着樹
脂、ダイヤイオンHP−20（商標、三菱化成工
業株式会社製）のカラムクロマトグラフイに付
して精製すると、シアノイミノーメチルアミノ
メタンスルホン酸の1.5−ジアザビシクロ
〔5.4.0〕−５−ウンデセン塩（1.5ｇ）を得る。
収率12.7％。
本品をさらにイソプロピルアルコールから再
結晶すると、mp135〜136℃の精製品を得る。
結晶すると、mp135〜136℃の精製品を得る。
元素分析：C12H21N5O3S
計算値：C45.70、H6.71、N22.21、S10.16
実験値：C45.82、H6.71、N22.20、S10.12
IR（ヌジヨール）
υmax：3290、3160、2190、1650、1608、
1523、1460、1415、1380、1325、1263、
1232、1215、1203、1105、1060、1028、
1003、727cm-1 (2) 上記で得たシアノイミノ−メチルアミノメタ
ンスルホン酸の１，５−ジアザビシクロ
〔5.4.0〕−５−ウンデセン塩（0.70ｇ）および２
−（５−メチルイミダゾール−４−イルメチル
チオ）エチルアミン（0.75ｇ）をエタノール
（14ml）に溶解し、これを７時間加熱還流する。
反応液から減圧下に溶媒を留去したのち残渣を
シリカゲル・カラムクロマトグラフイに付し、
アセトニトリルとメタノールの混液（４：１）
で溶出する。溶出液を減圧下に濃縮したのち、
濃縮物をシリカゲルの薄膜クロマトグラフイ
〔展開溶媒：酢酸エチルとメタノールと28％ア
ンモニア水の混液（10：１：１）〕に付し、さ
らにメタノールとアセトニトリルの混液から再
結晶すると、mp140〜141℃のN″−シアノ−Ｎ
−メチル−N′−〔２−（５−メチルイミダゾー
ル−４−イルメチルチオ）エチル〕グアニジン
（0.18ｇ）を得る。収率32.4％。
1523、1460、1415、1380、1325、1263、
1232、1215、1203、1105、1060、1028、
1003、727cm-1 (2) 上記で得たシアノイミノ−メチルアミノメタ
ンスルホン酸の１，５−ジアザビシクロ
〔5.4.0〕−５−ウンデセン塩（0.70ｇ）および２
−（５−メチルイミダゾール−４−イルメチル
チオ）エチルアミン（0.75ｇ）をエタノール
（14ml）に溶解し、これを７時間加熱還流する。
反応液から減圧下に溶媒を留去したのち残渣を
シリカゲル・カラムクロマトグラフイに付し、
アセトニトリルとメタノールの混液（４：１）
で溶出する。溶出液を減圧下に濃縮したのち、
濃縮物をシリカゲルの薄膜クロマトグラフイ
〔展開溶媒：酢酸エチルとメタノールと28％ア
ンモニア水の混液（10：１：１）〕に付し、さ
らにメタノールとアセトニトリルの混液から再
結晶すると、mp140〜141℃のN″−シアノ−Ｎ
−メチル−N′−〔２−（５−メチルイミダゾー
ル−４−イルメチルチオ）エチル〕グアニジン
（0.18ｇ）を得る。収率32.4％。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 K0334 （式中、R1は低級アルキル基、R2およびR3は低
級アルキレン基をそれぞれ意味する） で示される化合物に一般式 K0335 ［式中、R4は低級アルキル基、X1はハロゲン、
メルカプト基、窒素含有５員芳香複素環−Ｎ−イ
ル基または式−Ｓ（Ｏ）ｎ−Ｚ（ここでＺはヒドロ
キシ基またはアルキル基、ｎは１または２をそれ
ぞれ意味する）で示される基をそれぞれ意味す
る］ で示される化合物を作用させて、一般式 K0336 （式中、R1、R2、R3およびR4は前と同じ意味） で示されるイミダゾール誘導体を得ることを特徴
とするイミダゾール誘導体の製造法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8624979A JPS5610175A (en) | 1979-07-06 | 1979-07-06 | Preparation of imidazole derivative |
| PCT/JP1980/000155 WO1981000109A1 (fr) | 1979-07-06 | 1980-07-04 | Procede de preparation de derives d'imidazole |
| EP82111791A EP0081859A3 (en) | 1979-07-06 | 1980-07-04 | Process for preparing cimetidine |
| DE8080901220T DE3066829D1 (en) | 1979-07-06 | 1980-07-04 | Process for preparing imidazole derivatives |
| EP82111790A EP0080739A3 (en) | 1979-07-06 | 1980-07-04 | Process for preparing cimetidine |
| EP80901220A EP0031388B1 (en) | 1979-07-06 | 1981-01-26 | Process for preparing imidazole derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8624979A JPS5610175A (en) | 1979-07-06 | 1979-07-06 | Preparation of imidazole derivative |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1114019A Division JPH0285261A (ja) | 1989-05-01 | 1989-05-01 | イミダゾール誘導体の製造法 |
| JP1114018A Division JPH0285260A (ja) | 1989-05-01 | 1989-05-01 | イミダゾール誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5610175A JPS5610175A (en) | 1981-02-02 |
| JPH0260667B2 true JPH0260667B2 (ja) | 1990-12-17 |
Family
ID=13881536
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8624979A Granted JPS5610175A (en) | 1979-07-06 | 1979-07-06 | Preparation of imidazole derivative |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (3) | EP0080739A3 (ja) |
| JP (1) | JPS5610175A (ja) |
| DE (1) | DE3066829D1 (ja) |
| WO (1) | WO1981000109A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| HU185298B (en) * | 1981-06-26 | 1984-12-28 | Richter Gedeon Vegyeszet | Process for producing cimetidine |
| HU185636B (en) * | 1981-06-26 | 1985-03-28 | Richter Gedeon Vegyeszet | Process for preparing new cimetidine-hydrate /cimetidine-h/ |
| EP0224612A1 (de) * | 1985-12-05 | 1987-06-10 | HEUMANN PHARMA GMBH & CO | Verfahren zur Herstellung von N-Cyano-N'-methyl-N"[2-[[(5-methyl-1H-imidazol-4-yl)methyl]thio]ethyl]guanidin |
| US4807619A (en) * | 1986-04-07 | 1989-02-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Resilient shape-retaining fibrous filtration face mask |
| JPH064601B2 (ja) * | 1987-11-04 | 1994-01-19 | 三井石油化学工業株式会社 | Ｎ−シアノ−ｎ’−メチル−ｎ’’−［２−｛（５−メチル−１ｈ−イミダゾール−４−イル）メチルチオ｝エチルグアニジンの精製法 |
| US5808090A (en) * | 1996-02-22 | 1998-09-15 | Endo Pharmaceuticals Inc. | Process for preventing precipitation in cimetidine injection solutions |
| EP4196793A1 (en) | 2020-08-11 | 2023-06-21 | Université de Strasbourg | H2 blockers targeting liver macrophages for the prevention and treatment of liver disease and cancer |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1338169A (en) * | 1971-03-09 | 1973-11-21 | Smith Kline French Lab | Ureas thioureas and guanidines |
| GB1398426A (en) * | 1972-09-05 | 1975-06-18 | Smith Kline French Lab | Heterocyclic substituted guanidines |
| GB1431589A (en) * | 1973-07-13 | 1976-04-07 | Smith Kline French Lab | Ureas, thioureas and guanidines n,n-disubstituted by heterocyclo- alkylene and/or heterocycloalkylenethioalkylene groups |
| GB1565966A (en) * | 1976-08-04 | 1980-04-23 | Allen & Hanburys Ltd | Aminoalkyl furan derivatives |
| JPS53103469A (en) * | 1977-02-18 | 1978-09-08 | Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd | Guanidine derivatives and process for their preparation |
-
1979
- 1979-07-06 JP JP8624979A patent/JPS5610175A/ja active Granted
-
1980
- 1980-07-04 WO PCT/JP1980/000155 patent/WO1981000109A1/ja not_active Ceased
- 1980-07-04 DE DE8080901220T patent/DE3066829D1/de not_active Expired
- 1980-07-04 EP EP82111790A patent/EP0080739A3/en not_active Ceased
- 1980-07-04 EP EP82111791A patent/EP0081859A3/en not_active Ceased
-
1981
- 1981-01-26 EP EP80901220A patent/EP0031388B1/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0031388B1 (en) | 1984-03-07 |
| EP0031388A1 (en) | 1981-07-08 |
| EP0080739A2 (en) | 1983-06-08 |
| EP0080739A3 (en) | 1983-08-24 |
| WO1981000109A1 (fr) | 1981-01-22 |
| JPS5610175A (en) | 1981-02-02 |
| EP0081859A3 (en) | 1983-08-17 |
| EP0081859A2 (en) | 1983-06-22 |
| DE3066829D1 (en) | 1984-04-12 |
| EP0031388A4 (en) | 1981-11-24 |
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